JPH02236806A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH02236806A JPH02236806A JP649090A JP649090A JPH02236806A JP H02236806 A JPH02236806 A JP H02236806A JP 649090 A JP649090 A JP 649090A JP 649090 A JP649090 A JP 649090A JP H02236806 A JPH02236806 A JP H02236806A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- gap
- core
- magnetic head
- ferrite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1274—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with "composite" cores, i.e. cores composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1276—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with "composite" cores, i.e. cores composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
- G11B5/1872—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. compensation of "contour effect"
- G11B5/1874—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. compensation of "contour effect" specially adapted for composite pole pieces, e.g. for avoiding "pseudo-gap"
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
- G11B5/1878—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ギャップ幅を有し且つギャップ決定面により
規定された変換ギャップ、コイルを有する巻線溝、およ
び情報担体と共働するヘッド面をそなえ、対面する側部
を有する少なくとも２つのフェライトコアを有し、その
うちの少なくとも１つの側部はコアリムのフェライトよ
りも高い飽和磁化を有する材料の少なくとも１つの層で
被覆され、層と該層に隣接したコア部分とは、ギャップ
の領域内で、少なくとも実質的にヘッド面と平行に延在
する台形断面を有し、ギャップに隣接する断面側はコア
リムに隣接する断面側よりも小さな磁気ヘッドに関する
ものである。
規定された変換ギャップ、コイルを有する巻線溝、およ
び情報担体と共働するヘッド面をそなえ、対面する側部
を有する少なくとも２つのフェライトコアを有し、その
うちの少なくとも１つの側部はコアリムのフェライトよ
りも高い飽和磁化を有する材料の少なくとも１つの層で
被覆され、層と該層に隣接したコア部分とは、ギャップ
の領域内で、少なくとも実質的にヘッド面と平行に延在
する台形断面を有し、ギャップに隣接する断面側はコア
リムに隣接する断面側よりも小さな磁気ヘッドに関する
ものである。
本発明はまた、少なくとも２つのフェライトコアリムの
使用を基礎とし、コアリムの少なくとも１つには、コア
リムのフェライトよりも高い飽和磁化を有する材料の少
なくとも１つの層を設け、その後、上に存する層を有す
るこのコアリムを１つの製造工程内で構造化（ｓｔｒｕ
ｃｔｕｒｅ） Ｌ、その後、コアリムを互いに連結し
、この場合巻線溝をコアリムの１つにつくるようにした
磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
使用を基礎とし、コアリムの少なくとも１つには、コア
リムのフェライトよりも高い飽和磁化を有する材料の少
なくとも１つの層を設け、その後、上に存する層を有す
るこのコアリムを１つの製造工程内で構造化（ｓｔｒｕ
ｃｔｕｒｅ） Ｌ、その後、コアリムを互いに連結し
、この場合巻線溝をコアリムの１つにつくるようにした
磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
（従来の技術）
前述した方法は、特開昭６３−２５５８０１号公報に開
示されている。この公報では、コアリムと更にその上に
ある層の両方が１つの製造工程内で構造化されている。
示されている。この公報では、コアリムと更にその上に
ある層の両方が１つの製造工程内で構造化されている。
一般に知られた方法では、コアリムとその上にある層の
両方が例えば研磨やレーザ加工のような機械的な操作に
よって構造化される。
両方が例えば研磨やレーザ加工のような機械的な操作に
よって構造化される。
この公知の方法は、コアリムが予め輪郭づけ（ｐｒｅ−
ｐｒｏｆｉｌｅ） されしかる後この形成された輪郭
上に層が設けられるようにした方法よりも有利である。
ｐｒｏｆｉｌｅ） されしかる後この形成された輪郭
上に層が設けられるようにした方法よりも有利である。
この後者の方法では、層のエッジ部が不必要な丸みを帯
びる。この丸みは層を研磨することによって除くことが
できる。この後者の方法の別の欠点は、層が輪郭上に設
けられるので該層内に応力が誘起されることがあるとい
うことである。けれども、公知のように１製造工程内で
コアリムと層の両方を構造化することはその欠点を有す
る。コアリムと層がレーザに当てられると、異なる材料
の異なる挙動のために問題が起きる。コアリムと層が研
磨される場合、材料内に応力が誘起されるおそれがあり
、また層とコアリム間の連結に関する要求が必然的に大
きくなる。
びる。この丸みは層を研磨することによって除くことが
できる。この後者の方法の別の欠点は、層が輪郭上に設
けられるので該層内に応力が誘起されることがあるとい
うことである。けれども、公知のように１製造工程内で
コアリムと層の両方を構造化することはその欠点を有す
る。コアリムと層がレーザに当てられると、異なる材料
の異なる挙動のために問題が起きる。コアリムと層が研
磨される場合、材料内に応力が誘起されるおそれがあり
、また層とコアリム間の連結に関する要求が必然的に大
きくなる。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は、ギャップ幅に関する問題を十分に解決する磁
気ヘッド構造を得ることを目的とするものである。本発
明はまた、ギャップを簡単な方法でしかもより大きな精
度で得ることのできるようにした、前記の磁気ヘッドの
製造方法を得ることを目的とするものである。
気ヘッド構造を得ることを目的とするものである。本発
明はまた、ギャップを簡単な方法でしかもより大きな精
度で得ることのできるようにした、前記の磁気ヘッドの
製造方法を得ることを目的とするものである。
（課題を解決するための手段）
方法に関しては、本発明は、上にある層を有するコアリ
ムの構造化を反応性イオンエッチング処理により行なう
ことを特徴とする。反応性イオンエッチング処理では、
加工さるべきコアリムは例えばＨＣＩ イオンで衝撃さ
れる。この処理においては、リムの部分がイオンの物理
的なシ二−テイング（ｓｈｏｏｔｉｎｇ）作用とＨＣＩ
塩による化学的な影響により除去゜される。この方法は
異なる材料の多数の層の構造化に非常に適している、と
いうのは、この方法においては個々の層のエッチング作
用は殆ど影響ないからである。
ムの構造化を反応性イオンエッチング処理により行なう
ことを特徴とする。反応性イオンエッチング処理では、
加工さるべきコアリムは例えばＨＣＩ イオンで衝撃さ
れる。この処理においては、リムの部分がイオンの物理
的なシ二−テイング（ｓｈｏｏｔｉｎｇ）作用とＨＣＩ
塩による化学的な影響により除去゜される。この方法は
異なる材料の多数の層の構造化に非常に適している、と
いうのは、この方法においては個々の層のエッチング作
用は殆ど影響ないからである。
更にこの方法は、処理中にふけるこの方法の良好な制御
のために、非常に小さなギャップの製造に非常に有利で
ある。この方法を用いると、応力が生ぜずまた層とコア
間の連結に大きな要求が課されることがない。
のために、非常に小さなギャップの製造に非常に有利で
ある。この方法を用いると、応力が生ぜずまた層とコア
間の連結に大きな要求が課されることがない。
冒頭に記載した磁気ヘッドはやはり特開昭６３＝２５５
８０１号公報に開示されている。高い飽和密度を有する
材料の層の存在のために、強い書込み磁界をこの磁気ヘ
ッドにより発生することができる。
８０１号公報に開示されている。高い飽和密度を有する
材料の層の存在のために、強い書込み磁界をこの磁気ヘ
ッドにより発生することができる。
その上、このことは、変換ギャップに磁束の付加的な供
給を生じさせることができ、その結果、変換ギャップ近
くのコアリムの飽和の問題はそれ程臨界的とならない。
給を生じさせることができ、その結果、変換ギャップ近
くのコアリムの飽和の問題はそれ程臨界的とならない。
従来の磁気ヘッドでは、所望のギャップ幅は、２つのコ
アリム相互の正確な位置決めによって得られる。若し位
置決めの間に僅かな誤差が生じれば、より小さなギャッ
プ幅となる結果になろう。
アリム相互の正確な位置決めによって得られる。若し位
置決めの間に僅かな誤差が生じれば、より小さなギャッ
プ幅となる結果になろう。
磁気ヘッドに関しては、本発明は、ギャップ幅に平行な
方向において、ギャップ（Ｉ−おける層の寸法が、対面
するコアリムの対応寸法よりも小さいことを特徴とする
。ここでは、ギャップ幅は２つのコアリムのギャップ面
の寸法によって決められるのではなくて、コアリムの１
つだけのギャップ面によって決められる。このことは、
コアリムを互いに正確に位置決めする必要がなく、この
ためギャップ幅の精度に関して生じる問題が少なくなる
ことを意味する。
方向において、ギャップ（Ｉ−おける層の寸法が、対面
するコアリムの対応寸法よりも小さいことを特徴とする
。ここでは、ギャップ幅は２つのコアリムのギャップ面
の寸法によって決められるのではなくて、コアリムの１
つだけのギャップ面によって決められる。このことは、
コアリムを互いに正確に位置決めする必要がなく、この
ためギャップ幅の精度に関して生じる問題が少なくなる
ことを意味する。
本発明の磁気ヘッドの一実施態様では、少なくとも１つ
の別の屡がコア部分と層上に存し、この別の層は、ギャ
ップ近くで、ヘッド面に少なくとも実質的に平行に延在
する台形断面を有する。台形輪郭よりの磁束を増す比較
的厚い層は、台形の上辺上の層の比較的丸みを帯びたエ
ッジ部の結果ギャップ幅の明確さ（ｄｅｆｉｎｉｔｉｏ
ｎ）に関して問題を生じることがある。更に、丸みを帯
びたエッジ部の領域において、層の不連続性が層内の応
力の形で起ることがある。これ等の問題は層の薄さに比
例して減少する。本発明の磁気ヘッドでは、磁束の増加
は主として台形層によって得られるので、磁束の付加的
な増加には薄い層をもてば足りる。
の別の屡がコア部分と層上に存し、この別の層は、ギャ
ップ近くで、ヘッド面に少なくとも実質的に平行に延在
する台形断面を有する。台形輪郭よりの磁束を増す比較
的厚い層は、台形の上辺上の層の比較的丸みを帯びたエ
ッジ部の結果ギャップ幅の明確さ（ｄｅｆｉｎｉｔｉｏ
ｎ）に関して問題を生じることがある。更に、丸みを帯
びたエッジ部の領域において、層の不連続性が層内の応
力の形で起ることがある。これ等の問題は層の薄さに比
例して減少する。本発明の磁気ヘッドでは、磁束の増加
は主として台形層によって得られるので、磁束の付加的
な増加には薄い層をもてば足りる。
（実施例）
以下に本発明を添付の図面を参照して実施例により更に
詳しく説明する。
詳しく説明する。
第１図に示した磁気ヘッドは、コイル１１を有する巻線
溝１０、ギャップ幅ａを有し且つギャップ面８で規定さ
れた変換ギャップ７、ここには磁気テープの形で略図的
に示した情報担体１３と共働するヘッド面９を有する。
溝１０、ギャップ幅ａを有し且つギャップ面８で規定さ
れた変換ギャップ７、ここには磁気テープの形で略図的
に示した情報担体１３と共働するヘッド面９を有する。
更に、磁気へッド１は、２個のコアリム２．３を有する
。コアリム３は、例えばセンダストまたはＣａＮｂＺｒ
のような高い飽和磁化を有する材料の層部分より或る台
形層を有する。
。コアリム３は、例えばセンダストまたはＣａＮｂＺｒ
のような高い飽和磁化を有する材料の層部分より或る台
形層を有する。
他方のコアリムもこのような層で被覆されているか、層
部分４，６で形成され、そのうちの層部分６は磁気ヘッ
ドのヘッド面に隣接している。この磁気へッド１の製造
は、何れも高い飽和磁化を有する５から１０μｍ厚の金
属層で被覆されたフェライトウエーハでつくられたコア
リム２と３より出発する。
部分４，６で形成され、そのうちの層部分６は磁気ヘッ
ドのヘッド面に隣接している。この磁気へッド１の製造
は、何れも高い飽和磁化を有する５から１０μｍ厚の金
属層で被覆されたフェライトウエーハでつくられたコア
リム２と３より出発する。
金属層は平らで、台形層（例えば傾斜スバッタセンダス
トヘッド（Ｔｉｔｅｄ Ｓｐｕｔｔｅｒｅｄ Ｓｅｎｄ
ｕｓｔ Ｈｅａｄ）のような）よりも優れている。とい
うのは、スパッタリングで得られた多くのこれ等の金属
層は望ましくない機械的応力を生ずることが見出されて
いるからである。化学的または物理的エッチングの後層
部分５がコアリム３に得られ、また層部分４と６がコア
リム２上に得られるように、縁マスクが金属層上に置か
れる。
トヘッド（Ｔｉｔｅｄ Ｓｐｕｔｔｅｒｅｄ Ｓｅｎｄ
ｕｓｔ Ｈｅａｄ）のような）よりも優れている。とい
うのは、スパッタリングで得られた多くのこれ等の金属
層は望ましくない機械的応力を生ずることが見出されて
いるからである。化学的または物理的エッチングの後層
部分５がコアリム３に得られ、また層部分４と６がコア
リム２上に得られるように、縁マスクが金属層上に置か
れる。
エッチングは次のように行われる、すなわち、縁部分に
斜面４ａ， ５ａ， ６ａが与えられ、これにより、フ
ェライトよりの磁束が、形成さるべきギャップ面８に集
中されるように行われる。層のこの形のために、磁束が
通過するコアリムの最小部分の面を規定する飽和に関す
る臨界的な寸法がギャップの境界面の寸法よりも大きく
なり、コアリムを経て付加的な磁束が見越される。従来
のヘッド構造では、例えば、同じ必要な効果を生じるた
めに、金属層を形成することができる前に微細輪郭（ｍ
ｉｃｒｏｐｒｏｆ ｉ ｌｅ）を与えることが必要であ
る。
斜面４ａ， ５ａ， ６ａが与えられ、これにより、フ
ェライトよりの磁束が、形成さるべきギャップ面８に集
中されるように行われる。層のこの形のために、磁束が
通過するコアリムの最小部分の面を規定する飽和に関す
る臨界的な寸法がギャップの境界面の寸法よりも大きく
なり、コアリムを経て付加的な磁束が見越される。従来
のヘッド構造では、例えば、同じ必要な効果を生じるた
めに、金属層を形成することができる前に微細輪郭（ｍ
ｉｃｒｏｐｒｏｆ ｉ ｌｅ）を与えることが必要であ
る。
エッチングの後、巻線溝がコアリム２に設けられる。こ
の利点は、ギャップ高Ｃが層部分６で規定され、巻線溝
突出部で規定されるのではないため、巻線溝が従来のフ
ェライトヘッド程複雑でないということである。更に、
巻線溝はフェライトにだけつくられるが、このことは、
金属とフェライトの組合せ体の加工が複雑化の原因にな
ることが見出されているので有利である。
の利点は、ギャップ高Ｃが層部分６で規定され、巻線溝
突出部で規定されるのではないため、巻線溝が従来のフ
ェライトヘッド程複雑でないということである。更に、
巻線溝はフェライトにだけつくられるが、このことは、
金属とフェライトの組合せ体の加工が複雑化の原因にな
ることが見出されているので有利である。
ギャップ面では、層部分５は必要とされるギャップ幅ａ
に等しい幅を有し、一方層部分６の幅ｂはずっと広いの
で、そのギャップ幅は、極く簡単な整列手段を用いなが
ら、層部分５によってだけ規定される。ヘッド面９に直
角方向の層部分５は層部分６よりもずっと長いので、極
く簡単な整列手段を用いながら、層部分６がギャップ高
の低限を規定する。このため、非常に正確な整列手段お
よび方法が必要なくなる。
に等しい幅を有し、一方層部分６の幅ｂはずっと広いの
で、そのギャップ幅は、極く簡単な整列手段を用いなが
ら、層部分５によってだけ規定される。ヘッド面９に直
角方向の層部分５は層部分６よりもずっと長いので、極
く簡単な整列手段を用いながら、層部分６がギャップ高
の低限を規定する。このため、非常に正確な整列手段お
よび方法が必要なくなる。
第２図は本発明による別の磁気ヘッド２３のヘッド面２
８近くの部分を示す。コアリム１４． １５は、パーマ
ロイ層１６． １８で被覆された台形コアリム１４ｂ，
１５ｂと、やはり台形であるセンダスト層１７． １９
を夫々有する。前記のパーマロイ層は、センダスト層と
コアリムのフェライトの適切な結合を与える役をする。
８近くの部分を示す。コアリム１４． １５は、パーマ
ロイ層１６． １８で被覆された台形コアリム１４ｂ，
１５ｂと、やはり台形であるセンダスト層１７． １９
を夫々有する。前記のパーマロイ層は、センダスト層と
コアリムのフェライトの適切な結合を与える役をする。
すなわち、若しセンダスト層１７． １９が直接にフェ
ライト上に堆積されたとすると、不必要な非磁性中間層
が境界面に生じるであろう。コアリム１４ｂ， １５ｂ
の磁束面は、堆積された台形層１７，１９によって増さ
れる。この台形は更にコアリム１４ｂ． １５ｂに続い
ているので、２つのコアリム１４，ｌ５の間の間隔が比
較的増され、サイドリード効果（ｓｉｄｅ ｒｅａｄ
’ｅｆｆｅｃｔ）の変化が減少される。これ等の台形面
は、高い飽和磁化を有する材料のすなわち付加的な磁束
をギャップ面に供給させるタイプの別の層２０． ２１
で被覆される。これ等の層が薄いと、丸みを帯びたエッ
ジ部分の影響右よび応力は比較的小さい。このヘッド２
３を製造する好ましい方法は、結晶ＭｎＺｎ−フェライ
トの基板１４を基礎とする。約０．５μｍのバーマロイ
層１６が先ず前記の基板上にスバッタされる。同じスパ
ッタ操作の間に約２．５μｍのセンダスト層１７が前記
のパーマロイ層の上にスパッタにより堆積される（第３
ａ図）。
ライト上に堆積されたとすると、不必要な非磁性中間層
が境界面に生じるであろう。コアリム１４ｂ， １５ｂ
の磁束面は、堆積された台形層１７，１９によって増さ
れる。この台形は更にコアリム１４ｂ． １５ｂに続い
ているので、２つのコアリム１４，ｌ５の間の間隔が比
較的増され、サイドリード効果（ｓｉｄｅ ｒｅａｄ
’ｅｆｆｅｃｔ）の変化が減少される。これ等の台形面
は、高い飽和磁化を有する材料のすなわち付加的な磁束
をギャップ面に供給させるタイプの別の層２０． ２１
で被覆される。これ等の層が薄いと、丸みを帯びたエッ
ジ部分の影響右よび応力は比較的小さい。このヘッド２
３を製造する好ましい方法は、結晶ＭｎＺｎ−フェライ
トの基板１４を基礎とする。約０．５μｍのバーマロイ
層１６が先ず前記の基板上にスバッタされる。同じスパ
ッタ操作の間に約２．５μｍのセンダスト層１７が前記
のパーマロイ層の上にスパッタにより堆積される（第３
ａ図）。
しかる後、パーマロイ／センダスト／フェライト組合せ
体Φ物理的エッチングに対するマスクとして役立つＡＩ
２ロ，の層２４がセンダスト層上にスパツタされる（第
３ｂ図）。この層２４が構造化される前に、約１．６μ
ｍの厚さを有するラッカー層２５がその上に設けられる
。このラッカー層は機械的なマスク２６を通じて露光さ
れ、次いで現像され、しかる後露光部分は該部分をアル
カリ液中で溶かすことによって除去される（第３ｃ，
３６図）。次いで、ＡＩ．０３マスクは、この場合には
ＣＨＦ ，，Ａｒ−プラズマによる反応性イオンエッチ
ングである物理的エッチングによって構造化され、その
間構造化されたラッカー層２５はマスクとして役立つ（
第３ｄ， ３ｅ図）ＡＩ２０３層のエッチングの後ラッ
カーは除去され、センダストおよびパーマロイ層１７．
１６とフェライト基板１４が続けてエッチされるが、
その間構造化されたＡＩ２０３層がマスクとして役立つ
（第３ｅ， ３ｆ図）。エッチング後、ギャップへの付
加的な磁束を考慮に入れるために輪郭上に別の（パーマ
ロイハセンダスト層２０を選択的にスバッタすることが
できるが、この層の厚さは、丸みおよび形状上誘起され
る応力にかんがみて比較的薄くなければならない（第３
ｇ図）。
体Φ物理的エッチングに対するマスクとして役立つＡＩ
２ロ，の層２４がセンダスト層上にスパツタされる（第
３ｂ図）。この層２４が構造化される前に、約１．６μ
ｍの厚さを有するラッカー層２５がその上に設けられる
。このラッカー層は機械的なマスク２６を通じて露光さ
れ、次いで現像され、しかる後露光部分は該部分をアル
カリ液中で溶かすことによって除去される（第３ｃ，
３６図）。次いで、ＡＩ．０３マスクは、この場合には
ＣＨＦ ，，Ａｒ−プラズマによる反応性イオンエッチ
ングである物理的エッチングによって構造化され、その
間構造化されたラッカー層２５はマスクとして役立つ（
第３ｄ， ３ｅ図）ＡＩ２０３層のエッチングの後ラッ
カーは除去され、センダストおよびパーマロイ層１７．
１６とフェライト基板１４が続けてエッチされるが、
その間構造化されたＡＩ２０３層がマスクとして役立つ
（第３ｅ， ３ｆ図）。エッチング後、ギャップへの付
加的な磁束を考慮に入れるために輪郭上に別の（パーマ
ロイハセンダスト層２０を選択的にスバッタすることが
できるが、この層の厚さは、丸みおよび形状上誘起され
る応力にかんがみて比較的薄くなければならない（第３
ｇ図）。
トラックを狭めるこの方法は、被覆されたギャップヘッ
ドに適用することができる。この方法の利点は、他の方
法を最早や使用することのできない小さなトラック幅（
１０μｍのオーダー》に対して任意に役立てるこ゛とが
できる。被覆されたギャップヘッドは、高密度磁気記録
例えば８ｍｆｆｌピデオ、ディジタルオーデオおよびデ
ィジタルビデオ記録に適している。
ドに適用することができる。この方法の利点は、他の方
法を最早や使用することのできない小さなトラック幅（
１０μｍのオーダー》に対して任意に役立てるこ゛とが
できる。被覆されたギャップヘッドは、高密度磁気記録
例えば８ｍｆｆｌピデオ、ディジタルオーデオおよびデ
ィジタルビデオ記録に適している。
第１図は本発明の磁気ヘッドの一実施例の斜視図、
第２図は本発明の磁気ヘッドの別の実施例の一部の斜視
図、 第３図の第３ａ図から第３ｇ図は本発明の磁気ヘッドの
各製造段階における一部の略断面図である。 ２． ３． １４． １５・・・コアリム４．
５． ６・・・層部分 ７・・・変換ギャップ ８・・・ギャップ面 ９・・・ヘッド面 １０・・・巻線溝 １３・・・情報担体 １４ａ． １５ａ・・・台形コアリム １６． １８・・・パーマロイ層 １７． １９・・・センダスト層 ２０． ２１・・・高飽和磁化材料 ２４・・・ＡＩ２０３層 ２５・・・ラフカー層 ２６・・・マスク層 特 許 出 願 人 エヌ ベー フイ リップス フルーイランペンファブリケン
図、 第３図の第３ａ図から第３ｇ図は本発明の磁気ヘッドの
各製造段階における一部の略断面図である。 ２． ３． １４． １５・・・コアリム４．
５． ６・・・層部分 ７・・・変換ギャップ ８・・・ギャップ面 ９・・・ヘッド面 １０・・・巻線溝 １３・・・情報担体 １４ａ． １５ａ・・・台形コアリム １６． １８・・・パーマロイ層 １７． １９・・・センダスト層 ２０． ２１・・・高飽和磁化材料 ２４・・・ＡＩ２０３層 ２５・・・ラフカー層 ２６・・・マスク層 特 許 出 願 人 エヌ ベー フイ リップス フルーイランペンファブリケン
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、少なくとも２つのフェライトコアリムの使用を基礎
とし、コアリムの少なくとも１つには、コアリムのフェ
ライトよりも高い飽和磁化を有する材料の少なくとも１
つの層を設け、その後、上に存する層を有するこのコア
リムを１つの製造工程内で構造化し、その後、コアリム
を互いに連結し、この場合巻線溝をコアリムの１つにつ
くるようにした磁気ヘッドの製造方法において、上に存
する層を有するコアリムの構造化を反応性イオンエッチ
ング処理により行なうことを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。 ２、ギャップ幅を有し且つギャップ決定面により規定さ
れた変換ギャップ、コイルを有する巻線溝、および情報
担体と共働するヘッド面をそなえ、対面する側部を有す
る少なくとも２つのフェライトコアを有し、そのうちの
少なくとも１つの側部はコアリムのフェライトよりも高
い飽和磁化を有する材料の少なくとも１つの層で被覆さ
れ、層と該層に隣接したコア部分とは、ギャップの領域
内で、少なくとも実質的にヘッド面と平行に延在する台
形断面を有し、ギャップに隣接する断面側はコアリムに
隣接する断面側よりも小さな磁気ヘッドにおいて、ギャ
ップ幅に平行な方向において、ギャップにおける層の寸
法は、対面するコアリムの対応寸法よりも小さいことを
特徴とする磁気ヘッド。 ３、少なくとも１つの別の層がコア部分と層上に存し、
この別の層は、ギャップ近くで、ヘッド面に少なくとも
実質的に平行に延在する台形断面を有する請求項２記載
の磁気ヘッド。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8900107A NL8900107A (nl) | 1989-01-18 | 1989-01-18 | Magneetkop alsmede werkwijze voor het vervaardigen van de magneetkop. |
| NL8900107 | 1989-01-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02236806A true JPH02236806A (ja) | 1990-09-19 |
Family
ID=19853971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP649090A Pending JPH02236806A (ja) | 1989-01-18 | 1990-01-17 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0379248A3 (ja) |
| JP (1) | JPH02236806A (ja) |
| NL (1) | NL8900107A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2268309B (en) * | 1992-06-16 | 1996-09-11 | Samsung Electro Mech | Composite magnetic head |
| JP2003272111A (ja) | 2002-03-18 | 2003-09-26 | Fujitsu Ltd | 記録用磁気ヘッド及び磁気記憶装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4375390A (en) * | 1982-03-15 | 1983-03-01 | Anderson Nathaniel C | Thin film techniques for fabricating narrow track ferrite heads |
| JPS6089807A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-20 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS61160811A (ja) * | 1985-01-09 | 1986-07-21 | Seiko Epson Corp | フロツピ−デイスク用磁気ヘツド |
| JPS62125512A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-06 | Hitachi Metals Ltd | 複合型磁気ヘツド |
| EP0246706B1 (en) * | 1986-05-21 | 1991-05-08 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Magnetic transducing head having clad core faces |
| JPS62281111A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-07 | Toshiba Corp | 磁気ヘツド |
| JP2513205B2 (ja) * | 1987-02-04 | 1996-07-03 | ソニー株式会社 | 複合磁気ヘツド |
| JPS63255801A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-24 | Sony Corp | 複合磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS63285715A (ja) * | 1987-05-18 | 1988-11-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘッド |
| US4838994A (en) * | 1987-06-26 | 1989-06-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for structuring a copper and/or permalloy layer by means of dry etching |
| US5007158A (en) * | 1988-02-09 | 1991-04-16 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing magnetic heads |
-
1989
- 1989-01-18 NL NL8900107A patent/NL8900107A/nl not_active Application Discontinuation
-
1990
- 1990-01-12 EP EP19900200086 patent/EP0379248A3/en not_active Withdrawn
- 1990-01-17 JP JP649090A patent/JPH02236806A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL8900107A (nl) | 1990-08-16 |
| EP0379248A2 (en) | 1990-07-25 |
| EP0379248A3 (en) | 1991-11-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5901432A (en) | Method for making a thin film inductive write head having a pedestal pole tip and an electroplated gap | |
| US5867890A (en) | Method for making a thin film merged magnetoresistive read/inductive write head having a pedestal pole tip | |
| EP0012913B1 (en) | A method of making a thin film magnetic head and a head so made | |
| JP3503874B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| US6826020B2 (en) | Merged-pole magnetic head having inverted write elements | |
| JP2001526440A (ja) | 書込フリンジが減少した磁気抵抗読取／書込ヘッドおよびその製造方法 | |
| US6339524B1 (en) | Merged MR head having notches in the sides of a lower shield pedestal | |
| US5978187A (en) | Thin film magnetic head having a lower pole shaped to improve reproduction characteristics | |
| EP0448033B1 (en) | Method of manufacturing a magnetic head | |
| US5695656A (en) | Method for fabricating a magnetic thin-film head | |
| US5305559A (en) | Method of grinding core blank for magnetic heads, using markers for determining grinding depth for nominal magnetic gap depth | |
| JPH02236806A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| US6563669B1 (en) | Inverted write head with high-precision track width definition | |
| JPH08180323A (ja) | 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JP3114216B2 (ja) | 浮上式磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2796998B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2572241B2 (ja) | 多チャンネル薄膜磁気ヘッド | |
| JPH08508360A (ja) | 空隙中金属のそして薄膜のハイブリッド読出し／書込みヘッド | |
| JPH0214411A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0581614A (ja) | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPH09147321A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH06259737A (ja) | 浮上式磁気ヘッドの製造方法 | |
| WO2001086671A1 (en) | Method of manufacturing a magnetic element | |
| JPH07121836A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド | |
| JPS63103409A (ja) | 薄膜磁気ヘツド |