JPH02259515A - ケイ光ｘ線膜厚測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、測定対象にＸ線をコリメートして照射し、試
料から励起されたケイ光Ｘ線強度に基づいて薄膜の厚み
を測定する装置に関する。

［従来の技術］ 従来の装置のＸ線光学系は、コリメークと試料観察用ミ
ラーで構成されていた。すなわち、金属管球より出射さ
れた一次Ｘ線をコリメーターによって所定のビーム径７
に絞り、試料観察用ミラーを経て試料に照射していた。

この際、試料観察用の光学系と、Ｘ線光学系を一致させ
るように調整してのみ膜厚測定を実施していた。これに
よって、図示しない試料観察用モニタＴＶに映し出され
た画像の中心がＸ線照射位置（目的測定部）と判断して
いた。

［発明が解決しようとする課題］ 従来のシステムでは、予め、光軸（Ｘ　ＩＪｉ光学系と
試料観察用の光学系）を確認するための治具を要し、Ｘ
線強度によって検出するため、調整に長時間を要してい
た。

本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、膜厚
測定位置の正確な表示を可能とした装置を提供すること
を目的とする。

〔課題を解決するための手段１ 本発明の前記目的は、第１図にその構成が示された光軸
マツチシステムにより達成される。−次Ｘ線を細く絞る
ためのコリメーター前段に、光軸マツチ用ミラーを配置
し、レーザー光源より発つせられるレーザー光を反射さ
せて、Ｘ線照射光学系と同軸で、サンプルに照射する構
造とすることにより、サンプル上で輝くレーザーマーク
なＸ線照射位置の表示とすることを特徴とするケイ光Ｘ
線膜厚測定装置。

［作用１ 本発明によるケイ光Ｘ線膜厚測定装置の光軸マツチシス
テムでは、−次Ｘ線とレザー光が光軸マツチ用ミラーで
同軸になり、サンプルに照射されると、サンプル上に輝
くレザーマークがＸ線照射位置の表示となる。

［実施例１ 示しないＸ線管球から放出された一次Ｘ線４は光軸マツ
チ用ミラー２を透過してコリメータ５で絞られる。この
際、同時に、レーザー光源１より出射されたレーザー光
３が光軸マツチ用ミラー２で反射されてコリメータ５に
入射する。この−次Ｘ線４とレーザー光３は同一径同軸
で同時に試料観察用ミラー６を透過してサンプル７に照
射される。これによって、試料表面にレーザーマークが
明度をもって表示され、その部位より生ずるケイ光Ｘ線
強度を検出することによって膜厚に換算する。

試料は常時、試料観察用ミラー６、光学系そして図示し
ないＣＯＤカメラによって、図示しないモニタＴＶに画
像として映し出されており、Ｘ線照射位置もレーザーマ
ークによって表示される。

又、コリメーク５をサイズ変更のため切り換えても、光
軸マツチ用ミラー及びレーザー光源は一対でよく、コリ
メータ・サイズ確認も実施できることは勿論である。

［発明の効果］ 以上詳述した如く、本発明は一次Ｘ線とレーザー光を同
軸に配置したことにより、膜厚測定位置とＸ線照射サイ
ズが簡単、迅速に行うことができる等、優れた効果を奏
する。

レーザー光源 光軸マツチ用ミラー レーザー光 一次Ｘ線 コリメータ 試料観察用ミラー サンプル

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 測定対象にＸ線を照射し、励起されたケイ光Ｘ線量に基
   づいて薄膜の厚みを測定する装置において、 一次Ｘ線をサブ・ミリ・オーダーに絞るコリメーターと
   、 測定試料を観察するためのミラーと観察用光学系と、 一次Ｘ線の照射位置とサイズを確認するためコリメータ
   前段に配置された光軸マッチ用ミラーとレーザー光源と
   からなる光軸マッチ機構とを具備することを特徴とする
   ケイ光Ｘ線膜厚測定装置。