JPH02129976A - マイクロ波レーザ装置 - Google Patents
マイクロ波レーザ装置Info
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- JPH02129976A JPH02129976A JP28245588A JP28245588A JPH02129976A JP H02129976 A JPH02129976 A JP H02129976A JP 28245588 A JP28245588 A JP 28245588A JP 28245588 A JP28245588 A JP 28245588A JP H02129976 A JPH02129976 A JP H02129976A
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- microwave
- gas
- discharge
- excitation
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
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- Lasers (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、マイクロ波放電励起を行うマイクロ波レーザ
装置に関するものである。
装置に関するものである。
(従来の技術)
一般に、レーザ発振を得るためには、レーザ媒質中で空
間的に均一な放電の生成を必要とするが、特にマイクロ
波を放電励起に用いる場合、このことは非常に重要とな
る。即ち、マイクロ波を通常のレーザ発振で用いられる
圧力(20〜200Torr)で用いると、放電維持電
圧、即ち、定常運転電圧に比べ、放電開始電圧が遥かに
高いため、放電を発生させるに充分な強度のマイクロ波
が放電部に入射すると、入口付近に放電が集中的に生じ
る。そのため、この部分に高密度のプラズマが形成され
、インピーダンスが極端に低下する。その結果、入射マ
イクロ波は放電部に入った途端にほとんど100%が反
射されてしまい、放電空間に有効に電気入力が供給され
ないことになる。
間的に均一な放電の生成を必要とするが、特にマイクロ
波を放電励起に用いる場合、このことは非常に重要とな
る。即ち、マイクロ波を通常のレーザ発振で用いられる
圧力(20〜200Torr)で用いると、放電維持電
圧、即ち、定常運転電圧に比べ、放電開始電圧が遥かに
高いため、放電を発生させるに充分な強度のマイクロ波
が放電部に入射すると、入口付近に放電が集中的に生じ
る。そのため、この部分に高密度のプラズマが形成され
、インピーダンスが極端に低下する。その結果、入射マ
イクロ波は放電部に入った途端にほとんど100%が反
射されてしまい、放電空間に有効に電気入力が供給され
ないことになる。
この様な問題点を解決するために、Appli。
Phys、Lett、、37 (8)、p6’a(19
80)に、第4図に示した様なマイクロ波レーザ装置が
提案されている。即ち、第4図において、レーザガス3
1は放電部の上部人口32より高圧で供給され、誘電体
から構成されたノズル33を通過すると共に高速となり
、ガス圧力が低下する。一方、放電励起に用いられるマ
イクロ波34は、図中左方より導波管35によって供給
され、マイクロ波を透過する圧力隔壁36を通してレー
ザ放電部41に供給される。
80)に、第4図に示した様なマイクロ波レーザ装置が
提案されている。即ち、第4図において、レーザガス3
1は放電部の上部人口32より高圧で供給され、誘電体
から構成されたノズル33を通過すると共に高速となり
、ガス圧力が低下する。一方、放電励起に用いられるマ
イクロ波34は、図中左方より導波管35によって供給
され、マイクロ波を透過する圧力隔壁36を通してレー
ザ放電部41に供給される。
ここで、レーザ放電部41の空間の内、ノズル33の前
方の空間37は高圧力でおるため、空間37においては
放電は発生しない。一方、ノズル33の後方の空間38
においてはガス圧力が低下するので、この部分にマイク
ロ波放電が発生する。
方の空間37は高圧力でおるため、空間37においては
放電は発生しない。一方、ノズル33の後方の空間38
においてはガス圧力が低下するので、この部分にマイク
ロ波放電が発生する。
この部分での放電は低ガス圧中での放電であるため一様
となり、レーザ放電部41の下流側に配設された光共娠
器39により、マイクロ波で励起されたレーザガス中を
通るレーザ光が増幅発振される。また、排出ガス40は
真空ポンプによって、図中在方へ排出されている。
となり、レーザ放電部41の下流側に配設された光共娠
器39により、マイクロ波で励起されたレーザガス中を
通るレーザ光が増幅発振される。また、排出ガス40は
真空ポンプによって、図中在方へ排出されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記の様な構成を有する従来のマイクロ
波レーザ装置においては、以下に述べる様な解決すべき
課題があった。
波レーザ装置においては、以下に述べる様な解決すべき
課題があった。
即ち、高圧で供給されたレーザガス31を、ノズル33
を通して断熱膨圧させ、そのガス圧力を低下させるため
、レーザガスの全量を排気するための真空ポンプが必要
となる。また、真空ポンプの排気動力が多大となり、装
置の大型化を招き、全体としてのレーザ発撮効率が極端
に低下してしまうという欠点があった。
を通して断熱膨圧させ、そのガス圧力を低下させるため
、レーザガスの全量を排気するための真空ポンプが必要
となる。また、真空ポンプの排気動力が多大となり、装
置の大型化を招き、全体としてのレーザ発撮効率が極端
に低下してしまうという欠点があった。
また、レーザガスの流れと光軸とが直交しているため、
励起されたレーザガスの光共振器内における滞留時間が
短く、レーザ励起効率が低下するといった欠点があった
。この様な欠点は、光路長が長く、複数回折返すことに
よって放電部に複数本の光路を取れる大形レーザにおい
ては余り問題とならないが、放電部における光路が1本
で、且つ、ビームの小さい小形レーザにおいては大きな
問題となっていた。
励起されたレーザガスの光共振器内における滞留時間が
短く、レーザ励起効率が低下するといった欠点があった
。この様な欠点は、光路長が長く、複数回折返すことに
よって放電部に複数本の光路を取れる大形レーザにおい
ては余り問題とならないが、放電部における光路が1本
で、且つ、ビームの小さい小形レーザにおいては大きな
問題となっていた。
ざらに、前記欠点を解消する目的で、光共振器内の滞留
時間を大きくすると、レーザガスの流速が低下し、ガス
温度が上昇してしまい、レーザ励起効率が低下するだけ
でなく、アーク限界が低下して、レーザ出力が低下する
という欠点もあった。
時間を大きくすると、レーザガスの流速が低下し、ガス
温度が上昇してしまい、レーザ励起効率が低下するだけ
でなく、アーク限界が低下して、レーザ出力が低下する
という欠点もあった。
本発明は以上の欠点を解消するために提案されたもので
、その目的は、通常のガス圧力(20−200Torr
、)で−様なグロー放電が得られ、また、レーザ媒質ガ
スの光共振器内における滞留時間を高めることにより、
効果的なレーザ励起を行うことのできるマイクロ波レー
ザ装置を提供することにある。
、その目的は、通常のガス圧力(20−200Torr
、)で−様なグロー放電が得られ、また、レーザ媒質ガ
スの光共振器内における滞留時間を高めることにより、
効果的なレーザ励起を行うことのできるマイクロ波レー
ザ装置を提供することにある。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガス圧で封
入し、このガスを放電部に循環させ、前記放電部の外部
に配設したマイクロ波電源よりマイクロ波を供給して放
電させ、レーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レーザ装
置において、前記放電部に、マイクロ波シールド管をそ
の軸がレーザ光軸と同一となるように接続し、前記マイ
クロ波シールド管を介してレーザガスを排出するように
構成したことを特徴とするものである。
入し、このガスを放電部に循環させ、前記放電部の外部
に配設したマイクロ波電源よりマイクロ波を供給して放
電させ、レーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レーザ装
置において、前記放電部に、マイクロ波シールド管をそ
の軸がレーザ光軸と同一となるように接続し、前記マイ
クロ波シールド管を介してレーザガスを排出するように
構成したことを特徴とするものである。
(作用)
本発明のマイクロ波レーザ装置によれば、放電部内で励
起されたレーザガスは、マイクロ波シールド管を通って
外部に排出されるので、レーザガスの光共振器内におけ
る滞留時間が長くなり、N2分子からCO2分子への励
起エネルギーの移行が効果的に行える。
起されたレーザガスは、マイクロ波シールド管を通って
外部に排出されるので、レーザガスの光共振器内におけ
る滞留時間が長くなり、N2分子からCO2分子への励
起エネルギーの移行が効果的に行える。
(実施例)
以下、本発明の一実施例を第1図に基づいて具体的に説
明する。
明する。
本実施例においては、第1図に示した様に、マイクロ波
発振器1から送出されたマイクロ波電力2が導波管3内
に放射されるように構成されている。この導波管3内に
は隔壁4が設けられ、導波管3をマイクロ波発振器側3
aと、マイクロ波放電管側3bとに区画している。また
、前記マイクロ波放電管側の導波管3bには、放電部5
が接続されている。この放電部5は導入部5a、導波管
放電部5b、端部5Cから構成され、前記導波管放電部
5bはその断面積が導入部5a及び端部5Gに比べて小
さくなるように構成されている。ざらに、前記放電部5
の両側には、マイクロ波シールド管7,7′がレーザ光
軸8と同軸に配設され、マイクロ波シールド管7は、内
部に半透過ミラーへ13bを配設した端部9を介して、
レーザガス循環配管10に接続されている。一方、マイ
クロ波シールド管7−には、その端部に全反射ミラー1
3aが配設されている。また、前記循環配管10の途中
には送風機11が設けられ、レーザガス12を矢印の方
向に循環駆動するように構成されている。さらに、前記
導波管放電部5b及びマイクロ波シールド管7の周囲に
は複数個の冷却管15が配設されている。また、前記全
反射ミラー13a及び半透過ミラー13bによって光共
振器が形成されている。
発振器1から送出されたマイクロ波電力2が導波管3内
に放射されるように構成されている。この導波管3内に
は隔壁4が設けられ、導波管3をマイクロ波発振器側3
aと、マイクロ波放電管側3bとに区画している。また
、前記マイクロ波放電管側の導波管3bには、放電部5
が接続されている。この放電部5は導入部5a、導波管
放電部5b、端部5Cから構成され、前記導波管放電部
5bはその断面積が導入部5a及び端部5Gに比べて小
さくなるように構成されている。ざらに、前記放電部5
の両側には、マイクロ波シールド管7,7′がレーザ光
軸8と同軸に配設され、マイクロ波シールド管7は、内
部に半透過ミラーへ13bを配設した端部9を介して、
レーザガス循環配管10に接続されている。一方、マイ
クロ波シールド管7−には、その端部に全反射ミラー1
3aが配設されている。また、前記循環配管10の途中
には送風機11が設けられ、レーザガス12を矢印の方
向に循環駆動するように構成されている。さらに、前記
導波管放電部5b及びマイクロ波シールド管7の周囲に
は複数個の冷却管15が配設されている。また、前記全
反射ミラー13a及び半透過ミラー13bによって光共
振器が形成されている。
この様な構成を有する本実施例のマイクロ波レーザ装置
においては、以下に述べるようにしてレーザガスを放電
励起する。即ち、マイクロ波発振器1より放射されたマ
イクロ波電力2は、隔壁4を介して通常数10To r
r程度の低圧レーザガスの封入された放電部5に入射
し、ここでグロー放電6を形成し、放電部内部に循環駆
動されているレーザガス12を放電励起する。この様に
して放電励起されたレーザガスは、マイクロ波シールド
管7を通過する間に、N2かうCO2への励起エネルギ
ーの移行が行われる。ところで、マイクロ波シールド管
7は、レーザガスが通過するのに時間がかかるように、
マイクロ波の波長に比べて十分少ざい直径で、また、十
分長く形成されている。そのため、レーザガスの光共振
器内における滞留時間が長くなるので、CO2分子の励
起エネルギーは効果的にレーザ光に移行され、端部に設
けられた半透過ミラー13bを介して、外部にレーザ出
力光14が放出される。なお、導波管放電部5b及びマ
イクロ波シールド管7の周囲に配設される冷却管15に
よって、導波管放電部5b及びシールド管7が冷却され
るので、レーザ上位レベルへの励起を効果的に行うこと
ができる。また、放電部5の両側に配設されるマイクロ
波シールド管7,7−は、マイクロ波の波長に比して十
分に小さい直径を有し、また、十分に長く構成されてい
るので、その内部において電波漏れを起こすことはない
。
においては、以下に述べるようにしてレーザガスを放電
励起する。即ち、マイクロ波発振器1より放射されたマ
イクロ波電力2は、隔壁4を介して通常数10To r
r程度の低圧レーザガスの封入された放電部5に入射
し、ここでグロー放電6を形成し、放電部内部に循環駆
動されているレーザガス12を放電励起する。この様に
して放電励起されたレーザガスは、マイクロ波シールド
管7を通過する間に、N2かうCO2への励起エネルギ
ーの移行が行われる。ところで、マイクロ波シールド管
7は、レーザガスが通過するのに時間がかかるように、
マイクロ波の波長に比べて十分少ざい直径で、また、十
分長く形成されている。そのため、レーザガスの光共振
器内における滞留時間が長くなるので、CO2分子の励
起エネルギーは効果的にレーザ光に移行され、端部に設
けられた半透過ミラー13bを介して、外部にレーザ出
力光14が放出される。なお、導波管放電部5b及びマ
イクロ波シールド管7の周囲に配設される冷却管15に
よって、導波管放電部5b及びシールド管7が冷却され
るので、レーザ上位レベルへの励起を効果的に行うこと
ができる。また、放電部5の両側に配設されるマイクロ
波シールド管7,7−は、マイクロ波の波長に比して十
分に小さい直径を有し、また、十分に長く構成されてい
るので、その内部において電波漏れを起こすことはない
。
この様に、本実施例によれば、マイクロ波のエネルギー
が効果的に導波管放電部に注入され、−様なグロー放電
が形成される。また、レーザガスの光共振器内における
滞留時間を長くすることがきるので、マイクロ波シール
ド管内部において放電励起エネルギーの移行をスムーズ
に行うことができ、効率的なレーザ光の増幅発振を行う
ことができる。
が効果的に導波管放電部に注入され、−様なグロー放電
が形成される。また、レーザガスの光共振器内における
滞留時間を長くすることがきるので、マイクロ波シール
ド管内部において放電励起エネルギーの移行をスムーズ
に行うことができ、効率的なレーザ光の増幅発振を行う
ことができる。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
く、第2図(示した様に、角形導波管20の長手方向に
マイクロ波シールド管21a、21bを2本配設しても
良い。この場合、放電部内には2本のレーザ光が通るが
、角形導波管内におけるマイクロ波の電磁界は第3図に
示した様になっているため、2本のレーザ光は電界強度
の強いところを通ることになり、効果的なレーザ励起を
行うことができる。
く、第2図(示した様に、角形導波管20の長手方向に
マイクロ波シールド管21a、21bを2本配設しても
良い。この場合、放電部内には2本のレーザ光が通るが
、角形導波管内におけるマイクロ波の電磁界は第3図に
示した様になっているため、2本のレーザ光は電界強度
の強いところを通ることになり、効果的なレーザ励起を
行うことができる。
また、第1図及び第2図に示した実施例においては、放
電部の断面積を小ざく構成しているが、従来の放電部に
マイクロ波シールド管を配設しても、シールド管内部に
おけるレーザガスの滞留時間を長くすることができ、放
電励起エネルギーの移行をスムーズに行うことができる
。
電部の断面積を小ざく構成しているが、従来の放電部に
マイクロ波シールド管を配設しても、シールド管内部に
おけるレーザガスの滞留時間を長くすることができ、放
電励起エネルギーの移行をスムーズに行うことができる
。
[発明の効果]
以上述べた様に、本発明によれば、放電部にマイクロ波
シールド管をその軸がレーザ光軸と同一となるように接
続し、このマイクロ波シールド管を介してレーザガスを
外部に排出するように構成するという簡単な手段によっ
て、レーザ媒質ガスの光共振器内における滞留時間を高
めることにより、効果的なレーザ励起を行うことのでき
るマイクロ波レーザ装置を提供することができる。
シールド管をその軸がレーザ光軸と同一となるように接
続し、このマイクロ波シールド管を介してレーザガスを
外部に排出するように構成するという簡単な手段によっ
て、レーザ媒質ガスの光共振器内における滞留時間を高
めることにより、効果的なレーザ励起を行うことのでき
るマイクロ波レーザ装置を提供することができる。
第1図は本発明のマイクロ波レーザ装置の一実施例を示
す構成図、第2図は本発明の他の実施例を示す斜視図、
第3図は一般の角形導波管内における電界分布を示す図
、第4図は従来例の主要部を示す断面図である。 1・・・マイクロ波発振器、2・・・マイクロ波電力、
3・・・導波管、4・・・隔壁、5・・・放電部、5a
・・・導入部、5b・・・導波管放電部、5C・・・端
部、6・・・グローfIi電、7,7−・・・マイクロ
波シールド管、8・・・レーザ光軸、10・・・レーザ
ガス循環配管、11・・・送風機、12・・・レーザガ
ス、13a・・・全反射ミラ、13b・・・半透過ミラ
ー、20・・・角形導波管、2’la、21b・・・マ
イクロ波シールド管、31・・・レーザガス、32・・
・上部入口、33・・・ノズル、34・・・マイクロ波
、35・・・導波管、36・・・圧力隔壁、39・・・
光共撮器、40・・・排出ガス、41・・・レーザ放電
部。
す構成図、第2図は本発明の他の実施例を示す斜視図、
第3図は一般の角形導波管内における電界分布を示す図
、第4図は従来例の主要部を示す断面図である。 1・・・マイクロ波発振器、2・・・マイクロ波電力、
3・・・導波管、4・・・隔壁、5・・・放電部、5a
・・・導入部、5b・・・導波管放電部、5C・・・端
部、6・・・グローfIi電、7,7−・・・マイクロ
波シールド管、8・・・レーザ光軸、10・・・レーザ
ガス循環配管、11・・・送風機、12・・・レーザガ
ス、13a・・・全反射ミラ、13b・・・半透過ミラ
ー、20・・・角形導波管、2’la、21b・・・マ
イクロ波シールド管、31・・・レーザガス、32・・
・上部入口、33・・・ノズル、34・・・マイクロ波
、35・・・導波管、36・・・圧力隔壁、39・・・
光共撮器、40・・・排出ガス、41・・・レーザ放電
部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガス圧で封入し、この
ガスを放電部に循環させ、前記放電部の外部に配設した
マイクロ波電源よりマイクロ波を供給して放電させ、レ
ーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レーザ装置において
、 前記放電部に、マイクロ波シールド管をその軸がレーザ
光軸と同一となるように接続し、前記マイクロ波シール
ド管を介してレーザガスを排出するように構成したこと
を特徴とするマイクロ波レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28245588A JPH02129976A (ja) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | マイクロ波レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28245588A JPH02129976A (ja) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | マイクロ波レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02129976A true JPH02129976A (ja) | 1990-05-18 |
Family
ID=17652649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28245588A Pending JPH02129976A (ja) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | マイクロ波レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02129976A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001093380A1 (en) * | 2000-05-30 | 2001-12-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laser oscillating device |
-
1988
- 1988-11-10 JP JP28245588A patent/JPH02129976A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001093380A1 (en) * | 2000-05-30 | 2001-12-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laser oscillating device |
| US6895030B1 (en) | 2000-05-30 | 2005-05-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laser oscillating device |
| US6944200B2 (en) | 2000-05-30 | 2005-09-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laser oscillator |
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