JPS6086273A - イオン源装置 - Google Patents
イオン源装置Info
- Publication number
- JPS6086273A JPS6086273A JP58193887A JP19388783A JPS6086273A JP S6086273 A JPS6086273 A JP S6086273A JP 58193887 A JP58193887 A JP 58193887A JP 19388783 A JP19388783 A JP 19388783A JP S6086273 A JPS6086273 A JP S6086273A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- arc chamber
- wall
- vaporizer
- injection apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/48—Ion implantation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１） 発明の属する技術分野
本発明はイオン注入装置に係り、特に金属状態のベリリ
ウムなどをそのまま用いて効率良くイオン電流をとり出
すことが出来るイオン注入装置に関する。
ウムなどをそのまま用いて効率良くイオン電流をとり出
すことが出来るイオン注入装置に関する。
（２） 従来技術の説明
従来、ベリリウムなどのイオン注入には熱陰極電子振動
形イオン源を有するイオン注入装置が用いられている。
形イオン源を有するイオン注入装置が用いられている。
熱陰極電子振動形イオン源として知られているイオン源
装置は、イオン化物質を高温で加熱して気化させ、その
気化ガスに６熱電子を衝突させてイオン化しこれを外部
に引出すものである。従来の装置はイオン化物質の加熱
の為にこれを熱オーブン内に収納し、ヒーターによって
加熱する様にしていた。この様々構成（一般にペイポラ
イザと呼ばれる）Ｋよれば、燐、砒素、アンチモンなど
の様なイオン化物質につい・ては容□易に気化させる事
ができる。
装置は、イオン化物質を高温で加熱して気化させ、その
気化ガスに６熱電子を衝突させてイオン化しこれを外部
に引出すものである。従来の装置はイオン化物質の加熱
の為にこれを熱オーブン内に収納し、ヒーターによって
加熱する様にしていた。この様々構成（一般にペイポラ
イザと呼ばれる）Ｋよれば、燐、砒素、アンチモンなど
の様なイオン化物質につい・ては容□易に気化させる事
ができる。
しかしながら、ベリリウム、銅、亜鉛などの金属は化合
物ガスの制御性が悪く、かつ毒性を有するためにその取
り扱いが困難であり、さらに精度の良いイオンビームを
とり出すことは困難であった。さらにペイポライザは大
量のガスを必要とする欠点も有する。
物ガスの制御性が悪く、かつ毒性を有するためにその取
り扱いが困難であり、さらに精度の良いイオンビームを
とり出すことは困難であった。さらにペイポライザは大
量のガスを必要とする欠点も有する。
そこで、ベリリウム化合物ガスを用いる代り圧アークチ
ャンバをベリリウムで製造することによってフィラメン
トのエミッションを直接ベリリウムにあててベリリウム
イオンをとり出すことが考えられた。しかしながら、こ
のような構造のものはイオン電流のとり出し効率が悪く
、さらにチャンバ温度を高くするために熱によるチャン
バの変形などが生じてチャンバの寿命が大幅に低下する
。
ャンバをベリリウムで製造することによってフィラメン
トのエミッションを直接ベリリウムにあててベリリウム
イオンをとり出すことが考えられた。しかしながら、こ
のような構造のものはイオン電流のとり出し効率が悪く
、さらにチャンバ温度を高くするために熱によるチャン
バの変形などが生じてチャンバの寿命が大幅に低下する
。
（３） 発明の目的
本発明の目的は、かかる従来の欠点のないイオン源を備
えたイオン注入装置を提供することにある。
えたイオン注入装置を提供することにある。
（４） 発明の特徴
本発明の特徴は、アークチャンバ内壁にイオン化物質を
設けてなるイオン発生装置を備えだイオン注入装置にお
いて、前記イオン発生装置に腐蝕性ガス、例えば３フツ
化ボロン（ＢＦ３）、 、フ、化水素（Ｉ（Ｆ） 、塩
化水素（ＨＣｔ） 、四塩化炭素（ＣＣｔ４） 。
設けてなるイオン発生装置を備えだイオン注入装置にお
いて、前記イオン発生装置に腐蝕性ガス、例えば３フツ
化ボロン（ＢＦ３）、 、フ、化水素（Ｉ（Ｆ） 、塩
化水素（ＨＣｔ） 、四塩化炭素（ＣＣｔ４） 。
フ、化メチル（ＣＨ３Ｆ）などを導入する手段が設けら
れているイオン注入装置にある。
れているイオン注入装置にある。
（５） 発明の効果
本発明によれば、ペイボライザが不要で、かつ所望のイ
オンを極めて効率良くとり出すことが出来る。
オンを極めて効率良くとり出すことが出来る。
（６） 実施例
以下、本発明の一実施例について図面と共に説明する０
第１図は、従来のイオン注入装置のイオン発生装置部分
のブロック図である。ペイポライザ１内にはイオン源が
設けられ、電源３によってこのイオン源が気化してアー
クチャンバ２へ導入てれる。そして、アークチャンバ２
内のアークに−よってイオン化し、イオンビーム４とし
て取り出される。
第１図は、従来のイオン注入装置のイオン発生装置部分
のブロック図である。ペイポライザ１内にはイオン源が
設けられ、電源３によってこのイオン源が気化してアー
クチャンバ２へ導入てれる。そして、アークチャンバ２
内のアークに−よってイオン化し、イオンビーム４とし
て取り出される。
一方、本発明実施例によれば、第２図に示すよ。
うにイオン発生装置はイオン源７が内壁に付着されたア
ークチャンバ６によって構成されるので、その構造が極
めて簡単になる。そして腐蝕性ガス５がバイブ８からア
ークチャンバ６内へ導入されることによってアークチャ
ンバ内のフィラメント（図示せず）に流す電流をあまり
大きくすること々く、十分なイオンビーム流９をとり出
すことが出来る。
ークチャンバ６によって構成されるので、その構造が極
めて簡単になる。そして腐蝕性ガス５がバイブ８からア
ークチャンバ６内へ導入されることによってアークチャ
ンバ内のフィラメント（図示せず）に流す電流をあまり
大きくすること々く、十分なイオンビーム流９をとり出
すことが出来る。
第１図は従来のイオン注入装置に用いられるイオン発生
装置のブロック図、第２図は本発明実施例のイオン注入
装置に用いられるイオン発生装置のブロック図、である
。 なお図において、１ ・ペンボライザー、２・・従来の
アークチャンバ、３・・電源、４・・・イオンビーム、
５・腐蝕性ガヌ、６・本発明実施例に用いられるアーク
チャンバ、７ イオン源、８ ・ノシイブ、９１．イオ
ンビーム、である０ 第 １ 図 ２ 第 ２ 図
装置のブロック図、第２図は本発明実施例のイオン注入
装置に用いられるイオン発生装置のブロック図、である
。 なお図において、１ ・ペンボライザー、２・・従来の
アークチャンバ、３・・電源、４・・・イオンビーム、
５・腐蝕性ガヌ、６・本発明実施例に用いられるアーク
チャンバ、７ イオン源、８ ・ノシイブ、９１．イオ
ンビーム、である０ 第 １ 図 ２ 第 ２ 図
Claims (1)
- アークチャンバ内壁にイオン化物質を設けて存るイオン
発生装置を備えたイオン注入装置において、前記イオン
発生装置に腐蝕性ガスを導入する手段が設けられている
ことを特徴とするイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58193887A JPS6086273A (ja) | 1983-10-17 | 1983-10-17 | イオン源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58193887A JPS6086273A (ja) | 1983-10-17 | 1983-10-17 | イオン源装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5020821A Division JPH0765169B2 (ja) | 1993-01-14 | 1993-01-14 | イオン生成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6086273A true JPS6086273A (ja) | 1985-05-15 |
| JPH0418028B2 JPH0418028B2 (ja) | 1992-03-26 |
Family
ID=16315385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58193887A Granted JPS6086273A (ja) | 1983-10-17 | 1983-10-17 | イオン源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6086273A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63211543A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-09-02 | Nissin Electric Co Ltd | イオン源装置 |
| JPS63211542A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-09-02 | Nissin Electric Co Ltd | イオン源装置 |
-
1983
- 1983-10-17 JP JP58193887A patent/JPS6086273A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63211543A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-09-02 | Nissin Electric Co Ltd | イオン源装置 |
| JPS63211542A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-09-02 | Nissin Electric Co Ltd | イオン源装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0418028B2 (ja) | 1992-03-26 |
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