JPH02235382A - マイクロ波レーザ装置 - Google Patents

マイクロ波レーザ装置

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JPH02235382A
JPH02235382A JP5510889A JP5510889A JPH02235382A JP H02235382 A JPH02235382 A JP H02235382A JP 5510889 A JP5510889 A JP 5510889A JP 5510889 A JP5510889 A JP 5510889A JP H02235382 A JPH02235382 A JP H02235382A
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JP
Japan
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discharge
microwave
laser
discharge part
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP5510889A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideomi Takahashi
秀臣 高橋
Kiyohisa Terai
清寿 寺井
Kazuo Minami
和雄 南
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP5510889A priority Critical patent/JPH02235382A/ja
Publication of JPH02235382A publication Critical patent/JPH02235382A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0975Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、マイクロ波放電励起を行うマイクロ波レーザ
装置に関するものである。
(従来の技術) 一般に、レーザ発振を得るためには、レーザ媒質中で空
間的に均一な放電の生成を必要とするが、特にマイクロ
波を放電励起に用いる場合、このことは非常に重要とな
る。即ち、マイクロ波を通常のレーザ発振で用いられる
圧力(20〜200Torr)で用いると、放電維持電
圧、即ち、定常運転電圧に比べ、放電開始電圧が遥かに
高いため、放電を発生させるに充分な強度のマイクロ波
が醜電部に入射すると、入口付近に放電が集中的に生じ
る。そのため、この部分に高密度のプラズマが形成され
、インピーダンスが極端に低下する。その結果、入射マ
イクロ波は放電部に入った途端にほとんど100%が反
射されてしまい、放電空間に有効に電気人力が供給され
ないことになる。
この様な問題点を解決するために、App l i.P
hys.Le t t.,37 (8).p673(1
980)に、第3図に示した様なマイクロ波レーザ装置
が提案されている。即ち、第3図において、レーザガス
31は放電部の上部人口32より高圧で供給され、誘電
体から構成されたノズル33を通過すると共に高速とな
り、ガス圧力が低下する。一方、放電励起に用いられる
マイクロ波34は、図中左方より導波管35によって供
給され、マイクロ波を透過する圧力隔壁36を通してレ
ーザ放電部41に供給される。
ここで、レーザ放電部41の空間の内、ノズル33の前
方の空間37は高圧力であるため、空間37においては
放電は発生しない。一方、ノズル33の後方の空間38
においてはガス圧力が低下するので、この部分にマイク
ロ波放電が発生する。
この部分での放電は低ガス圧中での放電であるため一様
となり、レーザ放電部41の下流側に配設された光共振
器39により、マイクロ波で励起されたレーザガス中を
通るレーザ光が増幅発振される。また、排出ガス40は
真空ポンプによって、図中右方へ排出されている。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記の様な構成を有する従来のマイクロ
波レーザ装置においては、以下に述べる様な解決すべき
課題があった。
即ち、高圧で供給されたレーザガス31を、ノズル33
を通して断熱膨脹させ、そのガス圧力を低下させるため
、レーザガスの全量を排気するための真空ポンプが必要
となる。また、真空ポンプの排気動力が多大となり、装
置の大型化を招き、全体としてのレーザ発振効率が極端
に低下してしまうという欠点があった。
また、ノズル33の下流側のガス圧力、即ち、放電部の
ガス圧ノノが低いので、電力密度を大きくとることがで
きず、装置が大形となり、レーザ出力も大きくはとれな
いといった欠点もあった。
本発明は以上の欠点を解消するために提案されたもので
、その目的は、通常のガス圧力(20〜200To r
 r)で一様なグロー放電が得られる、効率的なマイク
ロ波レーザ装置を提供することにある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガス圧で封
入し、このガスを放電部に循環させ、前記放電部の外部
に配設したマイクロ波電源よりマイクロ波を供給して放
電させてレーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レーザ装
置において、放電部の断面積を縮小して構成し、また、
放電部を専用の真空容器内に収納したことを特徴とする
ものである。
(作用) 本発明のマイクロ波レーザ装置によれば、放電部の断面
積を縮小して構成したことにより、放電部内におけるマ
イクロ波電界の強度を高めることができるので、一様な
グロー放電を得ることができる。また、放電部を専用の
真空容器(例えば、円筒タンク等)内に収納することに
より、放電部の真空状態をより安定した状態で保持でき
るので、堅牢でコンパクトな構成とすることができる。
(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図及び第2図に基づいて
具体的に説明する。
本実施例においては、第1図に示した様に、マイクロ波
発振器1から送出されたマイクロ波電力2が導波管3内
に放射されるように構成されている。この導波管3内に
は隔壁4が設けられ、導波管3をマイクロ波発振器側3
aと、マイクロ波放電管側3bとに区画している。また
、前記マイクロ波放電管側の導波管3bには放電部5が
接続されている。この放電部5は導波管放電部5aと終
端部5bとから構成され、前記導波管放電部5aの断面
積が導波管3及び終端部5bの断面積に比べて小さくな
るように構成されている。また、前記放電部5は金属あ
るいは絶縁物から成る専用真空容器7中に収納されてい
る。さらに、終端部5bにはレーザガス循環配管8が接
続され、その途中には熱交換器9及び送風機10が設け
られ、レーザガスを矢印11の方向に循環駆動するよう
に構成されている。
なお、上記の様に構成された放電部を含む真空容器l2
には、バルブ13を介して真空ボンプ14が接続され、
真空容器12内を真空排気できるように構成されている
。また、同様にバルブ15を介してレーザガスボンベ1
6が接続され、容器内にレーザガスを数10Torrま
で充填できるように構成されている。なお、前記バルブ
13,15は圧力制御器17によってその開閉が制御さ
れている。
ここで、前記放電部5及びその周囲に配設される専用真
空容器7の具体例を第2図に示した。即ち、放電部5の
周囲に、金属あるいは絶縁物から成る専用真空容器であ
る円筒タンク20が配設されている。また、放電部5の
両側には、光軸上に全反射ミラー18a及び半透過ミラ
ー18bが対向して配設されて光共振器が構成され、半
透過ミラー18bの外部にレーザ光19が放出されるよ
うに構成されている。
この様な構成を有する本実施例のマイクロ波レーザ装置
においては、以下に述べるようにしてレーザガスが放電
励起される。即ち、マイクロ波発振器1より放射された
マイクロ波電力2は、隔壁4を介して通常数I QTo
 r r程度の低圧レーザガスの封入された放電部5に
入射し、ここでグロー放電6を形成し、放電部内部に循
環駆動されているレーザガスを放電励起する。このとき
、導波管放電部5aの断面積が小さく構成されているの
で、一様なグロー放電が点弧される。この様にして放電
励起されたレーザガスによって、レーザ光19が増幅さ
れ、出力される。
この様に、本実施例によれば、マイクロ波のエネルギー
が効果的に導波管放電部に注入され、様なグロー放電が
形成される。また、放電部5を専用の真空容器7内に収
納したので、放電部の真空状態をより安定した状態で保
持することができ、堅牢でコンパクトなマイクロ波レー
ザ装置を傳ることができる。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
く、通常アルミニウム(AI)あるいは銅(Cu)から
成る放電部電極に、金(Au)、クロム(Cr)または
ニッケル(Ni)等の耐蝕性の強い金属をコーティング
しても良い。この場合、放電によって生じる表面酸化等
による表面導電率の低下を防止することができるので、
放電部電極の寿命を飛躍的に改善することができる。
[発明の効果] 以上述べた様に、本発明によれば、放電部の断面積を縮
小して構成し、また、放電部を専用の真空容器内に収納
するという簡単な手段によって、通常のガス圧力で一様
なグロー放電が得られる、効率的なマイクロ波レーザ装
置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のマイクロ波レーザ装置の一実施例を示
す構成図、第2図は本発明のマイクロ波レーザ装置にお
ける放電部及び専用真空容器の具体例を示す斜視図、第
3図は従来例の主要部を示す断面図である。 1・・・マイクロ波発振器、2・・・マイクロ波電力、
3・・・導波管、4・・・隔壁、5・・・放電部、5a
・・・導波管放電部、5b・・・終端部、6・・・グロ
ー放電、7・・・専用真空容器、8・・・レーザガス循
環配管、9・・・熱交換器、10・・・送風機、11・
・・レーザガス流、12・・・真空容器、13・・・バ
ルブ、14・・・真空ポンプ、15・・・バルブ、16
・・・レーザガスボンベ、17・・・圧力制御器、18
a・・・全反射ミラー 18b・・・半透過ミラー 1
9・・・レーザ光、20・・・円筒タンク、31・・・
レーザガス、32・・・上部入口、33・・・ノスル、
34・・・マイクロ波、35・・・導波管、36・・・
圧力隔壁、39・・・光共振器、40・・・排出ガス、
41・・・レーザ放電部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガス圧で封入し、この
    ガスを放電部に循環させ、前記放電部の外部に配設した
    マイクロ波電源よりマイクロ波を供給して放電させてレ
    ーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レーザ装置において
    、 前記放電部の断面積を縮小して構成し、また、前記放電
    部を専用の真空容器内に収納したことを特徴とするマイ
    クロ波レーザ装置。
JP5510889A 1989-03-09 1989-03-09 マイクロ波レーザ装置 Pending JPH02235382A (ja)

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