JPH02245765A - 情報記録媒体及び情報記録再生方法 - Google Patents
情報記録媒体及び情報記録再生方法Info
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- JPH02245765A JPH02245765A JP6725289A JP6725289A JPH02245765A JP H02245765 A JPH02245765 A JP H02245765A JP 6725289 A JP6725289 A JP 6725289A JP 6725289 A JP6725289 A JP 6725289A JP H02245765 A JPH02245765 A JP H02245765A
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- Japan
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- Combination Of More Than One Step In Electrophotography (AREA)
- Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、情報を連続調、(0・1)情報の形で記録し
、任意時点で情報を再生しうる情報記録媒体に関する。
、任意時点で情報を再生しうる情報記録媒体に関する。
従来、高感度撮影技術として銀塩写真法が知られている
。この写真法においては、撮影像は現像工程を経て、記
録媒体としてのフィルム等に記録され、画像を再現する
場合には銀塩乳剤(印画紙等)を用いるか、または現像
フィルムを光学走査して陰極線管(以下CRT)に再現
させる等により行われている。
。この写真法においては、撮影像は現像工程を経て、記
録媒体としてのフィルム等に記録され、画像を再現する
場合には銀塩乳剤(印画紙等)を用いるか、または現像
フィルムを光学走査して陰極線管(以下CRT)に再現
させる等により行われている。
また、光導電層に電極を蒸着し、暗所で光導電層上にコ
ロナ帯電により全面帯電させ、次いで強い光で露光して
光の当たった部位の光導電層を導電性にし、その部位の
電荷をリークさせて除去することにより静電荷潜像を光
導電層の面上に光学的に形成させ、その残留静電荷と逆
橿性の電荷(または同極性の電荷)を有するトナーを付
着させて、紙等に静電転写して現像する電子写真技術が
あるが、これは主として複写用に用いられており、一般
に低感度のため撮影用としては使用できず、記録媒体と
しての光伝導層における静電荷の保持時間が短いために
静電潜像形成後、直ちにトナー現像するのが普通である
。
ロナ帯電により全面帯電させ、次いで強い光で露光して
光の当たった部位の光導電層を導電性にし、その部位の
電荷をリークさせて除去することにより静電荷潜像を光
導電層の面上に光学的に形成させ、その残留静電荷と逆
橿性の電荷(または同極性の電荷)を有するトナーを付
着させて、紙等に静電転写して現像する電子写真技術が
あるが、これは主として複写用に用いられており、一般
に低感度のため撮影用としては使用できず、記録媒体と
しての光伝導層における静電荷の保持時間が短いために
静電潜像形成後、直ちにトナー現像するのが普通である
。
銀塩写真法は被写体像を保存する手段として優れている
が、銀塩像を形成させるために現像工程を必要とし、像
再現においてはハードコピー、ソフトコピー(CRT出
力)等に至る複雑な光学的、電気的、または化学的処理
が必要である。
が、銀塩像を形成させるために現像工程を必要とし、像
再現においてはハードコピー、ソフトコピー(CRT出
力)等に至る複雑な光学的、電気的、または化学的処理
が必要である。
電子写真技術は、得られた静電潜像の顕像化は銀塩写真
法よりも簡単、迅速であるが潜像保存は極めて短く、現
像側の解像性、画質等は銀塩に劣る。
法よりも簡単、迅速であるが潜像保存は極めて短く、現
像側の解像性、画質等は銀塩に劣る。
これらの技術の内蔵する問題点は画像記録が高品質、高
解像であれば処理工程が複雑であり、工程が簡便であれ
ば記憶機能の欠如、あるいは画質の基本的劣化等があっ
た。
解像であれば処理工程が複雑であり、工程が簡便であれ
ば記憶機能の欠如、あるいは画質の基本的劣化等があっ
た。
本発明は上記問題点を解決するためのもので、高品質、
高解像であると共に、処理工程が簡便で、長時間の記録
が可能で、記録した文字、線画、画像、コード、(1,
0)情報を目的に応じた画質で任意に反復再生すること
ができる情報記録媒体の提供を課題とする。
高解像であると共に、処理工程が簡便で、長時間の記録
が可能で、記録した文字、線画、画像、コード、(1,
0)情報を目的に応じた画質で任意に反復再生すること
ができる情報記録媒体の提供を課題とする。
そのために本発明の情報記録媒体は、電極層上に被破壊
性電荷注入防止層を介して電荷輸送性を有する絶縁層を
積層したことを特徴とする。
性電荷注入防止層を介して電荷輸送性を有する絶縁層を
積層したことを特徴とする。
またこの被破壊性電荷注入防止層には、色素又は顔料か
らなる熱吸収層を設けることができるものである。
らなる熱吸収層を設けることができるものである。
上記情報記録媒体を使用した本発明の情報記録再生方法
は、まず電極層上に被破壊性電荷注入防止層を介して電
荷輸送性を有する絶縁層を積層した情報記録媒体を、加
熱手段により電荷注入防止層を破壊し、該破壊された電
荷注入防止層部を導電化させることにより情報を記録し
、情報再生に際しては情報記録媒体における絶縁層上面
に全面帯電を行うことにより再生することを特徴とする
ものである。
は、まず電極層上に被破壊性電荷注入防止層を介して電
荷輸送性を有する絶縁層を積層した情報記録媒体を、加
熱手段により電荷注入防止層を破壊し、該破壊された電
荷注入防止層部を導電化させることにより情報を記録し
、情報再生に際しては情報記録媒体における絶縁層上面
に全面帯電を行うことにより再生することを特徴とする
ものである。
この加熱手段は、レーザービームによるパターン露光、
またはサーマルヘッドによることができる。
またはサーマルヘッドによることができる。
また本発明の情報記録媒体への他の情報記録再生方法は
、まず電極層上に被破壊性電荷注入防止層を介して、光
電荷発生性を有し、かつ電荷輸送性を有する絶縁層を積
層した情報記録媒体における絶縁層面と、電極上に光導
電層を積層した感光体の光導電層面とを対向させて配置
し、両電極間に電圧を印加した状態でパターン露光し、
絶縁表面に静電荷パターンを形成し、続いて絶縁層面を
前面露光し、静電パターン形成部における電荷注入防止
層を放電破壊することにより導電化させて情報を記録し
、情報再生に際しては情報記録媒体上面に全面帯電を行
い、該記録情報を再生することを特徴とするものである
。
、まず電極層上に被破壊性電荷注入防止層を介して、光
電荷発生性を有し、かつ電荷輸送性を有する絶縁層を積
層した情報記録媒体における絶縁層面と、電極上に光導
電層を積層した感光体の光導電層面とを対向させて配置
し、両電極間に電圧を印加した状態でパターン露光し、
絶縁表面に静電荷パターンを形成し、続いて絶縁層面を
前面露光し、静電パターン形成部における電荷注入防止
層を放電破壊することにより導電化させて情報を記録し
、情報再生に際しては情報記録媒体上面に全面帯電を行
い、該記録情報を再生することを特徴とするものである
。
また記録された情報を再生するには、トナー現像しても
よく、又表面電位読み取りによってもよいものである。
よく、又表面電位読み取りによってもよいものである。
以下、本発明の情報記録媒体を説明する。
第1図は本発明の情報記録媒体の断面図、第2図は本発
明の情報記録媒体の作製工程をその断面図で示す図で、
図中3は情報記録媒体、11は電荷輸送性を有する絶縁
層、12は被破壊性電荷注入防止層、13は電極、14
は導電部、15は支持体、16は加熱装置である。
明の情報記録媒体の作製工程をその断面図で示す図で、
図中3は情報記録媒体、11は電荷輸送性を有する絶縁
層、12は被破壊性電荷注入防止層、13は電極、14
は導電部、15は支持体、16は加熱装置である。
電荷輸送性を存する絶縁層11は、電圧が印加されない
段階では絶縁層として機能するが、電圧印加時(像!萄
形成時もそうであるが)に於いては、電極から電荷が注
入されと橿めて容易にその電荷を移動させることができ
る機能を有する。
段階では絶縁層として機能するが、電圧印加時(像!萄
形成時もそうであるが)に於いては、電極から電荷が注
入されと橿めて容易にその電荷を移動させることができ
る機能を有する。
本発明では再生時に与える電荷の極性に応じてホール輸
送性、又は電子輸送性とする必要がある。
送性、又は電子輸送性とする必要がある。
電極がプラスの時には、ホール輸送性のよいアモルファ
スセレン、また有機感光材料、例えばヒドラゾン系、ピ
ラゾリン系、PVK系、カルバゾール系、オキサゾール
系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン系、トリ
フェニルメタン系、多環芳香族化合物系等を使用すると
よい。
スセレン、また有機感光材料、例えばヒドラゾン系、ピ
ラゾリン系、PVK系、カルバゾール系、オキサゾール
系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン系、トリ
フェニルメタン系、多環芳香族化合物系等を使用すると
よい。
形成方法としては、a−3sの場合には蒸着、スパッタ
法等により形成することができ、アモルファスセレン、
アモルファスセレンテルル、アモルファス砒素セレン化
合物(a−AszSei) 、アモルファス砒素セレン
化合物(a−AszSes) +テルル等を、単層、ま
たは複層、または各種アモルファスセレンを組み合わせ
積層するとよい、また有機感光材料の場合には溶剤に溶
かしスピンナーコーティング法等により塗布するとよい
。
法等により形成することができ、アモルファスセレン、
アモルファスセレンテルル、アモルファス砒素セレン化
合物(a−AszSei) 、アモルファス砒素セレン
化合物(a−AszSes) +テルル等を、単層、ま
たは複層、または各種アモルファスセレンを組み合わせ
積層するとよい、また有機感光材料の場合には溶剤に溶
かしスピンナーコーティング法等により塗布するとよい
。
電極がマイナスの場合には、電子輸送性のよい酸化亜鉛
、硫化カドミウム等を使用するとよく、その形成方法と
してはコーティング法、或いはCVD法(Chea+1
cal Vapor Deposition )で作製
される。コーティング法としては、硫化亜鉛粒子(粒径
1〜100μm)をバインダー中に分散させ、溶媒を添
加して電荷発生層上にコーティングするか、またはジエ
チル亜鉛、ジメチル亜鉛等の有機金属を酸素ガスと共に
低真空中(10−”〜ITorr)で混合し、加熱(1
50℃〜400℃)した基板上で化学反応させ、酸化亜
鉛膜として堆積させるとよい。
、硫化カドミウム等を使用するとよく、その形成方法と
してはコーティング法、或いはCVD法(Chea+1
cal Vapor Deposition )で作製
される。コーティング法としては、硫化亜鉛粒子(粒径
1〜100μm)をバインダー中に分散させ、溶媒を添
加して電荷発生層上にコーティングするか、またはジエ
チル亜鉛、ジメチル亜鉛等の有機金属を酸素ガスと共に
低真空中(10−”〜ITorr)で混合し、加熱(1
50℃〜400℃)した基板上で化学反応させ、酸化亜
鉛膜として堆積させるとよい。
なお塗布法を使用する場合にはバインダーとしてシリコ
ーン樹脂、スチレン−ブタジェン共重合体樹脂、エポキ
シ樹脂、アクリル樹脂、飽和又は不飽和ポリエステル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂
、フェノール樹脂、ポリメチルメタアクリレート(PM
MA)樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド樹脂等を電荷輸
送材料1部に対し、0.1〜10部添加して付着し易い
ようにする。
ーン樹脂、スチレン−ブタジェン共重合体樹脂、エポキ
シ樹脂、アクリル樹脂、飽和又は不飽和ポリエステル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂
、フェノール樹脂、ポリメチルメタアクリレート(PM
MA)樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド樹脂等を電荷輸
送材料1部に対し、0.1〜10部添加して付着し易い
ようにする。
膜厚としては10〜50μmの膜厚とするとよい。
本発明においては後述する電極の種類と、上記絶縁層材
料の組み合わせが重要であり、後述する電極の種類によ
り電荷の注入性を相違することを本発明者等は見出した
0例えば絶縁層材料としてポリビニルカルバゾールを使
用する場合には、Al電極では余り電荷が注入されない
が、ITO電極を使用すると電荷が注入されやすい0本
発明においては電圧印加時に電荷注入が容易な組み合わ
せを選択することが必要である。
料の組み合わせが重要であり、後述する電極の種類によ
り電荷の注入性を相違することを本発明者等は見出した
0例えば絶縁層材料としてポリビニルカルバゾールを使
用する場合には、Al電極では余り電荷が注入されない
が、ITO電極を使用すると電荷が注入されやすい0本
発明においては電圧印加時に電荷注入が容易な組み合わ
せを選択することが必要である。
また、この電荷輸送性を有する絶縁層は、先導電性材料
である場合もあり、そのような材料では光が照射される
と照射部分で光キャリア(電子、正孔)が発生し、特に
電界が存在する場合にその効果が顕著である層でもある
。
である場合もあり、そのような材料では光が照射される
と照射部分で光キャリア(電子、正孔)が発生し、特に
電界が存在する場合にその効果が顕著である層でもある
。
情報記録媒体電極13は、支持体に金属のものが使用さ
れる場合を除いて支持体上に形成され、その材質は比抵
抗値が106Ω・cm以下であれば限定されなく、金属
導電膜、無機金属酸化物導電膜、或いは四級アンモニウ
ム塩等の有機導電膜であり、蒸着、スパッタ法、CVD
法、コーティング、メツキ、デイツピング、電解重合等
により形成される。
れる場合を除いて支持体上に形成され、その材質は比抵
抗値が106Ω・cm以下であれば限定されなく、金属
導電膜、無機金属酸化物導電膜、或いは四級アンモニウ
ム塩等の有機導電膜であり、蒸着、スパッタ法、CVD
法、コーティング、メツキ、デイツピング、電解重合等
により形成される。
本発明においては、電極材料として電荷輸送性を存する
絶縁層に電荷を注入しやすい材料を選択するとよい0例
えば絶縁層として゛ポリビニルカルバゾール等の有機光
導電材料を使用する場合には電極として無機金属酸化物
、例えば酸化インジウム−錫(ITO)電極を使用する
とよい。
絶縁層に電荷を注入しやすい材料を選択するとよい0例
えば絶縁層として゛ポリビニルカルバゾール等の有機光
導電材料を使用する場合には電極として無機金属酸化物
、例えば酸化インジウム−錫(ITO)電極を使用する
とよい。
またその厚みはiiiを構成する材質の電気特性、及び
情報の記録の際の印加電圧により変化させる必要がある
が、例えばアルミニウムであれば100〜3000人程
度である。
情報の記録の際の印加電圧により変化させる必要がある
が、例えばアルミニウムであれば100〜3000人程
度である。
電極は情報光を情報記録媒体下部より入射させる必要が
ある場合には支持体同様の光学的特性が要求され、例え
ば情報光が可視光(400〜700 nm)であれば、
ITO(IntOs−5noり 、また酸化錫等をスパ
ッタリング、蒸着させるか、またはこれらの微粉末をバ
インダーと共にインキ化してコーティングしたような透
明電極や、金、アルミニウム、銀、ニッケル、クロム等
を蒸着、またはスパッタリングすることにより作製され
る半透明電極、テトラシアノキノジメタン(TCNQ)
、ポリアセチレン等のコーティングによる有i透明電
極等が使用される。
ある場合には支持体同様の光学的特性が要求され、例え
ば情報光が可視光(400〜700 nm)であれば、
ITO(IntOs−5noり 、また酸化錫等をスパ
ッタリング、蒸着させるか、またはこれらの微粉末をバ
インダーと共にインキ化してコーティングしたような透
明電極や、金、アルミニウム、銀、ニッケル、クロム等
を蒸着、またはスパッタリングすることにより作製され
る半透明電極、テトラシアノキノジメタン(TCNQ)
、ポリアセチレン等のコーティングによる有i透明電
極等が使用される。
また情報光が赤外光(700ns+以上)の場合にも上
記電極材料を使用することができるが、場合によっては
可視光をカントするために着色された可視光吸収電極も
使用できる。
記電極材料を使用することができるが、場合によっては
可視光をカントするために着色された可視光吸収電極も
使用できる。
更に情報光が紫外光(400ns以下)の場合も、上記
電極材料を使用できるが、支持体としては紫外光を吸収
するような有機高分子材料、ソーダガラス等は好ましく
なく、石英ガラスのような紫外光を透過する材料を使用
するとよい、それらの場合は、基板裏面にフン化マグネ
シウム、酸化チタン等の反射防止層を形成するとよい。
電極材料を使用できるが、支持体としては紫外光を吸収
するような有機高分子材料、ソーダガラス等は好ましく
なく、石英ガラスのような紫外光を透過する材料を使用
するとよい、それらの場合は、基板裏面にフン化マグネ
シウム、酸化チタン等の反射防止層を形成するとよい。
本発明の情報記録媒体は、上記電極13と電荷輸送性を
有する絶縁層11との間に、被破壊性電荷注入防止層を
設けることを特徴とする。
有する絶縁層11との間に、被破壊性電荷注入防止層を
設けることを特徴とする。
被破壊性電荷注入防止層は、電圧印加時に電極から電荷
輸送性を有する絶縁層に電荷が移動するのを防止するた
めに設けられる。この電荷注入防止層は、いわゆるトン
ネリング効果により電荷が移動しない膜厚を有する絶縁
性のものと、整流効果を利用したものの二種類があるが
、本発明においては後述するレーザー照射、サーマルヘ
ッド等の加熱による情報書き込み手段により、その部分
において絶縁層と電極とが連通して導電化するような機
能を有するものである。
輸送性を有する絶縁層に電荷が移動するのを防止するた
めに設けられる。この電荷注入防止層は、いわゆるトン
ネリング効果により電荷が移動しない膜厚を有する絶縁
性のものと、整流効果を利用したものの二種類があるが
、本発明においては後述するレーザー照射、サーマルヘ
ッド等の加熱による情報書き込み手段により、その部分
において絶縁層と電極とが連通して導電化するような機
能を有するものである。
このような電荷注入防止層材料として
まず無機絶縁性材料としては、TeOx等をグロー放電
、蒸着、スパッタリング等により膜厚0. 1μm−1
0μmに形成する。このような低融点化合物はレーザー
照射による加熱により加熱、融解され、その結晶化の程
度に応じた導電性を得ることができ、この場合にはレー
ザー照射の程度に応じて連続調の導電性を得ることがで
きるものである。
、蒸着、スパッタリング等により膜厚0. 1μm−1
0μmに形成する。このような低融点化合物はレーザー
照射による加熱により加熱、融解され、その結晶化の程
度に応じた導電性を得ることができ、この場合にはレー
ザー照射の程度に応じて連続調の導電性を得ることがで
きるものである。
また他の無機絶縁材料としては、AszOi 、BzO
s、B11Os 、CdS 、 CaO、Ce0z、C
rabs 、Coo % Ge0tsHf(h、Fez
es 、Lag’s 、MgO、Mn0z、 NdzO
s 、Nbt’s 、PbO,5bzOz 、5ift
、5eat、Taxes 、Ti1t、Won 、v、
ol、Y8O1、Y2O1、Zr0g、BaTi0=、
Alzos、B18TiOB 、CaO−5rO、Ca
0−YxOs、Cr−5in、 LLTaOl、PbT
iO3、PbZr0*、Zr0l−Co 、 Zr0z
−5iOx 、AIN 、 BN%NbN 、 5ia
L 、TaN 、 TiN 、 VN、 ZrN 。
s、B11Os 、CdS 、 CaO、Ce0z、C
rabs 、Coo % Ge0tsHf(h、Fez
es 、Lag’s 、MgO、Mn0z、 NdzO
s 、Nbt’s 、PbO,5bzOz 、5ift
、5eat、Taxes 、Ti1t、Won 、v、
ol、Y8O1、Y2O1、Zr0g、BaTi0=、
Alzos、B18TiOB 、CaO−5rO、Ca
0−YxOs、Cr−5in、 LLTaOl、PbT
iO3、PbZr0*、Zr0l−Co 、 Zr0z
−5iOx 、AIN 、 BN%NbN 、 5ia
L 、TaN 、 TiN 、 VN、 ZrN 。
SiC、TiCS札、Al4C3、SiN*−AlzO
s混晶体等をグロー放電、蒸着、スパッタリング、CV
D法等により膜厚o、oiμm〜1μmに形成する0例
えば5totはサーマルヘッドにより加熱すると亀裂が
生じ、電荷輸送性を有する絶縁層と電極を導通させるこ
とによりその亀裂部を導電化させることができるもので
、これにより(0・1)記録が可能である。
s混晶体等をグロー放電、蒸着、スパッタリング、CV
D法等により膜厚o、oiμm〜1μmに形成する0例
えば5totはサーマルヘッドにより加熱すると亀裂が
生じ、電荷輸送性を有する絶縁層と電極を導通させるこ
とによりその亀裂部を導電化させることができるもので
、これにより(0・1)記録が可能である。
また有機絶縁性材料としては、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリエステル、
ポリアミド、変性PVA、アクリルポリカーボネート、
シリコン等の樹脂、またフィルム状としてはポリスチレ
ン、ポリブタジェン、PET、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、塩化ビニル、ポリアミド、変性PVA、アクリ
ル、直鎖低分子量ポリエチレンフィルム等の熱収縮性フ
ィルム等があり、溶剤と共にスピンナーコーティング法
等により形成され、又フィルム状の場合には接着剤、粘
着剤等で電極上に形成され、サーマルヘッド等により加
熱されることにより、加熱部が収縮して電荷輸送性を有
する絶縁層と電極とを連通させる性質を有するものであ
る。
チレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリエステル、
ポリアミド、変性PVA、アクリルポリカーボネート、
シリコン等の樹脂、またフィルム状としてはポリスチレ
ン、ポリブタジェン、PET、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、塩化ビニル、ポリアミド、変性PVA、アクリ
ル、直鎖低分子量ポリエチレンフィルム等の熱収縮性フ
ィルム等があり、溶剤と共にスピンナーコーティング法
等により形成され、又フィルム状の場合には接着剤、粘
着剤等で電極上に形成され、サーマルヘッド等により加
熱されることにより、加熱部が収縮して電荷輸送性を有
する絶縁層と電極とを連通させる性質を有するものであ
る。
この層の膜厚は、電荷の注入を防止するためにトンネル
効果を生じないような、例えば1000Å以上の膜厚と
する必要がある。
効果を生じないような、例えば1000Å以上の膜厚と
する必要がある。
また電荷注入防止層として、整流効果を利用して電極基
板の極性と逆橿性の電荷輸送能を有する電荷輸送層を設
けてもよい、この場合にも上記絶縁性材料同様、加熱に
より導電化現象を生じるものを使用することができる。
板の極性と逆橿性の電荷輸送能を有する電荷輸送層を設
けてもよい、この場合にも上記絶縁性材料同様、加熱に
より導電化現象を生じるものを使用することができる。
このような電荷注入防止層は無m絶縁層、有機絶縁層、
有機無機複合型絶縁層で形成され、その膜厚は0.1〜
IOμm程度である。具体的には、電極がマイナスの場
合はB、AI、Ga51n等をドープしたアモルファス
シリコン絶縁層、アモルファスセレン、またはオキサジ
アゾール、ピラゾリン、ポリビニルカルバゾール、スチ
ルベン、アントラセン、ナフタレン、トリジフェニルメ
タン、トリフェニルメタン、アジン、アミン、芳香族ア
ミン等を樹脂中に分散して形成した有機絶縁層、電極が
プラスの場合は、P、N、As、Sb。
有機無機複合型絶縁層で形成され、その膜厚は0.1〜
IOμm程度である。具体的には、電極がマイナスの場
合はB、AI、Ga51n等をドープしたアモルファス
シリコン絶縁層、アモルファスセレン、またはオキサジ
アゾール、ピラゾリン、ポリビニルカルバゾール、スチ
ルベン、アントラセン、ナフタレン、トリジフェニルメ
タン、トリフェニルメタン、アジン、アミン、芳香族ア
ミン等を樹脂中に分散して形成した有機絶縁層、電極が
プラスの場合は、P、N、As、Sb。
Bi等をドープしたアモルファスシリコン絶縁層、Zn
OwA縁層等をグロー放電、蒸着、スパッタリング、C
VD、コーティング等の方法により形成される。
OwA縁層等をグロー放電、蒸着、スパッタリング、C
VD、コーティング等の方法により形成される。
このように形成される電荷注入防止層の一方、又は両面
、或いは電荷注入防止層が有機物の場合、その層中に、
LED、レーザー光等による光吸収により発熱する層を
設けると、それらの光源により光書き込みができ、例え
ば色素、顔料等を溶剤に熔解、又は分散させて、また必
要に応じてバインダーと共に塗布することにより、上記
電荷注入防止層を容易に破壊することができる。このよ
うな色素、顔料としては直接染料、酸性染料、塩基性染
料、金属錯塩染料、バット染料、硫化染料、ナフトール
染料、分散染料、反応染料、螢光増白染料、酸化染料等
の染料、又無W1顔料、フタロシアニン系有機顔料、染
付は系顔料、溶性アゾ系顔料、不溶性アゾ系顔料、ポリ
アゾ系顔料、バット系顔料、螢光顔料等の顔料がある。
、或いは電荷注入防止層が有機物の場合、その層中に、
LED、レーザー光等による光吸収により発熱する層を
設けると、それらの光源により光書き込みができ、例え
ば色素、顔料等を溶剤に熔解、又は分散させて、また必
要に応じてバインダーと共に塗布することにより、上記
電荷注入防止層を容易に破壊することができる。このよ
うな色素、顔料としては直接染料、酸性染料、塩基性染
料、金属錯塩染料、バット染料、硫化染料、ナフトール
染料、分散染料、反応染料、螢光増白染料、酸化染料等
の染料、又無W1顔料、フタロシアニン系有機顔料、染
付は系顔料、溶性アゾ系顔料、不溶性アゾ系顔料、ポリ
アゾ系顔料、バット系顔料、螢光顔料等の顔料がある。
支持体15は、電荷輸送性を有する絶縁層を強度的に支
持するものであるが、絶縁層11がフィルム形状の場合
には不用である。この場合には上記電極はフィルムの片
面に電荷注入防止層を介して形成されてもよいものであ
る。
持するものであるが、絶縁層11がフィルム形状の場合
には不用である。この場合には上記電極はフィルムの片
面に電荷注入防止層を介して形成されてもよいものであ
る。
支持体を設ける場合、光透過性も同様に要求される場合
がある。情報記録媒体3がフレキシブルなフィルム、テ
ープ、ディスク形状をとる場合には、フレキシブル性の
あるプラスチックフィルムが使用され、強度が要求され
る場合には剛性のあるシート、ガラス等の無機材料等が
使用される。
がある。情報記録媒体3がフレキシブルなフィルム、テ
ープ、ディスク形状をとる場合には、フレキシブル性の
あるプラスチックフィルムが使用され、強度が要求され
る場合には剛性のあるシート、ガラス等の無機材料等が
使用される。
また光透過性が要求される場合には支持体上に反射防止
膜を設けるとよい0反11防止膜は弗化マグネシウム、
酸化チタン等の無機酸化物を単層、又は複数層状にもう
けるとよい。
膜を設けるとよい0反11防止膜は弗化マグネシウム、
酸化チタン等の無機酸化物を単層、又は複数層状にもう
けるとよい。
次ぎに本発明の情報記録再生方法における第1の情報記
録方法を、第2図により説明する。第2図(イ)は電荷
注入防止層が亀裂、または収縮作用により破壊された状
態を示す図、第2図(ロ)は電荷注入防止層が結晶化作
用により導電化することにより破壊された状態を示す図
である0図中143は!荷注入防止層が欠落した部位、
14bは電荷注入防止層が結晶化した部位、16は加熱
手段を示す。
録方法を、第2図により説明する。第2図(イ)は電荷
注入防止層が亀裂、または収縮作用により破壊された状
態を示す図、第2図(ロ)は電荷注入防止層が結晶化作
用により導電化することにより破壊された状態を示す図
である0図中143は!荷注入防止層が欠落した部位、
14bは電荷注入防止層が結晶化した部位、16は加熱
手段を示す。
まず第2図(イ)に示すように、本発明の情報記録媒体
に情報を記録する第1の方法は、情報記録媒体3上部、
又は下部よりサーマルヘッド等により電荷注入防止層に
情報を熱的に入力し、W荷注入防止層材料に収縮、また
は亀裂を生じさせ、電荷輸送性を有する絶縁層と電極と
を導通させるもので、情報に応じた導通部を形成するこ
とができ、(0・1)信号の形で情報を記録することが
できるものである。
に情報を記録する第1の方法は、情報記録媒体3上部、
又は下部よりサーマルヘッド等により電荷注入防止層に
情報を熱的に入力し、W荷注入防止層材料に収縮、また
は亀裂を生じさせ、電荷輸送性を有する絶縁層と電極と
を導通させるもので、情報に応じた導通部を形成するこ
とができ、(0・1)信号の形で情報を記録することが
できるものである。
また第2図(ロ)に示すものは、電荷注入防止層を酸化
テルル等の低融点化合物を使用して形成する場合であり
、この場合には加熱手段16により情報が加熱印加され
ると、その部位において電荷注入防止層が溶融し、冷却
に伴い結晶化するもので、結晶化の程度により導電性と
なることを利用し情報をアナログで記録しうるちのであ
る。
テルル等の低融点化合物を使用して形成する場合であり
、この場合には加熱手段16により情報が加熱印加され
ると、その部位において電荷注入防止層が溶融し、冷却
に伴い結晶化するもので、結晶化の程度により導電性と
なることを利用し情報をアナログで記録しうるちのであ
る。
電荷注入防止層近傍或いは層中に、染料、顔料等の光吸
収発熱性物質が存在する場合、レーザー等の光記録がで
き、記録方法としては、光源としてアルゴンレーザー(
514,488nm) 、ヘリウム−ネオンレーザ−(
633nm)、半導体レーザー(780nm、810n
m等)が使用でき、情報記録媒体上方、または下方から
画像信号、文字信号、コード信号、線画信号に対応した
レーザー露光をスキャニングにより行うものである。
収発熱性物質が存在する場合、レーザー等の光記録がで
き、記録方法としては、光源としてアルゴンレーザー(
514,488nm) 、ヘリウム−ネオンレーザ−(
633nm)、半導体レーザー(780nm、810n
m等)が使用でき、情報記録媒体上方、または下方から
画像信号、文字信号、コード信号、線画信号に対応した
レーザー露光をスキャニングにより行うものである。
画像のようなアナログ的な記録は、レーザーの光強度を
変調して行い、文字、コード、線画のようなデジタル的
な記録は、レーザー光の0N−OFFIII御により行
う、また画像において網点形成されるものには、レーザ
ー光にドツトジェネレーター0N−OFF制御をかけて
形成するものである。
変調して行い、文字、コード、線画のようなデジタル的
な記録は、レーザー光の0N−OFFIII御により行
う、また画像において網点形成されるものには、レーザ
ー光にドツトジェネレーター0N−OFF制御をかけて
形成するものである。
尚、感光体を使用する情報記録方法においてレーザーを
使用することもでき、この場合には光導電層の分光特性
は、パンクロマチインクである必要はなく、レーザー光
源の波長に感度を有していればよい。
使用することもでき、この場合には光導電層の分光特性
は、パンクロマチインクである必要はなく、レーザー光
源の波長に感度を有していればよい。
次に第3図により本発明の第2の情報記録再生方法を説
明する0図中1は感光体、3は情報記録媒体、5は感光
体支持体、7は感光体電極、9は光導電層、11は光キ
ャリアー発生性及びキャリアー輸送能を有する絶縁層、
17はT4aである。
明する0図中1は感光体、3は情報記録媒体、5は感光
体支持体、7は感光体電極、9は光導電層、11は光キ
ャリアー発生性及びキャリアー輸送能を有する絶縁層、
17はT4aである。
まず第3図(イ)に示すように、例えば1fl厚のガラ
スからなる感光体支持体5上に1000人厚の1TOか
らなる透明な感光体電極7を形成し、この上に10μm
程度の光導電層9を形成した感光体lを用意する。この
感光体1に対して、IOμm程度の空隙を介して上記情
報記録媒体3を配置する。
スからなる感光体支持体5上に1000人厚の1TOか
らなる透明な感光体電極7を形成し、この上に10μm
程度の光導電層9を形成した感光体lを用意する。この
感光体1に対して、IOμm程度の空隙を介して上記情
報記録媒体3を配置する。
第3図においては、感光体1側から露光を行うIl!3
i様である。第3図(イ)に示すように電源17により
電極7.13間に電圧を印加する。暗所であれば感光体
における光導電rM9は高抵抗体であるため、電極間に
は何の変化も生じない、感光体1側より光18が入射す
ると、光が入射した部分の感光体光導電層9は導電性を
示し、電荷輸送性を有する絶縁層11との間に放電が生
じ、情報記録媒体に像電荷が移動する。
i様である。第3図(イ)に示すように電源17により
電極7.13間に電圧を印加する。暗所であれば感光体
における光導電rM9は高抵抗体であるため、電極間に
は何の変化も生じない、感光体1側より光18が入射す
ると、光が入射した部分の感光体光導電層9は導電性を
示し、電荷輸送性を有する絶縁層11との間に放電が生
じ、情報記録媒体に像電荷が移動する。
次に、第3図(ロ)に示すように、媒体を取り出した後
、情報記録媒体に対応した波長の全面露光を行うと、像
電荷が存在する部位において光キャリアーが発生し、像
電荷と同極性の光キャリアーが情報記録媒体電極に引か
れ、電荷注入防止層界面にまで移動する。電極間の電圧
を高電圧とすることにより、電極における電荷との間に
高電界が生じる(表面電位が100OVであれば、電界
強度は10’ V/cn+の高電界となる)ために、像
電荷の移動した電荷注入防止層における部位においては
放電破壊が生じ、電荷輸送性を有する絶縁層と電極とが
連通し、その電荷注入防止層部を導電化することができ
るものである。この場合の電荷注入防止層の形成材料と
してはトンネリング効果を生じないような膜厚(100
0Å以上)の絶縁性膜とすればよい。
、情報記録媒体に対応した波長の全面露光を行うと、像
電荷が存在する部位において光キャリアーが発生し、像
電荷と同極性の光キャリアーが情報記録媒体電極に引か
れ、電荷注入防止層界面にまで移動する。電極間の電圧
を高電圧とすることにより、電極における電荷との間に
高電界が生じる(表面電位が100OVであれば、電界
強度は10’ V/cn+の高電界となる)ために、像
電荷の移動した電荷注入防止層における部位においては
放電破壊が生じ、電荷輸送性を有する絶縁層と電極とが
連通し、その電荷注入防止層部を導電化することができ
るものである。この場合の電荷注入防止層の形成材料と
してはトンネリング効果を生じないような膜厚(100
0Å以上)の絶縁性膜とすればよい。
次ぎに記録された静電画像の再生方法について説明する
。
。
第4図は、情報を記録した情報記録媒体の断面図である
。
。
この情報記録媒体から情報を再生するには、まず同図(
イ)に示すように情報記録媒体の絶縁層11上面にコロ
ナ帯電、又は対向電極による電圧印加方式により全面帯
電にさせると、同図(ロ)に示すように、電荷注入防止
層の欠落部においては電極と!荷輸送層とが導通してい
るために電極から電荷の移動が生じ、電荷輸送層上の電
荷を中和し、パターニングされていない部位においては
電荷が残存することとなる。
イ)に示すように情報記録媒体の絶縁層11上面にコロ
ナ帯電、又は対向電極による電圧印加方式により全面帯
電にさせると、同図(ロ)に示すように、電荷注入防止
層の欠落部においては電極と!荷輸送層とが導通してい
るために電極から電荷の移動が生じ、電荷輸送層上の電
荷を中和し、パターニングされていない部位においては
電荷が残存することとなる。
この電荷をトナーにより現像し、静電印刷等に利用する
ことができる。情報はポジ状態での情報を再生すること
ができるものである。
ことができる。情報はポジ状態での情報を再生すること
ができるものである。
第5図は情報記録再生方法における他の方法である電位
読み取り方法の例を示す図で、第1図と同一番号は同一
内容を示している。なお、図中21は電位読み取り部、
23は検出電極、25はガード電橋、27はコンデンサ
、29は電圧計である。
読み取り方法の例を示す図で、第1図と同一番号は同一
内容を示している。なお、図中21は電位読み取り部、
23は検出電極、25はガード電橋、27はコンデンサ
、29は電圧計である。
電位読み取り部21を情報記録媒体3の電荷蓄積面にそ
の保護膜上から対向させると、検出電極23に情報記録
媒体3の電荷輸送性を有する絶縁層11上に蓄積された
電荷によって生じる電界が作用し、検出電極面上に情報
記録媒体上の電荷と等量の誘導電荷が生ずる。この誘導
電荷と逆極性の等量の電荷でコンデンサ27が充電され
るので、コンデンサの電極間に蓄積電荷に応じた電位差
が生じ、この値を電圧計29で読むことによって電荷保
持体の電位を求めることができる。そして、電位読み取
り部21で情報記録媒体面上を走査することにより静電
潜像を電気信号として出力することができる。なお、検
出型pi23だけでは情報記録媒体の検出電極対向部位
よりも広い範囲の電荷による電界(電気力線)が作用し
て分解能が落ちるので、検出電極の周囲に接地したガー
ド電極25を配置するようにしてもよい、これによって
、電気力線は面に対して垂直方向を向くようになるので
、検出電極23に対向した部位のみの電気力線が作用す
るようになり、検出電極面積に略等しい部位の電位を読
み取ることができる。iZ位読み取りの精度、分解能は
検出電極、ガード電極の形状、大きさ、及び情報記録媒
体との間隔によって大きく変わるため、要求される性能
に合わせて最適条件を求めて設計する必要がある。
の保護膜上から対向させると、検出電極23に情報記録
媒体3の電荷輸送性を有する絶縁層11上に蓄積された
電荷によって生じる電界が作用し、検出電極面上に情報
記録媒体上の電荷と等量の誘導電荷が生ずる。この誘導
電荷と逆極性の等量の電荷でコンデンサ27が充電され
るので、コンデンサの電極間に蓄積電荷に応じた電位差
が生じ、この値を電圧計29で読むことによって電荷保
持体の電位を求めることができる。そして、電位読み取
り部21で情報記録媒体面上を走査することにより静電
潜像を電気信号として出力することができる。なお、検
出型pi23だけでは情報記録媒体の検出電極対向部位
よりも広い範囲の電荷による電界(電気力線)が作用し
て分解能が落ちるので、検出電極の周囲に接地したガー
ド電極25を配置するようにしてもよい、これによって
、電気力線は面に対して垂直方向を向くようになるので
、検出電極23に対向した部位のみの電気力線が作用す
るようになり、検出電極面積に略等しい部位の電位を読
み取ることができる。iZ位読み取りの精度、分解能は
検出電極、ガード電極の形状、大きさ、及び情報記録媒
体との間隔によって大きく変わるため、要求される性能
に合わせて最適条件を求めて設計する必要がある。
また情報記録媒体における像電荷を、反射防止膜を設け
た情報記録媒体電極側からレーザー光等を照射し、レー
ザー光の像電荷による変調を利用し、電気光学結晶を介
して情報を再生してもよい。
た情報記録媒体電極側からレーザー光等を照射し、レー
ザー光の像電荷による変調を利用し、電気光学結晶を介
して情報を再生してもよい。
この場合情報記録媒体は支持体、電極、電荷輸送性を有
する絶縁層、絶縁層、保護層共に透明材料で形成する必
要がある。また電気光学結晶はその光路中に配置すると
よく、このような電気光学結晶としてはチタン酸バリウ
ム、タンタル酸リチウム(LiTa0s)等電気光学効
果を有するものを使用するとよい。
する絶縁層、絶縁層、保護層共に透明材料で形成する必
要がある。また電気光学結晶はその光路中に配置すると
よく、このような電気光学結晶としてはチタン酸バリウ
ム、タンタル酸リチウム(LiTa0s)等電気光学効
果を有するものを使用するとよい。
第6図は静電画像再生方法の概略構成を示す図で、図中
、61は電位読み取り装置、63は増幅器、65はCR
T、67はプリンタである。
、61は電位読み取り装置、63は増幅器、65はCR
T、67はプリンタである。
図において、電位読み取り装置61で電荷電位を検出し
、検出出力を増幅器63で増幅してCRT65で表示し
、またプリンタ67でプリントアウトすることができる
。この場合、任意の時に、読み取りたい部位を任意に選
択して出力させることができ、また反復再生することが
可能である。
、検出出力を増幅器63で増幅してCRT65で表示し
、またプリンタ67でプリントアウトすることができる
。この場合、任意の時に、読み取りたい部位を任意に選
択して出力させることができ、また反復再生することが
可能である。
また静電潜像が電気信号として得られるので、必要に応
じて他の記録媒体への記録等に利用することも可能であ
る。
じて他の記録媒体への記録等に利用することも可能であ
る。
本発明の情報記録媒体は、電極層上に被破壊性電荷注入
防止層を介して電荷輸送性を有する絶縁層を積層するこ
とにより形成し、レーザー光、又はサーマルヘッド等の
加熱手段を情報記録手段とすることにより、加熱部位の
電荷注入防止層を破壊し、その部位を導電化させること
ができるものである。そのため像電荷を電荷注入防止層
の有無の形に変換して保存しうるちのであり、情報記録
媒体として永続的に情報を保存しうるちのである。
防止層を介して電荷輸送性を有する絶縁層を積層するこ
とにより形成し、レーザー光、又はサーマルヘッド等の
加熱手段を情報記録手段とすることにより、加熱部位の
電荷注入防止層を破壊し、その部位を導電化させること
ができるものである。そのため像電荷を電荷注入防止層
の有無の形に変換して保存しうるちのであり、情報記録
媒体として永続的に情報を保存しうるちのである。
また情報再生に際しては、その都度情報記録媒体表面を
全面帯電することにより容易に再生することができる。
全面帯電することにより容易に再生することができる。
即ち、情報記録媒体表面を全面帯電させると、電荷注入
防止層の欠落している情報記録部においては像電荷によ
り形成される電界により像電荷はリークし、情報を記録
してない部位のみに電荷を残存させることができ、この
電荷を再生方法すればよいものである。
防止層の欠落している情報記録部においては像電荷によ
り形成される電界により像電荷はリークし、情報を記録
してない部位のみに電荷を残存させることができ、この
電荷を再生方法すればよいものである。
以下、実施例を説明する。
〔実施例1〕
In2O2−Snowを約1000人の膜厚でスパンタ
ーしたガラス基板(1u厚)に、電荷注入防止層として
Singを同様のスバンタ法で、0.2 μmの膜厚に
形成した。
ーしたガラス基板(1u厚)に、電荷注入防止層として
Singを同様のスバンタ法で、0.2 μmの膜厚に
形成した。
次にこの電荷注入防止層上に、レーザー光吸収層として
、クリスタルバイオレフト(純正化学をテトラハイドロ
フランに溶解させ、1%溶液とし、スピンナーコーティ
ング法(1000rpm 、30s)で0.05μmの
膜厚に塗布する。
、クリスタルバイオレフト(純正化学をテトラハイドロ
フランに溶解させ、1%溶液とし、スピンナーコーティ
ング法(1000rpm 、30s)で0.05μmの
膜厚に塗布する。
次いで形成されたレーザー光吸収層上に、ポリ−N−ビ
ニルカルバゾール10g(亜w香n <株)製)、2,
4.7−トリニトロフルオレノン10g、ポリエステル
樹脂2g(バインダー:バイロン200東洋紡(株)製
)、テトラハイドロフラン(THF)90gの組成を有
する混合液を暗所で作製してドクターブレードを用いて
塗布し、60℃で約1時間通風乾燥し、膜厚約10μm
の電荷輸送性を有する絶縁層を有する情報記録媒体を得
た。
ニルカルバゾール10g(亜w香n <株)製)、2,
4.7−トリニトロフルオレノン10g、ポリエステル
樹脂2g(バインダー:バイロン200東洋紡(株)製
)、テトラハイドロフラン(THF)90gの組成を有
する混合液を暗所で作製してドクターブレードを用いて
塗布し、60℃で約1時間通風乾燥し、膜厚約10μm
の電荷輸送性を有する絶縁層を有する情報記録媒体を得
た。
(実施例2〕
IntoコーSnugを約1000人の膜厚でスパッタ
ーしたPETフィルム基板(100μm厚)に、電荷注
入防止層として、2軸延伸のポリエチレンフィルムを接
着剤を用いて電極上にラミネートした(5μm膜厚) 次にこの電荷注入防止層上に、ポリ−N−ビニルカルバ
ゾール10g (亜南香料(株)製)、2.4.7−ト
リニトロフルオレノン10g1ポリニスfルmFIM
2 g (バインダー:バイロン200東洋紡(株)製
)、テトラハイドロフラン(THF)90gの組成を有
する混合液を暗所で作製し、ドクターブレードを用いて
塗布し、60℃で約1時間通風乾燥し、膜厚約10μm
の電荷輸送性を有する絶縁層を有する情報記録媒体を得
た。
ーしたPETフィルム基板(100μm厚)に、電荷注
入防止層として、2軸延伸のポリエチレンフィルムを接
着剤を用いて電極上にラミネートした(5μm膜厚) 次にこの電荷注入防止層上に、ポリ−N−ビニルカルバ
ゾール10g (亜南香料(株)製)、2.4.7−ト
リニトロフルオレノン10g1ポリニスfルmFIM
2 g (バインダー:バイロン200東洋紡(株)製
)、テトラハイドロフラン(THF)90gの組成を有
する混合液を暗所で作製し、ドクターブレードを用いて
塗布し、60℃で約1時間通風乾燥し、膜厚約10μm
の電荷輸送性を有する絶縁層を有する情報記録媒体を得
た。
〔実施例3〕
In2O2−5nO1を約1000人の膜厚でスパッタ
ーしたガラス基I(1m厚)に、電荷注入防止層として
酸化テルルを、酸素雰囲気下でTeをスパッタすること
により1μmの膜厚に形成した。
ーしたガラス基I(1m厚)に、電荷注入防止層として
酸化テルルを、酸素雰囲気下でTeをスパッタすること
により1μmの膜厚に形成した。
次にこの電荷注入防止層上に、ポリ−N−ビニルカルバ
ゾール10g(亜南香料(株)製)、2、4.7−)リ
ニトロフルオレノン10g、ポリエステル樹脂2g(バ
インダー:バイロン200東洋紡(株)製)、テトラハ
イドロフラン(THF)90gの組成を有する混合液を
暗所で作製し、ドクターブレードを用いて塗布し、60
℃で約1時間通風乾燥し、膜厚約10μmの電荷輸送性
を有する絶縁層を有する情報記録媒体を得た。
ゾール10g(亜南香料(株)製)、2、4.7−)リ
ニトロフルオレノン10g、ポリエステル樹脂2g(バ
インダー:バイロン200東洋紡(株)製)、テトラハ
イドロフラン(THF)90gの組成を有する混合液を
暗所で作製し、ドクターブレードを用いて塗布し、60
℃で約1時間通風乾燥し、膜厚約10μmの電荷輸送性
を有する絶縁層を有する情報記録媒体を得た。
〔実施例4〕
第2図(イ)に示すように、実施例1で作製した情報記
録媒体上面より、He−Neレーザー(633nm)1
5mW、スポット径5μmφ、lQmsでパターン走査
露光を行った。照射をした後、その情報記録媒体表面に
一6KVでコロナ帯電をした結果、露光部の表面電位は
0■、未露光部は一450vが得られ、湿式トナー(リ
コーBS)ナー)により、トナー現像をおこなった。
録媒体上面より、He−Neレーザー(633nm)1
5mW、スポット径5μmφ、lQmsでパターン走査
露光を行った。照射をした後、その情報記録媒体表面に
一6KVでコロナ帯電をした結果、露光部の表面電位は
0■、未露光部は一450vが得られ、湿式トナー(リ
コーBS)ナー)により、トナー現像をおこなった。
He−Neレーザーを照射した部分にはトナーは乗らず
、(0・1)印刷を鮮明におこなうことができた。
、(0・1)印刷を鮮明におこなうことができた。
〔実施例5〕
第3図(イ)に示すように、実施例3で作製した情報記
録媒体上面と後述する参考例1で作製する有機感光体(
PVK −TNF) 1とを、膜厚10μmのポリエス
テルフィルムをスペーサーとして使用して対向させて重
ね合わせ、両電極間7.13に、感光体側を負、絶縁J
!!極側を正にして、−700vの直流電圧を印加する
。この電圧印加状態で、感光体側より照度1000ルツ
クスのハロゲンランプを光源とするパターン露光を1秒
間行い、露光終了後、電圧をOFFとした。
録媒体上面と後述する参考例1で作製する有機感光体(
PVK −TNF) 1とを、膜厚10μmのポリエス
テルフィルムをスペーサーとして使用して対向させて重
ね合わせ、両電極間7.13に、感光体側を負、絶縁J
!!極側を正にして、−700vの直流電圧を印加する
。この電圧印加状態で、感光体側より照度1000ルツ
クスのハロゲンランプを光源とするパターン露光を1秒
間行い、露光終了後、電圧をOFFとした。
続いて情報記録媒体を取り出し、全面に白色光を10ル
ツクス・10秒照射した後、暗所下でコロナ帯電(−6
K V)を行い、第6図に示す電位読み取り表面電位を
測定した結果、パターン露光部には0■、未露光部には
一300■の表面電位であり、CRT上に再生したとこ
ろパターン画像が再生された。
ツクス・10秒照射した後、暗所下でコロナ帯電(−6
K V)を行い、第6図に示す電位読み取り表面電位を
測定した結果、パターン露光部には0■、未露光部には
一300■の表面電位であり、CRT上に再生したとこ
ろパターン画像が再生された。
〔参考例1〕・・・有機感光体(PVK −TNF ’
)作製方法 ポリ−N−ビニルカルバゾール10g (亜南香料(株
)製)、2.4.7−)リニトロフルオレノンlog、
ポリエステル樹脂2g(バインダー:バイロン200東
洋紡(株)製)、テトラハイドロフラン(THF)90
gの組成を有する混合液を暗所で作製し、IntOi−
3nO1を約1000人の膜厚でスパンターしたガラス
基板(1鶴厚)に、ドクターブレードを用いて塗布し、
60℃で約1時間通風乾燥し、膜厚約10μmの絶縁層
を有する感光層を得た。又完全に乾燥を行うために、更
に1日自然乾燥を行って用いた。
)作製方法 ポリ−N−ビニルカルバゾール10g (亜南香料(株
)製)、2.4.7−)リニトロフルオレノンlog、
ポリエステル樹脂2g(バインダー:バイロン200東
洋紡(株)製)、テトラハイドロフラン(THF)90
gの組成を有する混合液を暗所で作製し、IntOi−
3nO1を約1000人の膜厚でスパンターしたガラス
基板(1鶴厚)に、ドクターブレードを用いて塗布し、
60℃で約1時間通風乾燥し、膜厚約10μmの絶縁層
を有する感光層を得た。又完全に乾燥を行うために、更
に1日自然乾燥を行って用いた。
第1図は本発明の情報記録媒体の断面図、第2図は情報
記録方法の一実施例を説明するための図、第3図は他の
情報記録方法の実施例を説明するための図、第4図は記
録情報再生を説明するための図、第5図は直流増幅型の
電位読み取り方法の例を示す図、第6図は本発明の静電
画像再生の概略構成を示す図である。 1は感光体、3は情報記録媒体、5は感光体支持体、7
は感光体電極、9は光導電層、11は電荷輸送性を有す
る絶縁層、13は情報記録媒体電極、14は情報記録部
、15は情報記録媒体支持体、16は加熱手段、17は
電源、18はパターン露光光、21は電位読み取り部、
23は検出電極“、25はガード電極、27はコンデン
サ。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
内1)亘彦(外5名)図面の浄書 (イ) 図面の浄書 第1図 第2vIJ (イ) 図面の浄書 (イ) (ロ) 第5図 手 続 争甫 正 書 (方式) %式% 補正をする者 事件との関係
記録方法の一実施例を説明するための図、第3図は他の
情報記録方法の実施例を説明するための図、第4図は記
録情報再生を説明するための図、第5図は直流増幅型の
電位読み取り方法の例を示す図、第6図は本発明の静電
画像再生の概略構成を示す図である。 1は感光体、3は情報記録媒体、5は感光体支持体、7
は感光体電極、9は光導電層、11は電荷輸送性を有す
る絶縁層、13は情報記録媒体電極、14は情報記録部
、15は情報記録媒体支持体、16は加熱手段、17は
電源、18はパターン露光光、21は電位読み取り部、
23は検出電極“、25はガード電極、27はコンデン
サ。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
内1)亘彦(外5名)図面の浄書 (イ) 図面の浄書 第1図 第2vIJ (イ) 図面の浄書 (イ) (ロ) 第5図 手 続 争甫 正 書 (方式) %式% 補正をする者 事件との関係
Claims (6)
- (1)電極層上に被破壊性電荷注入防止層を介して電荷
輸送性を有する絶縁層を積層したことを特徴とする情報
記録媒体。 - (2)上記被破壊性電荷注入防止層近傍又は層中に、色
素又は顔料からなる熱吸収層を設けた請求項1記載の情
報記録媒体。 - (3)電極層上に被破壊性電荷注入防止層を介して電荷
輸送性を有する絶縁層を積層した情報記録媒体を、加熱
手段により電荷注入防止層を破壊し、該破壊された電荷
注入防止層部を導電化させることにより情報を記録し、
情報再生に際しては情報記録媒体における絶縁層上面に
全面帯電を行うことにより再生することを特徴とする情
報記録再生方法。 - (4)上記加熱手段が、レーザービームによるパターン
露光である請求項3記載の情報記録再生方法。 - (5)電極層上に被破壊性電荷注入防止層を介して、光
電荷発生性を有し、かつ電荷輸送性を有する絶縁層を積
層した情報記録媒体における絶縁層面と、電極上に光導
電層を積層した感光体の光導電層面とを対向させて配置
し、両電極間に電圧を印加した状態でパターン露光し、
絶縁表面に静電荷パターンを形成し、続いて絶縁層面を
前面露光し、静電パターン形成部における電荷注入防止
層を放電破壊することにより導電化させて情報を記録し
、情報再生に際しては情報記録媒体上面に全面帯電を行
い、該記録情報を再生することを特徴とする情報記録再
生方法。 - (6)上記記録された情報の再生方法が、トナー現像に
よるか、又は表面電位読み取りによるものである請求項
3、4又は5記載の情報記録再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6725289A JPH02245765A (ja) | 1989-03-18 | 1989-03-18 | 情報記録媒体及び情報記録再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6725289A JPH02245765A (ja) | 1989-03-18 | 1989-03-18 | 情報記録媒体及び情報記録再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02245765A true JPH02245765A (ja) | 1990-10-01 |
Family
ID=13339557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6725289A Pending JPH02245765A (ja) | 1989-03-18 | 1989-03-18 | 情報記録媒体及び情報記録再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02245765A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5903296A (en) * | 1993-04-26 | 1999-05-11 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photoelectric sensor, information recording system and information recording and reproducing method |
-
1989
- 1989-03-18 JP JP6725289A patent/JPH02245765A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5903296A (en) * | 1993-04-26 | 1999-05-11 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photoelectric sensor, information recording system and information recording and reproducing method |
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