JPH02234313A - 化合物超電導線材の製造方法 - Google Patents
化合物超電導線材の製造方法Info
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- JPH02234313A JPH02234313A JP1053881A JP5388189A JPH02234313A JP H02234313 A JPH02234313 A JP H02234313A JP 1053881 A JP1053881 A JP 1053881A JP 5388189 A JP5388189 A JP 5388189A JP H02234313 A JPH02234313 A JP H02234313A
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- superconducting wire
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
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- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、例えばNb3Sn系超電導線材など、高磁
界発生用電磁石の巻線材などに用いられる化合物超電導
線材の製造方法に関するものである.[従来の技術] 一般に、高磁界発生用電磁石の巻線材としては、超電導
線材の利用が進められている.これは、超電導線材を用
いると、電力消費が殆どなく、かつ大電流を流すことが
可能だからである.現在、ひろく利用されている超電導
線材としては、Nb−Ti系の合金線材があるが、この
合金線材は発生磁界に9テスラの限界があるため、これ
以上の高磁界を必要とする核融合炉,高エネルギ加速器
及び核磁気共鳴装置などには、臨界磁界の高いN b
s S n系の化合物超電導線材が用いられている. 第3図は従来の製造方法により製造された化合物超電導
線材の一例としてN b s S n線材を示す断面図
であり、図において(1)はN b 2 S nからな
るフィラメント、(2)はフィラメント(1)相互の間
に介在しCu−SnN金からなる介在体であり、フィラ
メント(1)はこの介在体(2)を介して多数本束ねら
れている.(3)は介在体(2)の外周を被う拡散バリ
アであり、この拡散バリア(3)はNbからなり外部へ
のSnの拡散を防止する。(4)は拡散バリア《3)の
外周に設けられた安定化材であり、この安定化材(4)
はCu(無酸素銅)からなっている。
界発生用電磁石の巻線材などに用いられる化合物超電導
線材の製造方法に関するものである.[従来の技術] 一般に、高磁界発生用電磁石の巻線材としては、超電導
線材の利用が進められている.これは、超電導線材を用
いると、電力消費が殆どなく、かつ大電流を流すことが
可能だからである.現在、ひろく利用されている超電導
線材としては、Nb−Ti系の合金線材があるが、この
合金線材は発生磁界に9テスラの限界があるため、これ
以上の高磁界を必要とする核融合炉,高エネルギ加速器
及び核磁気共鳴装置などには、臨界磁界の高いN b
s S n系の化合物超電導線材が用いられている. 第3図は従来の製造方法により製造された化合物超電導
線材の一例としてN b s S n線材を示す断面図
であり、図において(1)はN b 2 S nからな
るフィラメント、(2)はフィラメント(1)相互の間
に介在しCu−SnN金からなる介在体であり、フィラ
メント(1)はこの介在体(2)を介して多数本束ねら
れている.(3)は介在体(2)の外周を被う拡散バリ
アであり、この拡散バリア(3)はNbからなり外部へ
のSnの拡散を防止する。(4)は拡散バリア《3)の
外周に設けられた安定化材であり、この安定化材(4)
はCu(無酸素銅)からなっている。
次に、上記のようなN bz S n4!材の製造方法
について説明する.第4図は第3図のNb3Sn線材の
製造途中の状態を示す断面図であり、図においてく5)
は第1の基体であるS n基体、(6)は第2の基体と
してS n基体(5)の外周に多数配置されたNb基体
、(7)はNb基体(6)の間に介在するマトリックス
材であり、このマトリックス材(7)はCuからなって
いる.(8)はこれらSn基体(5),Nb基体(6)
及びマトリックス材(7)からなる超電導モジュール、
くっ)はこの超電導モジュール(8),拡散バリア(3
)及び安定化材(4)からなる複自体である.第3図の
ようなNtgSn線材を製造する場合、まず超電導モジ
ュール(8)を製造する.次に、この超電導モジュール
(8)の外周部に拡散バリア(3)を設け、さらにその
外周部に安定化材(4)を設けることにより、複合体(
9)を製造する。そして、複合体(9)を所定の形状,
寸法に加工する. この後、コイル巻きする前又は後に、400℃以上95
0゜C以下で熱処理を行う。これにより、Sn基体(5
)のSnが、マトリックス材(7)中に均一に拡散し、
Nb基体(6)と反応し、N b基体(6)はNb*S
nのフィラメント(1)となる。
について説明する.第4図は第3図のNb3Sn線材の
製造途中の状態を示す断面図であり、図においてく5)
は第1の基体であるS n基体、(6)は第2の基体と
してS n基体(5)の外周に多数配置されたNb基体
、(7)はNb基体(6)の間に介在するマトリックス
材であり、このマトリックス材(7)はCuからなって
いる.(8)はこれらSn基体(5),Nb基体(6)
及びマトリックス材(7)からなる超電導モジュール、
くっ)はこの超電導モジュール(8),拡散バリア(3
)及び安定化材(4)からなる複自体である.第3図の
ようなNtgSn線材を製造する場合、まず超電導モジ
ュール(8)を製造する.次に、この超電導モジュール
(8)の外周部に拡散バリア(3)を設け、さらにその
外周部に安定化材(4)を設けることにより、複合体(
9)を製造する。そして、複合体(9)を所定の形状,
寸法に加工する. この後、コイル巻きする前又は後に、400℃以上95
0゜C以下で熱処理を行う。これにより、Sn基体(5
)のSnが、マトリックス材(7)中に均一に拡散し、
Nb基体(6)と反応し、N b基体(6)はNb*S
nのフィラメント(1)となる。
また、マトリックス材(7)もSnと反応してCu−S
n会金からなる介在体(2)となる。
n会金からなる介在体(2)となる。
このとき、Snの拡散によって、安定化材(4)のCu
がCu−Snに合金化するのを防ぐため、拡散バリア(
3)を設けてSnの拡散をその内側に止めている. ところで、超電導線及びそれによって形成されるコイル
は、速い磁界の変動に対して安定である低交流損失であ
り、かつ臨界電流が十分高いことが要求される。このた
めには、局部的なクエンチ(常電導転移)に対する極低
温保持及び局部的電流負荷などの安定化機能を、安定化
.材(4)が十分に有する必要がある. この安定化材(4)の安定化機能は残留抵抗比(RRR
一常温での電気抵抗率T極低温での電気抵抗率》で示さ
れる。この残留抵抗比の値を大きくするためには、安定
化材(4)の極低温での電気抵抗率を低くする必要があ
る。安定化機能が向上すれば、安定化材(4)の断面積
の縮小、及びこれにともなうコイルの小型,軽量化を図
ることが可能となる。
がCu−Snに合金化するのを防ぐため、拡散バリア(
3)を設けてSnの拡散をその内側に止めている. ところで、超電導線及びそれによって形成されるコイル
は、速い磁界の変動に対して安定である低交流損失であ
り、かつ臨界電流が十分高いことが要求される。このた
めには、局部的なクエンチ(常電導転移)に対する極低
温保持及び局部的電流負荷などの安定化機能を、安定化
.材(4)が十分に有する必要がある. この安定化材(4)の安定化機能は残留抵抗比(RRR
一常温での電気抵抗率T極低温での電気抵抗率》で示さ
れる。この残留抵抗比の値を大きくするためには、安定
化材(4)の極低温での電気抵抗率を低くする必要があ
る。安定化機能が向上すれば、安定化材(4)の断面積
の縮小、及びこれにともなうコイルの小型,軽量化を図
ることが可能となる。
[発明が解決しようとする課題]
上記のように構成された従来のNb3Sn線材において
は、Nbからなる拡散バリア(3)を用いているため、
拡散バリア(3)の内壁にN b * S nが生成さ
れてしまう。このようにして生成された1’Jb)sl
1は、太いフィラメントと同じような挙動を示し、電気
的結合状態となるため、交流損失(ヒステリシス損失)
が大きくなってしまうという問題点があった。また、こ
のNbからなる拡散バリア(3)を用いた場きの安定化
材(4)の残留抵抗比は300程度であり、安定化機能
の増大及び断面縮小の面で十分でないという問題点があ
った。
は、Nbからなる拡散バリア(3)を用いているため、
拡散バリア(3)の内壁にN b * S nが生成さ
れてしまう。このようにして生成された1’Jb)sl
1は、太いフィラメントと同じような挙動を示し、電気
的結合状態となるため、交流損失(ヒステリシス損失)
が大きくなってしまうという問題点があった。また、こ
のNbからなる拡散バリア(3)を用いた場きの安定化
材(4)の残留抵抗比は300程度であり、安定化機能
の増大及び断面縮小の面で十分でないという問題点があ
った。
また、これを改善するためには、安定化材(4)として
、より高純度のCuを用いる方法があるが、コストが非
常に高くなってしまうという問題点があった. この発明は、上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、より高純度なCuを用いることなく、安定
化材の残留抵抗比を大きくすることができ、これにより
安定化機能の増大及び断面縮小を図ることができる化合
物超電導線材の製造方法を得ることを目的とする。
、より高純度のCuを用いる方法があるが、コストが非
常に高くなってしまうという問題点があった. この発明は、上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、より高純度なCuを用いることなく、安定
化材の残留抵抗比を大きくすることができ、これにより
安定化機能の増大及び断面縮小を図ることができる化合
物超電導線材の製造方法を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段コ
この発明に係る化合物超電導線材の製造方法は、Taか
らなる拡散バリアを用い,550℃以上750℃以下の
温度で5時間以上200時間以下の加熱処理を行うもの
である。
らなる拡散バリアを用い,550℃以上750℃以下の
温度で5時間以上200時間以下の加熱処理を行うもの
である。
[作用コ
この発明においては、Taからなる拡散バリアを用い、
かつ550℃以上750℃以下の温度で5時間以上20
0時間以下の加熱処理を行うことにより、安定化材の残
留抵抗比が向上する。
かつ550℃以上750℃以下の温度で5時間以上20
0時間以下の加熱処理を行うことにより、安定化材の残
留抵抗比が向上する。
[実施例コ
以下、この発明の実施例を図について説明する.第1図
はこの発明の一実施例により製造された円形断面のNl
gSn線材を示す断面図、第2図は第1図のNb3Sn
線材の製造途中の状態を示す断面図であり、第3図及び
第4図と同一又は相当部分は同一符号を付し、その説明
を省略する。
はこの発明の一実施例により製造された円形断面のNl
gSn線材を示す断面図、第2図は第1図のNb3Sn
線材の製造途中の状態を示す断面図であり、第3図及び
第4図と同一又は相当部分は同一符号を付し、その説明
を省略する。
図において、(10》は介在体(2〉の外周に設けられ
外部へのS nの拡散を防止する拡散バリアであり、こ
の拡散バリア(10)はSnと反応しないTaからなっ
ている, (11)は安定化材(4).超電導モジュ
ール(8)及び拡散バリア(10)からなる複合体であ
る. 次に、このNb3Sn線材の製造方法を説明する.まず
、超電導モジュール(8) (外径φ9.8+am,長
さlm)を製造し、その外周部に拡散バリア(3)とな
るTaチューブ(外径φ11m+s,内径φ10mm,
長さlm)を被覆した。次に、そのTaチューブの外周
に、安定化材(4)となる無酸素鋼管(外径φ18 .
5mm ,内径φ11.4mm,長さlm)を設けるこ
とにより、複合体(11)を製造した。
外部へのS nの拡散を防止する拡散バリアであり、こ
の拡散バリア(10)はSnと反応しないTaからなっ
ている, (11)は安定化材(4).超電導モジュ
ール(8)及び拡散バリア(10)からなる複合体であ
る. 次に、このNb3Sn線材の製造方法を説明する.まず
、超電導モジュール(8) (外径φ9.8+am,長
さlm)を製造し、その外周部に拡散バリア(3)とな
るTaチューブ(外径φ11m+s,内径φ10mm,
長さlm)を被覆した。次に、そのTaチューブの外周
に、安定化材(4)となる無酸素鋼管(外径φ18 .
5mm ,内径φ11.4mm,長さlm)を設けるこ
とにより、複合体(11)を製造した。
この後、ドローベンチ引抜及び伸線加工を行い、また必
要に応じて軟化焼鈍を行い、複合体(11)を所定の形
状、寸法(外径φ0.l3+a+)に加工した.それか
ら、所定形状.寸法に加工された複合体に対して、温度
725℃で70時間加熱処理を行った。
要に応じて軟化焼鈍を行い、複合体(11)を所定の形
状、寸法(外径φ0.l3+a+)に加工した.それか
ら、所定形状.寸法に加工された複合体に対して、温度
725℃で70時間加熱処理を行った。
これによって、Sn基休(5)のSnがマトリックス材
(7)中に拡散し、Nb基体(6》はNb*Snのフィ
ラメント(1)となった. 一方、この実施例のNb.Sn線材とともに、従来例と
同様に拡散バリアがNbからなるN bz S +t線
材を製造し、上記実施例のものとその特性を比較してみ
た.これらの特性を下表に示す.なお、Nb拡散バリア
のN b :l S n線材は、Taチューブの代わり
にNbチューブを用いること以外、上記実施例と同様の
方法で製造した.また、下表において、材料とは拡散バ
リア材料、常温でのCu抵抗率とは2901(における
安定化材(4)の電気抵抗率、極低温でのCu抵抗率と
19K(常電導遷移温度)における安定化材(4)の電
気抵抗率をそれぞれ示している。
(7)中に拡散し、Nb基体(6》はNb*Snのフィ
ラメント(1)となった. 一方、この実施例のNb.Sn線材とともに、従来例と
同様に拡散バリアがNbからなるN bz S +t線
材を製造し、上記実施例のものとその特性を比較してみ
た.これらの特性を下表に示す.なお、Nb拡散バリア
のN b :l S n線材は、Taチューブの代わり
にNbチューブを用いること以外、上記実施例と同様の
方法で製造した.また、下表において、材料とは拡散バ
リア材料、常温でのCu抵抗率とは2901(における
安定化材(4)の電気抵抗率、極低温でのCu抵抗率と
19K(常電導遷移温度)における安定化材(4)の電
気抵抗率をそれぞれ示している。
この表に示すように、安定化材《4》の電気抵抗率は、
常温ではほぼ同じだが、極低温ではTaの拡散バリア(
10)を用いたものの方がかなり小さくなった。従って
、残留抵抗比は、Taの拡散バリア(10)を用いたも
のの方が3倍以上も大きくなった. また、加熱温度が550℃以下では残留抵抗比のこのよ
うな効果は殆どみられず、また750℃以上では残留抵
抗比の平衡状態又は低下がみられた。
常温ではほぼ同じだが、極低温ではTaの拡散バリア(
10)を用いたものの方がかなり小さくなった。従って
、残留抵抗比は、Taの拡散バリア(10)を用いたも
のの方が3倍以上も大きくなった. また、加熱温度が550℃以下では残留抵抗比のこのよ
うな効果は殆どみられず、また750℃以上では残留抵
抗比の平衡状態又は低下がみられた。
加熱時間についても5〜200時間の範囲外では、この
ような効果はみちれなかった。
ような効果はみちれなかった。
なお、上記実施例では725℃70時間で加熱処理を行
ったが、加熱温度及び加熱時間の条件は、550〜75
0℃、5〜200時間の範囲内であれば池の時間の加熱
処理がより効果的で好ましい.また2上記実施例では化
合物超電導線材として第1の基体がSn基体(ら)、第
2の基体がNb基体(6)であるN bs S n線材
を示したが、例えばNb.AI線材やNbpGall材
など、それぞれ他の材料からなる第1及び第2の基体を
用いた他の化合物超電導線材であってもこの発明は適用
できる.さらに、上記実施例では超電導モジュール(8
)を1本用いたものを示したが、超電導モジュールを複
数本束ねて用いたものにもこの発明は適用できる. さらにまた、上記実施例では化合物超電導線材として円
形断面のものを示したが、矩形断面や異形断面のもので
あってもよい。また、線径も上記実施例に限定されない
. また、上記実施例ではマトリックス材(7)としてCu
からなるものを示したが、例えばCu−Snh金からな
るものなど、他の材質のものであってもよい. [発明の効果] 以上説明したように、この発明の化合物超電導線材の製
造方法は、Taからなる拡散バリアを用い、550℃以
上750℃以下の温度で5時間以上200時間以下の加
熱処理を行ったので、より高純度なCuを用いることな
く、安定化材の残留抵抗比を大きくすることができ、こ
れにより安定化機能の増大及び断面縮小を図ることがで
きるという効果がある.
ったが、加熱温度及び加熱時間の条件は、550〜75
0℃、5〜200時間の範囲内であれば池の時間の加熱
処理がより効果的で好ましい.また2上記実施例では化
合物超電導線材として第1の基体がSn基体(ら)、第
2の基体がNb基体(6)であるN bs S n線材
を示したが、例えばNb.AI線材やNbpGall材
など、それぞれ他の材料からなる第1及び第2の基体を
用いた他の化合物超電導線材であってもこの発明は適用
できる.さらに、上記実施例では超電導モジュール(8
)を1本用いたものを示したが、超電導モジュールを複
数本束ねて用いたものにもこの発明は適用できる. さらにまた、上記実施例では化合物超電導線材として円
形断面のものを示したが、矩形断面や異形断面のもので
あってもよい。また、線径も上記実施例に限定されない
. また、上記実施例ではマトリックス材(7)としてCu
からなるものを示したが、例えばCu−Snh金からな
るものなど、他の材質のものであってもよい. [発明の効果] 以上説明したように、この発明の化合物超電導線材の製
造方法は、Taからなる拡散バリアを用い、550℃以
上750℃以下の温度で5時間以上200時間以下の加
熱処理を行ったので、より高純度なCuを用いることな
く、安定化材の残留抵抗比を大きくすることができ、こ
れにより安定化機能の増大及び断面縮小を図ることがで
きるという効果がある.
第1図はこの発明の一実施例により製造された円形断面
のNbzSnii材を示す断面図、第2図は第1図のN
b,Sn線材の製造途中の状態を示す断面図、第3図は
従来の製造方法により製造された化合物超電導線材の一
例としてNb,Sn線材を示す断面図5第4図は第3図
のNbsSn線材の製造途中の状態を示す断面図である
. 図において、(4)は安定化材、(5)はSn基体(第
1の基体)、(6)はNb基体(第2の基体)、(7)
はマトリックス材、(8)は超電導モジュール、(10
)は拡散バリアである。 なお、各図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。
のNbzSnii材を示す断面図、第2図は第1図のN
b,Sn線材の製造途中の状態を示す断面図、第3図は
従来の製造方法により製造された化合物超電導線材の一
例としてNb,Sn線材を示す断面図5第4図は第3図
のNbsSn線材の製造途中の状態を示す断面図である
. 図において、(4)は安定化材、(5)はSn基体(第
1の基体)、(6)はNb基体(第2の基体)、(7)
はマトリックス材、(8)は超電導モジュール、(10
)は拡散バリアである。 なお、各図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 第1の基体と、この第1の基体のまわりにマトリック材
を介して配設された複数の第2の基体とを有する超電導
モジュールの外周部に、Taからなり外部への前記第1
の基体の拡散を防止する拡散バリアを設け、この拡散バ
リアの外周部にCuからなる安定化材を設けた後、55
0℃以上750℃以下の温度で、5時間以上200時間
以下加熱し、前記第1の基体と前記第2の基体とを化合
させることを特徴とする化合物超電導線材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1053881A JPH02234313A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 化合物超電導線材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1053881A JPH02234313A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 化合物超電導線材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02234313A true JPH02234313A (ja) | 1990-09-17 |
Family
ID=12955086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1053881A Pending JPH02234313A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 化合物超電導線材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02234313A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007524210A (ja) * | 2004-02-19 | 2007-08-23 | オックスフォード スーパーコンダクティング テクノロジー | Nb3Sn超伝導ワイヤにおける臨界密度の改善 |
-
1989
- 1989-03-08 JP JP1053881A patent/JPH02234313A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007524210A (ja) * | 2004-02-19 | 2007-08-23 | オックスフォード スーパーコンダクティング テクノロジー | Nb3Sn超伝導ワイヤにおける臨界密度の改善 |
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