JPH0224898A - センス回路 - Google Patents
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- JPH0224898A JPH0224898A JP63174419A JP17441988A JPH0224898A JP H0224898 A JPH0224898 A JP H0224898A JP 63174419 A JP63174419 A JP 63174419A JP 17441988 A JP17441988 A JP 17441988A JP H0224898 A JPH0224898 A JP H0224898A
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
- H03K3/353—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of field-effect transistors with internal or external positive feedback
- H03K3/356—Bistable circuits
- H03K3/356017—Bistable circuits using additional transistors in the input circuit
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
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- G11C7/06—Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
- G11C7/062—Differential amplifiers of non-latching type, e.g. comparators, long-tailed pairs
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- H03K—PULSE TECHNIQUE
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- H03K3/356104—Bistable circuits using complementary field-effect transistors
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- H03K3/35613—Bistable circuits using complementary field-effect transistors using additional transistors in the input circuit the input circuit having a differential configuration
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- Dram (AREA)
- Manipulation Of Pulses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、多ビツト構成の半導体メモリなどに使用され
るセンス回路に係り、特にMOS(絶縁ゲート型)トラ
ンジスタを用いてなるセンス回路に関するものである。
るセンス回路に係り、特にMOS(絶縁ゲート型)トラ
ンジスタを用いてなるセンス回路に関するものである。
(従来の技術)
従来の半導体メモリのセンス回路は、第18図に示すよ
うなラッチ型センス回路か、第19図および第20図に
示すようなカレントミラー型センス回路が用いられてい
た。
うなラッチ型センス回路か、第19図および第20図に
示すようなカレントミラー型センス回路が用いられてい
た。
第18図に示すラッチ型センス回路は、2個のCMOS
インバータ11、■2がクロスカップル接続されてなり
、この2個のインバータ11■2の各入力端が一対のビ
ット線BL、BLに接続されている。そして、センス回
路活性化信号SEが”H” (ハイレベル)、その反転
信号SEが“L” (ロウレベル)になったときに活性
化され、上記ビット線BL、BL対の電位差を増幅して
出力する。
インバータ11、■2がクロスカップル接続されてなり
、この2個のインバータ11■2の各入力端が一対のビ
ット線BL、BLに接続されている。そして、センス回
路活性化信号SEが”H” (ハイレベル)、その反転
信号SEが“L” (ロウレベル)になったときに活性
化され、上記ビット線BL、BL対の電位差を増幅して
出力する。
このようなラッチ型センス回路は、−旦ラッチすると読
出しを終了するので、上記ビット線BL。
出しを終了するので、上記ビット線BL。
BL対に十分な電位差が現れるのを待ってから活性化さ
せないと、誤読出しをしてしまうおそれがある。従って
、誤読出しを避けるためには、活性化の前に十分な時間
的余裕を取る必要があり、センス速度が遅くなる。
せないと、誤読出しをしてしまうおそれがある。従って
、誤読出しを避けるためには、活性化の前に十分な時間
的余裕を取る必要があり、センス速度が遅くなる。
また、通常、上記ラッチ型センス回路がセンスしたとき
には、ビット線BL、BLがメモリの電源電位か接地電
位かになるので、ビット線電位は電源電圧の全振幅にわ
たって変化する。従って、ビット線の容量が大きい場合
、あるいは、サイクル時間が短い場合には、ビット線B
LSBLの充放電による消費電力が大きくなる。
には、ビット線BL、BLがメモリの電源電位か接地電
位かになるので、ビット線電位は電源電圧の全振幅にわ
たって変化する。従って、ビット線の容量が大きい場合
、あるいは、サイクル時間が短い場合には、ビット線B
LSBLの充放電による消費電力が大きくなる。
一方、第19図に示すカレントミラー型センス回路は、
入力用の一対のN型MOS)ランジス191.192と
、電流制限用の1個のN型MOSトランジスタ193と
、カレントミラー負荷用の一対のP型MOSトランジス
タ194.195とからなり、第20図に示すカレント
ミラー型センス回路は、第19図に示すようなカレント
ミラー型センス回路の2組が差動的に接続されてなる。
入力用の一対のN型MOS)ランジス191.192と
、電流制限用の1個のN型MOSトランジスタ193と
、カレントミラー負荷用の一対のP型MOSトランジス
タ194.195とからなり、第20図に示すカレント
ミラー型センス回路は、第19図に示すようなカレント
ミラー型センス回路の2組が差動的に接続されてなる。
これらのカレントミラー型センス回路は、入力が一対の
ビット線BL、BLに接続されており、センス回路活性
化信号SEがハイレベルになったときに前記電流制限用
トランジスタ193がオンになって活性化され、上記ビ
ットIIBL1BL対の電位差に応じた出力を出力ノー
ドDO1または一対の出力ノードDoS丁でに出力する
。この場合、人力の増幅は行われない(入力が電源電圧
の全振幅にわたる変化はしな(\)ので、ビット線BL
、BLの充放電による消費電力は小さくて済む。
ビット線BL、BLに接続されており、センス回路活性
化信号SEがハイレベルになったときに前記電流制限用
トランジスタ193がオンになって活性化され、上記ビ
ットIIBL1BL対の電位差に応じた出力を出力ノー
ドDO1または一対の出力ノードDoS丁でに出力する
。この場合、人力の増幅は行われない(入力が電源電圧
の全振幅にわたる変化はしな(\)ので、ビット線BL
、BLの充放電による消費電力は小さくて済む。
しかし、カレントミラー型センス回路のセンス速度は、
電流制限用トランジスタ193に流れる電流によって決
まるので、高速にセンスするためには、1個のセンス回
路当り0.3mA以上の電流を流さなければならない。
電流制限用トランジスタ193に流れる電流によって決
まるので、高速にセンスするためには、1個のセンス回
路当り0.3mA以上の電流を流さなければならない。
従って、半導体メモリで例えば200ビット同時読出し
を行わせる場合、電源電位が5Vとすると、センス回路
だけで0.3Wも消費することになり、消費電力の制約
から読出し可能なビット数が制限される。つまり、非常
に多くのビット(例えば500ビット以上)を同時に読
出すような半導体メモリでは、上記したようなカレント
ミラー型センス回路を使用することが困難になる。
を行わせる場合、電源電位が5Vとすると、センス回路
だけで0.3Wも消費することになり、消費電力の制約
から読出し可能なビット数が制限される。つまり、非常
に多くのビット(例えば500ビット以上)を同時に読
出すような半導体メモリでは、上記したようなカレント
ミラー型センス回路を使用することが困難になる。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、上記したように従来のラッチ型センス回路は
、ビット線電位が電源電圧の全振幅にわたって変化する
のでビット線の充放電による消費電力が大きくなるとい
う問題点、および従来のカレントミラー型センス回路は
、センス速度が電流制限用トランジスタに流れる電流に
よって決まるので、高速にセンスするためには1個のセ
ンス回路当り大きな電流を流さなければならず、多くの
ビットの同時読出しを行わせる場合に消費電力の制約か
ら読出し可能なビット数が制限されるという問題点を解
決すべくなされたもので、消費電力が低く、半導体メモ
リに使用して非常に多くのビットの同時読出しが可能と
なるセンス回路を提供することを目的とする。
、ビット線電位が電源電圧の全振幅にわたって変化する
のでビット線の充放電による消費電力が大きくなるとい
う問題点、および従来のカレントミラー型センス回路は
、センス速度が電流制限用トランジスタに流れる電流に
よって決まるので、高速にセンスするためには1個のセ
ンス回路当り大きな電流を流さなければならず、多くの
ビットの同時読出しを行わせる場合に消費電力の制約か
ら読出し可能なビット数が制限されるという問題点を解
決すべくなされたもので、消費電力が低く、半導体メモ
リに使用して非常に多くのビットの同時読出しが可能と
なるセンス回路を提供することを目的とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明のセンス回路は、直列接続された第1導電型の第
1のMOSトランジスタおよび第2のMOSトランジス
タと、同じく直列接続された第1導電型の第3のMOS
トランジスタおよび第4のMOSトランジスタと、上記
第2のMOSトランジスタおよび第4のMOSトランジ
スタのソース相互接続点と第1の電源電位ノードとの間
にドレイン・ソース間が接続され、ゲートにセンス回路
活性化信号が印加される第1導電型の第5のMOSトラ
ンジスタとを具備し、前記第1のMOSトランジスタの
ドレインおよび第3のMOSトランジスタのドレインが
対応して前記第3のMo8トランジスタ(または第4の
MOSトランジスタ)のゲートおよび前記第1のMOS
トランジスタ(または第2のMOSトランジスタ)のゲ
ートに接続され、上記第2のMOSトランジスタ(また
は第1のMo8トランジスタ)のゲートおよび前記第4
のMOSトランジスタ(または第3のMOSトランジス
タ)のゲートが対応して第1の入力ノードおよび第2の
入力ノードになり、前記第1のMOSトランジスタのド
レインおよび第3のMOSトランジスタのドレインが対
応して第1の出力ノードおよび第2の出力ノードになる
ことを特徴とする。
1のMOSトランジスタおよび第2のMOSトランジス
タと、同じく直列接続された第1導電型の第3のMOS
トランジスタおよび第4のMOSトランジスタと、上記
第2のMOSトランジスタおよび第4のMOSトランジ
スタのソース相互接続点と第1の電源電位ノードとの間
にドレイン・ソース間が接続され、ゲートにセンス回路
活性化信号が印加される第1導電型の第5のMOSトラ
ンジスタとを具備し、前記第1のMOSトランジスタの
ドレインおよび第3のMOSトランジスタのドレインが
対応して前記第3のMo8トランジスタ(または第4の
MOSトランジスタ)のゲートおよび前記第1のMOS
トランジスタ(または第2のMOSトランジスタ)のゲ
ートに接続され、上記第2のMOSトランジスタ(また
は第1のMo8トランジスタ)のゲートおよび前記第4
のMOSトランジスタ(または第3のMOSトランジス
タ)のゲートが対応して第1の入力ノードおよび第2の
入力ノードになり、前記第1のMOSトランジスタのド
レインおよび第3のMOSトランジスタのドレインが対
応して第1の出力ノードおよび第2の出力ノードになる
ことを特徴とする。
(作用)
プリチャージ時には活性化信号が非活性になって第5の
MOSトランジスタはオフになり、第1の出力ノードお
よび第2の出力ノードはプリチャージ回路(図示せず)
により所定の電位にそれぞれプリチャージされる。この
ようにプリチャージされた状態で、第1の入力ノードお
よび第2の入力ノードとの間に電位差が生じるものとす
ると、この電位差が十分に現れた時点で前記活性化信号
が活性化されることによってセンス回路が活性化され、
各MOSトランジスタがオンになり、第1の出力ノード
の電位および第2の出力ノードの電位がそれぞれ変化す
る。
MOSトランジスタはオフになり、第1の出力ノードお
よび第2の出力ノードはプリチャージ回路(図示せず)
により所定の電位にそれぞれプリチャージされる。この
ようにプリチャージされた状態で、第1の入力ノードお
よび第2の入力ノードとの間に電位差が生じるものとす
ると、この電位差が十分に現れた時点で前記活性化信号
が活性化されることによってセンス回路が活性化され、
各MOSトランジスタがオンになり、第1の出力ノード
の電位および第2の出力ノードの電位がそれぞれ変化す
る。
この場合、第1の入力ノードおよび第2の入力ノードの
電位の高低関係に応じて第1の出力ノードおよび第2の
出力ノードの電位に差がつき、これにより、第3のMO
Sトランジスタ(または第2のMOSトランジスタ)の
ゲート電位および前記第1のMOSトランジスタ(また
は第2のMOSトランジスタ)のゲート電位に差がつき
、さらに、前記第1の出力ノードの電位と第2の出力ノ
ードの電位との差が拡大する。そして、この第1の出力
ノードの電位または第2の出力ノードの電位が所定値に
なると、この第1の出力ノードの電位または第2の出力
ノードの電位がゲートに与えられているトランジスタが
オフになり、この後ラッチがかかり、センス動作が終了
する。
電位の高低関係に応じて第1の出力ノードおよび第2の
出力ノードの電位に差がつき、これにより、第3のMO
Sトランジスタ(または第2のMOSトランジスタ)の
ゲート電位および前記第1のMOSトランジスタ(また
は第2のMOSトランジスタ)のゲート電位に差がつき
、さらに、前記第1の出力ノードの電位と第2の出力ノ
ードの電位との差が拡大する。そして、この第1の出力
ノードの電位または第2の出力ノードの電位が所定値に
なると、この第1の出力ノードの電位または第2の出力
ノードの電位がゲートに与えられているトランジスタが
オフになり、この後ラッチがかかり、センス動作が終了
する。
(実施例)
以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。
る。
第1図に示すセンス回路において、第1導電型(本例で
はNチャネル型)の第1のMOSトランジスタN1およ
び第2のMOSトランジスタN2が直列接続されており
、同じくNチャネル型の第3のMOSトランジスタN3
および第4のMOSトランジスタ、N 4が直列接続さ
れており、上記第2のMOSトランジスタN2および第
4のMOSトランジスタN4のソース相互が接続されて
おり、この接続点と第1の電源電位(本例ではVss)
ノードとの間にNチャネル型の第5のMOS)うンジス
タN5のドレイン・ソース間が接続され、このゲートに
センス回路活性化信号SEが印加される。
はNチャネル型)の第1のMOSトランジスタN1およ
び第2のMOSトランジスタN2が直列接続されており
、同じくNチャネル型の第3のMOSトランジスタN3
および第4のMOSトランジスタ、N 4が直列接続さ
れており、上記第2のMOSトランジスタN2および第
4のMOSトランジスタN4のソース相互が接続されて
おり、この接続点と第1の電源電位(本例ではVss)
ノードとの間にNチャネル型の第5のMOS)うンジス
タN5のドレイン・ソース間が接続され、このゲートに
センス回路活性化信号SEが印加される。
そして、上記第1のMOSトランジスタN1のドレイン
および第3のMOSトランジスタN3のドレインが対応
して前記第3のMOSトランジスタN3のゲートおよび
前記第1のMOSトランジスタN1のゲートに接続され
、前記第2のMOSトランジスタN2のゲートおよび前
記第4のMOSトランジスタN4のゲートが対応して第
1の入力ノードAおよび第2の入力ノードBになり、前
記第1のMOSトランジスタN1のドレインおよび第3
のMOSトランジスタN3のドレインが対応して第1の
出力ノードCおよび第2の出力ノードDになっている。
および第3のMOSトランジスタN3のドレインが対応
して前記第3のMOSトランジスタN3のゲートおよび
前記第1のMOSトランジスタN1のゲートに接続され
、前記第2のMOSトランジスタN2のゲートおよび前
記第4のMOSトランジスタN4のゲートが対応して第
1の入力ノードAおよび第2の入力ノードBになり、前
記第1のMOSトランジスタN1のドレインおよび第3
のMOSトランジスタN3のドレインが対応して第1の
出力ノードCおよび第2の出力ノードDになっている。
ここで、上記センス回路の第1の入力ノードAおよび第
2の入力ノードBは、例えば多ビツト構成のスタティッ
ク型半導体メモリにおけるメモリセルアレイの各カラム
のビット線対BL、BLに接続されている。
2の入力ノードBは、例えば多ビツト構成のスタティッ
ク型半導体メモリにおけるメモリセルアレイの各カラム
のビット線対BL、BLに接続されている。
次に、上記センス回路の動作について第13図を参照し
て説明する。プリチャージ時には信号SEが“L”にな
って、第5のMOSトランジスタN5はオフになり、第
1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDはプリチャ
ージ回路(図示せず)により、例えば5Vの第2の電源
電位VDr)(>VsS )にそれぞれプリチャージさ
れる。このようにプリチャージされた状態で、メモリセ
ル読出しデータに応じてビット線BL、BL対に電位差
が生じる(ここでは、ビット線BL、BL対はVDD電
位の1/2の電位にプリチャージされた状態から“0“
データの読出しによってBLが“L″になる場合を示し
ている)。
て説明する。プリチャージ時には信号SEが“L”にな
って、第5のMOSトランジスタN5はオフになり、第
1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDはプリチャ
ージ回路(図示せず)により、例えば5Vの第2の電源
電位VDr)(>VsS )にそれぞれプリチャージさ
れる。このようにプリチャージされた状態で、メモリセ
ル読出しデータに応じてビット線BL、BL対に電位差
が生じる(ここでは、ビット線BL、BL対はVDD電
位の1/2の電位にプリチャージされた状態から“0“
データの読出しによってBLが“L″になる場合を示し
ている)。
この電位差が十分に現れた時点で信号SEが“Hoにな
ってセンス回路が活性化され、各MOSトランジスタが
オンになり、第1の出力ノードCの電位OUTおよび第
2の出力ノードDの電位OUTがそれぞれ低下する。こ
の場合、BLの電位>BLの電位であるので、上記電位
OUTが電位OUTよりも速く低下する。これにより、
第3のMOSトランジスタN3のゲート電位および前記
第1のMOSトランジスタN1のゲート電位に差がつき
、上記電位OUTと電位OUTとの差が拡大する。そし
て、電位OUTがNチャネルトランジスタの閾値電圧V
7 N (V7 N >Ov)以下になった時点Ta
で、第3のMOSトランジスタN3がオフになり、前記
電位OUTの低下が止まり、その後、前記電位OUTは
vss電位まで下がり、この状態でラッチがかかり、読
出しが終了する。
ってセンス回路が活性化され、各MOSトランジスタが
オンになり、第1の出力ノードCの電位OUTおよび第
2の出力ノードDの電位OUTがそれぞれ低下する。こ
の場合、BLの電位>BLの電位であるので、上記電位
OUTが電位OUTよりも速く低下する。これにより、
第3のMOSトランジスタN3のゲート電位および前記
第1のMOSトランジスタN1のゲート電位に差がつき
、上記電位OUTと電位OUTとの差が拡大する。そし
て、電位OUTがNチャネルトランジスタの閾値電圧V
7 N (V7 N >Ov)以下になった時点Ta
で、第3のMOSトランジスタN3がオフになり、前記
電位OUTの低下が止まり、その後、前記電位OUTは
vss電位まで下がり、この状態でラッチがかかり、読
出しが終了する。
上記したセンス回路は、そのラッチ動作がビット線電位
に変化を与えないので、ビット線の電位変動としては上
記センス回路の読出しに必要とするビット線電位差のみ
変動させればよく、ビット線の充放電に要する電流は非
常に小さい。この場合、SRAM (スタティック型ラ
ンダムアクセスメモリ)やEPROM (紫外線消去型
再書込み可能なリードオンリーメモリ)は、非破壊読出
しを行うので、ビット線電位を必ずしもVDDとVSS
との間の全振幅にわたって変動させる必要はないので、
上記したようなセンス回路を使用して、その読出しに必
要とするビット線電位差のみビット線電位を変動させれ
ばよい。
に変化を与えないので、ビット線の電位変動としては上
記センス回路の読出しに必要とするビット線電位差のみ
変動させればよく、ビット線の充放電に要する電流は非
常に小さい。この場合、SRAM (スタティック型ラ
ンダムアクセスメモリ)やEPROM (紫外線消去型
再書込み可能なリードオンリーメモリ)は、非破壊読出
しを行うので、ビット線電位を必ずしもVDDとVSS
との間の全振幅にわたって変動させる必要はないので、
上記したようなセンス回路を使用して、その読出しに必
要とするビット線電位差のみビット線電位を変動させれ
ばよい。
また、上記したセンス回路は、ラッチにより一対の出力
ノードの振幅は大きく変化する(一方の出力ノードはv
DDとVSSとの間の全振幅にわたって変化する)が、
この一対の出力ノードには次段のゲートまでの容量が付
くだけであって、ビット線などが接続される一対の入力
ノードに比べて容量を極めて小さくできるので、その充
放電電流による消費電力が低くて済む。
ノードの振幅は大きく変化する(一方の出力ノードはv
DDとVSSとの間の全振幅にわたって変化する)が、
この一対の出力ノードには次段のゲートまでの容量が付
くだけであって、ビット線などが接続される一対の入力
ノードに比べて容量を極めて小さくできるので、その充
放電電流による消費電力が低くて済む。
因みに、ビット線容量が3pF (256K、1Mビッ
トレベルのSRAMではこの程度になる)、サイクル時
間が20nS、読出しに必要なビット線電位差が200
mV、出力ノードの容量が0.5pF% Voo電位が
5vとすると、ヒツト線の充放電電流は 3pFX200mV+20nS−30μAとなり、出力
ノードの充放電電流は、VDDとVSSとの間の全振幅
にわたって変化したとじて0、 5pFx5V+20n
S=125 μAとなり、1個のセンス回路当り(1ビ
ット当り)計155μAで1ビツトの読出しが行われる
。
トレベルのSRAMではこの程度になる)、サイクル時
間が20nS、読出しに必要なビット線電位差が200
mV、出力ノードの容量が0.5pF% Voo電位が
5vとすると、ヒツト線の充放電電流は 3pFX200mV+20nS−30μAとなり、出力
ノードの充放電電流は、VDDとVSSとの間の全振幅
にわたって変化したとじて0、 5pFx5V+20n
S=125 μAとなり、1個のセンス回路当り(1ビ
ット当り)計155μAで1ビツトの読出しが行われる
。
これに対して、第18図に示した従来のラッチ型センス
回路を用いた場合には、ビット線の充放電電流が 3pFX5V+20nS−750μA になり、ビット線の充放電電流のみで前記実施例の場合
に比べて約5倍の電流を消費する。また、第19図およ
び第20図に示した従来のカレントミラー型センス回路
を用いた場合には、電流制限用トランジスタに電流を流
す必要があり、サイクル時間20nSを実現させるため
には、1個のセンス回路当り(1ビット当り)少なくと
も300μAの電流を流さなければならないので、前記
実施例の場合に比べて約2倍の電流を消費する。
回路を用いた場合には、ビット線の充放電電流が 3pFX5V+20nS−750μA になり、ビット線の充放電電流のみで前記実施例の場合
に比べて約5倍の電流を消費する。また、第19図およ
び第20図に示した従来のカレントミラー型センス回路
を用いた場合には、電流制限用トランジスタに電流を流
す必要があり、サイクル時間20nSを実現させるため
には、1個のセンス回路当り(1ビット当り)少なくと
も300μAの電流を流さなければならないので、前記
実施例の場合に比べて約2倍の電流を消費する。
第2図は第1図のセンス回路の変形例を示しており、第
1図に対して、第1のMO5I−ランジスタN1のドレ
インおよび第3のMOSトランジスタN3のドレインが
対応して第4のMOSトランジスタN4のゲートおよび
第2のMOSトランジスタN2のゲートに接続され、第
1のMOSトランジスタN1のゲートおよび第3のMO
SトランジスタN3のゲートが対応して第1の入力ノー
ドAおよび第2の入力ノードBになるように変更されて
おり、その他は同じであるので第1図中と同じ符号を付
している。この場合にも、第1図のセンス回路と同様の
動作が行われて同様の効果が得られる。
1図に対して、第1のMO5I−ランジスタN1のドレ
インおよび第3のMOSトランジスタN3のドレインが
対応して第4のMOSトランジスタN4のゲートおよび
第2のMOSトランジスタN2のゲートに接続され、第
1のMOSトランジスタN1のゲートおよび第3のMO
SトランジスタN3のゲートが対応して第1の入力ノー
ドAおよび第2の入力ノードBになるように変更されて
おり、その他は同じであるので第1図中と同じ符号を付
している。この場合にも、第1図のセンス回路と同様の
動作が行われて同様の効果が得られる。
第3図は第1図のセンス回路に相補的なセンス回路を示
しており、第1図のセンス回路に対して、MOSトラン
ジスタ群の導電型をNチャネル型からPチャネル型に置
き替え、活性化信号SEをその反転信号SEに置き替え
、電源電位ノードに対する接続関係を入れ替えた相補的
な構成である。
しており、第1図のセンス回路に対して、MOSトラン
ジスタ群の導電型をNチャネル型からPチャネル型に置
き替え、活性化信号SEをその反転信号SEに置き替え
、電源電位ノードに対する接続関係を入れ替えた相補的
な構成である。
即ち、このセンス回路は、直列接続された第2導電型の
第1のMOSトランジスタP1および第2のMOSトラ
ンジスタP2と、同じく直列接続された第2導電型の第
3のMOSトランジスタP3および第4のMOSトラン
ジスタP4と、上記第2のMOSトランジスタP2およ
び第4のMO3I−ランジスタP4のソース相互接続点
と第2の電源電位ノードとの間にドレイン・ソース間が
接続され、ゲートにセンス回路活性化信号の反転信号が
印加される第2導電型の第5のMOSトランジスタP5
とを具備し、前記第1のMOSトランジスタP1のドレ
インおよび第3のMOSトランジスタP3のドレインが
対応して前記第3のMO3hラントランジスタゲートお
よび前記第1のMOSトランジスタP1のゲートに接続
され、上記第2のMOSトランジスタP2のゲートおよ
び前記第4のMOSトランジスタP4のゲートが対応し
て第1の人力ノードAおよび第2の入力ノードBになり
、前記第1のMOSトランジスタP1のドレインおよび
第3のMOSトランジスタP3のドレインが対応して第
1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDになってい
る。
第1のMOSトランジスタP1および第2のMOSトラ
ンジスタP2と、同じく直列接続された第2導電型の第
3のMOSトランジスタP3および第4のMOSトラン
ジスタP4と、上記第2のMOSトランジスタP2およ
び第4のMO3I−ランジスタP4のソース相互接続点
と第2の電源電位ノードとの間にドレイン・ソース間が
接続され、ゲートにセンス回路活性化信号の反転信号が
印加される第2導電型の第5のMOSトランジスタP5
とを具備し、前記第1のMOSトランジスタP1のドレ
インおよび第3のMOSトランジスタP3のドレインが
対応して前記第3のMO3hラントランジスタゲートお
よび前記第1のMOSトランジスタP1のゲートに接続
され、上記第2のMOSトランジスタP2のゲートおよ
び前記第4のMOSトランジスタP4のゲートが対応し
て第1の人力ノードAおよび第2の入力ノードBになり
、前記第1のMOSトランジスタP1のドレインおよび
第3のMOSトランジスタP3のドレインが対応して第
1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDになってい
る。
この場合にも、第1図のセンス回路の動作に準じて相補
的な動作が第14図に示すように行われ、第1図のセン
ス回路と同様の効果が得られる。即ち、プリチャージ時
には反転信号nが“H″になって第5のMOSトランジ
スタP5はオフになり、第1の出力ノードCおよび第2
の出力ノードDはプリチャージ回路(図示せず)により
第1の電源電位VSSにそれぞれプリチャージされる。
的な動作が第14図に示すように行われ、第1図のセン
ス回路と同様の効果が得られる。即ち、プリチャージ時
には反転信号nが“H″になって第5のMOSトランジ
スタP5はオフになり、第1の出力ノードCおよび第2
の出力ノードDはプリチャージ回路(図示せず)により
第1の電源電位VSSにそれぞれプリチャージされる。
このようにプリチャージされた状態で、メモリセル読出
しデータに応じてビット線BL、BL対に電位差が生じ
、この電位差が十分に現れた時点で反転信号SEが“L
”になってセンス回路が活性化されると、センス回路は
ビット線BLSBL対の電位差をセンス増幅してラッチ
する。
しデータに応じてビット線BL、BL対に電位差が生じ
、この電位差が十分に現れた時点で反転信号SEが“L
”になってセンス回路が活性化されると、センス回路は
ビット線BLSBL対の電位差をセンス増幅してラッチ
する。
第4図は第3図のセンス回路の変形例を示しており、第
3図に対して、第1のMOSトランジスタP1のドレイ
ンおよび第3のMOSトランジスタP3のドレインが対
応して第4のMOSトランジスタP4のゲートおよび第
2のMOSトランジスタP2のゲートに接続され、第1
のMOSトランジスタP1のゲートおよび第3のMOS
トランジスタP3のゲートが対応して第1の入力ノード
Aおよび第2の人力ノードBになるように変更されてお
り、その他は同じであるので第3図中と同じ符号を付し
ている。この場合にも、第3図のセンス回路と同様の動
作が行われて同様の効果が得られる。
3図に対して、第1のMOSトランジスタP1のドレイ
ンおよび第3のMOSトランジスタP3のドレインが対
応して第4のMOSトランジスタP4のゲートおよび第
2のMOSトランジスタP2のゲートに接続され、第1
のMOSトランジスタP1のゲートおよび第3のMOS
トランジスタP3のゲートが対応して第1の入力ノード
Aおよび第2の人力ノードBになるように変更されてお
り、その他は同じであるので第3図中と同じ符号を付し
ている。この場合にも、第3図のセンス回路と同様の動
作が行われて同様の効果が得られる。
第5図乃至第8図は、それぞれ本発明の他の実施例のセ
ンス回路を示している。第5図は、第1図のセンス回路
と第3図のセンス回路とを組み合わせたものであり、第
1図のセンス回路と第3図のセンス回路とのそれぞれの
第1の入カノードA同士、第2の入カノードB同士、第
1の出力ノードC同士、第2の出力ノードD同士が接続
されてなる。
ンス回路を示している。第5図は、第1図のセンス回路
と第3図のセンス回路とを組み合わせたものであり、第
1図のセンス回路と第3図のセンス回路とのそれぞれの
第1の入カノードA同士、第2の入カノードB同士、第
1の出力ノードC同士、第2の出力ノードD同士が接続
されてなる。
第6図は、第2図のセンス回路と第4図のセンス回路と
を第5図と同様に組合わせたものである。
を第5図と同様に組合わせたものである。
′M7図は、第2図のセンス回路と第3図のセンス回路
とを第5図と同様に組合わせたものである。
とを第5図と同様に組合わせたものである。
第8図は、第1図のセンス回路と第4図のセンス回路と
を第5図と同様に組合わせたものである。
を第5図と同様に組合わせたものである。
これらのセンス回路では、プリチャージ時に第1の出力
ノードCおよび第2の出力ノードDを第2の電源電位v
Dひと第1の電源電位VSSとの間の任意のレベルにプ
リチャージしてもセンス動作が可能になる。
ノードCおよび第2の出力ノードDを第2の電源電位v
Dひと第1の電源電位VSSとの間の任意のレベルにプ
リチャージしてもセンス動作が可能になる。
ここで、第1の出力ノードCおよび第2の出力ノードD
を例えばVDD電位の1/2の電位にプリチャージした
場合のセンス動作について第15図を参照して説明する
。プリチャージ時には信号SEが“Lo、反転信号SE
が“H″になってMOSトランジスタN5とP5とはオ
フになり、第1の出力ノードCおよび第2の出力ノード
Dはプリチャージ回路(図示せず)により、VDD電位
の1/2の電位にそれぞれプリチャージされる。
を例えばVDD電位の1/2の電位にプリチャージした
場合のセンス動作について第15図を参照して説明する
。プリチャージ時には信号SEが“Lo、反転信号SE
が“H″になってMOSトランジスタN5とP5とはオ
フになり、第1の出力ノードCおよび第2の出力ノード
Dはプリチャージ回路(図示せず)により、VDD電位
の1/2の電位にそれぞれプリチャージされる。
このようにプリチャージされた状態で、メモリセル読出
しデータに応じてビット線BL、、BL対に電位差が生
じる(ここでは、ビット腺BLSBL対はVOO電位の
1/2の電位にプリチャージされた状態から′0°デー
タの読出しによってBLが“L″′になる場合を示して
いる)。
しデータに応じてビット線BL、、BL対に電位差が生
じる(ここでは、ビット腺BLSBL対はVOO電位の
1/2の電位にプリチャージされた状態から′0°デー
タの読出しによってBLが“L″′になる場合を示して
いる)。
この電位差が十分に現れた時点で信号SEが“Hm1反
転信号SEが“Loになってセンス回路が動作を開始し
、第1の出力ノードCの電位がV sS s第2の出力
ノードDの電位がVOOになってセンスが終了する。な
お、上記信号SEが“H″、反転信号SEが“Loにな
るタイミングは、必ずしも同じでなくてもよい。この場
合、第1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDはV
DDとVSSとの間の全振幅にわたって変化するので、
センス終了後に次段のゲートに貫通電流が生じなくなり
、低消費電力化の点でより優れている。
転信号SEが“Loになってセンス回路が動作を開始し
、第1の出力ノードCの電位がV sS s第2の出力
ノードDの電位がVOOになってセンスが終了する。な
お、上記信号SEが“H″、反転信号SEが“Loにな
るタイミングは、必ずしも同じでなくてもよい。この場
合、第1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDはV
DDとVSSとの間の全振幅にわたって変化するので、
センス終了後に次段のゲートに貫通電流が生じなくなり
、低消費電力化の点でより優れている。
また、上記センス動作に際して、Nチャネル型のトラン
ジスタとPチャネル型のトランジスタとの両方で増幅を
行うので、第1図乃至第4図のセンス回路のようにNチ
ャネル型のトランジスタあるいはPチャネル型のトラン
ジスタのみで増幅を行う場合よりもセンス感度が良い。
ジスタとPチャネル型のトランジスタとの両方で増幅を
行うので、第1図乃至第4図のセンス回路のようにNチ
ャネル型のトランジスタあるいはPチャネル型のトラン
ジスタのみで増幅を行う場合よりもセンス感度が良い。
第9図乃至第12図は、それぞれ本発明のさらに他の実
施例のセンス回路を示している。第9図および第10図
は、各対応して第1図のセンス回路および第2図のセン
ス回路に負荷用のPチャネル型の第6のトランジスタP
6および第7のトランジスタP7がそれぞれ接続された
ものである。
施例のセンス回路を示している。第9図および第10図
は、各対応して第1図のセンス回路および第2図のセン
ス回路に負荷用のPチャネル型の第6のトランジスタP
6および第7のトランジスタP7がそれぞれ接続された
ものである。
即ち、第1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDと
第2の電源電位vDDノードとの間に負荷用のPチャネ
ル型の第6のトランジスタP6および第7のトランジス
タP7がそれぞれ接続され、この第6のトランジスタP
6および第7のトランジスタP7の各ゲートは対応して
前記第2の出力ノードDおよび第1の出力ノードCに接
続されてなる。この場合にも、第1図のセンス回路およ
び第2図のセンス回路とほぼ同様の動作が第16図に示
すように行われて同様の効果が得られる。この場合、負
荷が接続されていることによって、センス動作に際して
第1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDはvDD
とVSSとの間の全振幅にわたって変化するようになり
、センス終了後に次段のゲートに貫通電流が生じなくな
り、低消費電力化の点でより優れている。
第2の電源電位vDDノードとの間に負荷用のPチャネ
ル型の第6のトランジスタP6および第7のトランジス
タP7がそれぞれ接続され、この第6のトランジスタP
6および第7のトランジスタP7の各ゲートは対応して
前記第2の出力ノードDおよび第1の出力ノードCに接
続されてなる。この場合にも、第1図のセンス回路およ
び第2図のセンス回路とほぼ同様の動作が第16図に示
すように行われて同様の効果が得られる。この場合、負
荷が接続されていることによって、センス動作に際して
第1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDはvDD
とVSSとの間の全振幅にわたって変化するようになり
、センス終了後に次段のゲートに貫通電流が生じなくな
り、低消費電力化の点でより優れている。
また、第11図および第12図は、各対応して第3図の
センス回路および第4図のセンス回路に負荷用のNチャ
ネル型の第6のトランジスタN6および第7のトランジ
スタN7が第9図および第10図と同様にそれぞれ接続
されたものである。
センス回路および第4図のセンス回路に負荷用のNチャ
ネル型の第6のトランジスタN6および第7のトランジ
スタN7が第9図および第10図と同様にそれぞれ接続
されたものである。
この場合にも、第3図のセンス回路および第4図のセン
ス回路とほぼ同様の動作が第17図に示すように行われ
て同様の効果が得られると共に、センス動作に際して第
1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDはVDDと
VSSとの間の全振幅にわたって変化するようになり、
センス終了後に次段のゲートに貫通電流が生じなくなり
、低消費電力化の点でより優れている。
ス回路とほぼ同様の動作が第17図に示すように行われ
て同様の効果が得られると共に、センス動作に際して第
1の出力ノードCおよび第2の出力ノードDはVDDと
VSSとの間の全振幅にわたって変化するようになり、
センス終了後に次段のゲートに貫通電流が生じなくなり
、低消費電力化の点でより優れている。
また、第9図乃至第12図のセンス回路は、センス動作
に際して活性化信号はSEあるいはSEのみでよく、第
5図乃至第8図のセンス回路では2つの信号SEおよび
SEを必要とするのに比べて信号発生回路の簡略化が可
能になる。
に際して活性化信号はSEあるいはSEのみでよく、第
5図乃至第8図のセンス回路では2つの信号SEおよび
SEを必要とするのに比べて信号発生回路の簡略化が可
能になる。
さらに、第9図乃至第12図のセンス回路は、第5図乃
至第8図のセンス回路に比べてトランジスタの使用数が
少ないので、チップ上の占有面積がより小さくなる。
至第8図のセンス回路に比べてトランジスタの使用数が
少ないので、チップ上の占有面積がより小さくなる。
[発明の効果]
上述したように本発明のセンス回路によれば、ラッチ動
作が入力ノードの電位に変化を与えないので、この人力
ノードの電位を必ずしもvDDとvSsとの間の全振幅
にわたって変動させる必要はなくなり、この入力ノード
の充放電電流を抑制できるので消費電力が低い。従って
、SRAMやEFROMなどの半導体メモリに使用して
非常に多くのビットの同時読出しを行うことができる(
消費電力が制限された場合に、最も多くのビットの同時
読出しを行うことができる)。
作が入力ノードの電位に変化を与えないので、この人力
ノードの電位を必ずしもvDDとvSsとの間の全振幅
にわたって変動させる必要はなくなり、この入力ノード
の充放電電流を抑制できるので消費電力が低い。従って
、SRAMやEFROMなどの半導体メモリに使用して
非常に多くのビットの同時読出しを行うことができる(
消費電力が制限された場合に、最も多くのビットの同時
読出しを行うことができる)。
第1図は本発明のセンス回路の一実施例を示す回路図、
第2図乃至第4図は第1図のセンス回路の変形例を示す
回路図、第5図は本発明のセンス回路の他の実施例を示
す回路図、第6図乃至第8図は第5図のセンス回路の変
形例を示す回路図、第9図は本発明のセンス回路のさら
に他の実施例を示す回路図、第10図乃至第12図は第
9図のセンス回路の変形例を示す回路図、第13図は第
1図および第2図のセンス回路の動作を示す波形図、第
14図は第3図および第4図のセンス回路の動作を示す
波形図、第15図は第5図乃至第8図のセンス回路の動
作を示す波形図、第16図は第9図および第10図のセ
ンス回路の動作を示す波形図、第17図は第11図およ
び第12図のセンス回路の動作を示す波形図、第18図
は従来のラッチ型センス回路を示す回路図、第19図お
よび第20図はそれぞれ従来のカレントミラー型センス
回路を示す回路図である。 N1〜N7・・・Nチャネル型のMOSトランジスタ、
P1〜P7・・・Pチャネル型のMOSトランジスタ、
A、B・・・入力ノード、C,D・・・出力ノード、S
E、SE・・・センス回路活性化信号。 第1図 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第3 図 第 図 Vo。 Vo。 ss ss 第12 図 SS ss 第 図 第10図 第 図 第15 図 第16 図 第 図 E 第18図 第 図 第20図
第2図乃至第4図は第1図のセンス回路の変形例を示す
回路図、第5図は本発明のセンス回路の他の実施例を示
す回路図、第6図乃至第8図は第5図のセンス回路の変
形例を示す回路図、第9図は本発明のセンス回路のさら
に他の実施例を示す回路図、第10図乃至第12図は第
9図のセンス回路の変形例を示す回路図、第13図は第
1図および第2図のセンス回路の動作を示す波形図、第
14図は第3図および第4図のセンス回路の動作を示す
波形図、第15図は第5図乃至第8図のセンス回路の動
作を示す波形図、第16図は第9図および第10図のセ
ンス回路の動作を示す波形図、第17図は第11図およ
び第12図のセンス回路の動作を示す波形図、第18図
は従来のラッチ型センス回路を示す回路図、第19図お
よび第20図はそれぞれ従来のカレントミラー型センス
回路を示す回路図である。 N1〜N7・・・Nチャネル型のMOSトランジスタ、
P1〜P7・・・Pチャネル型のMOSトランジスタ、
A、B・・・入力ノード、C,D・・・出力ノード、S
E、SE・・・センス回路活性化信号。 第1図 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第3 図 第 図 Vo。 Vo。 ss ss 第12 図 SS ss 第 図 第10図 第 図 第15 図 第16 図 第 図 E 第18図 第 図 第20図
Claims (3)
- (1)直列接続された第1導電型の第1の MOSトランジスタおよび第2のMOSトランジスタと
、 同じく直列接続された第1導電型の第3の MOSトランジスタおよび第4のMOSトランジスタと
、 上記第2のMOSトランジスタおよび第4のMOSトラ
ンジスタのソース相互接続点と第1の電源電位ノードと
の間にドレイン・ソース間が接続され、ゲートにセンス
回路活性化信号が印加される第1導電型の第5のMOS
トランジスタとを具備し、 前記第1のMOSトランジスタのドレインおよび第3の
MOSトランジスタのドレインが対応して前記第3のM
OSトランジスタ(または第4のMOSトランジスタ)
のゲートおよび前記第1のMOSトランジスタ(または
第2のMOSトランジスタ)のゲートに接続され、上記
第2のMOSトランジスタ(または第1のMOSトラン
ジスタ)のゲートおよび前記第4のMOSトランジスタ
(または第3のMOSトランジスタ)のゲートが対応し
て第1の入力ノードおよび第2の入力ノードになり、前
記第1のMOSトランジスタのドレインおよび第3のM
OSトランジスタのドレインが対応して第1の出力ノー
ドおよび第2の出力ノードになることを特徴とするセン
ス回路。 - (2)前記第1の出力ノードと第2の電源電位ノードと
の間にドレイン・ソース間が接続され、ゲートが前記第
2の出力ノードに接続された第2導電型の第6のMOS
トランジスタと、前記第2の出力ノードと上記第2の電
源電位ノードとの間にドレイン・ソース間が接続され、
ゲートが前記第1の出力ノードに接続された第2導電型
の第7のMOSトランジスタとをさらに具備してなるこ
とを特徴とする請求項1記載のセンス回路。 - (3)請求項1記載の第1のセンス回路と、この第1の
センス回路における第1導電型のMOSトランジスタが
第2導電型のMOSトランジスタに置き換えられると共
に第1の電源電位ノードが第2の電源電位ノードに置き
換えられ、センス回路活性化信号の代わりにその反転信
号が与えられる第2のセンス回路とを具備し、この第1
のセンス回路と第2のセンス回路との第1の入力ノード
同士、第2の入力ノード同士、第1の出力ノード同士、
第2の出力ノード同士が接続されてなることを特徴とす
るセンス回路。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63174419A JPH0727717B2 (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | センス回路 |
| US07/379,373 US4973864A (en) | 1988-07-13 | 1989-07-11 | Sense circuit for use in semiconductor memory |
| KR1019890009977A KR930004625B1 (ko) | 1988-07-13 | 1989-07-13 | 감지회로 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63174419A JPH0727717B2 (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | センス回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0224898A true JPH0224898A (ja) | 1990-01-26 |
| JPH0727717B2 JPH0727717B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=15978221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63174419A Expired - Fee Related JPH0727717B2 (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | センス回路 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4973864A (ja) |
| JP (1) | JPH0727717B2 (ja) |
| KR (1) | KR930004625B1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003331576A (ja) * | 2002-04-02 | 2003-11-21 | Agilent Technol Inc | 単一のアクセスで複数回の比較動作が可能なFeRAM |
| BG65570B1 (bg) * | 1999-05-14 | 2008-12-30 | Outokumpu Oyj A Public Limited Company Of Espoo | Метод за редуциране на цветните метали, съдържащисе в шлаката при производството на цветни метали,получаващи се в суспензионни топилни пещи |
Families Citing this family (67)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5241504A (en) * | 1989-05-29 | 1993-08-31 | U.S. Philips Corp. | Integrated memory comprising a sense amplifier |
| KR920006980B1 (ko) * | 1989-11-28 | 1992-08-22 | 현대전자산업주식회사 | 이중 파워라인을 갖는 다이나믹램의 센스증폭기 |
| IT1243692B (it) * | 1990-07-27 | 1994-06-21 | St Microelectronics Srl | Dospositivo per il pilotaggio di un circuito flottante con un segnale digitale |
| US5231318A (en) * | 1990-08-03 | 1993-07-27 | Reddy Chitranjan N | Differential latch sense amplifier |
| JPH04214297A (ja) * | 1990-12-13 | 1992-08-05 | Mitsubishi Electric Corp | 増幅回路 |
| JP2523998B2 (ja) * | 1991-01-31 | 1996-08-14 | 株式会社東芝 | コンパレ―タ |
| US5272395A (en) * | 1991-04-05 | 1993-12-21 | Analog Devices, Inc. | CMOS strobed comparator |
| JP3279615B2 (ja) * | 1991-04-15 | 2002-04-30 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
| KR950014248B1 (ko) * | 1991-04-19 | 1995-11-23 | 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 | 다이나믹 ram의 판독/기록회로 |
| JPH0612880A (ja) * | 1991-12-20 | 1994-01-21 | Texas Instr Inc <Ti> | センス増幅回路及び方法 |
| US5245223A (en) * | 1992-03-17 | 1993-09-14 | Hewlett-Packard Company | CMOS latching comparator |
| US5280205A (en) * | 1992-04-16 | 1994-01-18 | Micron Technology, Inc. | Fast sense amplifier |
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| JP2940844B2 (ja) * | 1992-09-08 | 1999-08-25 | シャープ株式会社 | 半導体記憶装置 |
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