JPS6089807A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS6089807A JPS6089807A JP19797583A JP19797583A JPS6089807A JP S6089807 A JPS6089807 A JP S6089807A JP 19797583 A JP19797583 A JP 19797583A JP 19797583 A JP19797583 A JP 19797583A JP S6089807 A JPS6089807 A JP S6089807A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明はビデオ信号のような高周波信号をメタルテープ
のような高抗磁力媒体に記録、再生するのに適する罎気
ヘダド≦二関する。
のような高抗磁力媒体に記録、再生するのに適する罎気
ヘダド≦二関する。
(ロ)従来技術
一般のVTR(βやVH8)では磁気へ噌ドのコ1材と
して酸化物磁性材料(フェライト)が多用されている。
して酸化物磁性材料(フェライト)が多用されている。
これは耐摩耗性に秀れかつ製造が容易であるからである
。稠密記録のため6二利用されるメタルテープのような
高抗磁力媒体に対してはこの磁気へヴドは飽和磁束密度
が大きくない(島々5500ガウス程度)ので該媒体の
性能を活かした記録を行なうことが難しい。そこで、最
も磁気飽和を起しやすいフロントギヤダブ周辺部に高飽
和磁束密度を呈する金属磁性材料(センダスト等)を細
膜する構成の磁気へ叩ドが提案されている(特曲昭57
−103116号公@I)。この公知の磁気へ呼ドは酸
化物磁性材料と金属磁性材料の境界面で磁気飽和を呈さ
ないようI:該境界面の面積をフロントギヤダブ構成面
に比べて大きく構成することを提案しているが、その手
段は金属磁性材料よりなる薄膜の、テープ当接面とは反
対側の而を81面に形成することで実現させているので
、トラ呼り幅を小さくしてがっ上記境界面を十分大きく
するには薄膜の厚さを大きくせざるを得す、成膜に時間
を要するという欠点が認められる。
。稠密記録のため6二利用されるメタルテープのような
高抗磁力媒体に対してはこの磁気へヴドは飽和磁束密度
が大きくない(島々5500ガウス程度)ので該媒体の
性能を活かした記録を行なうことが難しい。そこで、最
も磁気飽和を起しやすいフロントギヤダブ周辺部に高飽
和磁束密度を呈する金属磁性材料(センダスト等)を細
膜する構成の磁気へ叩ドが提案されている(特曲昭57
−103116号公@I)。この公知の磁気へ呼ドは酸
化物磁性材料と金属磁性材料の境界面で磁気飽和を呈さ
ないようI:該境界面の面積をフロントギヤダブ構成面
に比べて大きく構成することを提案しているが、その手
段は金属磁性材料よりなる薄膜の、テープ当接面とは反
対側の而を81面に形成することで実現させているので
、トラ呼り幅を小さくしてがっ上記境界面を十分大きく
するには薄膜の厚さを大きくせざるを得す、成膜に時間
を要するという欠点が認められる。
し9 発明の目的
本発明はトラダク幅ケ小さくしがっ薄膜の膜厚を大きく
しなくても上記境界面を十分S二人きく構成することが
できる磁気へ噌ドを提供しようとするものである。
しなくても上記境界面を十分S二人きく構成することが
できる磁気へ噌ドを提供しようとするものである。
更に本発明は薄膜の剥離を防ぎがつトラ噌り幅を所定の
寸法C二枚めることができる歩留りの良い磁気へ一ドを
提供しようとするものである。
寸法C二枚めることができる歩留りの良い磁気へ一ドを
提供しようとするものである。
に)発明の構成
本発明は高固有抵抗材よりなる磁気コア主要部のフロン
トギャップ側表面に高飽和磁束密度を呈する合金磁性材
よりなる薄膜を付設し該薄膜と3しか対向するように構
成された磁気ヘッドに関するもので、テープ当接面側か
ら見て、フロントギャップのトラダク幅をテープ当接面
の全幅より小さく規定するため、該フロントギヤダブに
対面する薄膜の各エツジから、前記テープ当接面を規定
する磁気コア主要部上の側面6二主る稜線を侍っ切欠き
を備え、この切欠きによって上記薄膜のテープ当接面上
の形状を略等脚台形に成形することを特徴とするもので
ある。
トギャップ側表面に高飽和磁束密度を呈する合金磁性材
よりなる薄膜を付設し該薄膜と3しか対向するように構
成された磁気ヘッドに関するもので、テープ当接面側か
ら見て、フロントギャップのトラダク幅をテープ当接面
の全幅より小さく規定するため、該フロントギヤダブに
対面する薄膜の各エツジから、前記テープ当接面を規定
する磁気コア主要部上の側面6二主る稜線を侍っ切欠き
を備え、この切欠きによって上記薄膜のテープ当接面上
の形状を略等脚台形に成形することを特徴とするもので
ある。
又1本発明は、上記等脚台形の脚辺と、フロントギャッ
プに直交する仮想線との父月を20°以上50以下に構
成し、もって製造歩留りを向上させしかもグロストーク
を受け難くすることを特徴としている。
プに直交する仮想線との父月を20°以上50以下に構
成し、もって製造歩留りを向上させしかもグロストーク
を受け難くすることを特徴としている。
(ホ)実施例
第1図は本発明の磁気ヘダドの1実施例を示す斜視図で
ある。図では説明の便″ぼのため磁気へ一ドの縦横の比
に較べ全厚(Wlを大きく示して8す。
ある。図では説明の便″ぼのため磁気へ一ドの縦横の比
に較べ全厚(Wlを大きく示して8す。
またフロントギヤダブ(F)のギヤ噌プ長(口も著しく
誇張して示している。さらに、装着されるべきコイルf
二付いても図示省略している。この磁気へヴドは全体形
状が極めて小さい例えば縦、横ともに約3u程度である
ので1例えばVTRの回転体直二装てんする場合に、側
面(Sl)をテープ当接面(Sl)が外方に突出するよ
うにへ9ドベース(図示省略)直二貼付せしめ取扱い性
につき配慮される。
誇張して示している。さらに、装着されるべきコイルf
二付いても図示省略している。この磁気へヴドは全体形
状が極めて小さい例えば縦、横ともに約3u程度である
ので1例えばVTRの回転体直二装てんする場合に、側
面(Sl)をテープ当接面(Sl)が外方に突出するよ
うにへ9ドベース(図示省略)直二貼付せしめ取扱い性
につき配慮される。
この磁気ヘダドは酸化物磁性材(フェライト)よりなる
高固有抵抗を呈する磁気コア主要部11+(21と、該
磁気コア主要部のフロントギヤダブ(F)側の表面(1
a)(2a)上に付設した合金磁性材料(例えばセンダ
スト)よりなる高飽和磁束密度を呈する厚さ5μm程度
の薄膜(31i41と、この薄膜の間g二付設された5
i02等の非磁性材よりなるスベーf(5)とを備えて
いる。又、この磁気ヘダドはその厚み方向1二貫通する
コイル窓(6)を開設し℃おり、このコイル窓の上縁は
フロントギヤダブCF)の下縁(デプスエンド)と一致
するよう6二構成されている。
高固有抵抗を呈する磁気コア主要部11+(21と、該
磁気コア主要部のフロントギヤダブ(F)側の表面(1
a)(2a)上に付設した合金磁性材料(例えばセンダ
スト)よりなる高飽和磁束密度を呈する厚さ5μm程度
の薄膜(31i41と、この薄膜の間g二付設された5
i02等の非磁性材よりなるスベーf(5)とを備えて
いる。又、この磁気ヘダドはその厚み方向1二貫通する
コイル窓(6)を開設し℃おり、このコイル窓の上縁は
フロントギヤダブCF)の下縁(デプスエンド)と一致
するよう6二構成されている。
テープ当接面(Sl)を正面に眺めて、フロントギャッ
プIF)に対面する薄膜の各エツジ(6a)(3b)(
4a)(4b)から該テープ当接面を構成する磁気コア
主要部+11(21上の側面(1b)(1c)(2b)
(2cN二至る稜線(7a)(7b)(7c)(7d)
を有する切欠(8a)(8b)(8c)(8a)を備え
ていて一切欠(8a)(8c)及び(8b)(8d)内
1:結合材として作用するガラス(9a)(9b)が充
てんされている。従い、薄膜(3)及び(4)は何れも
略等脚台形を呈する如く成形される。上底(3c)(4
c)はトラヴク幅(T)に等しく、−ド底(3d)(4
d)はトラヴク幅(Tlより大きく全厚(Wlよりも小
さく構成されている。
プIF)に対面する薄膜の各エツジ(6a)(3b)(
4a)(4b)から該テープ当接面を構成する磁気コア
主要部+11(21上の側面(1b)(1c)(2b)
(2cN二至る稜線(7a)(7b)(7c)(7d)
を有する切欠(8a)(8b)(8c)(8a)を備え
ていて一切欠(8a)(8c)及び(8b)(8d)内
1:結合材として作用するガラス(9a)(9b)が充
てんされている。従い、薄膜(3)及び(4)は何れも
略等脚台形を呈する如く成形される。上底(3c)(4
c)はトラヴク幅(T)に等しく、−ド底(3d)(4
d)はトラヴク幅(Tlより大きく全厚(Wlよりも小
さく構成されている。
フロントギヤダブ(Flの延社方向は磁気へヴドの定行
方向CP)4二対して直角から10′ずれており、いワ
ユルアシムス角(α)を持つように構成さfL”(いる
。
方向CP)4二対して直角から10′ずれており、いワ
ユルアシムス角(α)を持つように構成さfL”(いる
。
そして、上記等脚台形の各脚辺すなわち稜線(7a)(
7b)(7c)(7d)と、フロントギヤダブ(F)に
直交する仮想線αeとの交角(θ+)(θ2)(θ5)
(θ4)は何れも20’以上so以下に規定されている
(第9図参照)。
7b)(7c)(7d)と、フロントギヤダブ(F)に
直交する仮想線αeとの交角(θ+)(θ2)(θ5)
(θ4)は何れも20’以上so以下に規定されている
(第9図参照)。
第2図〜第4図は本発明に係る磁気ヘッドの製造例を簡
単に示している。磁性フェライト材よりなるウェハ(2
1Jの一面上【ニスパヴタ法にてセンダストの薄膜(2
11を全面に付設し、さらにこの薄膜上のフロントギャ
ヴプ予定面に8i02のスペーサ用膜(図示省略)を必
要なギャプブ長已)の半分だけ付設する。次いで、トラ
璽り幅(T)に一致する幅間を持つランド部(21a)
を形成するように複数(図示例では6本)の溝cizを
開設する。第2図は以上の加工を施こしたプロ噌り八−
フ(B1)の斜視図を示している。この第2図のプロ雫
りハーカニ対向させる他方のプロ呼り八−フ(Blt)
は。
単に示している。磁性フェライト材よりなるウェハ(2
1Jの一面上【ニスパヴタ法にてセンダストの薄膜(2
11を全面に付設し、さらにこの薄膜上のフロントギャ
ヴプ予定面に8i02のスペーサ用膜(図示省略)を必
要なギャプブ長已)の半分だけ付設する。次いで、トラ
璽り幅(T)に一致する幅間を持つランド部(21a)
を形成するように複数(図示例では6本)の溝cizを
開設する。第2図は以上の加工を施こしたプロ噌り八−
フ(B1)の斜視図を示している。この第2図のプロ雫
りハーカニ対向させる他方のプロ呼り八−フ(Blt)
は。
第2図のプロ噌り八−フに更にコイル窓(6)用の溝(
2)を上記トラ雫り幅規定m(22を二直交する方向に
開設してなる第3図に示す如きものである。これら両プ
ロ噌り八−)(B1)(Biは第4図に示す如く各薄膜
tant2nが向かい合うように突き合わされ、トラ噌
り幅規定溝固内にガラス(至)が充てんされて一体化さ
れる。一体化されたプロ噌りtBlの表面(Ha)をR
付は加工してテープ当接面(B2)を搏、その後アジマ
ス角1♂を持つようにこのプロ噌りを破線(至)に沿っ
てスライスし必要に応じて厚み加工を行ない、is 1
17に示す磁気へヴドを製造する。
2)を上記トラ雫り幅規定m(22を二直交する方向に
開設してなる第3図に示す如きものである。これら両プ
ロ噌り八−)(B1)(Biは第4図に示す如く各薄膜
tant2nが向かい合うように突き合わされ、トラ噌
り幅規定溝固内にガラス(至)が充てんされて一体化さ
れる。一体化されたプロ噌りtBlの表面(Ha)をR
付は加工してテープ当接面(B2)を搏、その後アジマ
ス角1♂を持つようにこのプロ噌りを破線(至)に沿っ
てスライスし必要に応じて厚み加工を行ない、is 1
17に示す磁気へヴドを製造する。
ここでトラック幅規定溝ezの加工方法について補足説
明する。第5図はカッター岬でワークであるプロヅクへ
−フ(B1)を切断中の状態を平面図(但し1図を見易
くするため力ヴターを仮想線で示している)で示してj
(す、第6図は第5図中の線6ル区二沿う切断面を示す
断面図である。
明する。第5図はカッター岬でワークであるプロヅクへ
−フ(B1)を切断中の状態を平面図(但し1図を見易
くするため力ヴターを仮想線で示している)で示してj
(す、第6図は第5図中の線6ル区二沿う切断面を示す
断面図である。
カーター■は角度(θ)を持つ円板状のダイヤモンドカ
ザターであり、矢印(至)方向シー回転して、中心線(
301の上方域で下方1;進行するワーク(B1)を切
断し下方域ではワークから離れるように作用する。実験
によると、溝c!zの切削工程時に薄膜間の剥離傾向が
上記角度(0ロニ応じて著しく相違するこ七が認められ
た。第7囚tイ)1口)は剥離発生確率を示す特性図で
、加工速度が(イ)o、2關/ BeOと、c口10゜
1 mm7 secの場合を示している。何れも角度(
θ)が20より小さくなると発生確率が非常に大きくな
ることを示している。この現象は以下の如く理解できる
。
ザターであり、矢印(至)方向シー回転して、中心線(
301の上方域で下方1;進行するワーク(B1)を切
断し下方域ではワークから離れるように作用する。実験
によると、溝c!zの切削工程時に薄膜間の剥離傾向が
上記角度(0ロニ応じて著しく相違するこ七が認められ
た。第7囚tイ)1口)は剥離発生確率を示す特性図で
、加工速度が(イ)o、2關/ BeOと、c口10゜
1 mm7 secの場合を示している。何れも角度(
θ)が20より小さくなると発生確率が非常に大きくな
ることを示している。この現象は以下の如く理解できる
。
この角度(0)が少しでも存在すれば理想条件下では中
心線3ルの下方域では力噌ター刃面とワークの加工面と
の接触の機会が存在しないから上記剥離の発生が考えら
れない省であるが、現実にはカーターの振れや力ヴティ
ング動作中に弾性変形した刃の膨張などによって上記角
If(θ)が小さい範囲では中心線Kitの下方域でも
カーター(至)がワークCB+)に接触し摩擦力で薄膜
を剥離させるように作用する、上記交角(01)〜(B
4)はこの角度(θ)に対応するので、薄膜剥離を防ぎ
製造歩留りを向上さセるため直二2♂以上に選定される
。
心線3ルの下方域では力噌ター刃面とワークの加工面と
の接触の機会が存在しないから上記剥離の発生が考えら
れない省であるが、現実にはカーターの振れや力ヴティ
ング動作中に弾性変形した刃の膨張などによって上記角
If(θ)が小さい範囲では中心線Kitの下方域でも
カーター(至)がワークCB+)に接触し摩擦力で薄膜
を剥離させるように作用する、上記交角(01)〜(B
4)はこの角度(θ)に対応するので、薄膜剥離を防ぎ
製造歩留りを向上さセるため直二2♂以上に選定される
。
)上記角度(θ)を大きくすることは反面トラック幅(
1′)の規定が1になるという欠点を招くことになる。
1′)の規定が1になるという欠点を招くことになる。
このことを第81を参考にして説明する。ワーク(B1
)の厚さIDIを所定1iii[に設定しかつ基準位置
iQ1に七ダトしたとしてもカーター(至)のワーク(
B1)に対するアクセスが所定の実線状態から隣接して
示す破線状態区−変化した場合、トラ雫り幅ITIが(
T1)からC”X’l )に変化し、この変化の傾向は
上記角度(θ)の大きさに依存する。即ち。
)の厚さIDIを所定1iii[に設定しかつ基準位置
iQ1に七ダトしたとしてもカーター(至)のワーク(
B1)に対するアクセスが所定の実線状態から隣接して
示す破線状態区−変化した場合、トラ雫り幅ITIが(
T1)からC”X’l )に変化し、この変化の傾向は
上記角度(θ)の大きさに依存する。即ち。
角度(θ)が大きい場合少しの誤差でトラダク幅(T)
の大きい変動をもたらすことになる。ワーク(Bl)の
厚みのバラツキを1μm以内に仕上げかつワークを接警
台に固定する際接着層の厚みムラを無くするようCニ工
夫することによって角度(θ)が50′程度までの範囲
ではトラ噌り幅(T)のバラツキを許容できる±2μm
以内l二抑えることが比較的容易である。従い、交角(
B1)〜(B4)は50°以下が適当である。
の大きい変動をもたらすことになる。ワーク(Bl)の
厚みのバラツキを1μm以内に仕上げかつワークを接警
台に固定する際接着層の厚みムラを無くするようCニ工
夫することによって角度(θ)が50′程度までの範囲
ではトラ噌り幅(T)のバラツキを許容できる±2μm
以内l二抑えることが比較的容易である。従い、交角(
B1)〜(B4)は50°以下が適当である。
この交角な大きくすると低周波域でのノイズ成分カ大き
くなるという弊害もある。この点につき第9図を参考に
して腕明する。同図はトラダクB(二隣接するトラ噌り
Aの記録状態を示している。
くなるという弊害もある。この点につき第9図を参考に
して腕明する。同図はトラダクB(二隣接するトラ噌り
Aの記録状態を示している。
記録時、トラ噌・り八にフロントギヤダブ(F)によっ
てアジムス角α(−R1り)で本来の信号記録がなされ
ると共に、既記縁の隣接Bトラザク上にも稜線(7d)
がギJf−yプとして作用するの〒該稜線に平行な漏れ
記録がなされる。この漏れ記録成分がBトライクの再生
中、アジムス角−αの磁気へヴドのフロントギヤダブ(
F)で再生されないためには図中の角度βがアジムスロ
スを生じさせる20以上あれば良い。β−90−〇−2
α(ここでα−10°)であるからβ−70−〇(ユ2
0)より。
てアジムス角α(−R1り)で本来の信号記録がなされ
ると共に、既記縁の隣接Bトラザク上にも稜線(7d)
がギJf−yプとして作用するの〒該稜線に平行な漏れ
記録がなされる。この漏れ記録成分がBトライクの再生
中、アジムス角−αの磁気へヴドのフロントギヤダブ(
F)で再生されないためには図中の角度βがアジムスロ
スを生じさせる20以上あれば良い。β−90−〇−2
α(ここでα−10°)であるからβ−70−〇(ユ2
0)より。
θりs (]’o従い、漏れ記録成分の再生を行なわな
いためにも交角(θ1)〜(θ4)が50°以下である
ことが適当である。
いためにも交角(θ1)〜(θ4)が50°以下である
ことが適当である。
(ホ)発明の効果
本発明の磁気ヘ−ドはフロントギヤ雫プ周辺部を飽和磁
束密度の高い含金磁性材料(例えばセンダスト)で形成
されているのでメタルテープへの記録のため記録電流を
大きくしても磁気飽和を些こすおそれがない、又、磁気
コア主要部を高固有抵抗の酸化物磁性材料(例えばフェ
ライト)で形成しているので、うず電流損にもとすく再
生出力特性の劣化を受け難く、既監二確立された製法を
流用できるので製造が容易である。更に1合金磁性材料
と酸化物磁性材料の境界面を上記交角を大きくすること
で大きくすることができ、従来例の如く膜厚を大きくす
ることで対応させる必要がないのでこの点でも製造が容
易である。更に又、上記交角を2O2以上50°以下L
=選定しているので磁気コア主要部上の薄膜剥離を防ぎ
またトラーク幅の精度を向上することかできる。同時に
、漏れ記録成分の再生を行なわないよう(ニするのでB
/ N特性を向上させることができる。
束密度の高い含金磁性材料(例えばセンダスト)で形成
されているのでメタルテープへの記録のため記録電流を
大きくしても磁気飽和を些こすおそれがない、又、磁気
コア主要部を高固有抵抗の酸化物磁性材料(例えばフェ
ライト)で形成しているので、うず電流損にもとすく再
生出力特性の劣化を受け難く、既監二確立された製法を
流用できるので製造が容易である。更に1合金磁性材料
と酸化物磁性材料の境界面を上記交角を大きくすること
で大きくすることができ、従来例の如く膜厚を大きくす
ることで対応させる必要がないのでこの点でも製造が容
易である。更に又、上記交角を2O2以上50°以下L
=選定しているので磁気コア主要部上の薄膜剥離を防ぎ
またトラーク幅の精度を向上することかできる。同時に
、漏れ記録成分の再生を行なわないよう(ニするのでB
/ N特性を向上させることができる。
図面は何れも本発明C二関するもので、第1図は1実施
例の構成斜視図、第2図、第3図、第4図はこの磁気へ
9ドの製造工程の説明図、第5図と第6歯はカリティン
グ動作の説明に供する平面図と断面図、第71(イ)伸
)は薄膜剥離の発生確率の特性図、第8図と第9図は何
れも交角の上限の説明図である。 主な1番の説明 (1バ2)・・・磁気コア主要部、(3)(41・・・
薄膜、(F)・・・フロントギヤ句プ、(7a)〜(7
d)・・・稜線。 (θ1)〜(θ4)・・・交角 第1図 第2図 −第8図 第7図 (イ) (ロ) 第◎図
例の構成斜視図、第2図、第3図、第4図はこの磁気へ
9ドの製造工程の説明図、第5図と第6歯はカリティン
グ動作の説明に供する平面図と断面図、第71(イ)伸
)は薄膜剥離の発生確率の特性図、第8図と第9図は何
れも交角の上限の説明図である。 主な1番の説明 (1バ2)・・・磁気コア主要部、(3)(41・・・
薄膜、(F)・・・フロントギヤ句プ、(7a)〜(7
d)・・・稜線。 (θ1)〜(θ4)・・・交角 第1図 第2図 −第8図 第7図 (イ) (ロ) 第◎図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 fil テープ当接面側から見てフロントギヤダブを挾
んで両側に1合金磁性材料よりなる薄膜を付設してなる
高固有抵抗磁性材料よりなる磁気コr主要部を前記薄膜
が向かい合うよう直二配備してなる磁気へ雫ドにおいて
、前記フロントギヤダブのトラブタ幅を規定するため該
フロントギヤダブに対面する前記#膜の各工ヴジから前
記テープ当接面の全幅を規定するh+i記磁熱磁気コア
主要部上面檻二至る稜線を持つ切欠きを備え、前記薄膜
の前記テープ当接面上における形状を略等脚台形に成形
してなることを特徴とする磁気へヴド。 (2)前記等脚台形の脚辺と、前記フロントギヤダブに
直交する仮想線との変角を2♂以上5[]’以下に構成
していることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
帷の磁気へ噌ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19797583A JPS6089807A (ja) | 1983-10-21 | 1983-10-21 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19797583A JPS6089807A (ja) | 1983-10-21 | 1983-10-21 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6089807A true JPS6089807A (ja) | 1985-05-20 |
| JPH053646B2 JPH053646B2 (ja) | 1993-01-18 |
Family
ID=16383428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19797583A Granted JPS6089807A (ja) | 1983-10-21 | 1983-10-21 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6089807A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6346607A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-27 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| US4769898A (en) * | 1985-04-30 | 1988-09-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of producing a magnetic head |
| EP0379248A3 (en) * | 1989-01-18 | 1991-11-13 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | A method of producing a magnetic head as well as a magnetic head produceable in accordance with the method |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58175122A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-14 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JPS58179925A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-21 | Pioneer Electronic Corp | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
-
1983
- 1983-10-21 JP JP19797583A patent/JPS6089807A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58175122A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-14 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JPS58179925A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-21 | Pioneer Electronic Corp | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4769898A (en) * | 1985-04-30 | 1988-09-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of producing a magnetic head |
| JPS6346607A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-27 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| EP0379248A3 (en) * | 1989-01-18 | 1991-11-13 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | A method of producing a magnetic head as well as a magnetic head produceable in accordance with the method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH053646B2 (ja) | 1993-01-18 |
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