JPH02249652A - Method for manufacturing liquid jet recording head - Google Patents
Method for manufacturing liquid jet recording headInfo
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- JPH02249652A JPH02249652A JP7218489A JP7218489A JPH02249652A JP H02249652 A JPH02249652 A JP H02249652A JP 7218489 A JP7218489 A JP 7218489A JP 7218489 A JP7218489 A JP 7218489A JP H02249652 A JPH02249652 A JP H02249652A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、液路中の吐出エネルギー発生体対応部への液
体の供給方向と、吐出口からの液体の吐出方向とが異な
るタイプの吐出口プレートを構成の一部とする液体噴射
記録ヘッドの製造方法に関する。Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a type of ejection in which the direction of supply of liquid to a portion corresponding to an ejection energy generating body in a liquid path is different from the direction of ejection of liquid from an ejection port. The present invention relates to a method of manufacturing a liquid jet recording head that includes an exit plate as a part of the structure.
[従来の技術]
吐出口から液体を吐出させて記録を行なう液体噴射記録
ヘッドとしては、各種のタイプのものが知られている。[Prior Art] Various types of liquid jet recording heads are known that perform recording by ejecting liquid from ejection ports.
大別すると、液路中の吐出エネルギー発生体から液体の
吐出のためのエネルギーが液体に作用する部分への液体
の供給方向と、吐出口からの液体の吐出方向とがほぼ同
じタイプとこれらの方向が例えば90℃と異なるタイプ
とがある。Broadly speaking, these types include two types in which the direction in which the liquid is supplied from the discharge energy generating body in the liquid path to the part where the energy for liquid discharge acts on the liquid is almost the same as the direction in which the liquid is discharged from the discharge port. There is a type in which the direction is different from, for example, 90°C.
後者のタイプの製造方法としては、例えば特開昭56−
123869号公報等に開示された以下に述べる方法が
知られている。As for the latter type of manufacturing method, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1986-
The following method disclosed in Japanese Patent No. 123869 and the like is known.
まず、第5図(a)に示すように液体の吐出に必要なエ
ネルギーを発生させるエネルギー発生体2が設けられた
基板1に、通常行なわれているフォトリソグラフィーの
手法により、エネルギー作用室18、各エネルギー作用
室の共通の液室11を、例えば感光性材料を用いて所定
の形状の壁16を形成する。First, as shown in FIG. 5(a), an energy application chamber 18, A common liquid chamber 11 of each energy application chamber is formed with a wall 16 of a predetermined shape using, for example, a photosensitive material.
次に、第5図(b)に示すように液体を吐出する吐出口
8を有する吐出口プレート6を、各吐出口が各エネルギ
ー作用室に対応して配置されるように位置合わせして、
接着剤17により壁16に接合し、第5図(C)の平面
図に示される液体噴射記録ヘッドが得られる。Next, as shown in FIG. 5(b), the discharge port plate 6 having the discharge ports 8 for discharging liquid is aligned so that each discharge port is arranged corresponding to each energy application chamber.
It is bonded to the wall 16 with the adhesive 17, and the liquid jet recording head shown in the plan view of FIG. 5(C) is obtained.
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記のような従来の方法では、エネルギ
ー作用部や共通液室を形成する壁が感光性材料を用いて
形成された後に吐出口プレートが接着剤によって接合さ
れる工程が用いられているために、以下のような問題が
生ずる場合があった。[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional method as described above, the discharge port plate is bonded with an adhesive after the walls forming the energy acting part and the common liquid chamber are formed using a photosensitive material. Because of the process used, the following problems may occur.
l) 基板上に形成された液路や共通液室内に製造工程
を通して、ゴミやチリ等が混入し、残留しやすく、歩留
りが悪い。l) Dirt, dust, etc. get mixed into the liquid path formed on the substrate and the common liquid chamber during the manufacturing process and tend to remain there, resulting in poor yield.
2) 吐出口プレートの接合時における接着剤の種類や
適用条件の設定がむずかしく、場合によっては吐出口が
接着剤によりふさがれたり、液路や共通液室内に接着剤
が流れ込んでしまう。2) It is difficult to set the type of adhesive and application conditions when joining the discharge port plates, and in some cases, the discharge port may be blocked by the adhesive or the adhesive may flow into the liquid path or common liquid chamber.
3)基板、感光性樹脂を用いて形成された壁、接着剤層
、吐出口プレートの各接合面にバランス良い接着強度を
得るためには、用いる接着剤の種類が限定されてしまう
。3) In order to obtain a well-balanced bonding strength between the bonding surfaces of the substrate, the wall formed using a photosensitive resin, the adhesive layer, and the discharge port plate, the type of adhesive used is limited.
4)吐出口プレートの基板上の壁との接合面に、良好な
接着に必要な平面性が要求される。4) The joint surface of the discharge port plate with the wall on the substrate is required to have flatness necessary for good adhesion.
本発明の目的は、上述の接着剤を用いて吐出口プレート
を液路等を形成する壁に接合する工程を有する方法にお
ける問題を解決した液体噴射記録ヘッドの製造方法を提
供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid jet recording head that solves the problems of the method that includes the step of bonding an ejection port plate to a wall forming a liquid path or the like using the above-mentioned adhesive.
[課題を解決するための手段]
本発明の液体噴射記録ヘッドの製造方法は、基体上に、
液路を形成するための固体層と、該固体層を覆うように
設けられる感光性材料層と、前記液路に連通ずる吐出口
が設けられた吐出口プレートとをこの順に積層する工程
と、前記感光性材料層に活性エネルギー線をパターン状
に照射する工程と;
前記固体層と前記感光性材料層の前記パターンに対応し
た未硬化部分とを除去し、前記液路を形成する工程と:
を含むことを特徴とする。[Means for Solving the Problems] A method for manufacturing a liquid jet recording head of the present invention includes:
a step of laminating in this order a solid layer for forming a liquid path, a photosensitive material layer provided to cover the solid layer, and an ejection port plate provided with an ejection port communicating with the liquid path; A step of irradiating the photosensitive material layer with active energy rays in a pattern; A step of removing the solid layer and an uncured portion of the photosensitive material layer corresponding to the pattern to form the liquid path: It is characterized by including.
本発明の方法によれば、液路等となる部分が固体層によ
り占有されているので、上述の従来方法のように液路等
内へのゴミ、チリ等の混入及び残留がない。According to the method of the present invention, since the portion that becomes the liquid path etc. is occupied by the solid layer, unlike the above-mentioned conventional method, dirt, dust, etc. do not enter or remain in the liquid path etc.
また、感光性材料層(活性エネルギー線硬化性層)の少
なくとも液路の壁となる部分への活性エネルギー線の照
射による硬化処理を介して、基板、硬化層からなる壁、
吐出口プレートの良好かつバランス良い接合状態が得ら
れ、接着剤の使用にともなう上述の各種問題を回避でき
る。In addition, the substrate, the wall made of the cured layer,
A good and well-balanced bonding state of the discharge port plate can be obtained, and the various problems described above associated with the use of adhesives can be avoided.
以下図面を参照しつつ本発明の方法の一例を詳細に説明
する。An example of the method of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
なお、以下の例では、本発明の方法により液路及び共通
液室が形成されているが、共通液室の同時形成は必要に
応じて行なえば良く、液路のみの形成に本発明の方法を
用いても良い。In the example below, the liquid path and the common liquid chamber are formed by the method of the present invention, but the common liquid chamber may be formed simultaneously as necessary, and the method of the present invention is used to form only the liquid path. You may also use
まず、第1図(a)に示す吐出エネルギー発生体2が所
定位置に配され、液体供給口3を有する基板1上に、少
なくとも液路となる部分を占有する固体層4を設ける。First, the ejection energy generating body 2 shown in FIG. 1(a) is arranged at a predetermined position, and a solid layer 4 occupying at least a portion that will become a liquid path is provided on a substrate 1 having a liquid supply port 3.
固体層を設けた状態の断面図を第1図(b)に、平面図
を第2図(a)に示す。A cross-sectional view of the solid layer provided is shown in FIG. 1(b), and a plan view is shown in FIG. 2(a).
基板1は、液路および共通液室の一部(底部)を構成し
、また固体層4および後述の活性エネルギー線硬化性材
料層形成時の支持体として機能させるものであり、その
形状、材質は所望とする液体噴射記録ヘッドの設計に応
じて選択される。The substrate 1 constitutes a part (bottom) of the liquid path and the common liquid chamber, and also functions as a support during the formation of the solid layer 4 and the active energy ray-curable material layer described below. is selected depending on the desired design of the liquid jet recording head.
液体の吐出のためのエネルギーを発生させる吐出エネル
ギー発生体としては、吐出エネルギーとしての熱エネル
ギーを発生できる電気熱変換体等の熱エネルギー発生体
や圧電素子等の吐出のための圧力を発生するものなどが
利用できる。Discharge energy generating bodies that generate energy for discharging liquid include thermal energy generating bodies such as electrothermal converters that can generate thermal energy as discharge energy, and devices that generate pressure for discharging such as piezoelectric elements. etc. are available.
吐出エネルギー発生体には図示されていないが、吐出エ
ネルギーの発生を指示する信号を付与する手段、例えば
電気的信号を印加する電極等が接続される。また、これ
ら吐出エネルギー発生体の耐用性の向上環を目的として
、保護層等の各種の機能層が所望に応じて設けられてい
ても良い。Although not shown in the drawings, the ejection energy generator is connected to a means for applying a signal instructing the generation of ejection energy, such as an electrode for applying an electrical signal. Further, various functional layers such as a protective layer may be provided as desired for the purpose of improving the durability of these ejection energy generating bodies.
上記固体層4は、後述する各工程を経た後に除去され、
該除去部分が液路および共通液室となる。従って、固体
層4の配置は、所望とする液路及び共通液室の形状及び
配置に応じて決定される。The solid layer 4 is removed after passing through each process described below,
The removed portion becomes a liquid path and a common liquid chamber. Therefore, the arrangement of the solid layer 4 is determined depending on the desired shape and arrangement of the liquid path and the common liquid chamber.
このような固体層4を構成するに際して用いられる材料
および手段としては、例えば下記に列挙するようなもの
が具体的なものとして挙げられる。Specific examples of materials and means used to construct such a solid layer 4 include those listed below.
■ 感光性ドライフィルムを用い、所謂ドライフィルム
の画像形成プロセスに従って固体層を形成する。■ Using a photosensitive dry film, a solid layer is formed according to a so-called dry film image forming process.
■ 基板1上に所望の厚さの溶剤可溶性ポリマー層およ
びフォトレジスト層を順に積層し、該フォトレジスト層
のパターン形成後、溶剤可溶性ポリマー層を選択的に除
去する。(2) A solvent-soluble polymer layer and a photoresist layer of a desired thickness are sequentially laminated on the substrate 1, and after patterning of the photoresist layer, the solvent-soluble polymer layer is selectively removed.
■ 樹脂に印刷する。■Printing on resin.
■に挙げた感光性ドライフィルムとしては、ポジ型のも
のもネガ型のものも用いることができるが、例えばポジ
型ドライフィルムであれば、活性エネルギー線照射によ
って、現像液に可溶化するポジ型ドライフィルム、また
ネガ型ドライフィルムであれば、光重合型であるが塩化
メチレンあるいは強アルカリで溶解あるいは剥離除去し
得るネガ型ドライフィルムが適している。As the photosensitive dry film mentioned in (2), both positive type and negative type can be used. In the case of a dry film or a negative type dry film, a negative type dry film which is photopolymerizable but can be dissolved or peeled off with methylene chloride or a strong alkali is suitable.
ポジ型ドライフィルムとしては、具体的には、例えば’
0ZATECR225J [商品名、ヘキストシャハ
ン■]等、またネガ型ドライフィルムとしては、rOZ
ATEc TシリーズJ[商品名、ヘキストジャバン■
] 、 rPHOTEc PHTシリーズ」 [商品名
、日立化成工業■] 、 ’RISTON、 [商品名
、デュ・ボン・ド・ネモアース・Go]等が用いられる
。Specifically, as a positive dry film, for example, '
0ZATECR225J [trade name, Hoechstshahan■], etc., and as a negative dry film, rOZ
ATEc T Series J [Product name, Hoechst Javan■
], rPHOTEc PHT Series" [Product name, Hitachi Chemical ■], 'RISTON, [Product name, Du Bonn de Nemours Go], etc. are used.
もちろん、これらの市販材料のみならず、ポジティブに
作用するIM脂組成物、例えばナフキノンシアド誘導体
とノボラック型フェノール樹脂を主体とする樹脂組成物
、及びネガティブに作用する樹脂組成物、例えばアクリ
ルエステルを反応基とするアクリルオリゴマーと熱可塑
性高分子化合物および増感剤を主体とする組成物、ある
いはポリチオールとポリエン化合物および増感剤とから
成る組成物等が同様に用いることができる。Of course, in addition to these commercially available materials, there are also IM resin compositions that act positively, such as resin compositions mainly composed of naphquinone cyanide derivatives and novolac type phenolic resins, and resin compositions that act negatively, such as acrylic esters, as reactive groups. A composition mainly consisting of an acrylic oligomer, a thermoplastic polymer compound, and a sensitizer, or a composition consisting of a polythiol, a polyene compound, and a sensitizer, etc. can be similarly used.
■に挙げた溶剤可溶性ポリマーとしては、それを溶解す
る溶剤が存在し、コーティングによって被膜形成し得る
高分子化合物であればいずれでも用い得る。ここで用い
得るフォトレジスト層としては、典型的にはノボラック
型フェノール樹脂とナフトキノンジアジドから成るポジ
型液状フォトレジスト、ポリビニルシンナメートから成
るネガ型液状フォトレジスト、環化ゴムとビスアジドか
ら成るネガ型液状フォトレジスト、ネガ型感光性ドライ
フィルム、熱硬化型および紫外線硬化型のインキ等が挙
げられる。As the solvent-soluble polymer listed in (2), any polymer compound can be used as long as it has a solvent that dissolves it and can be coated to form a film. The photoresist layer that can be used here is typically a positive liquid photoresist made of novolac type phenolic resin and naphthoquinone diazide, a negative liquid photoresist made of polyvinyl cinnamate, and a negative liquid photoresist made of cyclized rubber and bisazide. Examples include photoresists, negative photosensitive dry films, thermosetting and ultraviolet curing inks, and the like.
■に挙げた印刷法によって固体層を形成する材料として
は、例えば蒸発乾燥型、熱硬化型あるいは紫外線硬化型
等のそれぞれの乾燥方式で用いられている平板インキ、
スクリーンインキならびに転写型の樹脂等が用いられる
。Materials for forming solid layers using the printing methods listed in (2) include, for example, flat plate inks used in evaporative drying, thermosetting, or ultraviolet curing drying methods;
Screen ink, transfer type resin, etc. are used.
以上に挙げた材料群の中で、加工精度や除去の容易性あ
るいは作業性等の面から見て、■の感光性ドライフィル
ムを用いる手段が好ましく、その中でもポジ型ドライフ
ィルムを用いるのが特に好ましい。すなわち、ポジ型感
光性材料は、例えば解像度がネガ型の感光性材料よりも
優れている、レリーフパターンが垂直かつ平滑な側壁面
を持つ、あるいはテーバ型ないし逆テーバ型の断面形状
が容易につくれるという特長を持ち、液流路を形づくる
上で最適である。また、レリーフパターンを現像液や有
機溶剤で溶解除去できる等の特長も有しており、本発明
における固体層形成材料として好ましいものである。特
に、例えば先に挙げたナフキノンジアジドとノボラック
型フェノール樹脂を用いたポジ型感光性材料では、弱ア
ルカリ水溶液あるいはアルコールで完全溶解できるので
、吐出エネルギー発生素子の損傷を何ら与えることがな
く、かつ後工程での除去もきわめて速やかである。この
ようなポジ型感光性材料の中でも、ドライフィルム状の
ものは、10〜100μIの厚膜のものが得られる点で
、最も好ましい材料である。Among the above-mentioned material groups, from the viewpoint of processing accuracy, ease of removal, workability, etc., it is preferable to use a photosensitive dry film, and among these, it is especially preferable to use a positive dry film. preferable. In other words, positive-tone photosensitive materials, for example, have better resolution than negative-tone photosensitive materials, have relief patterns with vertical and smooth sidewall surfaces, or can easily create Taber-shaped or inverted Taber-shaped cross-sectional shapes. This feature makes it ideal for forming liquid flow paths. It also has the advantage of being able to dissolve and remove the relief pattern with a developer or an organic solvent, making it preferable as the solid layer forming material in the present invention. In particular, for example, the positive photosensitive material using naphquinone diazide and novolac type phenol resin mentioned above can be completely dissolved in a weak alkaline aqueous solution or alcohol, so there is no damage to the ejection energy generating element, and the Removal during the process is also extremely rapid. Among such positive photosensitive materials, the dry film type is the most preferable material since it allows a thick film of 10 to 100 .mu.I to be obtained.
次に、固体層4が形成された基板1に第1図(d)に示
されるように、該固体層4を覆うように活性エネルギー
線硬化性材料層5が積層される。Next, as shown in FIG. 1(d) on the substrate 1 on which the solid layer 4 is formed, an active energy ray-curable material layer 5 is laminated to cover the solid layer 4.
活性エネルギー線硬化性材料としては、上記固体層を覆
設し得るものであれば好適に使用することができるが、
該材料は、液路および共通液室の壁を形成して液体噴射
記録ヘッドの構造材料と成るものであるので、基板1ど
の接着性、機械的強度、寸法安定性、耐蝕性の面で優れ
たものを選択し用いることが好ましい。そのような材料
を具体的に示せば、液状で、紫外線硬化および電子ビー
ム硬化などの活性エネルギー線硬化性材料が適しており
、中でもエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ジグリコールジ
アルキルカーボネート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂、フ
ェノール樹脂、尿素樹脂等が用いられる。特に、光によ
ってカチオン重合を開始することのできるエポキシ樹脂
、先によってラジカル重合できるアクリルエステル基を
持ったアクリルオリゴマー類、ポリチオールとポリエン
を用いた光付加重合型樹脂、不飽和シクロアセタール樹
脂等は、重合速度が大きく、重合体の物性も優れており
、構造材料として適している。As the active energy ray-curable material, any material that can cover the above-mentioned solid layer can be suitably used.
Since this material forms the walls of the liquid path and the common liquid chamber and serves as a structural material of the liquid jet recording head, it has excellent adhesiveness to the substrate 1, mechanical strength, dimensional stability, and corrosion resistance. It is preferable to select and use the following. Specific examples of such materials include liquid and active energy ray-curable materials such as ultraviolet curable and electron beam curable materials, including epoxy resins, acrylic resins, diglycoldialkyl carbonate resins, and unsaturated polyester resins. ,
Polyurethane resin, polyimide resin, melamine resin, phenol resin, urea resin, etc. are used. In particular, epoxy resins that can initiate cationic polymerization with light, acrylic oligomers with acrylic ester groups that can be radically polymerized, photoaddition polymerizable resins using polythiol and polyene, unsaturated cycloacetal resins, etc. It has a high polymerization rate and excellent physical properties, making it suitable as a structural material.
活性エネルギー線硬化性材料の積層方法としては、例え
ば基板形状に即したノズルを用いた吐出器具、アプリケ
ータ、カーテンコータ、ロールコータ、スプレコータ、
スピンコータ等の手段で積層する方法が具体的なものと
して挙げられる。Examples of laminating methods for active energy ray-curable materials include a discharge device using a nozzle that matches the shape of the substrate, an applicator, a curtain coater, a roll coater, a spray coater,
A specific example is a method of laminating using a spin coater or the like.
尚、液状の硬化性材料を積層する場合には、該材料の説
気を行フた後、気泡の混入を避けながら行うのが好まし
い。In addition, when laminating a liquid hardenable material, it is preferable to do so after aerating the material while avoiding the inclusion of air bubbles.
次に、第1図(d)に示すように、基板1の活性エネル
ギー線硬化性材料層5上に吐出口プレート6を接合する
。Next, as shown in FIG. 1(d), the discharge port plate 6 is bonded onto the active energy ray-curable material layer 5 of the substrate 1.
この接合操作において、活性エネルギー線硬化性材料層
を所要の厚さにするべく、例えば吐出口プレート6と基
板1の間にスペーサーを設けたり、吐出口プレート6の
端部に凸部を設ける等の工夫をしてもよい。In this bonding operation, in order to make the active energy ray curable material layer have the required thickness, for example, a spacer is provided between the discharge port plate 6 and the substrate 1, a convex portion is provided at the end of the discharge port plate 6, etc. You may try to do something like this.
吐出口プレート6の上面には、活性エネルギー線硬化性
材料層の硬化に必要な活性エネルギー線を遮断する遮断
層7が設けられている。その状態の平面図を第2図(b
)に示す。A blocking layer 7 is provided on the upper surface of the discharge port plate 6 to block active energy rays necessary for curing the active energy ray-curable material layer. The plan view of this state is shown in Figure 2 (b
).
遮断層7は、少なくとも、吐出口8と液路との連通部が
後述の工程で形成できる位置に設けられる。また、液路
、液路中に形成される吐出エネルギー発生体に対応した
領域としてのエネルギー作用室、共通液室の容量を大き
くして流体抵抗を減じる必要がある場合には、第1図(
d)に示すように液路や共通液室の必要部上にも遮断層
を設ければ、それらの天井部分に相当する位置にある活
性エネルギー線硬化性材料層を後述の工程で除去して、
これらの容量を固体層4で規定されたものよりも大きく
することができる。The blocking layer 7 is provided at least at a position where a communicating portion between the discharge port 8 and the liquid path can be formed in a step described below. In addition, if it is necessary to reduce fluid resistance by increasing the capacity of the liquid path, the energy action chamber as a region corresponding to the ejection energy generating body formed in the liquid path, and the common liquid chamber, it is necessary to reduce the fluid resistance.
If a blocking layer is also provided on the necessary parts of the liquid path and the common liquid chamber as shown in d), the active energy ray-curable material layer at the position corresponding to the ceiling part of these can be removed in the process described below. ,
These capacities can be made larger than those defined by the solid layer 4.
吐出口プレートの厚さは、機械的強度や所望とする吐出
特性等に応じて選択すれば良く、例えば1μm〜100
μ−程度のも0が利用できる。The thickness of the discharge port plate may be selected depending on mechanical strength, desired discharge characteristics, etc., and is, for example, 1 μm to 100 μm.
0 of μ-degree can also be used.
吐出口プレート6は、ガラス板、プラスチックフィルム
もしくはシート、感光性組成物の硬化物からなるフィル
ムもしくはシート、透明セラミック板等から構成するこ
とができる。The discharge port plate 6 can be constructed from a glass plate, a plastic film or sheet, a film or sheet made of a cured product of a photosensitive composition, a transparent ceramic plate, or the like.
遮断層7は各種感光性組成物を用いたフォトリソグラフ
ィー利用したパターニング方法等により、所望の位置及
び形状で吐出口プレート6上に設けることができる。The blocking layer 7 can be provided on the ejection port plate 6 at a desired position and shape by a patterning method using photolithography using various photosensitive compositions.
遮断層7は、最終的に吐出プレート6上から除去できる
ようにその材料を選択して形成される。The barrier layer 7 is formed with a material chosen such that it can eventually be removed from the discharge plate 6.
遮断層7は、例えば商品名 LAMINART。The blocking layer 7 is made of, for example, the product name LAMINART.
(DYNAII:HEM製) 、 5R−1000G−
50(日立化成製)等のネガ型感光性ドライフィルムを
用いたフォトリソ工程を利用した方法により形成できる
。この場合の遮断層除去には、LANIMARの場合は
2〜5%のアルカリ液への浸漬処理が、5R−1000
G−50の場合は塩化メチレン等の液への浸漬処理が利
用できる。超音波の併用により効果的な除去が可能であ
る。(DYNAII: manufactured by HEM), 5R-1000G-
It can be formed by a method using a photolithography process using a negative photosensitive dry film such as 50 (manufactured by Hitachi Chemical). In this case, to remove the barrier layer, in the case of LANIMAR, immersion treatment in 2 to 5% alkaline solution is recommended for 5R-1000.
In the case of G-50, immersion treatment in a liquid such as methylene chloride can be used. Effective removal is possible with the combined use of ultrasound.
また、商品名0ZATECR225(ヘキストジャバン
製)等のポジ型感光性ドライフィルムを用いたフォトリ
ソ工程を利用した方法により遮断層7を形成することも
でる。なお、固体層4と同じ材料で遮断層7を形成する
ことにより、同一の除去用液体でのこれらの除去が可能
となる。この場合の除去用液体としては、アルコール等
の溶剤及び1%以上のアルカリ液が利用できる。Alternatively, the blocking layer 7 may be formed by a method using a photolithography process using a positive photosensitive dry film such as 0ZATECR225 (trade name, manufactured by Hoechst Java). Note that by forming the blocking layer 7 from the same material as the solid layer 4, these can be removed using the same removal liquid. As the removing liquid in this case, a solvent such as alcohol or an alkali solution of 1% or more can be used.
こうして基板1、固体層4、活性エネルギー線硬化性材
料層5および吐出口プレート6が順次積層された積層体
を得た後、第1図(e)に示すように、吐出口プレート
6の上方から活性エネルギー線9を照射する。After obtaining a laminate in which the substrate 1, the solid layer 4, the active energy ray-curable material layer 5, and the discharge port plate 6 are sequentially stacked, as shown in FIG. Active energy rays 9 are irradiated from.
この活性エネルギー線9の照射により、該照射部分の活
性エネルギー線硬化性材料が硬化して硬化樹脂層10a
、Jobが形成されるとともに、該硬化によって基板!
と吐出口プレート6の接合も行われる。By irradiating this active energy ray 9, the active energy ray curable material in the irradiated portion is cured, and the cured resin layer 10a is
, Job is formed, and the substrate!
The discharge port plate 6 is also joined to the discharge port plate 6.
活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、可視光線
等が利用できるが、吐出プレート6を透通させての露光
であるので紫外線、可視光線が好ましく、また重合速度
の面から紫外線が最も適している。紫外線の線源として
は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、キセ
ノンランプ。As active energy rays, ultraviolet rays, electron beams, visible rays, etc. can be used, but ultraviolet rays and visible rays are preferable because the exposure is performed through the discharge plate 6, and ultraviolet rays are most suitable in terms of polymerization rate. There is. Sources of ultraviolet rays include high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, halogen lamps, and xenon lamps.
メタルハライドランプ、カーボンアーク等のエネルギー
密度の高い光源が好ましく用いられる。光源からの光線
は、平行性が高く、熱の発生が少ないもの程精度の良い
加工が行なえるが、印刷製版ないしプリント配線板加工
あるいは光硬化型塗料の硬化に一般に用いられている紫
外線光源であれば概ね利用可能である。A light source with high energy density such as a metal halide lamp or a carbon arc is preferably used. The more parallel the light rays from the light source, the less heat it generates, the more accurate the processing can be. If available, it is generally available.
次いで、活性エネルギー線照射を終了した上記積層体か
ら、固体層4および未硬化の活性エネルギー線硬化性材
料部分を第1図(f)に示すように除去して、液路12
および液室11を形成する。Next, the solid layer 4 and the uncured active energy ray-curable material portion are removed from the laminate after the active energy ray irradiation, as shown in FIG. 1(f), and the liquid path 12 is removed.
and a liquid chamber 11 is formed.
固体層4及び未硬化の活性エネルギー線硬化性材料部分
の除去方法は、用いた固体層及び活性エネルギー線硬化
性材料の種類に応じて選択される。The method for removing the solid layer 4 and the uncured active energy ray curable material portion is selected depending on the type of solid layer and active energy ray curable material used.
具体的には、例えば固体層4と未硬化の活性エネルギー
線硬化性材料とを溶解または膨潤あるいは剥離する除去
用液体に浸漬して除去する等の方法が好ましいものとし
て挙げられる。この際、必要に応じて超音波処理、スプ
レー、加熱、攪拌、掘どう、加圧循環、その他の除去促
進手段を用いることも可能である。Specifically, a preferred method includes, for example, immersing the solid layer 4 and the uncured active energy ray-curable material in a removal liquid that dissolves, swells, or peels the solid layer 4 and the uncured active energy ray-curable material. At this time, it is also possible to use ultrasonic treatment, spraying, heating, stirring, digging, pressurized circulation, and other means for promoting removal, if necessary.
上記除去用液体としては、例えば含ハロゲン炭化水素、
ケトン、エステル、芳香族炭化水素、エーテル、アルコ
ール、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、
フェノール、水、酸あるいはアルカリを含む水、等から
選択して利用できる。なお、該除去用液体には、必要に
応じて界面活性剤を加えても良い。Examples of the above-mentioned removing liquid include halogen-containing hydrocarbons,
Ketones, esters, aromatic hydrocarbons, ethers, alcohols, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide,
It can be selected from phenol, water, water containing acid or alkali, etc. Note that a surfactant may be added to the removal liquid as necessary.
なお、図示した構成においては、活性エネルギー線照射
処理終了後の積層体を固体層4等を溶解する液体中に浸
漬して、吐出口8及び液体供給口3から固体層4及び未
硬化部分を溶解除去し、第2図(C)に示す状態を得る
ことができる。In the illustrated configuration, the laminate after the active energy ray irradiation treatment is immersed in a liquid that dissolves the solid layer 4, etc., and the solid layer 4 and uncured portions are removed from the discharge port 8 and the liquid supply port 3. By dissolving and removing it, the state shown in FIG. 2(C) can be obtained.
なお、液体供給口は、必ずしも基板1に設ける必要はな
く、他の部分に必要に応じて設けられていても良いが、
固体層4等の溶解除去が行ない易い位置に設けるのが好
ましい。Note that the liquid supply port does not necessarily need to be provided on the substrate 1, and may be provided on other parts as necessary.
It is preferable to provide it at a position where the solid layer 4 and the like can be easily dissolved and removed.
以上説明した例では、吐出口プレートの上面に遮断層が
設けられていたが、第3図(a)に示すように、吐出口
ブレート6下面に遮断層7を設け、第3図(b)に示す
積層体としても良い。In the example explained above, the blocking layer was provided on the upper surface of the discharge port plate, but as shown in FIG. 3(a), the blocking layer 7 was provided on the bottom surface of the discharge port plate 6, and as shown in FIG. 3(b), It may also be a laminate shown in .
更に、第4図に示すように、必要部分に活性エネルギー
線を遮断する部分13が形成され、かつ吐出口8に最終
的に除去可能なように活性エネルギー線遮断材料14が
詰め込まれた吐出口プレート15を用いることもできる
。Furthermore, as shown in FIG. 4, a discharge port 8 is provided with a portion 13 that blocks active energy rays formed in a necessary portion, and is filled with an active energy ray blocking material 14 so as to be ultimately removable. A plate 15 can also be used.
なお、活性エネルギー線遮断部13は、例えばガラス板
の所定部に色剤を分散させて形成することができる。Note that the active energy ray blocking portion 13 can be formed by, for example, dispersing a colorant in a predetermined portion of a glass plate.
また、活性エネルギー線遮断材料14の吐出口8への充
填は、遮光性を有するワックスを適当な溶剤に溶解させ
、その溶液を吐出口8に注入後、加熱処理により溶剤を
とばして硬化させる方法、あるいは商品名0FPR80
0(東京応化社製)等のボジ型レジストを吐出口8内に
注入し、加熱処理により溶剤をとばす方法等が利用でき
る。Furthermore, the active energy ray blocking material 14 is filled into the discharge port 8 by dissolving a light-shielding wax in a suitable solvent, injecting the solution into the discharge port 8, and then hardening the material by heating to evaporate the solvent. , or product name 0FPR80
A method of injecting a positive resist such as 0 (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) into the discharge port 8 and evaporating the solvent by heat treatment can be used.
第4図に示した吐出口プレートにおいて、活性エネルギ
ー線遮断材料14の吐出口8への充てんは、必ずしも必
要ではない。すなわち、この材料14を用いない場合は
、吐出口8下部の活性エネルギー線硬化性材料は硬化す
るが、硬化部をドーナツ状に取り巻く未硬化の部分の除
去の際に、吐出口8下部の硬化部も溶解液中での超音波
及び液の加圧循環により容易に除去できる。In the discharge port plate shown in FIG. 4, it is not necessarily necessary to fill the discharge ports 8 with the active energy ray blocking material 14. That is, if this material 14 is not used, the active energy ray-curable material at the bottom of the discharge port 8 will be cured, but when the uncured portion surrounding the hardened portion in a donut shape is removed, the hardening at the bottom of the discharge port 8 will be cured. It can also be easily removed by ultrasonic waves in the solution and pressurized circulation of the solution.
更に、第6図に示すように、吐出口8内に第4図に示し
た例と同様に活性エネルギー線遮断材料14を充填し、
かつ吐出口プレート19の下面に遮断層20を、アルミ
ニウム、クロム等の遮光性のある無機材料層をフォトリ
ソ工程を利用した方法によりバターニングして設けた吐
出口プレート19を利用することもできる。Furthermore, as shown in FIG. 6, the discharge port 8 is filled with active energy ray blocking material 14 in the same manner as the example shown in FIG.
It is also possible to use an ejection port plate 19 in which a blocking layer 20 is provided on the lower surface of the ejection port plate 19 by patterning a layer of a light-shielding inorganic material such as aluminum or chromium using a photolithography process.
[実施例]
実施例1
第1図(a)〜(f)に示した工程に従って液体噴射記
録ヘッドを作製した。[Example] Example 1 A liquid jet recording head was manufactured according to the steps shown in FIGS. 1(a) to 1(f).
まず、基板1としてのSiO□熱酸化層(層厚5μ11
)を有するシリコン板上に、吐出エネルギー発生体2と
してのHfB2かうなる発熱素子(60μl×60μ■
X 1500人、配列ピッチ125μ■)を第1図(a
)のように配置した。なお、各発熱素子には吐出用信号
を印加するための配線が接続され、またこれら発#)素
子及び配線上にSin、保護層(層厚1.0μ■)が設
けられた。First, a SiO□ thermal oxidation layer (layer thickness 5μ11
) was placed on a silicon plate having a heating element (60 μl×60 μl) of HfB2 as the discharge energy generator 2.
x 1500 people, array pitch 125μ■) in Figure 1 (a
). Each heating element was connected to wiring for applying an ejection signal, and a protective layer (layer thickness: 1.0 .mu.m) of Sin was provided over these heating elements and wiring.
次に、第1図(b)に示すように所定の形状の固体層4
(層厚20〜200μm)を基板上に感光性のドライフ
ィルムを用いたフォトリソ工程を利用した方法により形
成した。Next, as shown in FIG. 1(b), a solid layer 4 of a predetermined shape is
(layer thickness: 20 to 200 μm) was formed on a substrate by a method utilizing a photolithography process using a photosensitive dry film.
次に、第1図(C)に示すように、固体層4を覆う紫外
線で硬化する活性エネルギー線硬化性材料層5をロール
コート、デイスペンサー、ラミネート、あるいはスプレ
ー等の方法により塗布することにより形成した。Next, as shown in FIG. 1(C), an active energy ray-curable material layer 5 that is cured by ultraviolet rays is coated on the solid layer 4 by a method such as roll coating, dispenser, lamination, or spraying. Formed.
次に、ガラス、ポリエチレンテレフタレート等の透明樹
脂からなる板に吐出口8(内径40μ雪、配列ピッチ1
25μff1)を形成し、更にその上面に第1図(b)
に示すように遮断層(層厚20〜200μm)7を前述
の方法により設け、吐出口プレート6を得た。Next, a plate made of transparent resin such as glass or polyethylene terephthalate is placed on the discharge port 8 (inner diameter 40 μm, arrangement pitch 1).
25μff1), and furthermore, on the top surface, as shown in Fig. 1(b)
As shown in FIG. 2, a barrier layer (layer thickness: 20 to 200 μm) 7 was provided by the method described above to obtain a discharge port plate 6.
なお、遮断層7の吐出口8を覆う部分は、直径50μl
の吐出口8と同心の円形状とし、固体層4上の部分は、
共通液室の形状に一致させた。Note that the portion of the blocking layer 7 that covers the discharge port 8 has a diameter of 50 μl.
It has a circular shape concentric with the discharge port 8, and the part above the solid layer 4 is
Matched the shape of the common liquid chamber.
このようにして作成した吐出口プレート6を第1図(d
)に示すように活性エネルギー線硬化性材料層5上に位
置合せをして、加圧積層して、積層体を得た。The discharge port plate 6 created in this way is shown in FIG.
), they were aligned on the active energy ray curable material layer 5 and laminated under pressure to obtain a laminate.
次に、第1図(e)に示すように、紫外m(平行光)を
吐出口プレート6側上方から照射した。照射条件は、1
00J/c腸2であった。Next, as shown in FIG. 1(e), ultraviolet light (parallel light) was irradiated from above on the discharge port plate 6 side. The irradiation conditions are 1
00J/c intestine 2.
照射終了後、積層体をアルカリ及び溶剤に、常温下、1
0分間程度漫涜し、固体層4及び活性エネルギー性硬化
性材料層5の未硬化部分を基板1と吐出口プレート6と
の間から溶解除去し、更に洗浄、乾燥の後、更に吐出口
ブレート6上面の遮断層7を前述の方法で除去して、液
体噴射記録ヘッドを得た。After irradiation, the laminate was soaked in alkali and solvent for 1 hour at room temperature.
The uncured portions of the solid layer 4 and the active energy curable material layer 5 are dissolved and removed from between the substrate 1 and the discharge port plate 6 for approximately 0 minutes, and after further cleaning and drying, the discharge port plate is further removed. The blocking layer 7 on the upper surface of the sample 6 was removed by the method described above to obtain a liquid jet recording head.
なお、ここで遮断層7を除去してから固体層と未硬化材
料の除去を、遮断層の除去後に行なう方がより効果的で
あった。Note that it was more effective to remove the barrier layer 7 and then remove the solid layer and uncured material after the barrier layer was removed.
また、材料の組合わせによフては遮断層7、固体層4及
び未硬化材料の同時除去が可能である。Further, depending on the combination of materials, it is possible to simultaneously remove the barrier layer 7, the solid layer 4, and the uncured material.
実施例2
第3図に示した吐出口プレート15を用いる以外は実施
例1における第1図(a)〜(f)の工程と同様にして
第4図に示す積層体を得た。なお、遮断層7の層厚は、
吐出口エネルギー発生体と吐出口との距離を決定するの
で20μ11〜200μlの間で、吐出特性を考慮して
選択した。Example 2 A laminate shown in FIG. 4 was obtained in the same manner as in the steps shown in FIGS. 1(a) to 1(f) in Example 1, except that the discharge port plate 15 shown in FIG. 3 was used. In addition, the layer thickness of the blocking layer 7 is as follows:
Since the distance between the ejection port energy generator and the ejection port was determined, it was selected between 20 μl and 200 μl in consideration of the ejection characteristics.
次に該積層体を実施例1と同様に浸漬処理し、遮断材料
14、固体層4、活性エネルギー線硬化性材料層の未硬
化部分を基板1と吐出口プレート15の間から溶解除去
し、洗浄、乾燥後5液体噴射記録ヘッドを得た。Next, the laminate is immersed in the same manner as in Example 1, and the uncured portions of the blocking material 14, the solid layer 4, and the active energy ray-curable material layer are dissolved and removed from between the substrate 1 and the discharge port plate 15, After washing and drying, 5 liquid jet recording heads were obtained.
[発明の効果J
本発明の方法によれば、少なくとも液路となる部分を固
体層で占存させるので、製造工程を通して液路等内にゴ
ミ、チリ等が混入することが防止される。[Effect of the Invention J] According to the method of the present invention, at least the portion that will become the liquid path is occupied by a solid layer, so that dirt, dust, etc. are prevented from entering the liquid path etc. throughout the manufacturing process.
また、吐出口プレートの接合に接着剤を用いないので、
接着剤を用いることにより生じる煩雑な操作が不要とな
り、また接着剤を用いることによフて起こる問題も回避
できる。In addition, since no adhesive is used to join the discharge port plate,
Complicated operations caused by the use of adhesives are not required, and problems caused by the use of adhesives can also be avoided.
更に、記録ヘッドにおける接合部が、基板と液路等の壁
を形成する硬化層の間及び該硬化層と吐出口プレートの
間の2ケ所になるので、接着層を利用する従来の構成と
比較して、これらの接合強度を高めるための材料の選定
が容易となった。Furthermore, there are two joints in the recording head: between the substrate and the hardened layer that forms the walls of the liquid path, and between the hardened layer and the ejection port plate, compared to the conventional structure that uses an adhesive layer. This has made it easier to select materials to increase the strength of these joints.
更に、吐出口プレートの硬化層との接合面に、接着剤を
用いる場合はど厳格な平面性が要求されない。Furthermore, when an adhesive is used for the bonding surface of the discharge port plate with the cured layer, strict flatness is not required.
従って、本発明の方法によれば液路等の形成及び吐出口
プレートの接合時ての総合的歩留まりが各段に向上し、
製造コストを大幅に低下させることができる。Therefore, according to the method of the present invention, the overall yield in forming liquid channels etc. and bonding the discharge port plate is greatly improved.
Manufacturing costs can be significantly reduced.
第1図(a)〜(f)は本発明の方法の一例における主
要工程を示す工程図、第2図(a)は第1図(b)の状
態の平面図、第2図(b)は第1図(d)の状態の平面
図、第2図(C)は第1図(f)の状態の斜視図、第3
図(a)及び(b)、第4図及び第6図は本発明の他の
例における遮断部の設置態様を示す図、第5図(a)〜
(C)は従来の方法における工程を示す図である。
■・・・基板
2・・・吐出エネルギー発生体
3・−液体供給口 4・・・固体層5・・・感光
性材料層(活性エネルギー線硬化性材料層)
6.15.19−・吐出口プレート
7.20−一遮断層 8・−吐出口9−活性エネル
ギー線
10a、10b、16=硬化層(壁)
11−・・共通液室
12・−液路(エネルギー作用室)
13・−遮断部
17・−接着剤層
14−遮断材料
18−・エネルギー作用室1(a) to 1(f) are process diagrams showing the main steps in an example of the method of the present invention, FIG. 2(a) is a plan view of the state shown in FIG. 1(b), and FIG. 2(b) is a plan view of the state shown in FIG. 1(d), FIG. 2(C) is a perspective view of the state shown in FIG. 1(f), and FIG.
Figures (a) and (b), Figures 4 and 6 are views showing how the blocking section is installed in other examples of the present invention, and Figures 5 (a) to 6.
(C) is a diagram showing steps in a conventional method. ■...Substrate 2...Discharge energy generator 3--Liquid supply port 4...Solid layer 5...Photosensitive material layer (active energy ray curable material layer) 6.15.19--Discharge Outlet plate 7.20 - one blocking layer 8 - discharge port 9 - active energy rays 10a, 10b, 16 = hardened layer (wall) 11 - common liquid chamber 12 - liquid path (energy action chamber) 13 - Blocking part 17 - Adhesive layer 14 - Blocking material 18 - Energy action chamber
Claims (1)
層を覆うように設けられる感光性材料層と、前記液路に
連通する吐出口が設けられた吐出口プレートとをこの順
に積層する工程と、前記感光性材料層に活性エネルギー
線をパターン状に照射する工程と; 前記固体層と前記感光性材料層の前記パターンに対応し
た未硬化部分とを除去し、前記液路を形成する工程と; を含むことを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法
。[Claims] 1) A solid layer for forming a liquid path, a photosensitive material layer provided to cover the solid layer, and a discharge port communicating with the liquid path are provided on the substrate. a step of laminating the discharge port plate in this order; a step of irradiating the photosensitive material layer with active energy rays in a pattern; a step of stacking the solid layer and the uncured portion of the photosensitive material layer corresponding to the pattern; A method for manufacturing a liquid jet recording head, comprising: removing the liquid to form the liquid path.
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP1072184A JP2752686B2 (en) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | Method for manufacturing liquid jet recording head |
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| DE69027363T DE69027363T2 (en) | 1989-03-24 | 1990-03-23 | Process for the manufacture of ink jet recording heads |
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|---|---|
| JPH02249652A true JPH02249652A (en) | 1990-10-05 |
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