JPH02236106A - 薄層の厚さ測定装置 - Google Patents
薄層の厚さ測定装置Info
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- JPH02236106A JPH02236106A JP2027320A JP2732090A JPH02236106A JP H02236106 A JPH02236106 A JP H02236106A JP 2027320 A JP2027320 A JP 2027320A JP 2732090 A JP2732090 A JP 2732090A JP H02236106 A JPH02236106 A JP H02236106A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
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- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔利用分野〕
この発明は厚さ測定装置に係り、特に、Ｘ線螢光法に基
づき薄層の厚さを測定するために、幾伺学的軸線に沿っ
てＸ線を放射するＸ線発生器と、測定される薄層を支持
するためのテーブル装置と、Ｘ＠をほぼ完全に吸収する
材料から成り、前記幾何学的軸線に移動させられ得る通
過口を有する絞り装置と、測定される薄層の部分へ向け
られ得る可視光の光源と、Ｘ線ビームが照射される薄層
の部分を観察するための顕微鏡装置と、この顕微鏡装置
と前記薄層の部分との間の光路に設けたミラーとを含む
厚さ測定装置に関する。
づき薄層の厚さを測定するために、幾伺学的軸線に沿っ
てＸ線を放射するＸ線発生器と、測定される薄層を支持
するためのテーブル装置と、Ｘ＠をほぼ完全に吸収する
材料から成り、前記幾何学的軸線に移動させられ得る通
過口を有する絞り装置と、測定される薄層の部分へ向け
られ得る可視光の光源と、Ｘ線ビームが照射される薄層
の部分を観察するための顕微鏡装置と、この顕微鏡装置
と前記薄層の部分との間の光路に設けたミラーとを含む
厚さ測定装置に関する。
小さい物品上の薄層の厚さの測定に際しては、小さい物
品を全体として測定するわけではないので、小さい物品
のうちの、Ｘ線ビームが照射される薄屡の部分をより正
確に識別できることが必要である。側定の対象となる点
の寸法は、通常、十分の数園から１畷の範囲である。測
定の対象となる点の寸法を小さくする必要は、歯車の歯
の特定の部分の薄層の厚さや、接触片の接触面の薄層の
厚さのような、特定の部分についての正確なデータを得
るために生じるものである。
品を全体として測定するわけではないので、小さい物品
のうちの、Ｘ線ビームが照射される薄屡の部分をより正
確に識別できることが必要である。側定の対象となる点
の寸法は、通常、十分の数園から１畷の範囲である。測
定の対象となる点の寸法を小さくする必要は、歯車の歯
の特定の部分の薄層の厚さや、接触片の接触面の薄層の
厚さのような、特定の部分についての正確なデータを得
るために生じるものである。
しかし、Ｘ線ビームが薄層に照射されている点を目で見
ることはできない。
ることはできない。
従来、ミラーを介して測定の対象となる部分を観察する
装置が知られているが、このミラーは、Ｘ線ビームの照
射時には、除去されて・Ｘ線ビームの照射手段と置換さ
れるので、測定の対象となる点の正確な識別のための精
度を得るのに困難が伴うものであった。
装置が知られているが、このミラーは、Ｘ線ビームの照
射時には、除去されて・Ｘ線ビームの照射手段と置換さ
れるので、測定の対象となる点の正確な識別のための精
度を得るのに困難が伴うものであった。
（発明の概要〕
本発明の目的は、測定の対象となる点を、高い精度で、
かつ，簡単な構成で、分析のために観察できる装ｇＩｔ
を得ることにある。
かつ，簡単な構成で、分析のために観察できる装ｇＩｔ
を得ることにある。
本発明によれば、この目的は、Ｘ１ｍ螢光法に基づき薄
層の厚さを測定するため、幾何学的軸線に沿ってＸＩ１
１Ｉｆｔ放射するＸ線源と、元学軸を持っていてＸ線ビ
ームが照射される薄層の部分を観察する観察装置とを有
する厚さ測定装置において、前記Ｘ線源の幾何学的軸線
に位置させられるとともに、前記観察装置とＸ線ビーム
が照射される薄層の部分との間の光学軸に位置させられ
ているミラーを備え、前記ミラーが、光学的反射材料を
含み、かつ、前記Ｘ線源の幾伺学的軸線に一致した孔を
有していることを特徴とする厚さ測定装置によって、達
成される。
層の厚さを測定するため、幾何学的軸線に沿ってＸＩ１
１Ｉｆｔ放射するＸ線源と、元学軸を持っていてＸ線ビ
ームが照射される薄層の部分を観察する観察装置とを有
する厚さ測定装置において、前記Ｘ線源の幾何学的軸線
に位置させられるとともに、前記観察装置とＸ線ビーム
が照射される薄層の部分との間の光学軸に位置させられ
ているミラーを備え、前記ミラーが、光学的反射材料を
含み、かつ、前記Ｘ線源の幾伺学的軸線に一致した孔を
有していることを特徴とする厚さ測定装置によって、達
成される。
このミラーはＸ線ビームの照射時にも除去の必要がない
ので固定されていて配置上の精度の低下を招くことはな
く、ミラーに孔が存在しても、観察装置への光が僅かに
減衰するが、そのような光の減衰は補償可能であり、調
節に必要な観察装置の解偉度は低下しない。
ので固定されていて配置上の精度の低下を招くことはな
く、ミラーに孔が存在しても、観察装置への光が僅かに
減衰するが、そのような光の減衰は補償可能であり、調
節に必要な観察装置の解偉度は低下しない。
本発明の実施態様では、孔の軸線はミラーの釧面に対し
て４５度の角度を持たされ、孔の断面がそのまま、Ｘ線
ビームの通過のための有効断面積となる。孔の断面寸法
は０．５〜２１１ｍ＋、より好ましくはＩＭである。こ
れらの値は実際に効果的であることが確認されており、
ミラーの特性低下ｔ−冥際上招かない。
て４５度の角度を持たされ、孔の断面がそのまま、Ｘ線
ビームの通過のための有効断面積となる。孔の断面寸法
は０．５〜２１１ｍ＋、より好ましくはＩＭである。こ
れらの値は実際に効果的であることが確認されており、
ミラーの特性低下ｔ−冥際上招かない。
本発明の好ましい案施例を以下に説明する。
第ｌ図および第２図を参照して、測定テーブル１１は、
ほぼ直方体形状のハウジング１２を有する。ハウジング
の上壁１３の前部には、長方形のフランジ１４が上方へ
垂直に突出している。このフランジ１４は、水平プレー
ト１７と一体のエプロン１６によって囲まれている。プ
レート１７の中央部には、上面が正確に水平で、座標目
盛を有し、上方へ突出する長方形の小さい作業プレート
１８が設けてある。等間隔の線１９は、Ｘ方向へ延びて
おり、等間隔の線２１は、Ｙ方向へ延びている。作業プ
レート１８およびプレート１７には、貫通口２２が設け
てある。部材１６．１７．１８から成るこの構造体の右
側には、顕微鏡テーブルとしての作業プレート１Ｂを矢
印２４ ．２６の方向へ移動する駆動機構２３が設けて
ある。ローレット付ネジ２Ｔｔ−矢印２８の方向へ回転
すると、矢印２４に沿って移動が行われる。
ほぼ直方体形状のハウジング１２を有する。ハウジング
の上壁１３の前部には、長方形のフランジ１４が上方へ
垂直に突出している。このフランジ１４は、水平プレー
ト１７と一体のエプロン１６によって囲まれている。プ
レート１７の中央部には、上面が正確に水平で、座標目
盛を有し、上方へ突出する長方形の小さい作業プレート
１８が設けてある。等間隔の線１９は、Ｘ方向へ延びて
おり、等間隔の線２１は、Ｙ方向へ延びている。作業プ
レート１８およびプレート１７には、貫通口２２が設け
てある。部材１６．１７．１８から成るこの構造体の右
側には、顕微鏡テーブルとしての作業プレート１Ｂを矢
印２４ ．２６の方向へ移動する駆動機構２３が設けて
ある。ローレット付ネジ２Ｔｔ−矢印２８の方向へ回転
すると、矢印２４に沿って移動が行われる。
ローレット付ネジ２９を矢印３１の方向へ回転すると、
作業プレート１８は、矢印２６の方向へ移動する。ロー
レフト付ネジ２７．２９を同時に回転すると、上記移動
が重畳して行われる。かくして、垂直な幾何学的縦軸線
３２に関して貫通口２２を精密に調整できる。作業プレ
ート１８上に、買通口２２を横切る部材を載せ、同じく
幾何学的縦軸線３２に関して移動することができる。部
材が小さく、貫通口２２から落下する場合は、上記買通
口に適切な箔（例えば、マイラ箔）を被せ、上記箔上に
部材を載せて駆動する。この場合、箔は、厚さが４〜７
μｍで、透明であるので、ハウジング１２の内部から部
材を観察することができる。
作業プレート１８は、矢印２６の方向へ移動する。ロー
レフト付ネジ２７．２９を同時に回転すると、上記移動
が重畳して行われる。かくして、垂直な幾何学的縦軸線
３２に関して貫通口２２を精密に調整できる。作業プレ
ート１８上に、買通口２２を横切る部材を載せ、同じく
幾何学的縦軸線３２に関して移動することができる。部
材が小さく、貫通口２２から落下する場合は、上記買通
口に適切な箔（例えば、マイラ箔）を被せ、上記箔上に
部材を載せて駆動する。この場合、箔は、厚さが４〜７
μｍで、透明であるので、ハウジング１２の内部から部
材を観察することができる。
第３図には、簡略化のため、第１，２図を参照して説明
した上記部材は示してない。
した上記部材は示してない。
ハウジング１２の下方には、Ｘ線ビームを発生するＸ線
管３３が設けてある。幾何学的軸線３２に沿って放射さ
れたＸ線ビームは、中間底板３６の同軸線３２と同軸の
貫通口３４を通過する。他のすべてのビームは、Ｘ線管
３３の上方の中間底板３６によって吸収される。中間底
板３６および貫通口３４上には、第２図に示されるよう
に同心の筒状部材から成る増付具３７が載っている。上
記筒状部材の１つは、縦軸線３２と交差する幾何学的縦
軸線を有する軸３９ｔｌ−軸支し且つ鉛製ボール栓４１
（第３図）を支持する２重軸受を有する。
管３３が設けてある。幾何学的軸線３２に沿って放射さ
れたＸ線ビームは、中間底板３６の同軸線３２と同軸の
貫通口３４を通過する。他のすべてのビームは、Ｘ線管
３３の上方の中間底板３６によって吸収される。中間底
板３６および貫通口３４上には、第２図に示されるよう
に同心の筒状部材から成る増付具３７が載っている。上
記筒状部材の１つは、縦軸線３２と交差する幾何学的縦
軸線を有する軸３９ｔｌ−軸支し且つ鉛製ボール栓４１
（第３図）を支持する２重軸受を有する。
このポール栓４１は、貫通口４２を有する。この貫通口
は、第３図の位置では、縦軸線３２に対して同軸であり
、従って、Ｘ線ビームを上方へ通過せしめる。ハウジン
グ１２外において、軸３９には、作動レバー４３が空転
しないよう結合してある。このレバーが第２図の位置に
ある場合は、貫通口４２は、縦軸線３２と同軸となり、
Ｘ線ビームを通過する。作動レパー４３を第２図の破線
位置に旋回すると、軸３９は、２重矢印の方向へ９０回
転され、貫通口４２は、軸３２に対して垂直となり、従
って、Ｘ線ビームは、ボール栓４１によって阻止される
。筒状部材３８は、径の小さい上部筒状部材４４に移行
する（第２図）。この上部藺状部材は、縦軸線３２に対
して同軸であり、その上端は、４５に斜切してあり、ミ
ラー４６を支持している。このミラーは、アルミニウム
層４８を背面に蒸着した有機ガラス部材たとえばアクリ
ルガラス板４Ｔで構成できる。ミラー４６は、不動であ
り、４５傾斜しており、縦軸線３２は、ミラーの中心を
通る。ミラー４６も、縦軸線３２に対して４５傾斜して
いる。Ｘ線ビームは、減衰されずにミラー４６ｔ−通過
し、縦軸線３２に沿って進む。ミラーの詳細は第８図を
参照して後述する。
は、第３図の位置では、縦軸線３２に対して同軸であり
、従って、Ｘ線ビームを上方へ通過せしめる。ハウジン
グ１２外において、軸３９には、作動レバー４３が空転
しないよう結合してある。このレバーが第２図の位置に
ある場合は、貫通口４２は、縦軸線３２と同軸となり、
Ｘ線ビームを通過する。作動レパー４３を第２図の破線
位置に旋回すると、軸３９は、２重矢印の方向へ９０回
転され、貫通口４２は、軸３２に対して垂直となり、従
って、Ｘ線ビームは、ボール栓４１によって阻止される
。筒状部材３８は、径の小さい上部筒状部材４４に移行
する（第２図）。この上部藺状部材は、縦軸線３２に対
して同軸であり、その上端は、４５に斜切してあり、ミ
ラー４６を支持している。このミラーは、アルミニウム
層４８を背面に蒸着した有機ガラス部材たとえばアクリ
ルガラス板４Ｔで構成できる。ミラー４６は、不動であ
り、４５傾斜しており、縦軸線３２は、ミラーの中心を
通る。ミラー４６も、縦軸線３２に対して４５傾斜して
いる。Ｘ線ビームは、減衰されずにミラー４６ｔ−通過
し、縦軸線３２に沿って進む。ミラーの詳細は第８図を
参照して後述する。
ミラー４６の上方には、縦軸線３２に正確に垂直に、即
ち、水平に、絞り装置（簡略化のため、ガラス部材４９
のみを示した）が設けてある。このガラス部材４９は鉛
の結晶から成り、高さ５ｍ，巾１５■、長さ５０ｍｌで
ある。第５図に示されるように、ガラス部材４９の上面
５１は、その下面５２に対して平面平行であク、これら
の上下面は、縦軸線３２に垂直である。上下面５１．５
２は、研摩してある。従って、ガラス部材４９によって
像のひずみが生ずることはない。可視光の減衰は、無視
できる程小さい。ガラス部材４９は、第４図に示される
ように２つの長方形ストリップ５３，５４から成る。ス
トリップ５４から成る。ストリップ５４の端面５６は、
ストリップ５３の端面５７に接合してある。端面５６
．５７の間に場合によっては生ずる間隙は、０．１μｍ
よりも小さい。この間隙を透過するＸ線ビームは、無視
できる程少ない。
ち、水平に、絞り装置（簡略化のため、ガラス部材４９
のみを示した）が設けてある。このガラス部材４９は鉛
の結晶から成り、高さ５ｍ，巾１５■、長さ５０ｍｌで
ある。第５図に示されるように、ガラス部材４９の上面
５１は、その下面５２に対して平面平行であク、これら
の上下面は、縦軸線３２に垂直である。上下面５１．５
２は、研摩してある。従って、ガラス部材４９によって
像のひずみが生ずることはない。可視光の減衰は、無視
できる程小さい。ガラス部材４９は、第４図に示される
ように２つの長方形ストリップ５３，５４から成る。ス
トリップ５４から成る。ストリップ５４の端面５６は、
ストリップ５３の端面５７に接合してある。端面５６
．５７の間に場合によっては生ずる間隙は、０．１μｍ
よりも小さい。この間隙を透過するＸ線ビームは、無視
できる程少ない。
端面５６には、接合前に、超音波によって、大きさの異
なる長方形断面を有する貫通口５８．５９，６１ ．６
２を加工する。これらの貫通口は、組立状態において、
縦軸線３２に対して正確に平行となる。断面円形の貫通
口８３が、それぞれ半分ずつ、ストリップ５３．５４に
設けてある。貫通口５８〜６３の間の間隔は、ミラー４
６上部において縦軸線３２に沿って進むＸ線ビームの特
性巾よりも遥かに大きい。即ち、縦軸線３２が貫通口５
８を通る状態においては、Ｘ線ビームが他の貫通口を通
過することはない。
なる長方形断面を有する貫通口５８．５９，６１ ．６
２を加工する。これらの貫通口は、組立状態において、
縦軸線３２に対して正確に平行となる。断面円形の貫通
口８３が、それぞれ半分ずつ、ストリップ５３．５４に
設けてある。貫通口５８〜６３の間の間隔は、ミラー４
６上部において縦軸線３２に沿って進むＸ線ビームの特
性巾よりも遥かに大きい。即ち、縦軸線３２が貫通口５
８を通る状態においては、Ｘ線ビームが他の貫通口を通
過することはない。
ガラス部材４９０周縁は、第２図に示されるように、縦
軸線３２に垂直に矢印６６の方向へ可動なスライダ６４
に固定したホルダ（図示してない）に埋込んである。ス
ライダ６４は、アリ溝によってベット６７に案内してあ
る。ペット６７は、ハウジングに固定してある。スライ
ダ６４は、回転ノブ６８と、軸６９と、９０方向変更用
伝動機構７１と、上記伝動機構をスライダ６４に結合す
るシャフト７２とから成る微少駆動機構によって駆動す
る。回転ノブ６Ｂの回転方向に応じて、ガラス部材４９
は、第２図の２重矢印に従い右方または左方へ移動する
。回転角度に応じて、貫通口５８〜６３０１つを縦軸線
３２と同軸状態とすることができる。ガラス部材４９の
ホルダは、２字状アングル７３に剛に結合してあるので
、上記アングルに結合した有孔板７４をいっしょに直線
運動させることができる。この有孔板には、貫通孔列７
６が設けてある。１つの側にラングを有し別の側に元感
性ダイオードを有する光学式読取装置１１が、ハウジン
グに固定してある。貫通孔列７６は、どの貫通口５８〜
６３が縦軸線３２と同軸になったかを読増９得るよう、
コーディングしておる。
軸線３２に垂直に矢印６６の方向へ可動なスライダ６４
に固定したホルダ（図示してない）に埋込んである。ス
ライダ６４は、アリ溝によってベット６７に案内してあ
る。ペット６７は、ハウジングに固定してある。スライ
ダ６４は、回転ノブ６８と、軸６９と、９０方向変更用
伝動機構７１と、上記伝動機構をスライダ６４に結合す
るシャフト７２とから成る微少駆動機構によって駆動す
る。回転ノブ６Ｂの回転方向に応じて、ガラス部材４９
は、第２図の２重矢印に従い右方または左方へ移動する
。回転角度に応じて、貫通口５８〜６３０１つを縦軸線
３２と同軸状態とすることができる。ガラス部材４９の
ホルダは、２字状アングル７３に剛に結合してあるので
、上記アングルに結合した有孔板７４をいっしょに直線
運動させることができる。この有孔板には、貫通孔列７
６が設けてある。１つの側にラングを有し別の側に元感
性ダイオードを有する光学式読取装置１１が、ハウジン
グに固定してある。貫通孔列７６は、どの貫通口５８〜
６３が縦軸線３２と同軸になったかを読増９得るよう、
コーディングしておる。
調節せるガラス部材４９が不測に移動されることのない
よう、回転ノブ６８の代わりに、特殊レンチで作動する
ネジヘッドを設けることもできる。
よう、回転ノブ６８の代わりに、特殊レンチで作動する
ネジヘッドを設けることもできる。
観察用顕微鏡装置７８は、第２図および第３図に示され
るように，１つの対眼レンズＴ９を有する。そのハウジ
ングには、水平な光束を対眼レンズＴ９および観察者の
眼に向ける方向変更ミラー８１が設けてある。顕微競装
置Ｔ８の水平鏡筒部分の内側端には、対物レンズ８２が
設けてある。
るように，１つの対眼レンズＴ９を有する。そのハウジ
ングには、水平な光束を対眼レンズＴ９および観察者の
眼に向ける方向変更ミラー８１が設けてある。顕微競装
置Ｔ８の水平鏡筒部分の内側端には、対物レンズ８２が
設けてある。
対物レンズの前に集光レンズ８３１＆：置くと、ガラス
部材４９の下面５２１ｋ鮮明に観察できる。顕微鏡装ｆ
ｔ７８には、顕微鏡装ｆｆ７８の光軸８７上に交点８６
を有する十字＃！８４が組込んである。この元軸８７の
水平部分は、縦軸線３２にぶつかる。
部材４９の下面５２１ｋ鮮明に観察できる。顕微鏡装ｆ
ｔ７８には、顕微鏡装ｆｆ７８の光軸８７上に交点８６
を有する十字＃！８４が組込んである。この元軸８７の
水平部分は、縦軸線３２にぶつかる。
元軸８７がミラー４６にぶつかる点の上方では、光軸８
７は、縦軸線３２と正確に一致する。従って、十字線８
４の交点８６を貫通口６１の中央に置くと、Ｘ線ビーム
の中心も貫通口６１内に位置し、従って、Ｘ１ｍビーム
は、貫通口の全断面を通る。
７は、縦軸線３２と正確に一致する。従って、十字線８
４の交点８６を貫通口６１の中央に置くと、Ｘ線ビーム
の中心も貫通口６１内に位置し、従って、Ｘ１ｍビーム
は、貫通口の全断面を通る。
集光レンズ８３は、ハウジングに固定のガイド８！１内
′１ｆｔ：光軸８７に垂直に２重矢印９１の方向へ移動
できるスタンド８８に載せてある。集光レンズ８３は、
図示の位置では、作動状態（上述の通り、ガラス部材４
９の下面を鮮明に観察できる状態）であり、第２図の右
方の位置では、非作動状態である。
′１ｆｔ：光軸８７に垂直に２重矢印９１の方向へ移動
できるスタンド８８に載せてある。集光レンズ８３は、
図示の位置では、作動状態（上述の通り、ガラス部材４
９の下面を鮮明に観察できる状態）であり、第２図の右
方の位置では、非作動状態である。
集光レンズの非作動位置では、顕微鏡装置Ｔ８の光学系
は、観察者の眼のために、作業プレート１８上の層９３
を鮮明に結偉する。この層９３とガラス部材４９との間
の距離は大きいので、調節せる貫通口または端面５６．
５７は観察されない。
は、観察者の眼のために、作業プレート１８上の層９３
を鮮明に結偉する。この層９３とガラス部材４９との間
の距離は大きいので、調節せる貫通口または端面５６．
５７は観察されない。
下面９２の照明には、ハウジングに固定してあって貫通
口２２を下方から照明する光源９４（第３図〕を使用す
る。
口２２を下方から照明する光源９４（第３図〕を使用す
る。
かくして、下面上には十字線８４が見える（第６図）。
かくして、交点８６が、Ｘ線ビームの中心の位置を示す
。十字線８４の軸線には目盛９５，９１が設けてある。
。十字線８４の軸線には目盛９５，９１が設けてある。
貫通口６１の輪郭９６は既に観察してあるので、下面９
２を観察すれば、Ｘ線ビームの輪郭が、輪郭９６（第６
図）に正確に対応するか否かも知ることができる。目盛
９５に依拠して、Ｘ線ビームを受ける範囲を正確に測定
することができる。
２を観察すれば、Ｘ線ビームの輪郭が、輪郭９６（第６
図）に正確に対応するか否かも知ることができる。目盛
９５に依拠して、Ｘ線ビームを受ける範囲を正確に測定
することができる。
層９３は、Ｘ線ビームを放射する。このＸ線ビームは，
絞り装置に向く側を遮蔽材９８で遮蔽した比例計数管９
７に受光する。
絞り装置に向く側を遮蔽材９８で遮蔽した比例計数管９
７に受光する。
ガラス部材に貫通口を設ける代わりに、第７図に示され
るように、可視光は透過するがＸ線ビームを透過しない
ガラスから成る２つの絞り半部９ ９ ， １０１を使
用することもできる。絞ｐ半部１０１は、運動時に絞り
半部９ ９ ． １０１がこすり合わないよう僅かな間
隔を置いて、絞ク半部９９の上方に設けてある。絞り半
部９９の隣接辺には、中心面１０Ｆに関して対称なＶ字
形切欠きが設けてある。絞り半部９ ９／１ ０ １
を逆平行に移動すれば、貫通口１０８を拡大または縮
少できる。この場合、買通口１０８の正方形輪郭の交点
の対角線が、中心面１０７から逸脱することはない。
るように、可視光は透過するがＸ線ビームを透過しない
ガラスから成る２つの絞り半部９ ９ ， １０１を使
用することもできる。絞ｐ半部１０１は、運動時に絞り
半部９ ９ ． １０１がこすり合わないよう僅かな間
隔を置いて、絞ク半部９９の上方に設けてある。絞り半
部９９の隣接辺には、中心面１０Ｆに関して対称なＶ字
形切欠きが設けてある。絞り半部９ ９／１ ０ １
を逆平行に移動すれば、貫通口１０８を拡大または縮
少できる。この場合、買通口１０８の正方形輪郭の交点
の対角線が、中心面１０７から逸脱することはない。
かくして、異なる正方形輪郭を連続的に形成できる．，
ｖ字状切欠き１０４ ， １０６を直角でなく、鋭角ま
たは鈍角とすれば、菱形輪郭を形成できる。
ｖ字状切欠き１０４ ， １０６を直角でなく、鋭角ま
たは鈍角とすれば、菱形輪郭を形成できる。
Ｖ字状切欠き１０４のみを設ければ、形状の異なる三角
形を形成できる。この場合、中心面１０７は、常に、縦
軸線３２が通る優先面である。
形を形成できる。この場合、中心面１０７は、常に、縦
軸線３２が通る優先面である。
即ち、本発明にもとづき、極めて小さい質量が低速で移
動されるだけであるので、装置の全寿命にわたって、高
い精度が保持される。
動されるだけであるので、装置の全寿命にわたって、高
い精度が保持される。
摩耗する当接面，機械的衝撃，補助保持部材，バネなど
がない。
がない。
第８図において、ミラー４６は、釧層またはアルミニウ
ム層１１１ｆ蒸着した有機ガラス部材１０９から成る。
ム層１１１ｆ蒸着した有機ガラス部材１０９から成る。
ミラー４６には、径１ｍｍの円筒形貫通口１１２が縦軸
ＩＩｉＩ３２に同軸に設けてある。ミラー４６は、縦軸
線３２に対して４５をなすので、貫通口１１２は、ミラ
ー４６に対して４５をなす。
ＩＩｉＩ３２に同軸に設けてある。ミラー４６は、縦軸
線３２に対して４５をなすので、貫通口１１２は、ミラ
ー４６に対して４５をなす。
貫通口１１２の上面の中心は、縦軸線３２と光軸８Ｔと
の交点と一致する。
の交点と一致する。
貫通口１１２の輪郭は、卵形ま九は多角形であってよい
。縦軸線３２に沿って十分に低エネルギのＸ線ビームが
進むよう、Ｘ線管３３は、ペリリウム窓１１３を有する
。
。縦軸線３２に沿って十分に低エネルギのＸ線ビームが
進むよう、Ｘ線管３３は、ペリリウム窓１１３を有する
。
Ｘ線ビームが、上記範囲において、貫通口１１２によっ
て散乱されることはない。この第８図の例にもとづき、
貫通口５８．５９，６１ ．６２，．６３を小さくでき
る。これらのうち最小の買通口は、小さな対象を測定で
きるよう、例えば、ｏ．ｏｓ＋ｗ とすることができ
る。
て散乱されることはない。この第８図の例にもとづき、
貫通口５８．５９，６１ ．６２，．６３を小さくでき
る。これらのうち最小の買通口は、小さな対象を測定で
きるよう、例えば、ｏ．ｏｓ＋ｗ とすることができ
る。
第１図は装置全体の斜視図、第２図は第１図の面２−２
に沿５斜視断面図、第３図は面２−２に垂直な略断面図
、第４図はガラス部材の平面図、第５図は第４図のＡ矢
視図、第６図は被測層の下面の部分図、第７図は絞り装
置の別の実施例の略平面図、第８図はミラーの横断面図
である。 １１・・・・測定テーブル、１２・・・・ハウジング、
３２・・・幾何学的縦軸線、３３・・・・Ｘ線管、４６
・・・・方向変更ミラー ４９・・・・絞９装置、５８
；５９；６１；６２；６３；１０８・・・・貫通口、
７８・・・・顕微鏡装置、８４・・・・照準装置、８６
・・・・照準点、８Ｔ・・・・光路、９３・・・・被測
層、９４・光源。 特許出ｍ人 へルミュートフイツシャー・ゲーエムベ
ーハー・ウント・コンパ二一舎インステイテユート・フ
ェア・エレクトロニーク・ウント・メステヒニーク
に沿５斜視断面図、第３図は面２−２に垂直な略断面図
、第４図はガラス部材の平面図、第５図は第４図のＡ矢
視図、第６図は被測層の下面の部分図、第７図は絞り装
置の別の実施例の略平面図、第８図はミラーの横断面図
である。 １１・・・・測定テーブル、１２・・・・ハウジング、
３２・・・幾何学的縦軸線、３３・・・・Ｘ線管、４６
・・・・方向変更ミラー ４９・・・・絞９装置、５８
；５９；６１；６２；６３；１０８・・・・貫通口、
７８・・・・顕微鏡装置、８４・・・・照準装置、８６
・・・・照準点、８Ｔ・・・・光路、９３・・・・被測
層、９４・光源。 特許出ｍ人 へルミュートフイツシャー・ゲーエムベ
ーハー・ウント・コンパ二一舎インステイテユート・フ
ェア・エレクトロニーク・ウント・メステヒニーク
Claims (5)
- （１）Ｘ線螢光法に基づき薄層の厚さを測定するため、
幾何学的軸線に沿つてＸ線を放射するＸ線源と、光学軸
を持つていてＸ線ビームが照射される薄層の部分を観察
する観察装置とを有する厚さ測定装置において、 前記Ｘ線源の幾何学的軸線（３２）に位置させられると
ともに、前記観察装置（７８）とＸ線ビームが照射され
る薄層の部分（９３）との間の光学軸（８７）に位置さ
せられているミラー（４６）を備え、前記ミラーは、光
学的反射材料を含み、かつ、前記Ｘ線源の幾何学的軸線
に一致した孔（１１２）を有している ことを特徴とする薄層の厚さ測定装置。 - （２）特許請求の範囲第１項に記載の装置において、前
記孔の軸線は、前記ミラーの鏡面に対して４５度の角度
を持たされていることを特徴とする装置。 - （３）特許請求の範囲第２項に記載の装置において、前
記孔の断面寸法は０．５〜２ｍｍであることを特徴とす
る装置。 - （４）特許請求の範囲第３項に記載の装置において、前
記孔の断面寸法は１ｍｍであることを特徴とする装置。 - （５）特許請求の範囲第１項に記載の装置において、前
記光学的反射材はガラスであることを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19823239379 DE3239379A1 (de) | 1982-10-23 | 1982-10-23 | Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten |
| DE3239379.2 | 1982-10-23 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58070825A Division JPS5975109A (ja) | 1982-10-23 | 1983-04-21 | 薄層の厚さ測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02236106A true JPH02236106A (ja) | 1990-09-19 |
| JPH0526122B2 JPH0526122B2 (ja) | 1993-04-15 |
Family
ID=6176500
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58070825A Granted JPS5975109A (ja) | 1982-10-23 | 1983-04-21 | 薄層の厚さ測定装置 |
| JP2027320A Granted JPH02236106A (ja) | 1982-10-23 | 1990-02-08 | 薄層の厚さ測定装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58070825A Granted JPS5975109A (ja) | 1982-10-23 | 1983-04-21 | 薄層の厚さ測定装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4597093A (ja) |
| JP (2) | JPS5975109A (ja) |
| DE (1) | DE3239379A1 (ja) |
| GB (1) | GB2129127B (ja) |
| HK (1) | HK25787A (ja) |
| SG (1) | SG10386G (ja) |
Families Citing this family (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3239379A1 (de) * | 1982-10-23 | 1984-04-26 | Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen | Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten |
| DE3522779A1 (de) * | 1984-07-03 | 1986-01-09 | Twin City International, Inc., Amherst, N.Y. | Dickenmessinstrument mit stationaerem probenbeobachtungsspiegel |
| DE3444270A1 (de) * | 1984-12-05 | 1986-06-05 | Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen | Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten |
| JPH0539449Y2 (ja) * | 1985-09-30 | 1993-10-06 | ||
| US4860329A (en) * | 1986-02-24 | 1989-08-22 | Upa Technology, Inc. | X-ray fluorescence thickness measuring device |
| DE3710437A1 (de) * | 1987-04-01 | 1988-10-20 | Helmut Fischer Elektronik & Me | Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten |
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| US7985188B2 (en) * | 2009-05-13 | 2011-07-26 | Cv Holdings Llc | Vessel, coating, inspection and processing apparatus |
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-
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-
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- 1987-03-26 HK HK257/87A patent/HK25787A/xx not_active IP Right Cessation
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- 1990-02-08 JP JP2027320A patent/JPH02236106A/ja active Granted
Patent Citations (1)
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| GB2129127B (en) | 1985-11-13 |
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| HK25787A (en) | 1987-04-03 |
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| GB2129127A (en) | 1984-05-10 |
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