JPS62164689A - 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 - Google Patents
新規β−ラクタム化合物及びその製造法Info
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- JPS62164689A JPS62164689A JP61005636A JP563686A JPS62164689A JP S62164689 A JPS62164689 A JP S62164689A JP 61005636 A JP61005636 A JP 61005636A JP 563686 A JP563686 A JP 563686A JP S62164689 A JPS62164689 A JP S62164689A
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- dimethyl
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、３−位の水酸基をジメチル−，１，ｌ、 ２
−トリメ・チルプロピルシリル基で保護したヒドロキシ
エチル基を有し、４位にシリルエーテル基を有する新規
なβ−ラクタム化合物及びその製造法に関する。
−トリメ・チルプロピルシリル基で保護したヒドロキシ
エチル基を有し、４位にシリルエーテル基を有する新規
なβ−ラクタム化合物及びその製造法に関する。
本発明による新規なβ−ラクタム化合物は、４−位に反
応性に富むシリルエーテル基を有し、種々の誘導体に変
換できる有用な中間体である。たとえば、本発明化合物
の４−位のシリルエーテル基に置換反応をおこなうこと
によって第４世代のβ−ラクタム抗生物質として知られ
ているチェナマイシン製造に有用な３−（１−ヒドロキ
シエチル）−４−アセトキシアゼチジン−２−オンや３
−（１−ヒドロキシエチル）−４−ハロアゼチジン−２
−オンが取得できる。
応性に富むシリルエーテル基を有し、種々の誘導体に変
換できる有用な中間体である。たとえば、本発明化合物
の４−位のシリルエーテル基に置換反応をおこなうこと
によって第４世代のβ−ラクタム抗生物質として知られ
ているチェナマイシン製造に有用な３−（１−ヒドロキ
シエチル）−４−アセトキシアゼチジン−２−オンや３
−（１−ヒドロキシエチル）−４−ハロアゼチジン−２
−オンが取得できる。
（発明が解決しようとする問題点）
従来、３位のヒドロキシエチル基の水酸基をジメチル−
１，１，２−トリメチルプロピルシリル基で保護し、４
位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物は知
られていない。本発明者らは検討を重ねた結果、これら
のβ−ラクタム化合物がカルバペネム系β−ラクタム化
合物の有用な中間体になりうろことを見出して本発明に
至った。また、これらのβ−ラクタム化合物の簡便な合
成法を見出し本発明を完成した。以下に詳細説明する。
１，１，２−トリメチルプロピルシリル基で保護し、４
位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物は知
られていない。本発明者らは検討を重ねた結果、これら
のβ−ラクタム化合物がカルバペネム系β−ラクタム化
合物の有用な中間体になりうろことを見出して本発明に
至った。また、これらのβ−ラクタム化合物の簡便な合
成法を見出し本発明を完成した。以下に詳細説明する。
（問題点を解決するための手段及び作用効果）本発明は
、一般式（１） （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８けＣ１〜Ｃ６の低級アルキル
基、フェニル基またはアラルキル基を示す）で表わされ
るβ−ラクタム化合物およびその製造法に関する。
、一般式（１） （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８けＣ１〜Ｃ６の低級アルキル
基、フェニル基またはアラルキル基を示す）で表わされ
るβ−ラクタム化合物およびその製造法に関する。
前記一般式（１）中、Ｓｉ〈Ｈは水酸基の従来知られて
いない新規な保護基であシ、一般式（１）で示されるβ
−ラクタム化合物を合成する際に安定であり、立体選択
的に目的のβ−ラクタム化合物を収率良く取得でき、し
かも比較的容易に脱保護できるという利点を有している
。前記一般式（１）中、Ｒ１゜Ｒ２、Ｒａは具体的には
、メチル基、インプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１
，１．２−ト リメチルプロピル基などのＣｌＮＣ６の
低級アルキル基や、フェニル基やベンジル基であり、Ｒ
１，Ｒ２，Ｒ８は各々同一または異なっていてもよい。
いない新規な保護基であシ、一般式（１）で示されるβ
−ラクタム化合物を合成する際に安定であり、立体選択
的に目的のβ−ラクタム化合物を収率良く取得でき、し
かも比較的容易に脱保護できるという利点を有している
。前記一般式（１）中、Ｒ１゜Ｒ２、Ｒａは具体的には
、メチル基、インプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１
，１．２−ト リメチルプロピル基などのＣｌＮＣ６の
低級アルキル基や、フェニル基やベンジル基であり、Ｒ
１，Ｒ２，Ｒ８は各々同一または異なっていてもよい。
この中で好ましいのはＲ１とＲ２とＲ３が同一であって
メチル基、Ｒ１，Ｒ２が各々メチル基でＲ８がｔ−ブチ
ル基あるいは１，１．２−トリメチルプロピル基、Ｒ１
とＲ２が各々フェニル基でＲ３がｔ−ブチル基で表わさ
れる基である。これらの置換基を使用すれば、目的とす
るβ−ラクタム化合物の３位と４位の立体配置が望まし
いトランス体になること、およびβ−ラクタム環の３位
における立体配置が望ましい＜Ｒ）体になシやすいため
である。
メチル基、Ｒ１，Ｒ２が各々メチル基でＲ８がｔ−ブチ
ル基あるいは１，１．２−トリメチルプロピル基、Ｒ１
とＲ２が各々フェニル基でＲ３がｔ−ブチル基で表わさ
れる基である。これらの置換基を使用すれば、目的とす
るβ−ラクタム化合物の３位と４位の立体配置が望まし
いトランス体になること、およびβ−ラクタム環の３位
における立体配置が望ましい＜Ｒ）体になシやすいため
である。
本発明化合物の一般式（１）で表わされるβ−ラクタム
の立体構造については、３個の不斉炭素が存在し、８種
の立体異性体の生成が可能であるが、好適には８ （Ｒ
） 、 ４ （Ｒ）の立体配置でジメチル−１，１゜２
−トリメチルプロピルシリル基で保護されたヒドロキシ
エチル基における不斉炭素の配置が（Ｒ）の化合物が望
ましい。本発明化合物である３位側鎖の水酸基の保護基
がジメチル−ｉ、ｔ、２−トリメチルプロピルシリル基
で、４位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合
物の有用性は参カ例１に示すように、既に有用中間体と
して知られている８（Ｒ）−（１−ヒドロキシエチル）
−４（Ｒ）−アセトキシアゼチジン−２−オン化合物に
変換できることから明らかである。
の立体構造については、３個の不斉炭素が存在し、８種
の立体異性体の生成が可能であるが、好適には８ （Ｒ
） 、 ４ （Ｒ）の立体配置でジメチル−１，１゜２
−トリメチルプロピルシリル基で保護されたヒドロキシ
エチル基における不斉炭素の配置が（Ｒ）の化合物が望
ましい。本発明化合物である３位側鎖の水酸基の保護基
がジメチル−ｉ、ｔ、２−トリメチルプロピルシリル基
で、４位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合
物の有用性は参カ例１に示すように、既に有用中間体と
して知られている８（Ｒ）−（１−ヒドロキシエチル）
−４（Ｒ）−アセトキシアゼチジン−２−オン化合物に
変換できることから明らかである。
次に本発明化合物の製造法を説明する。
従来迄、３位にジメチル−１，１，２−トリメチルプロ
ピルシリル基で保護したヒドロキシエチル基を有し、４
位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物の合
成については知られていなかつたが、本発明者らはエノ
ールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシアネート
との反応で一挙に目的とするβ−ラクタム環が収率艮く
形成できることを見出し本発明を完成するに至った。
ピルシリル基で保護したヒドロキシエチル基を有し、４
位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物の合
成については知られていなかつたが、本発明者らはエノ
ールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシアネート
との反応で一挙に目的とするβ−ラクタム環が収率艮く
形成できることを見出し本発明を完成するに至った。
即ち、一般式側）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒａ／／′ｉＣｔ〜Ｃ６の低級ア
ルキル基、フェニル基、またはアラルキル基ヲ示ス）テ
表ワされるエノールシリルエーテル類ヲクロロスルホニ
ルイソシアネートと反応させ、ついで垣元することを特
徴とする一般式（１） （式中、Ｒｔ 、 Ｒ２、Ｒ３は前記と同じ）で表わさ
れるβ−ラクタム化合物の製造法に関するものである。
ルキル基、フェニル基、またはアラルキル基ヲ示ス）テ
表ワされるエノールシリルエーテル類ヲクロロスルホニ
ルイソシアネートと反応させ、ついで垣元することを特
徴とする一般式（１） （式中、Ｒｔ 、 Ｒ２、Ｒ３は前記と同じ）で表わさ
れるβ−ラクタム化合物の製造法に関するものである。
本発明方法を反応式で示すと以下の通りである。
反応式Ｉ
（１） Ｒ８
本反応における原料のエノールシリルエーテル類として
は、例示すると３−ジメチル−１，１，２−トリメチル
プロピルシリロキシブチ−１−ニルトリメチルシリルエ
ーテル、３−ジメチル−１，１，２−トリメチルプロピ
ルシリロキシブチ−１−二ルジメチルイソブチルシリル
エーテル、８−ジメチル−１，１，２−）リメチルプロ
ピルシリロキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルエーテル、３−ジメチル−１，１，２−）リ
メチルプロピルーシリロキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ
−ブチルメチルフェニルシリルエーテル、３−ジメチル
−１，１，２−トリメチルプロピルシリロキシ−ブチ−
１−二ルーｔｅｒ ｔ−ブチルジフェニルシリルエーテ
ル、３−ジメチル−１，１，２−１−リメチルプロピル
シリロキシブテ−１−ニル−ジメチル−１，ｌ、 ２−
トリメチル−プロピルシリルエーテル、が挙げられる。
は、例示すると３−ジメチル−１，１，２−トリメチル
プロピルシリロキシブチ−１−ニルトリメチルシリルエ
ーテル、３−ジメチル−１，１，２−トリメチルプロピ
ルシリロキシブチ−１−二ルジメチルイソブチルシリル
エーテル、８−ジメチル−１，１，２−）リメチルプロ
ピルシリロキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルエーテル、３−ジメチル−１，１，２−）リ
メチルプロピルーシリロキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ
−ブチルメチルフェニルシリルエーテル、３−ジメチル
−１，１，２−トリメチルプロピルシリロキシ−ブチ−
１−二ルーｔｅｒ ｔ−ブチルジフェニルシリルエーテ
ル、３−ジメチル−１，１，２−１−リメチルプロピル
シリロキシブテ−１−ニル−ジメチル−１，ｌ、 ２−
トリメチル−プロピルシリルエーテル、が挙げられる。
これらの原料は３−ヒドロキシ醋酸エステルから以下の
反応式２に従って合成できる。
反応式２に従って合成できる。
反応式２
本発明化合物のβ−ラクタム化合物（１）において、３
位側鎖のジメチル−１，１，２−トリメチルプロピルシ
リル基で保護したヒドロキシエチル基の立体化学は（Ｒ
）−配置が好ましく、そのためには光学活性の３（Ｒ）
−ヒドロキシ酪酸エステルを用いて取得される光学活性
のエノールシリルエーテル化合物を用いて、反応式ｌで
示されるβ−ラクタム形成反応をおこなえばよい。
位側鎖のジメチル−１，１，２−トリメチルプロピルシ
リル基で保護したヒドロキシエチル基の立体化学は（Ｒ
）−配置が好ましく、そのためには光学活性の３（Ｒ）
−ヒドロキシ酪酸エステルを用いて取得される光学活性
のエノールシリルエーテル化合物を用いて、反応式ｌで
示されるβ−ラクタム形成反応をおこなえばよい。
エノールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシアネ
ートの反応は、無溶媒下または、塩化メチレン、テトラ
ヒドロフラン、ｎ−ヘキサン、トルエン、エチルエーテ
ル等のクロロスルホニルイソシアネートおよびエノール
シリルエーテルに対して不活性である有機溶媒を使用し
て実施することができる。この際の反応温度は一７０°
Ｃから室温付近の範囲で選択することができるが、好ま
しくは一５０°Ｃ〜０°Ｃの温度範囲で発熱を抑制しつ
つ、エノールシリルエーテル液にクロロスルホニルイソ
シアネートを滴下することにより達成できる。クロロス
ルホニルイソシアネート又は、それヲ含ム液にエノール
シリルエーテルを滴下してもよい。エノールシリルエー
テルとクロロスルホニルイソシアネートのモル比は１：
１の当モル付近で行えばよい。反応時間は通常１０分〜
数時間の範囲内で採用される。
ートの反応は、無溶媒下または、塩化メチレン、テトラ
ヒドロフラン、ｎ−ヘキサン、トルエン、エチルエーテ
ル等のクロロスルホニルイソシアネートおよびエノール
シリルエーテルに対して不活性である有機溶媒を使用し
て実施することができる。この際の反応温度は一７０°
Ｃから室温付近の範囲で選択することができるが、好ま
しくは一５０°Ｃ〜０°Ｃの温度範囲で発熱を抑制しつ
つ、エノールシリルエーテル液にクロロスルホニルイソ
シアネートを滴下することにより達成できる。クロロス
ルホニルイソシアネート又は、それヲ含ム液にエノール
シリルエーテルを滴下してもよい。エノールシリルエー
テルとクロロスルホニルイソシアネートのモル比は１：
１の当モル付近で行えばよい。反応時間は通常１０分〜
数時間の範囲内で採用される。
本反応によシ生成したβ−ラクタム化合物のＮ−スルホ
ニルクロリド基を還元して目的のβ−ラクタム化合物に
変換できる。還元反応における還元剤としては、水素化
リチウムアルミニウム、水素化硼素ナトリウム、ナトリ
ウム水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウム
等の水素化金属化合物や、ラネーニッケル等の還元剤が
採用される。また、チオフェノールやアルキルメルカプ
タン等のチオール化合物も還元剤として使用できる。水
素化リチウムアルミニウムやナトリウム水素化ビス（２
−メトキシエトキシ）アルミニウムのような水素化金属
化合物を使用する際はテトラヒドロフラン、トルエンや
エチルエーテル等の有機溶剤中で還元をおこない、チオ
ール化合物で還元する際はこれらの有機溶剤にピリジン
等の塩基を共存させておこなう。還元反応における温度
は一４０°Ｃ〜０°Ｃの範囲でおこなえばよい。上記の
還元剤の中では、ナトリウム水素化ビス（２−メトキシ
エトキシ）アルミニウムを用いるのが好ましい。
ニルクロリド基を還元して目的のβ−ラクタム化合物に
変換できる。還元反応における還元剤としては、水素化
リチウムアルミニウム、水素化硼素ナトリウム、ナトリ
ウム水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウム
等の水素化金属化合物や、ラネーニッケル等の還元剤が
採用される。また、チオフェノールやアルキルメルカプ
タン等のチオール化合物も還元剤として使用できる。水
素化リチウムアルミニウムやナトリウム水素化ビス（２
−メトキシエトキシ）アルミニウムのような水素化金属
化合物を使用する際はテトラヒドロフラン、トルエンや
エチルエーテル等の有機溶剤中で還元をおこない、チオ
ール化合物で還元する際はこれらの有機溶剤にピリジン
等の塩基を共存させておこなう。還元反応における温度
は一４０°Ｃ〜０°Ｃの範囲でおこなえばよい。上記の
還元剤の中では、ナトリウム水素化ビス（２−メトキシ
エトキシ）アルミニウムを用いるのが好ましい。
還元終了後、反応系に水を加え、エチルエーテルや酢酸
エチル等の有機溶媒で目的のβ−ラクタム化合物を抽出
し、硫酸マグネシウム等の脱水剤で乾燥後、減圧上溶媒
を留去して、３−位に１−（ジメチル−１，１，２−ト
リメチルプロピルシリロキシ）エチル基を有し、４−位
にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物を取得
することができる。これらのβ−ラクタム化合物は、必
要によシ、カラムクロマトグラフィーにより単離精製で
きる。
エチル等の有機溶媒で目的のβ−ラクタム化合物を抽出
し、硫酸マグネシウム等の脱水剤で乾燥後、減圧上溶媒
を留去して、３−位に１−（ジメチル−１，１，２−ト
リメチルプロピルシリロキシ）エチル基を有し、４−位
にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物を取得
することができる。これらのβ−ラクタム化合物は、必
要によシ、カラムクロマトグラフィーにより単離精製で
きる。
（実施例）
次に、実施例をあげて本発明を更に詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない
。
本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない
。
実施例１
（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−１−（１−（ジメチル−１，１
，２−トリメチルプロピルシリロキシ）エチル）−４−
トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成 （ＩＩＲ）−３−（ジメチル−１，１，２−トリメチル
プロピルシリロキシ）ブチ−１−ニルトリメチルシリル
エーテル２．！ｉ’（）ランス体とシス体の比が９：１
の混合物）をトルエン１０ｍ１に加え、Ｎ２気流下−５
０℃に冷却撹拌しながらクロロスルホニルイソシアナー
ト０．６４ｙｔｌを２０分かけて添加する。添加後−５
０°Ｃで１時間反応し、次にＮａＡｌＨ４（ＯＣＲ２Ｃ
Ｈ２０ＣＩ（ａ）２１．６ ｇをトルエン１０ｘｔに溶
解したものを一５５°Ｃで１０分かけて添加する。添加
後６０分撹拌を行なう。次に反応混合物と水５０ｙｔｔ
にうつし、硫酸でＰ、Ｈ３に調整した後、有機層を分離
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
，２−トリメチルプロピルシリロキシ）エチル）−４−
トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成 （ＩＩＲ）−３−（ジメチル−１，１，２−トリメチル
プロピルシリロキシ）ブチ−１−ニルトリメチルシリル
エーテル２．！ｉ’（）ランス体とシス体の比が９：１
の混合物）をトルエン１０ｍ１に加え、Ｎ２気流下−５
０℃に冷却撹拌しながらクロロスルホニルイソシアナー
ト０．６４ｙｔｌを２０分かけて添加する。添加後−５
０°Ｃで１時間反応し、次にＮａＡｌＨ４（ＯＣＲ２Ｃ
Ｈ２０ＣＩ（ａ）２１．６ ｇをトルエン１０ｘｔに溶
解したものを一５５°Ｃで１０分かけて添加する。添加
後６０分撹拌を行なう。次に反応混合物と水５０ｙｔｔ
にうつし、硫酸でＰ、Ｈ３に調整した後、有機層を分離
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
トルエンを減圧下留去すると（３Ｒ，，４Ｒ，５Ｒ）体
と（３Ｓ、４Ｓ、５Ｒ）体を１０＝１で含む目的β−ラ
クタムをセミソリッドとして１．７３ｇ得た。 □ （３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）体の’ＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ 。
と（３Ｓ、４Ｓ、５Ｒ）体を１０＝１で含む目的β−ラ
クタムをセミソリッドとして１．７３ｇ得た。 □ （３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）体の’ＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ 。
ＣＤＣｌ３ ） δ（ｐｐｍ）は以下の通シであった
。
。
０．０２（６Ｈ，ｓ）、０．０８（９Ｈ，Ｓ）、０．７
２（６Ｈ，ｓ）、０．７５（６Ｈ，ｄ）、１．１２（８
Ｈ。
２（６Ｈ，ｓ）、０．７５（６Ｈ，ｄ）、１．１２（８
Ｈ。
ｄ）、１．５（ＬＨ，ｍ）、２．８５（ＩＨ，ｄｄ）、
４．０８（ＩＨ，ｍ）、５．２８（ＩＨ，ｄ）、６．４
５（ＮＨ、ｂｒｏａｄ ） 実施例２ （３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（１−（ジメチル−１，１
，２−トリメチルプロピルシリロキシ）エチル〕−４−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシアゼチジン−２−
オンの合成 （３Ｒ）−８−（ジメチル−１，１，２トリメチルプロ
ピルシリロキシ）−ブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルエーテル２．０．！１ｌ（）ランス体と
シス体の比が３：２の混合物）をトルエン１Ｏｘｔに加
え、Ｎ２気流下−５０°Ｃに冷却撹拌しながらクロロス
ルホニルイソシアナート０．７９ ｔｘｌを２０分かけ
て添加する。添加後−５０°Ｃで１時間反応し、次にＮ
ａＡｌＨ４（０ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨａ ） ２ １．９
７Ｉをトルエン１０ｍ／に〆解したものを一５５°Ｃで
１０分かけて添加する。添加後６０分撹拌を行なう。次
に反応混合物を水５０ａｇ／にうりし、硫酸でＰＨ８に
調整した後、有機層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。トルエンを減圧下留去すると（３Ｒ，４Ｒ１５Ｒ
）体と（８Ｓ、４Ｓ、５Ｒ）体を３：２で含む目的β−
ラクタムをセミソリッドとして２．１１ｇ得た。
４．０８（ＩＨ，ｍ）、５．２８（ＩＨ，ｄ）、６．４
５（ＮＨ、ｂｒｏａｄ ） 実施例２ （３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（１−（ジメチル−１，１
，２−トリメチルプロピルシリロキシ）エチル〕−４−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシアゼチジン−２−
オンの合成 （３Ｒ）−８−（ジメチル−１，１，２トリメチルプロ
ピルシリロキシ）−ブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルエーテル２．０．！１ｌ（）ランス体と
シス体の比が３：２の混合物）をトルエン１Ｏｘｔに加
え、Ｎ２気流下−５０°Ｃに冷却撹拌しながらクロロス
ルホニルイソシアナート０．７９ ｔｘｌを２０分かけ
て添加する。添加後−５０°Ｃで１時間反応し、次にＮ
ａＡｌＨ４（０ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨａ ） ２ １．９
７Ｉをトルエン１０ｍ／に〆解したものを一５５°Ｃで
１０分かけて添加する。添加後６０分撹拌を行なう。次
に反応混合物を水５０ａｇ／にうりし、硫酸でＰＨ８に
調整した後、有機層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。トルエンを減圧下留去すると（３Ｒ，４Ｒ１５Ｒ
）体と（８Ｓ、４Ｓ、５Ｒ）体を３：２で含む目的β−
ラクタムをセミソリッドとして２．１１ｇ得た。
ＣＡＲ，４Ｒ，５Ｒ）体の’ＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ。
ｃＤｃｌｓ ） ＩＩ（ｐｐｍ）は以下の通シであっ
た。
た。
０．０２（６Ｈ，ｓ）、０．０８（６Ｈ，ｓ）、０．７
２（６ｆ（、ｓ）、ｏ、７５（ｓＨ，ａ）、０．９０（
９Ｈ。
２（６ｆ（、ｓ）、ｏ、７５（ｓＨ，ａ）、０．９０（
９Ｈ。
Ｓ）、１．１８（８Ｈ，ｄ）、１．５（ＬＨ，ｍ）、２
．８７（Ｉ（、ｄｄ）、４．１０（１Ｂ、ｍ）、５．３
０（ＩＨ，ｄ）、６．５０ （ＮＨ、ｂｒｏａｄ ）実
施例３ （８Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（１−（ジメチル−１，１
，２−）リメチルプロピルシリロキシ）エチルクー４−
ジメチルイソプロピルシリロキシ−アゼチジン−２−オ
ンの合成 ＜５Ｒ）−８−（ジメチル−１，１，２−トリメチルプ
ロピルシリロキシ）−ブチ−１−ニル−ジメチルイソプ
ロピルシリルエーテル２．０ｇ（トランヌ体とシス体の
比が５：１の混合物）をトルエン１０ｔｕｔに加え、Ｎ
２気流下−５０°Ｃに冷却撹拌しながらクロロスルホニ
ルイソシアナート０．７ ｘｉを２０分かけて添加する
。添加後−５０°Ｃで１時間反応し、次にＮａＡｌＨ４
（０ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ８） ２ ２．１５ ｇをトル
エン１０１１ｔに溶解したものを一５５°Ｃで１０分か
けて添加する。添加後６０分撹拌を行なう。次に反応混
合物を水５０ｔｔｔｔにうつし、硫酸でＰＨ３に調整し
た後、有機層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
．８７（Ｉ（、ｄｄ）、４．１０（１Ｂ、ｍ）、５．３
０（ＩＨ，ｄ）、６．５０ （ＮＨ、ｂｒｏａｄ ）実
施例３ （８Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（１−（ジメチル−１，１
，２−）リメチルプロピルシリロキシ）エチルクー４−
ジメチルイソプロピルシリロキシ−アゼチジン−２−オ
ンの合成 ＜５Ｒ）−８−（ジメチル−１，１，２−トリメチルプ
ロピルシリロキシ）−ブチ−１−ニル−ジメチルイソプ
ロピルシリルエーテル２．０ｇ（トランヌ体とシス体の
比が５：１の混合物）をトルエン１０ｔｕｔに加え、Ｎ
２気流下−５０°Ｃに冷却撹拌しながらクロロスルホニ
ルイソシアナート０．７ ｘｉを２０分かけて添加する
。添加後−５０°Ｃで１時間反応し、次にＮａＡｌＨ４
（０ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ８） ２ ２．１５ ｇをトル
エン１０１１ｔに溶解したものを一５５°Ｃで１０分か
けて添加する。添加後６０分撹拌を行なう。次に反応混
合物を水５０ｔｔｔｔにうつし、硫酸でＰＨ３に調整し
た後、有機層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
トルエンを減圧下留去すると粗生成物１．９５ｇを油状
物として得た。
物として得た。
（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）体のＩＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ。
ＣＤＣ１３） δ（ｐｐｍ）は以下の通りであった。
ｏ、０２（６Ｈ，ｓ）、０．０７（６Ｈ，ｓ）、０．７
２（６Ｈ，ｓ）、０．７５（６ｆ（、ｄ）、０．９１（
７ｔ（）、１．１２（３Ｈ，ｄ）、１．５１（ＩＨ，ｍ
）、２．８５（ＩＨ，ａａ）、４．０７（ＩＨ，ｍ）、
５．２７（ＩＨ。
２（６Ｈ，ｓ）、０．７５（６ｆ（、ｄ）、０．９１（
７ｔ（）、１．１２（３Ｈ，ｄ）、１．５１（ＩＨ，ｍ
）、２．８５（ＩＨ，ａａ）、４．０７（ＩＨ，ｍ）、
５．２７（ＩＨ。
ｄ）、６．４６ （ＮＨ、ｂｒｏａｄ ）参考例１
（ＳＲ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−Ｃ（Ｒ）−を−
（ジメチル−１，１，２−トリメチルプロピルシリロキ
シ）エチルクーアゼチジン−２−オンの合成（９Ｒ，４
Ｒ）−８−（１−（ジメチル−１，１，２−トリメチル
プロピルシリロキシ）エチルクー４−トリメチルシリロ
キシアゼチジン−２−オン０．９８ｇを塩化メチレン５
ｔｔｔｌに溶解し、これにトリエチルアミン０．５１１
とジメチル−１，１，２１−リメチルプロビルシリルク
ロライド０．６６、！９を加え、室温下で９時間撹拌す
る。反応後ＰＨ４の塩酸水溶液で洗浄後、溶媒を減圧下
留去すると粗生成物の液体１．２８ｇを得た。この液体
１．２７．！９を塩化メチレン６ｔｔｔｔに加え、さら
にジメチルアミノピリジン０．９５ ｇと無水酢酸１．
５９ｇを加え、−１５°Ｃで４６時間反応させる。次に
、反応液を５％Ｎａ ＨＣＯ３水溶液および水で洗浄後
、有機層を分離し減圧下溶媒を留去すると粗生成物の液
体１．２７Ｉを得る。この液体１．１！ｌを塩化メチレ
ン６ｔｔｔｌに溶解し、テトラメチルアンモニウムクロ
ライド０．６ｇとフッ化カリウム０．３ｇと酢酸０．６
８ｇを加え、室温で２時間撹拌する。
（ジメチル−１，１，２−トリメチルプロピルシリロキ
シ）エチルクーアゼチジン−２−オンの合成（９Ｒ，４
Ｒ）−８−（１−（ジメチル−１，１，２−トリメチル
プロピルシリロキシ）エチルクー４−トリメチルシリロ
キシアゼチジン−２−オン０．９８ｇを塩化メチレン５
ｔｔｔｌに溶解し、これにトリエチルアミン０．５１１
とジメチル−１，１，２１−リメチルプロビルシリルク
ロライド０．６６、！９を加え、室温下で９時間撹拌す
る。反応後ＰＨ４の塩酸水溶液で洗浄後、溶媒を減圧下
留去すると粗生成物の液体１．２８ｇを得た。この液体
１．２７．！９を塩化メチレン６ｔｔｔｔに加え、さら
にジメチルアミノピリジン０．９５ ｇと無水酢酸１．
５９ｇを加え、−１５°Ｃで４６時間反応させる。次に
、反応液を５％Ｎａ ＨＣＯ３水溶液および水で洗浄後
、有機層を分離し減圧下溶媒を留去すると粗生成物の液
体１．２７Ｉを得る。この液体１．１！ｌを塩化メチレ
ン６ｔｔｔｌに溶解し、テトラメチルアンモニウムクロ
ライド０．６ｇとフッ化カリウム０．３ｇと酢酸０．６
８ｇを加え、室温で２時間撹拌する。
次に、反応液を５％ＮａＨＣＯ３水溶液、および水で洗
浄後有機層を分離し、減圧下に濃縮すると粗生成物を固
体として０．７ｇ得た。次にこれをヘキサンで再結晶し
目的のβ−ラクタムを固体として０．３５９得た。
浄後有機層を分離し、減圧下に濃縮すると粗生成物を固
体として０．７ｇ得た。次にこれをヘキサンで再結晶し
目的のβ−ラクタムを固体として０．３５９得た。
ｍｐ８０〜８１℃
（αＦ＝ ＝ ＋４１．６°（ｃ＝ｏ、５ ＣＨＣ６
ｓ ）ＩＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ 、ＣＤＣ１３） δ
（ｐｐｍ）０．０８（６Ｈ，ｓ）、０．６５（６Ｈ，ｓ
）、０．７５（６Ｈ，ｄ）、１．１５（３Ｈ，ｄ）、１
．４０（ＩＨ。
ｓ ）ＩＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ 、ＣＤＣ１３） δ
（ｐｐｍ）０．０８（６Ｈ，ｓ）、０．６５（６Ｈ，ｓ
）、０．７５（６Ｈ，ｄ）、１．１５（３Ｈ，ｄ）、１
．４０（ＩＨ。
ｍ）、２．０８（８Ｈ，ｓ）、８．００ （Ｉ Ｈ、ｄ
ｄ ）、４．１０（ＩＨ，ｍ）、５．７１（ＩＨ，ｄ
）、６．６０（ＮＨ） 参考例２ （８Ｒ）−３−（ジメチル−１，１，２−）リメチルプ
ロピルシリロキシ）−ブチ−１−ニルトリメチルシリル
エーテルの合成 （ＳＲ）−８−ジメチル−１，１，２−）リメチルプロ
ピルシリロキシブチルアルデヒド３．８ｇを塩化メチレ
ン２０ｔｔｔｔに加える。この溶液にトリエチルアミン
８．８４９とトリメチルシリルクロライド４ｍｌを添加
し、２４時間還流させる。反応後、ＰＨ４の塩酸水、お
よび水で洗浄し、溶媒を留去すると粗生成物４．８２ｇ
を得た。これを減圧蒸留にかけて８．５ ｇ （ｂｐ
９８ ’Ｃ／ ２ ｍｍＨｇ） の目的物を得た。
ｄ ）、４．１０（ＩＨ，ｍ）、５．７１（ＩＨ，ｄ
）、６．６０（ＮＨ） 参考例２ （８Ｒ）−３−（ジメチル−１，１，２−）リメチルプ
ロピルシリロキシ）−ブチ−１−ニルトリメチルシリル
エーテルの合成 （ＳＲ）−８−ジメチル−１，１，２−）リメチルプロ
ピルシリロキシブチルアルデヒド３．８ｇを塩化メチレ
ン２０ｔｔｔｔに加える。この溶液にトリエチルアミン
８．８４９とトリメチルシリルクロライド４ｍｌを添加
し、２４時間還流させる。反応後、ＰＨ４の塩酸水、お
よび水で洗浄し、溶媒を留去すると粗生成物４．８２ｇ
を得た。これを減圧蒸留にかけて８．５ ｇ （ｂｐ
９８ ’Ｃ／ ２ ｍｍＨｇ） の目的物を得た。
この化合物はトランス体とシス体の比が１０：１の混合
物であった。
物であった。
Ｃａ〕２１１＝ −６，４°（ｃ＝１ 、 ＣＣＣＣ１
４）ＩＨＮ （９０ＭＨｚ 、 ＣＤＣ１８）δ（ｐｐ
ｍ）トランス体 ０．０１（６Ｈ，ｓ）、０．１０（９Ｈ，ｓ）、０．７
５（６Ｈ，ｓ）、０．７８（６８，ｄ）、１．１０（８
Ｈ。
４）ＩＨＮ （９０ＭＨｚ 、 ＣＤＣ１８）δ（ｐｐ
ｍ）トランス体 ０．０１（６Ｈ，ｓ）、０．１０（９Ｈ，ｓ）、０．７
５（６Ｈ，ｓ）、０．７８（６８，ｄ）、１．１０（８
Ｈ。
ｄ）、１．５（ＩＨ，ｍ）、４．１５（ＩＨ，ｍ）、４
．９５ （ＩＦ（、ｄｄ ）、６．２５（ＩＨ，ｄ）特
許出願人 鐘淵化学工業株式会社 代理人 弁理士 浅 野 真 −手続補正書Ｃ
陶Ｐ） イ 昭和６７年２月１２日 口 昭和６１年特峙 願第５６３６号 ２、発明の名称 ４ｆｒ規、ｄ−ｉりｔペイｔ／企麹
紗−そ４燻 ハ・３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 。エ 所 大阪市北区中之島三１−目２番４号
罠ＩＩ ｆｆｉ （、わ）（Ｏｎ）鐘が；：１化学工業
株式会社代表者 新納眞人 ４、代理人 氏 名 （６９Ｂ ＋１）弁理士 浅 野 真−１
明細書３頁５行目 「本発明は、３−位の」を「本発明は、３−位に」に訂
正する。
．９５ （ＩＦ（、ｄｄ ）、６．２５（ＩＨ，ｄ）特
許出願人 鐘淵化学工業株式会社 代理人 弁理士 浅 野 真 −手続補正書Ｃ
陶Ｐ） イ 昭和６７年２月１２日 口 昭和６１年特峙 願第５６３６号 ２、発明の名称 ４ｆｒ規、ｄ−ｉりｔペイｔ／企麹
紗−そ４燻 ハ・３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 。エ 所 大阪市北区中之島三１−目２番４号
罠ＩＩ ｆｆｉ （、わ）（Ｏｎ）鐘が；：１化学工業
株式会社代表者 新納眞人 ４、代理人 氏 名 （６９Ｂ ＋１）弁理士 浅 野 真−１
明細書３頁５行目 「本発明は、３−位の」を「本発明は、３−位に」に訂
正する。
、同５頁２行目
「Ｓｉ〈Ｈ」をｒＳｉ（Ｃａ ）２Ｃ（ＣＨａ ）２Ｇ
（印８）２」１こ訂正する。
（印８）２」１こ訂正する。
同８頁１２〜１６行
に訂正する。
二、同１６頁下から７行目
ｒ２．８７（Ｈ，ｄｄ）Ｊをｒ ２．８７ （ＩＨ，ｄ
ｄ）Ｊに訂正する。
ｄ）Ｊに訂正する。
以上
Claims (4)
- （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３はＣ＿１〜Ｃ＿６の低
級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基を示す） で表わされるβ−ラクタム化合物。 - （２）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３はＣ＿１〜Ｃ＿６の低
級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基を示す） で表わされるエノールシリルエーテル類をクロロスルホ
ニルイソシアネートと反応させ、ついで還元することを
特徴とする、一般式（ I ）▲数式、化学式、表等があ
ります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３はＣ＿１〜Ｃ＿６の低
級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基を示す） で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法。 - （３）還元剤としてナトリウム水素化ビス（２−メトキ
シエトキシ）アルミニウムを使用する特許請求の範囲第
２項記載の製造法。 - （４）還元剤として水素化リチウムアルミニウムを使用
する特許請求の範囲第２項記載の製造法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61005636A JPS62164689A (ja) | 1986-01-14 | 1986-01-14 | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
| CA000526579A CA1260950A (en) | 1986-01-14 | 1986-12-31 | .beta.-LACTAM COMPOUND AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME |
| US07/000,810 US4791198A (en) | 1984-07-05 | 1987-01-06 | Beta-lactam compound and preparation thereof |
| US07/000,809 US4861877A (en) | 1984-07-05 | 1987-01-06 | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin-2-one derivatives |
| EP87100298A EP0230248A1 (en) | 1986-01-14 | 1987-01-13 | Beta-lactam compound and process for preparing the same |
| US07/200,205 US5061817A (en) | 1984-07-05 | 1988-05-31 | Enolsilyl ether compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61005636A JPS62164689A (ja) | 1986-01-14 | 1986-01-14 | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62164689A true JPS62164689A (ja) | 1987-07-21 |
Family
ID=11616628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61005636A Pending JPS62164689A (ja) | 1984-07-05 | 1986-01-14 | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0230248A1 (ja) |
| JP (1) | JPS62164689A (ja) |
| CA (1) | CA1260950A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02290887A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-30 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ３‐ヒドロキシブチルアルデヒド誘導体の製造法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0259268A1 (de) * | 1986-09-04 | 1988-03-09 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung optisch aktiver Beta-Lactame |
| PL227494B1 (pl) | 2012-12-21 | 2017-12-29 | Inst Chemii Organicznej Polskiej Akademii Nauk | Sposób wytwarzania pochodnej 2-azetydynonowej i sposób wytwarzania związków pośrednich |
| CN103665021B (zh) * | 2013-12-03 | 2016-07-13 | 西安赛美科医药研发有限公司 | 一种培南类药物中间体4-aa的合成方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0167154A1 (en) * | 1984-07-05 | 1986-01-08 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetizin-2-one derivatives |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6118791A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-27 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
| EP0181831B1 (de) * | 1984-10-01 | 1993-08-25 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von optisch aktiven Acyloxyazetidinonen |
-
1986
- 1986-01-14 JP JP61005636A patent/JPS62164689A/ja active Pending
- 1986-12-31 CA CA000526579A patent/CA1260950A/en not_active Expired
-
1987
- 1987-01-13 EP EP87100298A patent/EP0230248A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0167154A1 (en) * | 1984-07-05 | 1986-01-08 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetizin-2-one derivatives |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02290887A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-30 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ３‐ヒドロキシブチルアルデヒド誘導体の製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1260950A (en) | 1989-09-26 |
| EP0230248A1 (en) | 1987-07-29 |
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