JPH02234100A - シュヴァルツシルドの光学系 - Google Patents

シュヴァルツシルドの光学系

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JPH02234100A
JPH02234100A JP1054751A JP5475189A JPH02234100A JP H02234100 A JPH02234100 A JP H02234100A JP 1054751 A JP1054751 A JP 1054751A JP 5475189 A JP5475189 A JP 5475189A JP H02234100 A JPH02234100 A JP H02234100A
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加藤 美来子
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、X線顕微鏡の対物レンズ及びX線リソグラフ
ィの縮小光学系として利用されるシュヴァルツシルド(
 Schwarxshi ld)光学系に関するもので
ある。
〔従来の技術〕
シュヴァルツシルド光学系は、第16図に示すように、
物点0と像点Iの間に中心に開口を有する凹面鏡1と凸
面!2とを共軸に配置したものであって、物点Oに放射
源を置いた場合にはこの放射源から発した光が凹面鏡l
,凸面鏡2の順に反射されて像点■に集束せしめられる
ように構成されているものである。
斯かるシュヴァルツシルド光学系において、近軸領域に
おいてコマ収差及び球面収差を補正するための条件は二
一・ケー・ヘッド−( A. K. Head,Pro
c. Phys. Soc, ?0, 945(195
7))により与えられており、それは次の3つ式 (イ)   ρ+r+i’=ρo +ro +j!o(
口)  sinθ=msin u   (m :倍率)
を満足することである。
但し、符号は第16図に示す通りであって、ρ。,j!
oyro及びρ,1,rは夫々光軸及び物点0と像点■
とを結ぶ光線に沿った、物点Oと凹面鏡1,凹面鏡lと
凸面鏡2,凸面鏡2と像点Iとの距離、θ,Uは物点O
及び像点Iにおいて光軸と光線のなす角度、θ,は凹面
鏡1への光線の入射角、mはこのシュヴァルツシルド光
学系の倍率である。これらより、凹面鏡1,凸面鏡2の
曲率半径rl+rlが下記式(1). (2)のように
求められる。
r+ =2m1oρo / (m71)s+mlo  
ra )・・・・(1) rg =2 j’oro / (ra + no  m
ρe )・・・・(2) 上記式(1). (2)を満たすシュヴァルツシルド光
学系は凹凸面鏡の曲率中心が一致した共芯型と呼ばれる
構成を有しており、各鏡への入射角(特に凹面鏡lへの
入射角θ1)が小さいものである。共芯型シュヴァルツ
シルド光学系の設計法は、ビー・エルドス(P. Er
dQs, Opt. Sac. Amerfca 49
. 877(1959) )より提案されている。即ち
、倍率mを指定することにより以下の式から凹面鏡】の
曲率半径rly物点Oから凹凸両鏡共通の曲率中心まで
の距離W,凸面鏡2の面頂Tから像点Iまでの距離r0
が、凸面鏡2の曲率半径r,との比で各々求められる。
即ち、rz=1とすると、 x=(−b±F石1−=丁下)/ a      −−
−−(3)但し、 l c=(−−1)” m というパラメータを用いて、 W=   rl  /  (2   1/x)    
     ・・・・(5)re  =  (t−r+@
 x)  / (2 r+s x   1)・・・・{
6} となる。
エルドスの設計法以外にも所謂自動設計プログラムを用
いて収差が良好に補正されたシュヴァルツシルド光学系
(第17図)を得ることが可能であり、またSPIB 
Vo1.316,316c(1981)に紹介されてい
る光学票のようなものもある。これらは非共芯光学系(
第18図)であるが、二つの球面鏡の曲率中心のずれは
小さく、エルドスの設計法により得られた共芯光学系(
第19図,第20図)と良く似た性質を持つものである
。本件発明者等の検討した所では、rl+rlが上記式
(1), (2)で与えられる値の±lθ%程度の範囲
内即ち’lmh p+ / (醜p.十mj+ −r+
 )Xll<rl <!lLj+/(IIL+Ilj+
−r+)XLIH+r+/(T.÷h −1115+ 
) Xl!<r+ 4N+ r+/ (r+ +L−1
111+)XLiであれば、共芯光学系に関する議論が
ほぼそのまま通用する。従って、以下においては共芯光
学系について種々検討を加えることとする。
シュヴァルツシルド光学系の作用は以下の通りである。
第21図において、物点Oから放射された光は、光学系
の開口(斜線部)を通り、はじめに凹面鏡lの鏡面に入
射する。その後、該鏡面においてある反射率で反射され
た光は、次に凸面鏡2の鏡面に入射する。しかる後該鏡
面においてある反射率で反射された光は像点Iに集光す
る。
ところで、X線波長領域の光を鏡面の法線に対して微小
な角度で入射した時に大きな反射率を得る手段として、
多層膜を基板上に積層する考えが知られている。多層膜
は光の入射角に依存する分散性及び入射光の波長に依存
する分散性を有している。
多層膜には、例えば第22図に示すように、2種類の物
質a,bで層対を形成して同じ厚さの周期で基板3上に
積層するものがある。この場合、各々の物質a,bの厚
さd.,d2は、波長λの光が膜表面に対してある角度
θ。で入射した時に反射率が最大となるように、フレネ
ルの漸化式(波岡 武 精密工学会誌52/11/19
86 Pl843)により最適化する。
第23図の(a)は、Ni−Sc 100層対から成り
、膜表面に波長λ= 3 9. 8人の光を入射した時
に、θ。
=06となるように、層厚d1.dgをフレネルの漸化
式により最適化した多層膜において、同フレネルの漸化
式より算出した反射率の入射角度分布を示したものであ
る。同様に第23図の(b), (c).(d)は、各
々θ。=2.8’  ?、4@ 10’の多層膜におけ
る反射率の入射角度分布を示したものである。これらに
よれば、最大反射率を与える入射角θ。が0に近い時、
反射率分布は直入射近傍でほぼ一定と見なせ、入射角θ
。が大きくなるに従って反射率分布の半値幅は狭くなる
傾向にある。
他に波岡氏の提案する非周期構造を持つ多層膜(科学研
究費補助金研究成果報告書(1985) ’)もある。
〔発明が解決しようとする課題〕
以上述べてきたように、シュヴァルツシルド光学系は、
光が小さな角度で鏡面に入射する直入射型の光学系であ
る。そのため、X線波長領域において本光学系を使用す
る際には、鏡面上に多層膜を被覆して反射率を向上させ
る必要がある。ところが、多層膜は、上記波長域におい
て波長分散性と入射角度分散性を有しているため、それ
らを考慮せずに被覆しても、光の波長並びに光学系から
決定される光の入射角との関係によっては各々の鏡面に
おいて反射率が向上せず、結果として像面が暗くなって
しまう。従来は、各々の鏡面に被覆する多層膜のパラメ
ータ、例えば膜を構成する物質,層数,層厚等の最適値
を求める努力はされていなかった。
本発明は、上記問題点に鑑み、像面をできるだけ明るく
するように、各々の鏡面に被覆する多層膜を設計するこ
とによって、反射効率の良いシュヴァルツシルド光学系
を提供することを目的としている。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明は、物点
より像点側にρ。だけ隔てて配置された曲率半径r,の
中心部に開口を有する多層膜凹面鏡と、像点より物点側
にr.だけ隔てられ且つ前記凹面鏡と面頂間隔16を隔
てて配置された曲率半径r,の多層膜凸面鏡とから成る
倍率mのシュヴァルツシルド光学系のうち、特にtab
 Ol/ (Ill1+ +mh −r+ ) Xal
pr+ 42mf+p+/(ma++mL−rlXLI
’lh r+/b+ H+−1+1h)Xl9<r+<
Hlrl/(rlHt−mpl)XLIを満足する共芯
型に近い光学系について、前記凸面鏡の有効径Hが該シ
ュヴァルツシルド光学系の物点側開口数N. A.によ
り m                        
 mで与えられる場合に、特定の波長λの光に対して反
射率が最大となる入射角θ。2が前記N. A.に対し
て以下の条件を満足するような一様な多層膜を前記凸面
鏡に設けたものである。
α(θet, N.A.) > 0. 5αmat.但
し、 ρ.  −r.  +r!    m B=2β/(sin  θox ’ Cog  θ。,
)β:多層膜の複素屈折率の虚部平均値 α..1 :α(θOt+ N.A.)の最大値である
そして、更に前記凹面鏡については、上記波長λの光に
対して反射率が最大となる入射角θ61が以下の条件を
満足するような一様な多層膜を被覆したものである。
θl @l7.くθ01〈θ,。,. 但し、 であり、更に θa+ax. ”’Sf’n  −’  (N.A..
)r+ である。
以下、これらの諸条件について詳細に説明する。
(1)  第21図においーC1シュヴアルッシルド光
学系により形成される像面における明るさを評価するた
めに、この光学系の集光量αとして以下のように定義す
る。
・・・・(7) 但し,、Ωは物点Oが光学系の有効開口に対しで張る立
体角、θtl.!l  06,,.は夫々物点から発し
てこの光学系の有効開illに入射し得る光線が光軸と
なす角の最大値及び最小値である。
式(7)は、また以下のようにも書ける。
・R(θ,,θ,,)・sigθ・Δθ弓φ・・・・(
8) ここで、θ=61,,+j・Δθ(jは整数),Δφ=
2π,/nφ ,Δθ=2π/ n6である。但し、I
e二単位立体角当り,単位時間当りに通過する光のエネ
ルギー強度 R(θ皺,θ。k):第k面(k=x,2)での反射率 θ3=θk (θ):物点Oから角度θで放射された光
が第k面へ入射する際の入射角θ。,:特定の波長λの
光を第k面に入射した時、最大反射率を与える入射角 である。
αは、正確には上記式(8)を用いて算出するものであ
る。即ち、θ。,を設定した後、物点Oから角・度θで
放射された光を光線追跡して第k面への入射角θ,を数
値計算し、それにより,てフレネルの漸化式から反射率
Rを求め、それを式(8)に代入し、θ,φについて総
和( summa口on )を取ればαが求まる。
θ。,の値を変えて同じ計算を行うと、集光量αとして
異なる値が求まるので、以下の計算を繰り返してαが最
大(α、..)となるような入射角θ。,の組合わせを
導き出し、各反射面に形成する多層膜をこのθ。,に合
わせて選定すれば、明るい光学系を得ることができる訳
である。
そこで、上記の計算を出来るだけ簡略化する方法を説明
する。
まず、 ? θ1 ″q■θ               ・・・
・(9)r θ−aax. ’stn  −’(N.A−)    
       ・・・・(10)? θ■..#       ・H          ・
・・・0υW + r ! と近似する。但し、凸面鏡2の有効径Hは、ほぼm で与えられ、Hが上式の値より大きいと、物点0からの
光線の一部は第2面でケラれ、Hが上式より小さいとー
、光学系の有効なN. A.はHの値に対応して小さく
なる。各角度があまり大きくならない限り、これらは良
い近似となる。尚、Hの値が以下に示す範囲であれば、
像面の明るさの劣化が無視できる。
m m ? 前述のように、本光学系は原理的に共芯型であり、倍率
mからw,rl,rffはr,の比として計算される。
従って、入射角θ01は倍率mとN. A.からその範
囲を決定できる。ここで、α,.、.を与えるθ.が総
和の範囲の上下限θ■,,,θ1。に対応する入射角θ
kms.xとθkイ8、の間の値をとるものと仮定する
。第23図に示した反射率の入射角依存性を示す曲線か
らも明らかなように、ごのような仮定は十分な妥当性を
もつものである。
特に、第1面について考えると、先に述べたように第1
面への入射角は非常に0°に近いため、θl II1m
≦θ01くθ1ユ.,の範囲でθ。,を設定した場合に
は、θl■.〜θl vat.の角度範囲内で反射率が
最大値に近く、殆ど一定の値を持つことが第23図から
わかる。従って、R(θ1,θ01)2一定として、以
下の考察を進めることができる。
上記式(7)に、前述のR(θ1,θ01)が一定であ
る条件を代入し、定数部分をまとめると、式(口を解析
的に解くために、まず第2面の反則率分布Rを次のよう
なローレンッ分布の重ね合わせで近似する。
A:規格定数 ?R■、.はフレネルの漸化式から得た、R(θ。,,
θ01)の値即ちR(θ8,θ。,)の最大値) (B.Henke.American Institu
te of Physics(1981)P85参照) 更に、β.,.は、以下の式より求めた、多層膜を構成
する物質の各々の吸収係数βの平均値である。
Na:単位体積中の原子数 re:古典電子半径 f,:ビー・ヘンヶ(B.Henke )による吸収因
子(B.Henke,Atomic data and
nuclear data tables 27,l.
−14(1982) )第1図の(a)は、Re−AI
を周期的1.:. 1 0 0層対積層した多層膜を想
定し、波長久= 3 9. 8人でθ。* = 7. 
4゜となるように層厚d.,d,をフレネルの漸化式で
最適化した後、更に入射角からフレネルの漸化式によっ
て反射率Rを算出したものである。
又、第1図の(b)は、式(lニで求めた近似反射率分
布であり、実際の分布(a)の良い近似となり−てぃる
ことがわかる。ここでθ2は、θの関数として以下のよ
うに近似できる。
・争・・(支) 式(自)に式(13と式(151を代入し、積分を実行
すると以下の式になる。
? 信(Lbl.L)”[   It.+l(go−on)
’+llDt+l(εe+o■)’+Bll2t’ ・・・・(10 そして、θ1,..θ,..に上記弐〇〇,αBを代入
することにより、α(θ。ハは倍率mと開口数N. A
.でその関数形が決定されることになる。
さて、現在X線フィルムを感光させるために必要な光量
をフォトンの数に直すと、約7〜8(Photons/
see ●am”  ・IXBW)と言われている。
第17図においてm=lQOとした光学系において、N
.A.=0.2である時の像面Iに到達するフ?トンの
数を見積もる。
使用波長:λ= 1 7. 6人 光源の明るさ:Ie=4.2X10 (Photons/sea I1rad” φwm” 
 ・IXBW)物点の照射範囲一30μm径 多層膜は、現在の製作技術を考慮して、Re−Baの層
対を同じ厚さの周期で40層(20層対)積層するもの
とする。第1面での反射率は、1. 3%で一定として
、第2面での反射率は、α1,.,を与える分布R(θ
1,7.4’)を用いて、式(8)に従って像面(30
X100μm径)に到達するフォトンの数を計算する。
即ち、 a=− 1. 2 3 8 1 0 ”  (Phot
ons/sec ・IXBW)である。従って、像面に
おけるLBm径中のフオトン数は 1.23X10’/(3000)” =13.7(Ph
otons/sec ●pm”  − IXBW)であ
る。
以上のことよりα(θ。., N.A.)α1■8.か
らほぼ50%劣化した時にフィルムの感光能力の限界と
なることがわかる。従って、入射角θ。.は、式Q61
で与えられるα(θ。t− N.A.)が特定のN. 
A.に対じて a(θo*,N.A.)/α....>0.5    
−−−−(1?)を満たす範囲で決定する。
入射光線の、同一物質で構成される多層膜に対する反射
率は、波長λが短くなるほど低下する。
従って、使用することを想定した波長の、短い方の値に
おけるフィルムの感光能力限界を用いて、θ。鵞の満た
すべき範囲を決定した。
尚、式(l7)より、α(θ*t− N.A.)の定数
部分は約されることから、改めてα(θ。!− N.A
.)は以下のように定義する。
α(L+,I.直.) ”−LT−IL+l Ill−L+)’ + Bl+j
.、l (gguu) ’ +B I+!ε ÷r 1(,,−? − 1,,”+→PIJII ]
 :::::・・・・(至) (2)次に、第2図のように、前記(1)で設計された
多層膜を被覆して成るシュヴアルッシルド光学系の、物
点0と像点■を入れ替える。
物点Oから、空間的に等方に放射された光線の内、光学
系の開口(斜線部)を通るものに着目する。前記光線は
、はじめに凸面鏡2の鏡面に、物点Oからの放射角Uで
決まる入射角θ2で入射する。その後ある反射率R(θ
!)で反射された光は、次に凹面鏡lの鏡面に、やはり
放射角Uで決まる入射角θ1で入射する。しかる後ある
反射率R(θ,)で反射された光は、像点Iに光軸とな
す角θで入射して集光する。物点0からの放射角U.鏡
面への入射角θ,,θ1及び像点■への入射角θは、幾
何光学的に前記(11の場合と正確に一対一で対応する
ものである。
従って、前記(1)のように設計された多層膜を被覆し
た反射光学系の物点0と像点Iを入れ替えても、光線の
各鏡への入射角は変わらないので、各鋺で前記(1)の
場合と同じ反射率が得られる。
以上により、前記(1)の光学系の物点0と像点Iを入
れ替えれば、反射効率の良い縮小光学系が得られ、これ
をX線リソグラフィに用いることができる。
〔実施例〕
以下、図示した実施例に基づき本発明を詳細に説明する
罠立■ユ まず、凸面鏡2として使用する多層膜反射鏡の設計手順
について第3図に示したフローチャートに従って説明す
る。
■ 倍率m=100とし、前記式+3)(4) +5)
 (6)によって光学系の鏡設置位置を決定する。(第
20図(m=100)の光学系を得る。) ■ 波長λ= 3 9. 8人とする。
■ 多層膜を構成する物質は、Re,AIとし、層対を
同じ厚さの周期で積層するものとする。層数はここでは
100層対とする。
■ ヘンヶ他が測定した原子散乱因子の表(B.Hen
ke Atomic data and nuclea
r data tables 27,1−144(19
82))からλ= 3 9. 8人に対応するRe,A
I各々のf1を引用した値f ! m−”23.46,
flAI・4.6を前記式(l4)に代入し、BAI−
0. 011, B i.”0. 0020を得る。
? 光学系のN. A.をN. A. =0. 207
とする。これによって光学系のレイアウトは完成される
■ θ。,を、前記式(10),(11)及び(l5)
から得られるような、θ2■1,.からθ2■.、とす
る。
■ 前記式(l8)に従って、集光Iα(θ,.)を算
出する。
■ 第4図の(a)は、上記■,■を繰り返して得た近
似のαのθ.依存性を示すグラフであり、以後このよう
にαのθ。2依存性を示すグラフをA型図と呼ぶ。この
図が得られれば、特定のN. A.の光学系において第
2反射鏡に被覆する多層膜の0.2(最大反射率を与え
る入射角)をどの程度に設定すれば良いかがわかる。
■ 第4図の(b)は、第2図(m=100)の光学系
において、式(8)よりαを算出した場合のαのθ。,
依存性を示している。但し、R(θθ.1)は一定とし
、R(θ2,θ。2)はフレネルの漸化式によって計算
された反射率分布を用い?。又、定数部分は式(l8)
に合わせて省略した。第4図(a), (b)を比較す
れば明ら・かなように、両者から得られるθ。2の値は
非常に近く、本発明によって得た反射鏡を備えた光学系
が極めて良好な集光効率を宵することがわかる。
■ N. A.を変えて、N. A.ごとのA型図を作
成する。
■ N. A.ごとのA型図より、各々α■8.を与え
るθ。2,α=α...,X95%となる時のθ。,,
α=α■.,X80%,α=α■,×50%,α;α■
,×30%となる時のθ。!を求める。
第5図は横軸にθ.,縦軸にN. A.を夫々取った座
標上に、上記α.1.,を与える(θ。t+ N.A。
)をプロットし,なめらかな曲線で結んだもの,同様に
α=α.am.x9s*,α=α■..X80%,α=
α−a −, x 50%,α=α■.,X30%を与
える(θ.!7N. A. )をプロットし、各々をな
めらかに結んだものを夫々示す。これらをθ。,とN.
 A.の近似相関曲線と呼ぶことにし、このような図を
B型図とする。
この図によれば、種々の開口数のシュヴァルツシルド光
学系に対し、その開口数に応じてθ。,の値をどの程度
に選定すれば良いかを知ることができる。また図中、点
Pは、第4図の(b)で求めた正確にα...を与える
θ.2とN. A.の関係をプロットしたものであるが
、この点は近似相関曲線でα。.、.の95%以上の範
囲にある。このことは本発明によって得られたα.a.
. X ]. O O%の反射鏡を備えた光学系の集光
効率が極めて良好であることを示すものである。
P点はθ。.=7.4゜に相当し、このとき第2反射鏡
を構成する。Aj7,Reの層厚は各々Dえ,=7.2
8人 , D R−= 1 2. 9人と定めることが
できる。
尚、第5図において、例えば近似相関曲線(A)はN.
A.=0. 0 3 70。,+0.02近似相関曲線
(B)は N.A.=0.02θ..−O.Oa と夫々直線で近似できる。従って、この近似を用いれば
、N. A.の決められた光学系においてある集光量α
を得るためのθ。2をB型図を度々見なくでも計算によ
って求めることもできる。
本実施例における光学系の諸元をまとめると、(イ) 
光学系倍率  m = 100(口) 波長 λ= 3
9. 8人 (ハ)  多層膜 A I − R e  100層対
βA.=0.011   .  βR − = 0. 
002(二)  N.A.=0.207   θoi=
7.4°各層厚 DA+=7.28人 ・ D R− 
= 12. 9人である。このAI−Re多層膜から成
る反射鏡の反射率は第1図(a)に示した通りである。
以下、他の実施例を挙げるが、これらについては光学系
の諸元のみを示し、詳しい説明は実施例と同様なので省
略する。
寒皇五ユ (イ) (口) (ハ) ?=100 λ=39. 8人 Ni−Sc,  100層対 β■=0.00412 ,   β,e=0.0005
74N. A. = 0. 207 ,  θ。.=7
.4’DN,  =8.28人 ,DSc =11..
9人(二) 慕Jul主 (イ) (口) (ハ) (二) 寒ju町± (イ) (口) (ハ) (二) 去MI[ (イ) (口) (ハ) (二) ?=50 λ=39. 8人 Ni−Sc , 100層対 β,,  =o,00412 ,  β,,二〇。00
0574N. A. = 0. 207 ,  θ。.
 = 7. 4 °D■ =8. 28人,Ds−=1
1.9 人m=10 λ=39. 8人 Ni−Sc , 100層対 βN + =0. 00412.  β. , =0.
 000574N. A. = 0. 207 ,  
θ。,=7.4’DN+=8.28  人.  Dsc
:11.9?=20 λ=39. 8人 Ni−Sc ,  100層対 β,,=0.00412 ,  βs . = 0. 
000574N. A. = 0. 207 ,  θ
.=7.8@D■= 8. 08人 ,D,,=12.
1人?6.7,8.9図は夫々実施例2,3,4.5の
B型曲線図である。
尚、実施例3,4は物点,像点及び2枚の反射鏡の基本
配置として第17図のm=50.m=10として示した
ものを用いている。また実施例5は第18図のものを用
いている。実施例3乃至5から明らかなように、本発明
は二つの反射鏡の曲率中心が若干ずれた系においても良
好な結果を与えることがわかる。
X亘亘1 (イ)  m=100 (口)  λ=39. 8人 (ハ)  Re−Ba ,  100層対βk.冨0.
011.3   β++ . = 0. 000594
N. A. = 0、207,θt=7.4°D■= 
6. 45人 ,Da,=13。7人(二) K敷五二 (イ)  m=100 (口)  λ=17.6人 (ハ)  .Re−Ba   J.00層対(二) β..=0.0113  ,  βl1, = 0. 
000594N.A.=0.207  ,   θ。.
=7.4’D..=3.91人,  D+i.=4.9
8人火JIL (イ) (口) (ハ) (二) m=100 λ=39. 8人 Mo−Si   100層対 β2。=0. 00663,  β. . =0. 0
0209N.A. = 0. 207 ,  θ。t 
= 7. 4 ″′DM。=8. 47人,D!+=1
1.7 人去J11主 (イ) (口) (ハ) (二) m=100 λ=39. 8人 W−C   I00層対 β.  =0.0104 ,  β c=0.0032
3N. A, = 0. 207 ,  θ。. = 
7. 4 °D. =8.07人,Dc=12.1人火
.lLL立 (イ)   m=100 (口)  λ=27. 4 人 (ハ)  Ni−Ti  ,  100層対βNl  
=0.00136 ,  βア. =0. 00032
7(二)  N.A.=0.207  ,  θ。t=
7.46DNI =6.51人,  D T + =7
. 34人?JLLL上 (イ)   m=100 (口)  λ=27. 4人 (ハ)  Os−Sb   100層対β。.=0。0
0597 ,  βい=0.00416(二)  N.
A.=0.207  ,  θ。t=7.4°D.. 
=6.37人,Dsb=7.48人第10乃至15図は
、夫々実施例6乃至11のB型曲線図である。
波長約17〜60人の範囲内では、αユ...の95%
の集光量を与える近似相関曲線のうち直入射側のものを
(A)、α■、.の5θ%の集光量を与える近似相関曲
線を(B)とするとき、曲線(A)と(B)の間の領域
内でN. A.とθ。,の関係を設定することが望まし
い。
〔発明の効果〕
上述の如く、本発明によるシュヴァルツシルド光学系は
反射効率が極めて良いという実用上重要な利点を有して
いる。
【図面の簡単な説明】
第1図はRe−AIを周期的に積層し層厚をフレネルの
漸化式で最適化した多層膜の入射角に対する反射率分布
を示す図、第2図は上記光学系の物点と像点を入れ替え
た場合の構成を示す図、第3図は凸面鏡として使用する
多層膜反射鏡の設計手順を示すフローチャート、第4図
は第17図の光学系の集光量αの入射角θ。2の依存性
を示す図、第5図は第17図の光学系のα、,.を与え
るθ。2とN. A.の近似相関曲線図、第6図乃至第
15図は夫゛゜々実施例l乃至lOのα.18を与える
θ。2とN. A.の近似相関曲線図、第16図はシュ
ヴァルツシルド光学系の基本構成を示す図、第17図は
シュヴァルツシルド光学系の構成と自動設計プログラム
で設計した複数組のパラメータを示す図、第18図は最
も反射鏡の曲率中心のずれた光学系とそのパラメータを
示す図、第19図は反射鏡の曲率中心が一致した光学系
とそのパラメータを示す図、第20図は本発明光学系と
式(4)(5)(6)で設計した複数組のパラメータを
示す図、第21図は該光学系の開口及び入射角の範囲を
示す図、第22図は多層膜反射鏡の概略断面図、第23
図はNi−Scを周期的に積層し層厚をフレネルの漸化
式で最適化した多層膜の入射角12対する反射率分布を
示す図である。 l・・・凹面鏡、2・・・凸面鏡、3・・・基板。 り e02 IP20図 1P4Bg υ b 1り e02 N.A. 1P13図 1P18図 t16図 手続補正書(自発) 才21図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)物点より像点側にρ_0だけ隔てて配置された曲
    率半径r_1の中心部に開口を有する多層膜凹面鏡と、
    像点より物点側にr_0だけ隔てられ且つ前記凹面鏡と
    面頂間隔l_0を隔てて配置された曲率半径r_2の多
    層膜凸面鏡とから成る倍率mのシュヴァルツシルド光学
    系において、 2ml_0ρ_0/(mρ_0+ml_0−r_0)×
    0.9≦r_1≦2ml_0ρ_0/(mρ_0+ml
    _0−r_0)×1.12l_0r_0/(r_0+l
    _0−mρ_0)×0.9≦r_2≦2l_0r_0/
    (r_0+l_0−mρ_0)×1.1を満足し、且つ
    前記凸面鏡の有効径Hが該シュヴァルツシルド光学系の
    物点側開口数N.A.によりr_0/m(N.A.)×
    0.8≦H≦r_0/m(N.A.)×1.5で与えら
    れる場合に、特定の波長λの光に対して反射率が最大と
    なる入射角θ_0_2が前記N.A.に対して以下の条
    件を満足するような一様な多層膜を前記凸面鏡に設けた
    ことを特徴とするシュヴァルツシルド光学系。 α(θ_0_2、N.A.)≧0.5α_m_a_x、
    但し、 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、更に ε=1/2(1+(1/m))+(ρ_0−r_1)/
    r_1θ_m_a_x.=sin^−^1(N.A.)
    θ_m_i_n.=r_0/(ρ_0−r_1+r_2
    )・1/m・(N.A.)B=2β/(sinθ_0_
    2・cosθ_0_2)β:多層膜の複素屈折率の虚部
    平均値 α_m_a_x.:α(θ_0_2、N.A.)の最大
    値である。
  2. (2)上記波長λの光に対して反射率が最大となる入射
    角θ_0_1が以下の条件を満足するような一様な多層
    膜を前記凹面鏡に被覆したことを特徴とする請求項(1
    )に記載のシュヴァルツシルド光学系。 θ_1_m_i_n.<θ_0_1<θ_1_m_a_
    x但し、 θ_1_m_i_n.=[(ρ_0−r_1)/r_1
    ]θ_m_i_n.θ_1_m_a_x.=[(ρ_0
    −r_1)/r_1]θ_m_a_x.である。
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