JPH0224942A - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
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- JPH0224942A JPH0224942A JP63176161A JP17616188A JPH0224942A JP H0224942 A JPH0224942 A JP H0224942A JP 63176161 A JP63176161 A JP 63176161A JP 17616188 A JP17616188 A JP 17616188A JP H0224942 A JPH0224942 A JP H0224942A
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- gas
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、イオン注入装置に関する。
(従来の技術)
一般にイオン注入装置は、例えば半導体ウェハ等に不純
物をドーピングする装置として広く使用されており、そ
のイオン源として、ガスあるいは固体イオン種を用いて
いる。
物をドーピングする装置として広く使用されており、そ
のイオン源として、ガスあるいは固体イオン種を用いて
いる。
このようなイオン注入装置のうち、固体イオン種を用い
るイオン注入装置では、この固体イオン種を加熱して、
昇華あるいは蒸発させてガス化するためのガス発生機構
が配置されている。
るイオン注入装置では、この固体イオン種を加熱して、
昇華あるいは蒸発させてガス化するためのガス発生機構
が配置されている。
従来のイオン注入装置では、上記ガス発生機構は、例え
ば次のように構成されている。すなわち、第8図に示す
ように、真空チャンバ1の開口2を閉塞する如く外部か
ら挿入固定されたガス発生機構3は、例えば耐熱性のス
テンレス等から棒状に形成された基体4と、この基体4
の端部に設けられ、開口2を閉塞する如く真空チャンバ
1壁に固定される固定用板5および基体4の周囲に巻回
されたヒータ6とを備えており、基体4の先端部には、
固体イオン種を収容するためのイオン種収容孔7が穿設
されている。
ば次のように構成されている。すなわち、第8図に示す
ように、真空チャンバ1の開口2を閉塞する如く外部か
ら挿入固定されたガス発生機構3は、例えば耐熱性のス
テンレス等から棒状に形成された基体4と、この基体4
の端部に設けられ、開口2を閉塞する如く真空チャンバ
1壁に固定される固定用板5および基体4の周囲に巻回
されたヒータ6とを備えており、基体4の先端部には、
固体イオン種を収容するためのイオン種収容孔7が穿設
されている。
また、イオン種収容孔7の先端には、例えば螺子等によ
り、着脱自在にステンレス等からなるノズル8が設けら
れており、このノズル8を取り外してイオン種収容孔7
内に粒径例えば数ミリ程度のリン、ヒ素、アンチモン等
の固体イオン種を充填可能に構成されている。
り、着脱自在にステンレス等からなるノズル8が設けら
れており、このノズル8を取り外してイオン種収容孔7
内に粒径例えば数ミリ程度のリン、ヒ素、アンチモン等
の固体イオン種を充填可能に構成されている。
そして、ヒータ6に通電することにより、固体イオン種
を加熱し、ガスを発生させ、このガスをノズル8によっ
て図示しないイオン生成室内に導入し、例えば直流電圧
を印加すること等によりイオンを発生させる。
を加熱し、ガスを発生させ、このガスをノズル8によっ
て図示しないイオン生成室内に導入し、例えば直流電圧
を印加すること等によりイオンを発生させる。
なお、上述のようにガス発生機構3のヒータ6は、真空
チャンバ1内に設けられるため、空気を介しての熱伝導
が生しない、そこで、ヒータ6で発生した熱が効率良く
基体4に伝わるように、ヒタ6は、例えばロー付は等に
より基体4に溶接されている。
チャンバ1内に設けられるため、空気を介しての熱伝導
が生しない、そこで、ヒータ6で発生した熱が効率良く
基体4に伝わるように、ヒタ6は、例えばロー付は等に
より基体4に溶接されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記説明の従来のイオン注入装置では、
次のような問題がある。
次のような問題がある。
すなわち、例えばヒータに通電を開始すると、ヒータで
発生した熱が基体を伝わり、イオン種収容孔内の固体イ
オン種が加熱される。そして、固体イオン種の温度が所
定lH度〆なると、この固体イオン種からガスが発生し
始める。このガスは、ノズルによってイオン生成室内に
導入されるが、このノズルはヒータから遠方に位置する
ため、特に通電開始直後はこのノズル内の温度は、固体
イオン種の気化温度まで昇温しでいない。このため、ノ
ズル内に入ったガスは、再結晶を始め、この結晶がノズ
ル内に付着し、ノズルを閉塞してしまう。
発生した熱が基体を伝わり、イオン種収容孔内の固体イ
オン種が加熱される。そして、固体イオン種の温度が所
定lH度〆なると、この固体イオン種からガスが発生し
始める。このガスは、ノズルによってイオン生成室内に
導入されるが、このノズルはヒータから遠方に位置する
ため、特に通電開始直後はこのノズル内の温度は、固体
イオン種の気化温度まで昇温しでいない。このため、ノ
ズル内に入ったガスは、再結晶を始め、この結晶がノズ
ル内に付着し、ノズルを閉塞してしまう。
このような問題は、固体イオン種としてアンチモンを用
いた場合に特に著しい。また、アンチモンを用いた場合
には、結晶化したアンチモンがステンレスに強固に固着
して、容易に除去することができない。このため、例え
ばノズルの螺子部等に結晶が付着してノズルの着脱がで
きなくる等の問題も発生する。
いた場合に特に著しい。また、アンチモンを用いた場合
には、結晶化したアンチモンがステンレスに強固に固着
して、容易に除去することができない。このため、例え
ばノズルの螺子部等に結晶が付着してノズルの着脱がで
きなくる等の問題も発生する。
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、結晶の付着によるノズルの閉塞を防止することができ
るとともに付着した結晶の除去を容易に行うことができ
、従来に較べて稼働率の向上およびメンテナンス性の向
上を図ることのできるイオン注入装置を提供しようとす
るものである。
、結晶の付着によるノズルの閉塞を防止することができ
るとともに付着した結晶の除去を容易に行うことができ
、従来に較べて稼働率の向上およびメンテナンス性の向
上を図ることのできるイオン注入装置を提供しようとす
るものである。
[発明の構成コ
(課題を解決するための手段)
すなわち本発明は、固体イオン種から発生させたガスを
イオン化してイオンビームを発生させるイオン注入装置
において、前記ガスと接触する部位を、前記ガスによる
付着の易離部材により構成したことを特徴とする。
イオン化してイオンビームを発生させるイオン注入装置
において、前記ガスと接触する部位を、前記ガスによる
付着の易離部材により構成したことを特徴とする。
(作 用)
上記構成の本発明のイオン注入装置では、固体イオン種
から発生するガスと接触する部位を前記ガスによる付着
物の易離部材、例えばノズル内部等が、熱伝導率が高く
、アンチモン等に対する濡れ性が悪いカーボンからなる
部材により構成されている。
から発生するガスと接触する部位を前記ガスによる付着
物の易離部材、例えばノズル内部等が、熱伝導率が高く
、アンチモン等に対する濡れ性が悪いカーボンからなる
部材により構成されている。
ノズル先端まで効率良く熱が伝わる事により、気化した
ガスの再結晶を防ぎ、結晶の付着によるノズルの閉塞を
防止することができるとともに万一付着した結晶の除去
を容易に行うことができ、従来に較べて稼働率の向上お
よびメンテナンス性の向上を図ることができる。
ガスの再結晶を防ぎ、結晶の付着によるノズルの閉塞を
防止することができるとともに万一付着した結晶の除去
を容易に行うことができ、従来に較べて稼働率の向上お
よびメンテナンス性の向上を図ることができる。
(実施例)
以下、本発明のイオン注入装置を図面を参照して一実施
例について説明する。
例について説明する。
真空チャンバ11には、開口12が形成されており、こ
の開口12を閉塞する如く外部からガス発生機構13が
挿入固定されている。
の開口12を閉塞する如く外部からガス発生機構13が
挿入固定されている。
すなわち、ガス発生機構13の端部には、第2図にも示
すように材質例えばステンレスのほぼ矩形の固定用板1
4が設けられており、この固定用板14には、真空チャ
ンバ11と当接され気密性を確保するための0リング1
5が配置されている。
すように材質例えばステンレスのほぼ矩形の固定用板1
4が設けられており、この固定用板14には、真空チャ
ンバ11と当接され気密性を確保するための0リング1
5が配置されている。
そして、この固定用板14を真空チャンバ11に例えば
螺子等で固定することにより、開口12か気密的に閉塞
され、真空チャンバ11内にガス、鏑生機構13が突出
する如く設けられる。
螺子等で固定することにより、開口12か気密的に閉塞
され、真空チャンバ11内にガス、鏑生機構13が突出
する如く設けられる。
また、固定用板14には、材質例えば耐熱性ステンレス
から棒状に構成された基体16がその一端を固定されて
おり、第2図にも示すように、この基体16には、固定
用板14側から長手方向に沿って4つのヒータ挿入孔1
7が穿設され、これらのヒータ挿入孔17には、それぞ
れ棒状に構成されたヒータ18が挿入されている。なお
、これらのヒータ18は、先端から前半部が発熱部18
a1後半部が支持部(非発熱部)18bとされており、
これらのヒータ18は、真空チャンバ11の外から交換
可能に構成されている。さらに、これらのヒータ挿入孔
17の間には、温度検出器挿入孔1つおよび3つの冷却
気体導入孔20が穿設されている。そして、第3図およ
び第4図に示すように、温度検出器挿入孔1つには、温
度検出器として例えば熱電対21が挿入され、冷却気体
導入孔20には、冷却用気体例えば空気を送出するため
の配管22が挿入されている。なお、熱電対21は、基
体16内の温度を検出してヒータ16の通電量を調節し
、温度制御を行うためのものであり、配管22は、例え
ばメンテナンス時等に急速に冷却を行うためのものであ
る。
から棒状に構成された基体16がその一端を固定されて
おり、第2図にも示すように、この基体16には、固定
用板14側から長手方向に沿って4つのヒータ挿入孔1
7が穿設され、これらのヒータ挿入孔17には、それぞ
れ棒状に構成されたヒータ18が挿入されている。なお
、これらのヒータ18は、先端から前半部が発熱部18
a1後半部が支持部(非発熱部)18bとされており、
これらのヒータ18は、真空チャンバ11の外から交換
可能に構成されている。さらに、これらのヒータ挿入孔
17の間には、温度検出器挿入孔1つおよび3つの冷却
気体導入孔20が穿設されている。そして、第3図およ
び第4図に示すように、温度検出器挿入孔1つには、温
度検出器として例えば熱電対21が挿入され、冷却気体
導入孔20には、冷却用気体例えば空気を送出するため
の配管22が挿入されている。なお、熱電対21は、基
体16内の温度を検出してヒータ16の通電量を調節し
、温度制御を行うためのものであり、配管22は、例え
ばメンテナンス時等に急速に冷却を行うためのものであ
る。
一方、上記基体16の先端側には、固体イオン種カート
リッジ23を収容するためのカートリッジ収容孔24が
穿設されている。また、基体16の先端部には、この固
体イオン種カートリッジ23を係止するための機構とし
て、例えばL字状の切り欠き部25が2つ設けられてい
る。
リッジ23を収容するためのカートリッジ収容孔24が
穿設されている。また、基体16の先端部には、この固
体イオン種カートリッジ23を係止するための機構とし
て、例えばL字状の切り欠き部25が2つ設けられてい
る。
上記固体イオン種カートリッジ23は、第5図にも示す
ように、次のように構成されている。
ように、次のように構成されている。
すなわち、カートリッジ本体60は、内部に固体イオン
種を収容する如く中空円筒状に構成されており、外壁6
1が材質例えば耐熱性ステンレス、内壁62が材質カー
ボンからなる 2層構造とされている。また、このカー
トリッジ本体60の先端側には、ノズル63が固定用螺
子64によっテ着脱自在に設けられており、このノズル
63も外壁64が材質例えば耐熱性ステンレス、内壁6
5が材質カーボンからなる 2層構造とされている。
種を収容する如く中空円筒状に構成されており、外壁6
1が材質例えば耐熱性ステンレス、内壁62が材質カー
ボンからなる 2層構造とされている。また、このカー
トリッジ本体60の先端側には、ノズル63が固定用螺
子64によっテ着脱自在に設けられており、このノズル
63も外壁64が材質例えば耐熱性ステンレス、内壁6
5が材質カーボンからなる 2層構造とされている。
なお、カートリッジ本体60のノズル63側端部に設け
られ、カートリッジ本体60内とノズル63とを連通ず
るガス流路66は、ノズル63に対して偏心して曲折す
る如く設けられており、カートリッジ本体60内に充填
された固体イオン種がノズル63から出に(いように構
成されている。
られ、カートリッジ本体60内とノズル63とを連通ず
るガス流路66は、ノズル63に対して偏心して曲折す
る如く設けられており、カートリッジ本体60内に充填
された固体イオン種がノズル63から出に(いように構
成されている。
そして、カートリッジ本体60の後側端部開口66には
、この開口66を閉塞する如く材質カーボンからなる伝
熱棒67が設けられる。この伝熱棒67は、例えば螺子
等により着脱自在とされており、この伝熱棒67を取外
してカートリッジ本体60内に固体イオン種を充填可能
に構成されている。
、この開口66を閉塞する如く材質カーボンからなる伝
熱棒67が設けられる。この伝熱棒67は、例えば螺子
等により着脱自在とされており、この伝熱棒67を取外
してカートリッジ本体60内に固体イオン種を充填可能
に構成されている。
すなわち、固体イオン種カートリッジ23内の固体イオ
ン種およびこの固体イオン種から発生したガスの接触す
る部分は、全てこのガスによる付着物の易離部材、例え
ばカーボンからなる部材により構成されている。
ン種およびこの固体イオン種から発生したガスの接触す
る部分は、全てこのガスによる付着物の易離部材、例え
ばカーボンからなる部材により構成されている。
また、カートリッジ本体60の外側部分には、開口側が
大径となる如く段差部68が設けられ、この段差部68
には、L字状の爪69が設けられている。
大径となる如く段差部68が設けられ、この段差部68
には、L字状の爪69が設けられている。
したがって、基体16に設けられたカートリッジ収容孔
24は、小径となってヒータ18間の部位まで延在して
おり、ここに固体イオン種カートリッジ23の伝熱棒6
7が挿入され、ヒータ18により固体イオン種を効率良
く加熱することができるよう構成されている。
24は、小径となってヒータ18間の部位まで延在して
おり、ここに固体イオン種カートリッジ23の伝熱棒6
7が挿入され、ヒータ18により固体イオン種を効率良
く加熱することができるよう構成されている。
そして、基体16のカートリッジ収容孔24に上記固体
イオン種カートリッジ23を挿入し、基体16のL字状
の切り欠き部25にイオン種カートリッジ23の爪69
を係止させ、このイオン種カートリッジ23の先端に例
えば4枚の皿ばね27を配置して、第6図に示すように
、円筒状の熱反射カバー28を被せ、この熱反射カバー
28に設けられたL字状の切り欠き部2つと、基体16
に設けられた突起30とを係止させ、固定する。
イオン種カートリッジ23を挿入し、基体16のL字状
の切り欠き部25にイオン種カートリッジ23の爪69
を係止させ、このイオン種カートリッジ23の先端に例
えば4枚の皿ばね27を配置して、第6図に示すように
、円筒状の熱反射カバー28を被せ、この熱反射カバー
28に設けられたL字状の切り欠き部2つと、基体16
に設けられた突起30とを係止させ、固定する。
すなわち、固体イオン種カートリッジ23は、皿ばね2
7によって基体16に押圧された状態で固定され、基体
16からの熱が固体イオン種カートリッジ23に効率良
く伝わるよう構成されている。
7によって基体16に押圧された状態で固定され、基体
16からの熱が固体イオン種カートリッジ23に効率良
く伝わるよう構成されている。
また、上記熱反射カバー28は、基体16から輻射によ
って放射される熱を反射して基体16に戻し、熱効率を
高めるためのものである。
って放射される熱を反射して基体16に戻し、熱効率を
高めるためのものである。
上記構成のこの実施例のイオン注入装置では、カートリ
ッジ本体60内に固体イオン種、例えば粒径数ミリのア
ンチモン等を例えば数十グラム程度充填し、ガス発生機
構13を上述の如く組み立て、真空チャンバ11に配置
する。そして、ヒータ18に通電することにより固体イ
オン種を加熱し、ガスを発生させる。このガスは、カー
トリッジ本体60内からノズル63を通り、例えば直流
電圧の印加によりイオンを発生させる図示しないイオン
生成室に流入し、イオン化される。このイオンは、イオ
ン生成室内から電気的に引き出され、質量分析マグネッ
ト、加速管、静電レンズ等によって所望の電子ビームと
され、偏向電極等によって走査されて例えば半導体ウェ
ハ等に走査照射される。
ッジ本体60内に固体イオン種、例えば粒径数ミリのア
ンチモン等を例えば数十グラム程度充填し、ガス発生機
構13を上述の如く組み立て、真空チャンバ11に配置
する。そして、ヒータ18に通電することにより固体イ
オン種を加熱し、ガスを発生させる。このガスは、カー
トリッジ本体60内からノズル63を通り、例えば直流
電圧の印加によりイオンを発生させる図示しないイオン
生成室に流入し、イオン化される。このイオンは、イオ
ン生成室内から電気的に引き出され、質量分析マグネッ
ト、加速管、静電レンズ等によって所望の電子ビームと
され、偏向電極等によって走査されて例えば半導体ウェ
ハ等に走査照射される。
すなわち、この実施例のイオン注入装置では、前述のよ
うにカートリッジ本体60内およびノズル63の固体イ
オン種およびこの固体イオン種から発生したガスの接触
する部分は、全て熱伝導率が高く、アンチモン等に対す
る濡れ性が悪いカーボンからなる部材により構成されて
いる。したがって、例えばヒータ18による加熱を開始
した直後であっても、カートリッジ本体60内の温度と
ノズル63の温度との差が少なく、固体イオン種から発
生したガスがノズル63内で冷却されて再結晶化するこ
とを防止することができ、ノズル63が閉塞されること
を防止することができる。また、固体イオン種としてア
ンチモンを使用した場合でも、カーボンはアンチモンに
対する濡れ性が悪いので、アンチモンが強固に固着する
ことがなく、容易に除去することができる。さらに、比
較的温度の高いヒータ18側に設けられた伝熱棒67を
螺子により取外し可能とし、固体イオン種をカートリッ
ジ本体60内に充填するための開閉機構として用いてい
るため、この螺子部等にアンチモンが強固に固着して開
閉不能となるようなこともない。
うにカートリッジ本体60内およびノズル63の固体イ
オン種およびこの固体イオン種から発生したガスの接触
する部分は、全て熱伝導率が高く、アンチモン等に対す
る濡れ性が悪いカーボンからなる部材により構成されて
いる。したがって、例えばヒータ18による加熱を開始
した直後であっても、カートリッジ本体60内の温度と
ノズル63の温度との差が少なく、固体イオン種から発
生したガスがノズル63内で冷却されて再結晶化するこ
とを防止することができ、ノズル63が閉塞されること
を防止することができる。また、固体イオン種としてア
ンチモンを使用した場合でも、カーボンはアンチモンに
対する濡れ性が悪いので、アンチモンが強固に固着する
ことがなく、容易に除去することができる。さらに、比
較的温度の高いヒータ18側に設けられた伝熱棒67を
螺子により取外し可能とし、固体イオン種をカートリッ
ジ本体60内に充填するための開閉機構として用いてい
るため、この螺子部等にアンチモンが強固に固着して開
閉不能となるようなこともない。
次に第7図を参照して、他の実施例のイオン注入装置に
ついて説明する。
ついて説明する。
真空チャンバ内に設けられる基体80は、例えば耐熱性
ステンレス等から円筒状に構成されており、その外側に
は、ヒータ81が巻回されている。
ステンレス等から円筒状に構成されており、その外側に
は、ヒータ81が巻回されている。
また、基体80内には、先端側に開口するカートリッジ
収容孔82が穿設されており、このカートリッジ収容孔
82内には、固体イオン種を収容する固体イオン種カー
トリッジ83が設けられている。なお、ヒータ81で発
生した熱が効率良く基体80に伝わるように、ヒータ8
1は、例えばロー付は等により基体80に溶接されてい
る。
収容孔82が穿設されており、このカートリッジ収容孔
82内には、固体イオン種を収容する固体イオン種カー
トリッジ83が設けられている。なお、ヒータ81で発
生した熱が効率良く基体80に伝わるように、ヒータ8
1は、例えばロー付は等により基体80に溶接されてい
る。
この固体イオン種カートリッジ83は、次のように構成
されており、前述の実施例と同様に固体イオン種および
この固体イオン種から発生したガスの接触する部位は、
全てカーボンからなる部材により構成されている。
されており、前述の実施例と同様に固体イオン種および
この固体イオン種から発生したガスの接触する部位は、
全てカーボンからなる部材により構成されている。
すなわち、材質カーボンからなり中空円筒状に構成され
たカートリッジ本体90の先端部には、外壁91が材質
例えば耐熱性ステンレス、内壁92が材質カーボンから
なる 2層構造とされたノズル93が、材質カーボンか
らなる固定用螺子94によって着脱自在に設けられてい
る。また、カートリッジ本体90の後側端部には、開口
95が形成されており、この間口95を閉塞する如く、
材質カーボンからなる伝熱棒96が設けられている。
たカートリッジ本体90の先端部には、外壁91が材質
例えば耐熱性ステンレス、内壁92が材質カーボンから
なる 2層構造とされたノズル93が、材質カーボンか
らなる固定用螺子94によって着脱自在に設けられてい
る。また、カートリッジ本体90の後側端部には、開口
95が形成されており、この間口95を閉塞する如く、
材質カーボンからなる伝熱棒96が設けられている。
この伝熱棒96は、例えば螺子により前説自在とされて
おり、この伝熱棒96を取外してカートリッジ本体90
内に固体イオン種を充填可能に構成されている。
おり、この伝熱棒96を取外してカートリッジ本体90
内に固体イオン種を充填可能に構成されている。
そして、固体イオン種カートリッジ83は、カートリッ
ジ本体90の先端側外周に設けられた螺子を基体80の
カートリッジ収容孔82内壁に設けられた螺子に螺合さ
せることにより、カートリッジ収容孔82内に固定され
る。
ジ本体90の先端側外周に設けられた螺子を基体80の
カートリッジ収容孔82内壁に設けられた螺子に螺合さ
せることにより、カートリッジ収容孔82内に固定され
る。
上記構成のこの実施例のイオン注入装置では、カートリ
ッジ本体90内に固体イオン種、例えば粒径数ミリのア
ンチモン等を例えば数十グラム程度充填し、ヒータ81
に通電することにより固体イオン種を加熱し、ガスを発
生させる。このガスは、カートリッジ本体90内からノ
ズル93を通り、例えば直流電圧の印加によりイオンを
発生させる図示しないイオン生成室に流入し、イオン化
される。このイオンは、イオン生成室内から電気的に引
き出され、質量分析マグネット、加速管、静電レンズ等
によって所望の電子ビームとされ、偏向電極等によって
走査されて例えば半導体装置ハ等に走査照射される。
ッジ本体90内に固体イオン種、例えば粒径数ミリのア
ンチモン等を例えば数十グラム程度充填し、ヒータ81
に通電することにより固体イオン種を加熱し、ガスを発
生させる。このガスは、カートリッジ本体90内からノ
ズル93を通り、例えば直流電圧の印加によりイオンを
発生させる図示しないイオン生成室に流入し、イオン化
される。このイオンは、イオン生成室内から電気的に引
き出され、質量分析マグネット、加速管、静電レンズ等
によって所望の電子ビームとされ、偏向電極等によって
走査されて例えば半導体装置ハ等に走査照射される。
上記構成のこの実施例でも、前述の実施例と同様に固体
イオン種およびこの固体イオン種から発生したガスの接
触する部位が、全てカーボンからなる部材により構成さ
れているので、前述の実施例と同様な効果を得ることが
できる。
イオン種およびこの固体イオン種から発生したガスの接
触する部位が、全てカーボンからなる部材により構成さ
れているので、前述の実施例と同様な効果を得ることが
できる。
[発明の効果]
上述のように、本発明のイオン注入装置によれば、結晶
の付着によるノズルの閉塞を防止することができるとと
もに万一付着した結晶の除去を容易に行うことができ、
従来に較べて稼働率の向上およびメンテナンス性の向上
を図ることができる。
の付着によるノズルの閉塞を防止することができるとと
もに万一付着した結晶の除去を容易に行うことができ、
従来に較べて稼働率の向上およびメンテナンス性の向上
を図ることができる。
第1図は本発明の一実施例のイオン注入装置の要部構成
を示す断面図、第2図は第1図のA矢視図、第3図は第
2図のB−B断面図、第4図は第2図のC−C断面図、
第5図は第1図に示す固体イオン種カートリッジの分解
図、第6図は第1図の側面図、第7図は他の実施例のイ
オン注入装置の要部構成を示す断面図、第8図は従来の
イオン注入装置の要部構成を示す断面図である。 11・・・・・・真空チャンバ 13・・・・・・ガス
発生機構、18・・・・・・ヒータ、23・・・・・・
固体イオン種カートリッジ、60・・・・・・カートリ
ッジ本体、61・・・・・・カートリッジ本体外壁(ス
テンレス製)、62・・・・・・カートリッジ本体内壁
(カーボン製)、63・・・・・・ノズル、64・・・
・・・ノズル外壁(ステンレス製)、65・・・・・・
ノズル内壁(カーボン製)、67・・・・・・伝熱棒(
カーボン製)。
を示す断面図、第2図は第1図のA矢視図、第3図は第
2図のB−B断面図、第4図は第2図のC−C断面図、
第5図は第1図に示す固体イオン種カートリッジの分解
図、第6図は第1図の側面図、第7図は他の実施例のイ
オン注入装置の要部構成を示す断面図、第8図は従来の
イオン注入装置の要部構成を示す断面図である。 11・・・・・・真空チャンバ 13・・・・・・ガス
発生機構、18・・・・・・ヒータ、23・・・・・・
固体イオン種カートリッジ、60・・・・・・カートリ
ッジ本体、61・・・・・・カートリッジ本体外壁(ス
テンレス製)、62・・・・・・カートリッジ本体内壁
(カーボン製)、63・・・・・・ノズル、64・・・
・・・ノズル外壁(ステンレス製)、65・・・・・・
ノズル内壁(カーボン製)、67・・・・・・伝熱棒(
カーボン製)。
Claims (1)
- (1)固体イオン種から発生させたガスをイオン化して
イオンビームを発生させるイオン注入装置において、 前記ガスと接触する部位を、前記ガスによる付着の易離
部材により構成したことを特徴とするイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63176161A JP2711250B2 (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63176161A JP2711250B2 (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0224942A true JPH0224942A (ja) | 1990-01-26 |
| JP2711250B2 JP2711250B2 (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=16008732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63176161A Expired - Lifetime JP2711250B2 (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2711250B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5477073A (en) * | 1977-12-01 | 1979-06-20 | Agency Of Ind Science & Technol | High temperature metal ion source device |
| JPS62175555U (ja) * | 1986-04-24 | 1987-11-07 |
-
1988
- 1988-07-14 JP JP63176161A patent/JP2711250B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5477073A (en) * | 1977-12-01 | 1979-06-20 | Agency Of Ind Science & Technol | High temperature metal ion source device |
| JPS62175555U (ja) * | 1986-04-24 | 1987-11-07 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2711250B2 (ja) | 1998-02-10 |
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