JPH0224538A - ヒビ、ワレの検出装置 - Google Patents
ヒビ、ワレの検出装置Info
- Publication number
- JPH0224538A JPH0224538A JP17429588A JP17429588A JPH0224538A JP H0224538 A JPH0224538 A JP H0224538A JP 17429588 A JP17429588 A JP 17429588A JP 17429588 A JP17429588 A JP 17429588A JP H0224538 A JPH0224538 A JP H0224538A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cracks
- test object
- detectors
- circuit
- signals
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 claims description 16
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 claims description 16
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 16
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、穀類、豆類等の被検物のヒビ、ワレを検出す
るための装置に関する。
るための装置に関する。
酋」Uな一1丞−
穀類、豆類等においては、その脱穀、乾燥、搬送等の過
程で、ヒビ、ワレが発生し、その品質の低下の原因とな
っている。そのため、それらを検出する装置が望まれて
いるが、適正に作動する装置はこれまで開発されていな
い。
程で、ヒビ、ワレが発生し、その品質の低下の原因とな
っている。そのため、それらを検出する装置が望まれて
いるが、適正に作動する装置はこれまで開発されていな
い。
発明の目的
本発明は、上記の点に鑑み、穀類、豆類等に発生したヒ
ビ、ワレを適正に検出するだめの装置を提供することを
目的としている。
ビ、ワレを適正に検出するだめの装置を提供することを
目的としている。
発明の構成
すなわち、本発明に係る検出装置は、穀類、豆類などの
ヒビ、ワレを検出するための装置において、穀類、豆類
などの被検物に対して検査光を当てるための照射装置と
、該照射装置と被検物とを相対的に移動する移動手段と
、上記移動方向において、上記照射装置の前後に配置さ
れ、被検物から反射される光をそれぞれ所定の角度範囲
において受光し、その強度を検出する第1及び第2の検
出器とを有し、第1及び第2の検出器によって検出され
た検出光の強度の比が所定のしきい値を越えることに応
答して被検物のヒビ、ワレを検出するようにしたことを
基本的特徴としている。
ヒビ、ワレを検出するための装置において、穀類、豆類
などの被検物に対して検査光を当てるための照射装置と
、該照射装置と被検物とを相対的に移動する移動手段と
、上記移動方向において、上記照射装置の前後に配置さ
れ、被検物から反射される光をそれぞれ所定の角度範囲
において受光し、その強度を検出する第1及び第2の検
出器とを有し、第1及び第2の検出器によって検出され
た検出光の強度の比が所定のしきい値を越えることに応
答して被検物のヒビ、ワレを検出するようにしたことを
基本的特徴としている。
また、本発明は、上記基本的構成に加えて、第1及び第
2の検出器によって検出された検出光の強度の比を算出
する割り算回路と、割り算器により算出された比を微分
する微分回路と、を有してJiす、該微分回路により出
された微分値が一定のしきい値を越えることに応答して
被検物のヒビ、ワレを検出するようにしたことを特徴と
するヒビ、ワレ検出装置を提供する。
2の検出器によって検出された検出光の強度の比を算出
する割り算回路と、割り算器により算出された比を微分
する微分回路と、を有してJiす、該微分回路により出
された微分値が一定のしきい値を越えることに応答して
被検物のヒビ、ワレを検出するようにしたことを特徴と
するヒビ、ワレ検出装置を提供する。
発明の作用及び効果
本発明に係る検出装置は上記の如く構成されるものであ
り、その原理的作用を添付図面の第1図ないし第4図に
基づき説明する。
り、その原理的作用を添付図面の第1図ないし第4図に
基づき説明する。
第1図において、検査光Bは垂直下方に向けられ、被検
物Oの面が水平面に対してγの角度をなし、また、該被
検物の面が完全拡散面であるとすると、反射角(すなわ
ち、法線Nに対してなす角)θをなす反射光Rの強度は
、当該反射角の余弦に比例したものとなる。
物Oの面が水平面に対してγの角度をなし、また、該被
検物の面が完全拡散面であるとすると、反射角(すなわ
ち、法線Nに対してなす角)θをなす反射光Rの強度は
、当該反射角の余弦に比例したものとなる。
第2図において、被検物が右から左に搬送されるものと
し、該被検物の搬送方向における検査光の前後において
、それぞれ角度−をなす範囲の反射光を第1及び第2の
検出器1.2によって受光し、その強度を検出するとす
ると、 それぞれの検出器1.2において検出される検出信号D
I、D2は次のようになる。
し、該被検物の搬送方向における検査光の前後において
、それぞれ角度−をなす範囲の反射光を第1及び第2の
検出器1.2によって受光し、その強度を検出するとす
ると、 それぞれの検出器1.2において検出される検出信号D
I、D2は次のようになる。
=R・ I[sin γ−5in(γ−〆)]ただし、
−に/ 2−i−u <γくπ/2−IR:反射率 に入射光の強度 そこで、第3図に示すような被検物Oとしての豆を当該
第3図において、右から左に移送するとすると、検出器
1.2によって検出される被検物からの反射光の強度D
I、D2は、第4図(a)及び(b)に示すようになる
。
−に/ 2−i−u <γくπ/2−IR:反射率 に入射光の強度 そこで、第3図に示すような被検物Oとしての豆を当該
第3図において、右から左に移送するとすると、検出器
1.2によって検出される被検物からの反射光の強度D
I、D2は、第4図(a)及び(b)に示すようになる
。
そこで、DI、D2の比D3、すなわちDI/D2を求
めれば、第4図(c)の如くなりる。この信号D3は、
上記の式からの分かるように、被検物の色、つまり、反
射率の違いによって影響されず、検査表面の凹凸に応じ
た信号となる。
めれば、第4図(c)の如くなりる。この信号D3は、
上記の式からの分かるように、被検物の色、つまり、反
射率の違いによって影響されず、検査表面の凹凸に応じ
た信号となる。
第4図(c)から分かるように、D3の値は、豆のヒビ
Cの部分、並びに、当該豆の始端及び終端において大き
く変化する。
Cの部分、並びに、当該豆の始端及び終端において大き
く変化する。
従って、信号D3に基づき、被検物のヒビを検出するこ
とが出来るのである。(ここで、本発明においては、被
検物の上記の如き始端及び終端におけるD3によって、
当該検出装置がそこにヒビ、ワレが有るかの如く誤作動
しないようにするための手段が必須であるごとくにも考
えられるが、被検物が比較的大きなものである場合には
、検査の対象となる面に上記の如き始端や終端が含まな
い場合もあり、従って、本発明に係る検出装置としては
、そのような手段は必須のものではない。)また、信号
D3の微分値をとれば、第4図(f)の如くなる。この
微分値は、上記比の信号D3に比べて、その変化が大き
く、従って、この信号を用いることにより被検物のヒビ
、ワレをより適正に検出することが出来るのである。
とが出来るのである。(ここで、本発明においては、被
検物の上記の如き始端及び終端におけるD3によって、
当該検出装置がそこにヒビ、ワレが有るかの如く誤作動
しないようにするための手段が必須であるごとくにも考
えられるが、被検物が比較的大きなものである場合には
、検査の対象となる面に上記の如き始端や終端が含まな
い場合もあり、従って、本発明に係る検出装置としては
、そのような手段は必須のものではない。)また、信号
D3の微分値をとれば、第4図(f)の如くなる。この
微分値は、上記比の信号D3に比べて、その変化が大き
く、従って、この信号を用いることにより被検物のヒビ
、ワレをより適正に検出することが出来るのである。
尚、上述した被検物の始端及び終端における誤作動の問
題は、次のようにして回避することが出来る。
題は、次のようにして回避することが出来る。
すなわち、検出器1,2からの信号D1、D2を加算す
れば、第4図(d)に示す如き信号となり、従って、該
信号が一定L3以上になったときだけ、当該検出装置が
ヒビ、ワレの検出作業をするようにする手段を設ければ
よいのである。
れば、第4図(d)に示す如き信号となり、従って、該
信号が一定L3以上になったときだけ、当該検出装置が
ヒビ、ワレの検出作業をするようにする手段を設ければ
よいのである。
以上から分かるように、本発明に係る検出装置lこおい
ては、検出器l、2からの検出信号D1、D2の比D3
、若しくは、該信号D3の微分値に基づき、被検物のヒ
ビ、ワレを適正に検出することが出来るのである。
ては、検出器l、2からの検出信号D1、D2の比D3
、若しくは、該信号D3の微分値に基づき、被検物のヒ
ビ、ワレを適正に検出することが出来るのである。
実施例
次に、第5図ないし第7図に示した本発明の実施例に係
る検出装置につき説明する。
る検出装置につき説明する。
第5図において、0で示すのは被検物としての豆である
。被検物0は、図示しないベルトコンベア等の搬送手段
により、第5図の右から左に搬送される。
。被検物0は、図示しないベルトコンベア等の搬送手段
により、第5図の右から左に搬送される。
検出装置10は、搬送される被検物に検査光を当てる照
明装置12と、被検物の搬送方向において、照明装置1
2の前後に配置された第1及び第2の反射光検出器14
.16を有している。この実施例においては、照明装置
12としてレーザ装置を用いており、また、第1及び第
2の検出器14.16は、それぞれ、集光レンズ20,
22.20’ 、22′並びにセンサ23.23′を有
している。
明装置12と、被検物の搬送方向において、照明装置1
2の前後に配置された第1及び第2の反射光検出器14
.16を有している。この実施例においては、照明装置
12としてレーザ装置を用いており、また、第1及び第
2の検出器14.16は、それぞれ、集光レンズ20,
22.20’ 、22′並びにセンサ23.23′を有
している。
第1及び第2の検出器14.1Gは、被検物からの反射
光の所定の角度範囲を受光して、その強度に比例した信
号を増幅器24.26に送る。増幅器により増幅された
信号は上述しI;信号DI。
光の所定の角度範囲を受光して、その強度に比例した信
号を増幅器24.26に送る。増幅器により増幅された
信号は上述しI;信号DI。
D2(第4図)に対応するものであり、割り算回路に送
られてDlどD2との比、すなわち、DI/D2−D3
が発生される。Mり算回路からの信号D3は微分回路3
0に送られて微分され、第1及び第2の比較器32.3
4に送られる。第1の比較器32.34は、それぞれ所
定のしきい値L1、L2を設定しており、それぞれの比
較器に送られてくる微分値信号がそれらのしきい値を越
えると、それぞれ出力信号(第4図g)をOR回路36
に送る。
られてDlどD2との比、すなわち、DI/D2−D3
が発生される。Mり算回路からの信号D3は微分回路3
0に送られて微分され、第1及び第2の比較器32.3
4に送られる。第1の比較器32.34は、それぞれ所
定のしきい値L1、L2を設定しており、それぞれの比
較器に送られてくる微分値信号がそれらのしきい値を越
えると、それぞれ出力信号(第4図g)をOR回路36
に送る。
また、増幅器24.26からの信号D1.D2は加算器
40に送られ、該加算器で加算されt−信号が比較器4
2に送られる。比較器には、しきい値L3が設定されて
おり、比較器42からの値が該しきい値を越えると出力
信号(第4図e)をAND回路に送る。
40に送られ、該加算器で加算されt−信号が比較器4
2に送られる。比較器には、しきい値L3が設定されて
おり、比較器42からの値が該しきい値を越えると出力
信号(第4図e)をAND回路に送る。
比較器42及びOR回路36はAND回路44に接続さ
れており、該回路は比較器42及びOR回路からの信号
を同時に入力したときに、すなわち、被検物が豆である
場合を例にとれば、当該豆の始端及び終端付近の部分を
除いた部分に検査光が当てられているときで、D3の微
分値が所定のしきい値L1若しくはL2を越えたときに
、信号(第4図h)を発する。従って、この信号によっ
て、被検物にヒビ、ワレがあることを検出することが出
来る。
れており、該回路は比較器42及びOR回路からの信号
を同時に入力したときに、すなわち、被検物が豆である
場合を例にとれば、当該豆の始端及び終端付近の部分を
除いた部分に検査光が当てられているときで、D3の微
分値が所定のしきい値L1若しくはL2を越えたときに
、信号(第4図h)を発する。従って、この信号によっ
て、被検物にヒビ、ワレがあることを検出することが出
来る。
第6図に示すのは、被検物をベルトコンベアなどで搬送
するのではなく、シュート50から落下させて検出を行
う例を示している。
するのではなく、シュート50から落下させて検出を行
う例を示している。
まj−1第7図は、照明装置としてのレーザ装置から発
射されるレーザを走査ミラー60で被検物上を走査する
ようにし、当該被検物の面全体を検査することが出来る
ようにした例を示している。
射されるレーザを走査ミラー60で被検物上を走査する
ようにし、当該被検物の面全体を検査することが出来る
ようにした例を示している。
上述した実施例に係る装置は、上記「発明の構成」の項
で述べた第2番目の発明に対応するものであるが、この
装置から微分回路を除き、割り算回路の出力信号を第1
及び第2の比較器32.34に直接入力するようにして
第1番目の発明と対応する構成としても、同様の検出作
用を行うことが出来る。
で述べた第2番目の発明に対応するものであるが、この
装置から微分回路を除き、割り算回路の出力信号を第1
及び第2の比較器32.34に直接入力するようにして
第1番目の発明と対応する構成としても、同様の検出作
用を行うことが出来る。
第1図は、被検物に対する入射光と反射光の強度の関係
を示すための説明図、 第2図は、反射光と第1及び第2の検出器との関係を示
す図、 第3図は、被検物、入射光及び検出器の関係を示す図、 第4図aないし第4図りは、第3図における、検出器が
検出した反射光の強度を示す信号DI及びD2、並びに
、これら信号が本発明に係る装置において処理される各
段階における信号を示す図、第5図は、本発明の1実施
例に係る装置の概要図、 第6図は、第2の実施例に係る装置の一部を示す図、 第7図は、第3の実施例に係る装置の一部を示す図であ
る。 12−m−照射装置; 14.16−−−第1及び第2の検出器;28−一一割
り算回路; 30−一一致分回路。 第4図 豆 第2図 第6図
を示すための説明図、 第2図は、反射光と第1及び第2の検出器との関係を示
す図、 第3図は、被検物、入射光及び検出器の関係を示す図、 第4図aないし第4図りは、第3図における、検出器が
検出した反射光の強度を示す信号DI及びD2、並びに
、これら信号が本発明に係る装置において処理される各
段階における信号を示す図、第5図は、本発明の1実施
例に係る装置の概要図、 第6図は、第2の実施例に係る装置の一部を示す図、 第7図は、第3の実施例に係る装置の一部を示す図であ
る。 12−m−照射装置; 14.16−−−第1及び第2の検出器;28−一一割
り算回路; 30−一一致分回路。 第4図 豆 第2図 第6図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、穀類、豆類などのヒビ、ワレを検出するための装置
において、 穀類、豆類などの被検物に対して検査光を当てるための
照射装置と、 該照射装置と被検物とを相対的に移動する移動手段と、 上記移動方向において、上記照射装置の前後に配置され
、被検物から反射される光をそれぞれ所定の角度範囲に
おいて受光し、その強度を検出する第1及び第2の検出
器とを有し、 第1及び第2の検出器によって検出された検出光の強度
の比が所定のしきい値を越えることに応答して被検物の
ヒビ、ワレを検出するようにしたことを特徴とするヒビ
、ワレ検出器。 2、穀類、豆類などのヒビ、ワレを検出するための装置
において、 穀類、豆類などの被検物に対して検査光を当てるための
照射装置と、 該照射装置と被検物とを相対的に移動する移動手段と、 上記移動方向において、上記照射装置の前後に配置され
、被検物から反射される光を所定の角度範囲で受光し、
その強度を検出する第1及び第2の検出器と、 第1及び第2の検出器によって検出された検出光の強度
の比を算出する割り算回路と、 割り算器により算出された比を微分する微分回路と、 を有しており、該微分回路により出された微分値が一定
のしきい値を越えることに応答して被検物のヒビ、ワレ
を検出するようにしたことを特徴とするヒビ、ワレ検出
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63174295A JPH0663979B2 (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | ヒビ、ワレの検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63174295A JPH0663979B2 (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | ヒビ、ワレの検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0224538A true JPH0224538A (ja) | 1990-01-26 |
| JPH0663979B2 JPH0663979B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=15976173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63174295A Expired - Lifetime JPH0663979B2 (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | ヒビ、ワレの検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0663979B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003057187A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Yamamoto Co Ltd | 籾の割れ検出方法、及び装置 |
| JP2007064734A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Daiichi Jitsugyo Viswill Co Ltd | 粉粒体検査装置 |
| JP2009536315A (ja) * | 2006-03-02 | 2009-10-08 | フォス アナリティカル アーベー | 穀類などの粒状物の光学的測定装置およびその方法 |
| JP2023056379A (ja) * | 2021-10-07 | 2023-04-19 | 株式会社クボタ | 検査装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51111387U (ja) * | 1975-03-05 | 1976-09-08 | ||
| JPS56145337A (en) * | 1980-04-15 | 1981-11-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Detecting method for surface flaw of long body |
| JPS6046190U (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-01 | コ−ア電子工業株式会社 | 粒状物を反射率と大きさにより選別する装置 |
-
1988
- 1988-07-13 JP JP63174295A patent/JPH0663979B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51111387U (ja) * | 1975-03-05 | 1976-09-08 | ||
| JPS56145337A (en) * | 1980-04-15 | 1981-11-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Detecting method for surface flaw of long body |
| JPS6046190U (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-01 | コ−ア電子工業株式会社 | 粒状物を反射率と大きさにより選別する装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003057187A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Yamamoto Co Ltd | 籾の割れ検出方法、及び装置 |
| JP2007064734A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Daiichi Jitsugyo Viswill Co Ltd | 粉粒体検査装置 |
| JP2009536315A (ja) * | 2006-03-02 | 2009-10-08 | フォス アナリティカル アーベー | 穀類などの粒状物の光学的測定装置およびその方法 |
| JP2023056379A (ja) * | 2021-10-07 | 2023-04-19 | 株式会社クボタ | 検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0663979B2 (ja) | 1994-08-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3814946A (en) | Method of detecting defects in transparent and semitransparent bodies | |
| US6226079B1 (en) | Defect assessing apparatus and method, and semiconductor manufacturing method | |
| US5190163A (en) | Sorting apparatus utilizing transmitted light | |
| US3779649A (en) | Method of and an electro-optical system for inspecting material | |
| JPS58204353A (ja) | 金属物体表面探傷方法 | |
| JPH0663979B2 (ja) | ヒビ、ワレの検出装置 | |
| JP2000214102A (ja) | 異物検出装置および異物検出装置を含むプロセスライン | |
| US7483128B2 (en) | Foreign matter inspection apparatus and method | |
| JP3432273B2 (ja) | 異物検査装置及び異物検査方法 | |
| JPH0228815B2 (ja) | ||
| US5796475A (en) | Signal process method and apparatus for defect inspection | |
| JPS643545A (en) | Method and apparatus for inspection | |
| JP3336392B2 (ja) | 異物検査装置及び方法 | |
| JPS6344151A (ja) | 外観検査装置 | |
| JPH0518901A (ja) | ウエーハ表面検査装置 | |
| JPS63255646A (ja) | 被検査物の欠陥検出方法 | |
| JPS58204355A (ja) | 金属物体表面探傷方法 | |
| JP3254599B2 (ja) | 異常検出装置 | |
| JPS6217696B2 (ja) | ||
| JPS62179642A (ja) | 表面欠陥検出装置 | |
| JPS6319793Y2 (ja) | ||
| JPH0252241A (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JP2830430B2 (ja) | 異物検査装置 | |
| JPS6021792Y2 (ja) | 欠陥検出装置 | |
| JPS5842420B2 (ja) | 物体の表面きず検出方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |