JPH02249939A - 眼屈折力測定装置 - Google Patents
眼屈折力測定装置Info
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- JPH02249939A JPH02249939A JP1074187A JP7418789A JPH02249939A JP H02249939 A JPH02249939 A JP H02249939A JP 1074187 A JP1074187 A JP 1074187A JP 7418789 A JP7418789 A JP 7418789A JP H02249939 A JPH02249939 A JP H02249939A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は眼屈折力測定装置、特に小児から乳幼児に対し
ても有用である眼屈折力測定装置に関するものである。
ても有用である眼屈折力測定装置に関するものである。
[従来の技術]
従来、眼屈折力測定装置としては、被検者の応答を基に
眼屈折力を測定する所謂自覚式検眼器、被検眼を他覚的
に測定する所謂オートレフラクトメータ等の装置が知ら
れている。
眼屈折力を測定する所謂自覚式検眼器、被検眼を他覚的
に測定する所謂オートレフラクトメータ等の装置が知ら
れている。
然し乍ら、この種の装置で乳幼児の測定を行なう場合、
乳幼児の協力を得られない為自覚式検眼器では測定がで
きず、又一般のオートレフラクトメータでは被検眼の位
置を固定しなくてはならないが、乳幼児の場合被検眼の
位置の固定が難しく、測定は極めて困難であるという欠
点を有していた。
乳幼児の協力を得られない為自覚式検眼器では測定がで
きず、又一般のオートレフラクトメータでは被検眼の位
置を固定しなくてはならないが、乳幼児の場合被検眼の
位置の固定が難しく、測定は極めて困難であるという欠
点を有していた。
これらの欠点を解消する為、ストロボ光で被検眼眼底を
照明し、被検眼の瞳孔での光束の状態をカメラで撮影し
、その結果から被検眼の眼屈折力を測定するいわゆるフ
ォトレフラクション方式の測定方法か提案されている。
照明し、被検眼の瞳孔での光束の状態をカメラで撮影し
、その結果から被検眼の眼屈折力を測定するいわゆるフ
ォトレフラクション方式の測定方法か提案されている。
このフォトレフラクション方式の測定に於いては、被検
眼の光軸が少しずれても充分に測定をすることができ、
被検眼を固定することが困難である乳幼児の眼屈折力の
測定には有用であるとされているものである。
眼の光軸が少しずれても充分に測定をすることができ、
被検眼を固定することが困難である乳幼児の眼屈折力の
測定には有用であるとされているものである。
[発明が解決しようとする課題]
然し乍ら、斯かるフォトレフラクション方式の眼屈折力
測定装置では、カメラの光軸に対し、斜め方向からスト
ロボ光源により照明し、その時の瞳孔像を単に撮影する
だけであり、光源の位置により測定できないデイオプタ
ー値があり、又測定可能な範囲が狭いという問題を有し
ている。
測定装置では、カメラの光軸に対し、斜め方向からスト
ロボ光源により照明し、その時の瞳孔像を単に撮影する
だけであり、光源の位置により測定できないデイオプタ
ー値があり、又測定可能な範囲が狭いという問題を有し
ている。
更に従来この種の装置では乱視度、乱視軸角度等乱視に
ついての測定に関しては考慮されていなかった。
ついての測定に関しては考慮されていなかった。
本発明は、上記実情に鑑みなしたものであり、瞬時に測
定結果を得ることができると共に乱視度、乱視軸角度等
についても測定し得る眼屈折力測定装置を提供しようと
するものである。
定結果を得ることができると共に乱視度、乱視軸角度等
についても測定し得る眼屈折力測定装置を提供しようと
するものである。
[課題を解決する為の手段]
本発明は、被検眼眼底に光源像を投影する為の投影系と
、被検眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子を有し被
検眼眼底からの反射光束を前記受光素子に導く為の受光
系とを有する眼屈折力測定装置に於いて、前記受光系の
光路中に光軸と垂直な平面で光軸を中心に回転可能に配
置したエッヂ状の遮光部材を設け、該遮光部材の少なく
とも3つの回転位置での受光素子上の各光量分布状態か
ら眼屈折力を測定し得る様に構成し、及び投影系には光
軸と垂直な平面で光軸を中心として異なる経線方向に配
置され選択的に点灯される複数の光源部を有する光源を
設け、前記受光系光路中に光軸と垂直な平面内に前記複
数の光源部に対応して光軸を中心とした少なくとも3経
線方向に対し直角方向のエッヂ状稜線を有する遮光部材
を配置し、前記複数の光源部を選択的に点灯した時の受
光素子上の各光量分布状態から眼屈折力を測定し得る様
に構成し、及び投影系には光軸と垂直な平面で光軸を中
心として異なる経線方向に配置さな複数の光源部を有す
る光源を設け、前記受光系光路中に光軸と垂直な平面内
に前記複数の光源部に対応して光軸を中心とした少なく
とも3経線方向に対し直角方向のエッヂ状稜線を有する
遮光部材と、前記エッヂ状稜線を透過した各光束を分離
させ受光素子に導く為の光束分離手段を設け、前記受光
素子上の各光量分布状態から眼屈折力を測定し得る様に
構成し、及び受光系を少なくとも3組設け、前記反射光
束を各受光系に向けて分離する光束分離手段を前記被検
眼光軸上に設け、前記受光系にはそれぞれエッヂ状の遮
光部材を設け、各受光系に於いて前記受光素子上の光量
分布状態からそれぞれ異なった経線方向の眼屈折力を測
定し得る様に構成したことを特徴とするものである。
、被検眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子を有し被
検眼眼底からの反射光束を前記受光素子に導く為の受光
系とを有する眼屈折力測定装置に於いて、前記受光系の
光路中に光軸と垂直な平面で光軸を中心に回転可能に配
置したエッヂ状の遮光部材を設け、該遮光部材の少なく
とも3つの回転位置での受光素子上の各光量分布状態か
ら眼屈折力を測定し得る様に構成し、及び投影系には光
軸と垂直な平面で光軸を中心として異なる経線方向に配
置され選択的に点灯される複数の光源部を有する光源を
設け、前記受光系光路中に光軸と垂直な平面内に前記複
数の光源部に対応して光軸を中心とした少なくとも3経
線方向に対し直角方向のエッヂ状稜線を有する遮光部材
を配置し、前記複数の光源部を選択的に点灯した時の受
光素子上の各光量分布状態から眼屈折力を測定し得る様
に構成し、及び投影系には光軸と垂直な平面で光軸を中
心として異なる経線方向に配置さな複数の光源部を有す
る光源を設け、前記受光系光路中に光軸と垂直な平面内
に前記複数の光源部に対応して光軸を中心とした少なく
とも3経線方向に対し直角方向のエッヂ状稜線を有する
遮光部材と、前記エッヂ状稜線を透過した各光束を分離
させ受光素子に導く為の光束分離手段を設け、前記受光
素子上の各光量分布状態から眼屈折力を測定し得る様に
構成し、及び受光系を少なくとも3組設け、前記反射光
束を各受光系に向けて分離する光束分離手段を前記被検
眼光軸上に設け、前記受光系にはそれぞれエッヂ状の遮
光部材を設け、各受光系に於いて前記受光素子上の光量
分布状態からそれぞれ異なった経線方向の眼屈折力を測
定し得る様に構成したことを特徴とするものである。
[作 用]
被検眼の眼屈折力の相違により、遮光部材による光束を
遮光する状態が異なってくる。この遮光の状態と眼屈折
力とは対応し、受光素子に投影された光束の状態、即ち
形状、光量分布を基に眼屈折力を測定でき、更に3経線
についての眼屈折力を求めて乱視についての測定を行う
。
遮光する状態が異なってくる。この遮光の状態と眼屈折
力とは対応し、受光素子に投影された光束の状態、即ち
形状、光量分布を基に眼屈折力を測定でき、更に3経線
についての眼屈折力を求めて乱視についての測定を行う
。
[実 施 例コ
以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を説明する。
乱視は、各経線での眼屈折力(デイオプター値)が異な
ることによって生じ、乱視の状態は球面度S、乱視度C
1乱視軸角度Aを測定することで特定することができる
。又、任意の角度θの経線でのデイプター値D−と球面
度S、乱視度C1乱視軸角度Aとの関係は下記の式で表
される。
ることによって生じ、乱視の状態は球面度S、乱視度C
1乱視軸角度Aを測定することで特定することができる
。又、任意の角度θの経線でのデイプター値D−と球面
度S、乱視度C1乱視軸角度Aとの関係は下記の式で表
される。
D# =S+Csin (θ−A> ・(1)従っ
て、3経線θ1、θ2、θ3のデイオプター値を求めれ
ば、球面度数S、乱視度数S、乱視軸角度Aが求められ
、乱視状態が特定できる。
て、3経線θ1、θ2、θ3のデイオプター値を求めれ
ば、球面度数S、乱視度数S、乱視軸角度Aが求められ
、乱視状態が特定できる。
以下、第1図、第2図に於いて本発明の第1の実施例に
ついて説明する。
ついて説明する。
1は光源像を被検眼3の眼底7に投影する為の投影系で
あり、2は眼底7により反射された光束10を受光する
為の受光系であり、投影系1及び受光系2は被検眼3に
対向して配置される。
あり、2は眼底7により反射された光束10を受光する
為の受光系であり、投影系1及び受光系2は被検眼3に
対向して配置される。
前記投影系1は、光源4及び光源4からの光束11を被
検眼3に向けて反射させる為のハーフミラ−5から成り
、該投影系1は光源4からの光束11を瞳孔6を通して
眼底7上に光源4の像を形成する様に投影する。
検眼3に向けて反射させる為のハーフミラ−5から成り
、該投影系1は光源4からの光束11を瞳孔6を通して
眼底7上に光源4の像を形成する様に投影する。
前記受光系2は、対物レンズ8及び受光素子9から成り
、眼底7からの光束10はハーフミラ−5を透過して受
光素子9上に導かれる。
、眼底7からの光束10はハーフミラ−5を透過して受
光素子9上に導かれる。
該受光素子9は、エリアCOD、撮像管或は2以上の受
光素子の集合体であり、受光素子9の受光面9aは対物
レンズ8に関して被検眼3の瞳孔6と共役位置に配置さ
れる。
光素子の集合体であり、受光素子9の受光面9aは対物
レンズ8に関して被検眼3の瞳孔6と共役位置に配置さ
れる。
前記受光系2の光路内には、被検眼3の眼屈折力が基準
デイオプター値の場合に光源像が形成される位置に、対
物レンズ8の光軸0を境界と起て光束10の片側を遮光
する為のエッヂ状の遮光部材12を光軸と垂直な平面内
に配置する。
デイオプター値の場合に光源像が形成される位置に、対
物レンズ8の光軸0を境界と起て光束10の片側を遮光
する為のエッヂ状の遮光部材12を光軸と垂直な平面内
に配置する。
遮光部材12は、エッヂ部15のエッヂ状稜線15aが
受光系2の光軸と合致し且ローラ20等により該光軸を
中心に回転可能に支持されている。
受光系2の光軸と合致し且ローラ20等により該光軸を
中心に回転可能に支持されている。
又、前記受光素子9には演算器13が接続され、該演算
器3は受光素子9の受光状態を演算し、その結果を表示
器14に出力する様になっている。
器3は受光素子9の受光状態を演算し、その結果を表示
器14に出力する様になっている。
以下作用を説明する。
前記した様に乱視の測定は3経線のデイオプター値を測
定することで求められるので、先ず第3図〜第11図に
於いて1経線についてのデイオプター値測定について説
明する。
定することで求められるので、先ず第3図〜第11図に
於いて1経線についてのデイオプター値測定について説
明する。
第3図(A)に示す様に、被検眼3のデイオプター値が
基準デイオプター値に比べて負のデイオプター値の場合
には、光源4の像は眼底7の前方で結像され、この光束
により照明された眼底7上の内、光軸上の1点で反射さ
れた光束10を考えると、この光束10は遮光部材12
の前方、即ち被検眼3側で集光され、対物レンズ8によ
り受光素子9上に投影される光束の上半分(斜線部分)
が遮光される。一方、第3図(B)に示す様に、被検眼
のデイオプター値が基準デイオプター値の場合には、光
束10は遮光部材12上に集光されるもので、光束10
は遮光部材12によって遮られない。
基準デイオプター値に比べて負のデイオプター値の場合
には、光源4の像は眼底7の前方で結像され、この光束
により照明された眼底7上の内、光軸上の1点で反射さ
れた光束10を考えると、この光束10は遮光部材12
の前方、即ち被検眼3側で集光され、対物レンズ8によ
り受光素子9上に投影される光束の上半分(斜線部分)
が遮光される。一方、第3図(B)に示す様に、被検眼
のデイオプター値が基準デイオプター値の場合には、光
束10は遮光部材12上に集光されるもので、光束10
は遮光部材12によって遮られない。
又、第3図(C)に示す様に、被検眼3のデイオプター
値が基準デイオプター値より正の場合には、光源4の像
は眼底7の後方で結像するように投影され、前述と同様
に眼底7で反射された光束10は遮光部材12の後方、
即ち受光素子9側で集光され、受光素子9上に投影され
る光束10は第3図(^)とは逆の部分の光束〈図中で
は上半分)が遮光される。
値が基準デイオプター値より正の場合には、光源4の像
は眼底7の後方で結像するように投影され、前述と同様
に眼底7で反射された光束10は遮光部材12の後方、
即ち受光素子9側で集光され、受光素子9上に投影され
る光束10は第3図(^)とは逆の部分の光束〈図中で
は上半分)が遮光される。
而して、受光面9aに投影される光束は基準デイオプタ
ー値に対して被検眼3のデイオプター値の大小、正負に
よって光量分布状態が変化し、この光量分布状態を基に
デイオプター値が求められる。
ー値に対して被検眼3のデイオプター値の大小、正負に
よって光量分布状態が変化し、この光量分布状態を基に
デイオプター値が求められる。
受光素子9はこの受光面9aに形成される光束の光量分
布を検出する為のものであり、前記演算器13は受光素
子9からの信号を基に、受光面9a上に形成される光束
の光量分布を検出し、基準となるデイオプター値に対し
被検眼の眼屈折力が正か負かを判断すると共にその絶対
値を演算し、演算結果を表示器14に出力し、表示器1
4は求められた結果を表示する。
布を検出する為のものであり、前記演算器13は受光素
子9からの信号を基に、受光面9a上に形成される光束
の光量分布を検出し、基準となるデイオプター値に対し
被検眼の眼屈折力が正か負かを判断すると共にその絶対
値を演算し、演算結果を表示器14に出力し、表示器1
4は求められた結果を表示する。
尚、上記実施例では光束分離手段としてハーフミラ−を
使用したが、ビームスプリッタ−偏光プリズム等種々の
光束分離手段を用いることは勿論である。
使用したが、ビームスプリッタ−偏光プリズム等種々の
光束分離手段を用いることは勿論である。
以下第4図(A)〜(E)に於いて、受光面9aに形成
される光束の光量分布状態を説明する。
される光束の光量分布状態を説明する。
尚、第4図(^)〜(E)に於いて説明を簡略化する為
、光源4の光軸と受光系の光軸とを合致させ且遮光部材
12と対物レンズ8とを一致させている。この為、光源
4と対物レンズ8とは同一位置で重ね合わせて示してお
り、遮光部材12は省略して示している。
、光源4の光軸と受光系の光軸とを合致させ且遮光部材
12と対物レンズ8とを一致させている。この為、光源
4と対物レンズ8とは同一位置で重ね合わせて示してお
り、遮光部材12は省略して示している。
第4図(A)〜(E)は被検眼の屈折力りが基準屈折力
Doに対し負の場合を示しており、以下の説明は眼底か
らの反射光束は全て対物レンズ8によって受光面9a上
に投影されるものとする。
Doに対し負の場合を示しており、以下の説明は眼底か
らの反射光束は全て対物レンズ8によって受光面9a上
に投影されるものとする。
光源4と被検眼瞳孔6との距離をgに設定しこの光源の
像が眼底に合焦する被検眼の屈折力を基準屈折力D0と
すると である。
像が眼底に合焦する被検眼の屈折力を基準屈折力D0と
すると である。
第4図(A)は被検眼の屈折力がD (<D、 )の場
合の、光軸に対し直角方向にLの長さを有するスリット
状の光源4の軸上の一点Soからの投影光束を示すもの
で、点S0の像は一旦、So′に結像され、被検眼眼底
7には、ぼけた像として投影される。D6Dが大きくな
るに従い投影される領域7aは広くなる。
合の、光軸に対し直角方向にLの長さを有するスリット
状の光源4の軸上の一点Soからの投影光束を示すもの
で、点S0の像は一旦、So′に結像され、被検眼眼底
7には、ぼけた像として投影される。D6Dが大きくな
るに従い投影される領域7aは広くなる。
第4図(8)は受光系2、及び、被検眼眼底7からの反
射光束の状態を示すものである。
射光束の状態を示すものである。
第4図(B)に示す様に、被検眼眼底7上の投影領域の
端部の点り、からの光束を考えると、この点の像I−1
′は被検眼瞳孔から2′の距離の位置に結像され、この
光束は対物レンズ8を介して被検眼瞳孔6と共役位置に
配置した受光素子9上に投影される。尚、このグと被検
眼の屈折力りの関係式は下記の通りである。
端部の点り、からの光束を考えると、この点の像I−1
′は被検眼瞳孔から2′の距離の位置に結像され、この
光束は対物レンズ8を介して被検眼瞳孔6と共役位置に
配置した受光素子9上に投影される。尚、このグと被検
眼の屈折力りの関係式は下記の通りである。
一方、この眼底上の一点から発した光束のエッヂ上での
広がり幅Δは被検眼の瞳径をUとすると、第4図(B)
から明らかな様に、となり、被検眼3の屈折力りと基準
屈折力D0との差が大になるに従い遮光部材12上の広
がりは大きくなる。
広がり幅Δは被検眼の瞳径をUとすると、第4図(B)
から明らかな様に、となり、被検眼3の屈折力りと基準
屈折力D0との差が大になるに従い遮光部材12上の広
がりは大きくなる。
次に、受光素子9上での光束の広がりについて述べる。
受光素子9は、被検眼3の屈折力に関係なく常に、対物
レンズ8に関して被検眼瞳孔と共役に配置されており、
被検眼瞳孔6の径をU、対物レンズ8の倍率をβとする
と、受光素子9上ではβUの径の領域(被検眼の屈折力
に影響を受けない)に光束が投影される。
レンズ8に関して被検眼瞳孔と共役に配置されており、
被検眼瞳孔6の径をU、対物レンズ8の倍率をβとする
と、受光素子9上ではβUの径の領域(被検眼の屈折力
に影響を受けない)に光束が投影される。
又、光軸に対して前記り、と対称な点■。からの光束も
同様に被検眼瞳孔6からグの位置に像1.′を結像した
後、受光素子9上の同じ領域βUに投影される。光源4
を点光源として、遮光部材12が無いものとした時、こ
れら眼底7からの各点り、、・・・Io、・・・■ヵ、
からの光束の積分が受光素子9上の光量分布を決めるも
のである。
同様に被検眼瞳孔6からグの位置に像1.′を結像した
後、受光素子9上の同じ領域βUに投影される。光源4
を点光源として、遮光部材12が無いものとした時、こ
れら眼底7からの各点り、、・・・Io、・・・■ヵ、
からの光束の積分が受光素子9上の光量分布を決めるも
のである。
ここで、受光素子9上での光量分布について考察するな
め、受光素子9上の光束投影位置の端部位置P−1すな
わち、光軸を中心とした座この位置に入射する光束は第
4図(C)での斜線Aの範囲の光束に限られることとな
る。又、同様に、光軸に対して、前記のP−3位置と対
称な位置P、に入射する光束を考えると斜線A′範囲の
光束に限られることになる。してみると、被検眼瞳孔6
から9の距離〈光源4と共役位置)の位置に光軸の一方
の光束A′を遮断するエッヂ状の遮光部材12を配置す
ると受光素子9上のP−、の位置に入射する光束は遮光
部材12により遮断されず、このP−、の位置から上方
の位置にいくに従って光束は徐々に遮光され、中心P0
0位置光束の半分が遮光され、P、の位置になると全て
の光束が遮断されることとなるものである。従って、エ
ッヂ状の遮光部材12により受光素子9上には上方に行
くにしたがって暗くなり、P、の点で光量がOとなる一
定傾斜の光量分布となるものである。
め、受光素子9上の光束投影位置の端部位置P−1すな
わち、光軸を中心とした座この位置に入射する光束は第
4図(C)での斜線Aの範囲の光束に限られることとな
る。又、同様に、光軸に対して、前記のP−3位置と対
称な位置P、に入射する光束を考えると斜線A′範囲の
光束に限られることになる。してみると、被検眼瞳孔6
から9の距離〈光源4と共役位置)の位置に光軸の一方
の光束A′を遮断するエッヂ状の遮光部材12を配置す
ると受光素子9上のP−、の位置に入射する光束は遮光
部材12により遮断されず、このP−、の位置から上方
の位置にいくに従って光束は徐々に遮光され、中心P0
0位置光束の半分が遮光され、P、の位置になると全て
の光束が遮断されることとなるものである。従って、エ
ッヂ状の遮光部材12により受光素子9上には上方に行
くにしたがって暗くなり、P、の点で光量がOとなる一
定傾斜の光量分布となるものである。
以上の第4図(A)〜(C)では、光源4の光軸上の一
点から発する光束のみを示したが、光源4の端部の一点
S−1〈光源の大きさをLとする第4図(D)に示すよ
うになる。この点S−1からの光束は、第4図(0)に
示す被検眼眼底7上のI−、点から13点の領域に投影
され、このI−。
点から発する光束のみを示したが、光源4の端部の一点
S−1〈光源の大きさをLとする第4図(D)に示すよ
うになる。この点S−1からの光束は、第4図(0)に
示す被検眼眼底7上のI−、点から13点の領域に投影
され、このI−。
点、11点からの反射光は、前述と同様に被検眼瞳孔6
からグの距離の位置で1. 、I。
からグの距離の位置で1. 、I。
の像を結像した後、受光素子9上のβUの径の領域に投
影されるものである。ここで、光源4の端部の点S−1
から発する光束のうち、受光素子9上の光束投影の端部
位置P−,に入射する光束は第4図(D)のBの斜線領
域の光束となるものである。
影されるものである。ここで、光源4の端部の点S−1
から発する光束のうち、受光素子9上の光束投影の端部
位置P−,に入射する光束は第4図(D)のBの斜線領
域の光束となるものである。
又、前記S−1の点と対称な光源4の一点S。
からの光束を考え、そのうち受光素子9上のP−、の点
に入射する光束を考えると第4図(E)のCの斜線領域
の光束となる。この様に、光源4がある大きさを有する
ものとして考えた場合、受光素子9上の一点の光量は、
光源4の各点からの光束の総和として考えなければなら
ない。
に入射する光束を考えると第4図(E)のCの斜線領域
の光束となる。この様に、光源4がある大きさを有する
ものとして考えた場合、受光素子9上の一点の光量は、
光源4の各点からの光束の総和として考えなければなら
ない。
第5図(A)は、この考え方に基づき、受光素子9上の
P−3の位置に入射する各光束を重ね合わせて示したも
のであり、光源上のS−1の位置から発する光束のうち
P−1の位置に入射する光束はBの領域であり(第4図
(D)参照)、光源上での位置が上方に行くにしたがっ
てその光束も上方に移動し、軸上の光源位置S。ではA
の領域の光束となり(第4図(C)参照)、光源上での
S、の位置ではCの領域の光束となる(第4図(E)参
照)、従って、受光素子9上のP−1の点での光量は、
これらの光束の総和として考えられる。
P−3の位置に入射する各光束を重ね合わせて示したも
のであり、光源上のS−1の位置から発する光束のうち
P−1の位置に入射する光束はBの領域であり(第4図
(D)参照)、光源上での位置が上方に行くにしたがっ
てその光束も上方に移動し、軸上の光源位置S。ではA
の領域の光束となり(第4図(C)参照)、光源上での
S、の位置ではCの領域の光束となる(第4図(E)参
照)、従って、受光素子9上のP−1の点での光量は、
これらの光束の総和として考えられる。
ここで、被検眼瞳孔6から9の距離の位置に遮光部材1
2を配置した時の受光素子9上の点P−,の光量を示す
模式図を第5図(A)に示す。
2を配置した時の受光素子9上の点P−,の光量を示す
模式図を第5図(A)に示す。
第5図(A)は光源上の位置が変化するにしたがって遮
光部材12により光束がどの様に遮光されるかを示すも
のである。第5図(B)の横軸は光源上の座標位置、縦
軸は光量を示すものであり、光源上での各点からの光束
を考えると、座標位の光束は遮光部材12により遮光さ
れず、座標位置の0点を過ぎると徐々に遮光され、Δ(
前述の光束の広がり)の位置で全ての光束が遮断される
事になるものである。ここで遮光されない場合の光源上
の各点からの光量をkとして光源上での各点からの光量
の寄与を示したものが第5図(B)であり、斜線部の面
積が受光素子上のP−、の点の光量値に対応するもので
ある。この面積値Tは下記の様になる。
光部材12により光束がどの様に遮光されるかを示すも
のである。第5図(B)の横軸は光源上の座標位置、縦
軸は光量を示すものであり、光源上での各点からの光束
を考えると、座標位の光束は遮光部材12により遮光さ
れず、座標位置の0点を過ぎると徐々に遮光され、Δ(
前述の光束の広がり)の位置で全ての光束が遮断される
事になるものである。ここで遮光されない場合の光源上
の各点からの光量をkとして光源上での各点からの光量
の寄与を示したものが第5図(B)であり、斜線部の面
積が受光素子上のP−、の点の光量値に対応するもので
ある。この面積値Tは下記の様になる。
同様にして、受光素子上での他の点についても考察する
。第6図(^)は受光素子上での中心点P0に入射する
光束を第5図(A)と同様に示したものであり、光源上
のS−3の点からの光束の内P0の点に入射する光束は
Boの斜線領域、光源上の中心SoO点からはAoの斜
線領域、光源上のS、の点からの光束はC0の斜線領域
の光束となるものであり、受光素子9の中心に入射する
光量は第6図(B)の斜線領域の面積T0に対応するこ
とになる。すなわち、光源の各点からの受光素子の中心
点に入射する光束をの光束が遮断されることになり、こ
の面積値を前述と同様に計算すると下記値になる。
。第6図(^)は受光素子上での中心点P0に入射する
光束を第5図(A)と同様に示したものであり、光源上
のS−3の点からの光束の内P0の点に入射する光束は
Boの斜線領域、光源上の中心SoO点からはAoの斜
線領域、光源上のS、の点からの光束はC0の斜線領域
の光束となるものであり、受光素子9の中心に入射する
光量は第6図(B)の斜線領域の面積T0に対応するこ
とになる。すなわち、光源の各点からの受光素子の中心
点に入射する光束をの光束が遮断されることになり、こ
の面積値を前述と同様に計算すると下記値になる。
同様にして、受光素子上での点P、に入射する光束の状
態、及びこの点での光量値を第7図(A)、第7図(B
)に示す、第7図(A)において、光源上のS−3の点
からの光束の内P、の点に入射する光束はB′の斜線領
域、光源上の中心Soの点からはA″の斜線領域、光源
上のP−。
態、及びこの点での光量値を第7図(A)、第7図(B
)に示す、第7図(A)において、光源上のS−3の点
からの光束の内P、の点に入射する光束はB′の斜線領
域、光源上の中心Soの点からはA″の斜線領域、光源
上のP−。
の点からの光束はC″の斜線領域の光束として示す、こ
の場合には、第7図(8)に示すように、光源の各点か
ら受光素子のP、の点に入射するの位置までは光束は遮
光されず、−Δ位置を過ぎると徐々に光束が遮られ、0
の位置で全ての光束が遮断されることになり、この面積
値を計算すると下記値になる。
の場合には、第7図(8)に示すように、光源の各点か
ら受光素子のP、の点に入射するの位置までは光束は遮
光されず、−Δ位置を過ぎると徐々に光束が遮られ、0
の位置で全ての光束が遮断されることになり、この面積
値を計算すると下記値になる。
これらの式(6) 、(7) 、(8)の結果かられが
るように、受光素子9上の光量値は下方から上方にいく
にしたがって、光量値は徐々に低くなるものであり、そ
の受光素子上での光量分布を図示すると第8図に示すよ
うに直線的に変化する。
るように、受光素子9上の光量値は下方から上方にいく
にしたがって、光量値は徐々に低くなるものであり、そ
の受光素子上での光量分布を図示すると第8図に示すよ
うに直線的に変化する。
前述の説明に於いては、眼底の一点から発する光束を考
えた場合の遮光部材12上での広がり定して説明を行っ
たものである。
えた場合の遮光部材12上での広がり定して説明を行っ
たものである。
一値D0に対する被検眼のデイオプター値の偏差ΔDが
所定量以上の場合には、第11図に示すような直線変化
は示さない、これを第5図ないし第7図にしたがって説
明を行う、前述のよ(B)、第7図(B)はそれぞれ第
12図、第13図、第14図、に示す様になり、この光
量変化は第8図に示す様な直線変化を示さないことにな
る。
所定量以上の場合には、第11図に示すような直線変化
は示さない、これを第5図ないし第7図にしたがって説
明を行う、前述のよ(B)、第7図(B)はそれぞれ第
12図、第13図、第14図、に示す様になり、この光
量変化は第8図に示す様な直線変化を示さないことにな
る。
次に、第3図(B)で示す被検眼の屈折力が基準値であ
る場合、第3図(C)で示す被検眼の屈折力が基準値よ
り正の場合も、前記したと同様に受光素子9上の光量分
布を考察することができ、その場合被検眼の屈折力が基
準値である場合は、第9図に示す如く、均一分布、被検
眼の屈折力が正の場合は第8図で示したものと逆な分布
状態となる。
る場合、第3図(C)で示す被検眼の屈折力が基準値よ
り正の場合も、前記したと同様に受光素子9上の光量分
布を考察することができ、その場合被検眼の屈折力が基
準値である場合は、第9図に示す如く、均一分布、被検
眼の屈折力が正の場合は第8図で示したものと逆な分布
状態となる。
上記しな光量分布の傾斜がデイオプター値(屈折力)を
そして、傾斜の方向がデイオプター値の正負を表わす、
以下第11図を参照して説明する。
そして、傾斜の方向がデイオプター値の正負を表わす、
以下第11図を参照して説明する。
前記した光束の広がりΔ、即ちボケ量Δは、前記(5)
式より、 よって(7)式より 対する被検眼のデイオプター値の偏差ΔDとにより被検
眼のデイオプター値を求めることが可能となる。
式より、 よって(7)式より 対する被検眼のデイオプター値の偏差ΔDとにより被検
眼のデイオプター値を求めることが可能となる。
上記の如くして1経線についてのデイオプター値を求め
ることができるが、他の2経線についてのデイオプター
値は遮光部材12を例えば60°次に120°と回転さ
せた位置で求めればよい。
ることができるが、他の2経線についてのデイオプター
値は遮光部材12を例えば60°次に120°と回転さ
せた位置で求めればよい。
即ち、遮光部材12の3箇所の回転位置を選び、各位置
のデイオプター値を測定すれば、前記第(1)式により
球面度数S、乱視度数C2乱視軸角度Aが直ちに求めら
れる。
のデイオプター値を測定すれば、前記第(1)式により
球面度数S、乱視度数C2乱視軸角度Aが直ちに求めら
れる。
次に、第15図に於いて本発明の第2の実施例を説明す
る。
る。
該第2の実施例では、光源16を第16図で示す様に複
数の光源部16a、 16b、 16c・・・を有し、
各光源部が選択的に点灯できる様に構成したもので各光
源部16a、 16b、 16c・・・は投影系1の光
軸と垂直な平面内で該光軸と所要距離離れた位置で光軸
を中心としてθだけ異なる経線上、例えば60″’、1
20’・・・の経線上に設けられている。
数の光源部16a、 16b、 16c・・・を有し、
各光源部が選択的に点灯できる様に構成したもので各光
源部16a、 16b、 16c・・・は投影系1の光
軸と垂直な平面内で該光軸と所要距離離れた位置で光軸
を中心としてθだけ異なる経線上、例えば60″’、1
20’・・・の経線上に設けられている。
又、遮光部材17は、第17図に示す如く6角形の孔1
8が設けられ、鎖孔18の中心が受光系2の光軸と合致
する様に配置されている。更に、6角孔18の角エッヂ
状稜線18a、 18b、 18c・・・は前記光源部
16a、 16b、 16c・・・の属する経線と直角
方向で且該光源部16a、 16b、 16c・・・と
対応した位置にあり且基準デイオプター値の場合、光源
部の像がこの稜線上で形成される様にする。
8が設けられ、鎖孔18の中心が受光系2の光軸と合致
する様に配置されている。更に、6角孔18の角エッヂ
状稜線18a、 18b、 18c・・・は前記光源部
16a、 16b、 16c・・・の属する経線と直角
方向で且該光源部16a、 16b、 16c・・・と
対応した位置にあり且基準デイオプター値の場合、光源
部の像がこの稜線上で形成される様にする。
該第2の実施例において異なった経線上の少なくとも3
箇所の光源部(経線の延長状にある他の光源部を除く)
、例えば16a、 16b、 16cを選択的に1箇所
ずつ点灯させ前記したと同様な測定をすれば、3経線で
のデイオプター値が求められ、やはり前記(1)式より
直ちに球面度数S、乱視度数C5乱視軸角度Aが求めら
れる。
箇所の光源部(経線の延長状にある他の光源部を除く)
、例えば16a、 16b、 16cを選択的に1箇所
ずつ点灯させ前記したと同様な測定をすれば、3経線で
のデイオプター値が求められ、やはり前記(1)式より
直ちに球面度数S、乱視度数C5乱視軸角度Aが求めら
れる。
又、第18図は第3の実施例を示しており、該実施例で
は第2の実施例中で示した光源16と同様な構成を有し
、各光源部16a、 16b、 16c・・・が点滅し
ない様になっている光源16′と第2の実施例中で示し
たものと同一の遮光部材17を有すると共に該遮光部材
17と対物レンズ8との間に各光源部16a、 16b
、 16c・・・からの光束を受光系2の光軸より分離
即ち該光軸より離反させる方向に分離させる光束分離手
段、例えば偏角プリズム19を設けている。該偏角プリ
ズム19は各光源部16a、 16b、 16c −・
・に対応するプリズム片19a、 19b、 19c・
・・を光軸を中心に放射状に集合させたものである。
は第2の実施例中で示した光源16と同様な構成を有し
、各光源部16a、 16b、 16c・・・が点滅し
ない様になっている光源16′と第2の実施例中で示し
たものと同一の遮光部材17を有すると共に該遮光部材
17と対物レンズ8との間に各光源部16a、 16b
、 16c・・・からの光束を受光系2の光軸より分離
即ち該光軸より離反させる方向に分離させる光束分離手
段、例えば偏角プリズム19を設けている。該偏角プリ
ズム19は各光源部16a、 16b、 16c −・
・に対応するプリズム片19a、 19b、 19c・
・・を光軸を中心に放射状に集合させたものである。
該実施例では各光源部16a、 16b、 16c・・
・からの光束が、受光面9aの異なった位置に投影され
る為、受光面9aの投影された各部分で前記したと同様
な方法でデイオプター値を求めるようにすれば、複数の
経線方向のデイオプター値が同時に求められ、球面度S
、乱視度数C5乱視軸角度Aも又求められる。
・からの光束が、受光面9aの異なった位置に投影され
る為、受光面9aの投影された各部分で前記したと同様
な方法でデイオプター値を求めるようにすれば、複数の
経線方向のデイオプター値が同時に求められ、球面度S
、乱視度数C5乱視軸角度Aも又求められる。
更に、第20図は第4の実施例を示している。
光源4を被検眼3に対して対向した位置に配置し、該光
源4、被検眼3の光軸を含む平面内で該光軸に交差する
光軸を有する受光系2x、2y2Zを被検眼3側より順
次配設する。而して、被検眼3の光軸上にハーフミラ−
5x、5y、5Zを配設し、眼底7からの光束を受光系
2x、2y、2zに向けて分割反射する。
源4、被検眼3の光軸を含む平面内で該光軸に交差する
光軸を有する受光系2x、2y2Zを被検眼3側より順
次配設する。而して、被検眼3の光軸上にハーフミラ−
5x、5y、5Zを配設し、眼底7からの光束を受光系
2x、2y、2zに向けて分割反射する。
ここで、受光系2x、2y、2zの受光素子9x、9y
、9zの受光面9xa、 9ya、 9zaは前記実施
例と同様対物レンズ8x、8y、8zに関して被検眼3
の瞳孔6と共役位置とし、該3つの受光系2x、 2y
、 2zの光路内に前記実施例と同様な位置に遮光部材
12x。
、9zの受光面9xa、 9ya、 9zaは前記実施
例と同様対物レンズ8x、8y、8zに関して被検眼3
の瞳孔6と共役位置とし、該3つの受光系2x、 2y
、 2zの光路内に前記実施例と同様な位置に遮光部材
12x。
12y、 12zを遮光部材12Vは光軸に関し遮光部
材12×より60゛回転させた位置、遮光部材12zは
光軸に関し該遮光部材121/より更に60°回転させ
た位置とする。
材12×より60゛回転させた位置、遮光部材12zは
光軸に関し該遮光部材121/より更に60°回転させ
た位置とする。
斯かる構成とすれば、受光素子9x、9y、9zの受光
結果より得られるデイオプター値は3経線方向の値とな
り、しかも同時に測定することができる。
結果より得られるデイオプター値は3経線方向の値とな
り、しかも同時に測定することができる。
尚、第20図で示した実施例に於いて、受光系2x、2
y、2zを全く同一の構成とし、ハーフミラ−で分割反
射する方向を被検眼3の光軸に関し、60’、120°
と変え、受光系2x、 2y、 2zが被検眼3の光軸
に対して放射状となる様な配置としても、同様に3経線
方向のデイオプター値を得ることが可能である。
y、2zを全く同一の構成とし、ハーフミラ−で分割反
射する方向を被検眼3の光軸に関し、60’、120°
と変え、受光系2x、 2y、 2zが被検眼3の光軸
に対して放射状となる様な配置としても、同様に3経線
方向のデイオプター値を得ることが可能である。
尚、上記した第1、第2、第3、第4の実施例に於いて
乱視状態を特定する為に3経線上のデイオプター値を求
めればよいが、1つの経線延長上の他の経線についての
デイオプター値を、第1、第4の実施例では遮光部材1
2及び12×。
乱視状態を特定する為に3経線上のデイオプター値を求
めればよいが、1つの経線延長上の他の経線についての
デイオプター値を、第1、第4の実施例では遮光部材1
2及び12×。
12y、 12zを更に回転させ、第2、第3の実方組
例では対称な位置にある光源部、及び対向配置位置にあ
るエッヂ部により求めて平均化すれば、被検眼のマツグ
の影響、角膜水晶体等透明体の部分的な濁りの影響を除
くことができ、測定精度は更に向上する。
例では対称な位置にある光源部、及び対向配置位置にあ
るエッヂ部により求めて平均化すれば、被検眼のマツグ
の影響、角膜水晶体等透明体の部分的な濁りの影響を除
くことができ、測定精度は更に向上する。
尚、上記実施例では投影系の光束分離手段としてハーフ
ミラ−を使用したが、ビームスプリッタ−1開光プリズ
ム等種々の光束分離手段を用い得ることは勿論である。
ミラ−を使用したが、ビームスプリッタ−1開光プリズ
ム等種々の光束分離手段を用い得ることは勿論である。
更に、乱視の測定では3経線上のデイオプター値を求め
るのが好ましいが、乱視の状態は大体2経線方向(直角
関係にある2経線方向)に代表されるものであり、従っ
て第17図で示した6角形状の遮光部材は矩形形状の遮
光部材であってもよい。
るのが好ましいが、乱視の状態は大体2経線方向(直角
関係にある2経線方向)に代表されるものであり、従っ
て第17図で示した6角形状の遮光部材は矩形形状の遮
光部材であってもよい。
[発明の効果]
以上述べた如く本発明によれば、複数の経線についての
デイオプター値が測定でき、乱視についての測定を実現
化すると共に受光系は受光素子を用いているので測定結
果は瞬時に得られるという優れた効果を発揮する。
デイオプター値が測定でき、乱視についての測定を実現
化すると共に受光系は受光素子を用いているので測定結
果は瞬時に得られるという優れた効果を発揮する。
第1図は本発明の第1の実施例を示す基本構成図、第2
図は第1図のA−A矢視図、第3図(A) CB) (
C)は該実施例に於ける被検眼のデイオプター値の相違
による光束の状態の相違を示す説明図、第4図(A)(
B) (CHD) (E)は受光系及び被検眼眼底から
の反射光束の状態を示す説明図、第5図(A)、第6図
(A)、第7図(^)は受光素子に到達する光源各点の
反射光束の状態を示す説明図、第5図(B)、第6図(
B)、第7図(B)は遮光部材によって遮られた場合の
各光束の光量変化を示す説明図、第8図、第9図、第1
0図はデイオプター値に対応した受光面での光量分布状
態を示す説明図、第11図は光量分布状態よりデイオプ
ター値を求める場合の説明図、第12図、第13図、第
14図は遮光部材上での広がり幅Δが光源の172の大
きさより大きな場合の遮光部材によって遮光された場合
の各光束の光量変化を示す説明図、第15図は第2の実
施例を示す基本構成図、第16図は第15図のB−B矢
視図、第17図は第15図のC−C矢視図、第18図は
第3の実施例を示す基本構成図、第19図は第18図の
D−D矢視図、第20図は第4の実施例を示す基本構成
図である。 1は投影系、2.2x、 2y、 2zは受光系、3は
被検眼、4,16.16’は光源、5.5x、 5y、
5zはハーフミラ−18,8x、8y、8zは対物レ
ンズ、9.9x、 9y、 9zは受光素子、12,1
2x、12y、12z、17は遮光部材、19は偏向プ
リズムを示す。 特 許 出 願 人 東京光学機械株式会社
図は第1図のA−A矢視図、第3図(A) CB) (
C)は該実施例に於ける被検眼のデイオプター値の相違
による光束の状態の相違を示す説明図、第4図(A)(
B) (CHD) (E)は受光系及び被検眼眼底から
の反射光束の状態を示す説明図、第5図(A)、第6図
(A)、第7図(^)は受光素子に到達する光源各点の
反射光束の状態を示す説明図、第5図(B)、第6図(
B)、第7図(B)は遮光部材によって遮られた場合の
各光束の光量変化を示す説明図、第8図、第9図、第1
0図はデイオプター値に対応した受光面での光量分布状
態を示す説明図、第11図は光量分布状態よりデイオプ
ター値を求める場合の説明図、第12図、第13図、第
14図は遮光部材上での広がり幅Δが光源の172の大
きさより大きな場合の遮光部材によって遮光された場合
の各光束の光量変化を示す説明図、第15図は第2の実
施例を示す基本構成図、第16図は第15図のB−B矢
視図、第17図は第15図のC−C矢視図、第18図は
第3の実施例を示す基本構成図、第19図は第18図の
D−D矢視図、第20図は第4の実施例を示す基本構成
図である。 1は投影系、2.2x、 2y、 2zは受光系、3は
被検眼、4,16.16’は光源、5.5x、 5y、
5zはハーフミラ−18,8x、8y、8zは対物レ
ンズ、9.9x、 9y、 9zは受光素子、12,1
2x、12y、12z、17は遮光部材、19は偏向プ
リズムを示す。 特 許 出 願 人 東京光学機械株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)被検眼眼底に光源像を投影する為の投影系と、被検
眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子を有し被検眼眼
底からの反射光束を前記受光素子に導く為の受光系とを
有する眼屈折力測定装置に於いて、前記受光系の光路中
に光軸と垂直な平面で光軸を中心に回転可能に配置した
エッヂ状の遮光部材を設け、該遮光部材の少なくとも3
つの回転位置での受光素子上の各光量分布状態から眼屈
折力を測定し得る様に構成したことを特徴とする眼屈折
力測定装置。 2)被検眼眼底に光源像を投影する為の投影系と、被検
眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子を有し被検眼眼
底からの反射光束を前記受光素子に導く為の受光系とを
有する眼屈折力測定装置に於いて、投影系には光軸と垂
直な平面で光軸を中心として異なる経線方向に配置され
選択的に点灯される複数の光源部を有する光源を設け、
前記受光系光路中に光軸と垂直な平面内に前記複数の光
源部に対応して光軸を中心とした少なくとも3経線方向
に対し直角方向のエッヂ状稜線を有する遮光部材を配置
し、前記複数の光源部を選択的に点灯した時の受光素子
上の各光量分布状態から眼屈折力を測定し得る様に構成
したことを特徴とする眼屈折力測定装置。 3)被検眼眼底に光源像を投影する為の投影系と、被検
眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子を有し被検眼眼
底からの反射光束を前記受光素子に導く為の受光系とを
有する眼屈折力測定装置に於いて、投影系には光軸と垂
直な平面で光軸を中心として異なる経線方向に配置した
複数の光源部を有する光源を設け、前記受光系光路中に
光軸と垂直な平面内に前記複数の光源部に対応して光軸
を中心とした少なくとも3経線方向に対し直角方向のエ
ッヂ状稜線を有する遮光部材と、前記エッヂ状稜線を透
過した各光束を分離させ受光素子に導く為の光束分離手
段を設け、前記受光素子上の各光量分布状態から眼屈折
力を測定し得る様に構成したことを特徴とする眼屈折力
測定装置。 4)被検眼眼底に光源像を投影する為の投影系と、被検
眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子を有し被検眼眼
底からの反射光束を前記受光素子に導く為の受光系とを
有する眼屈折力測定装置に於いて、受光系を少なくとも
3組設け、前記反射光束を各受光系に向けて分離する光
束分離手段を前記被検眼光軸上に設け、前記受光系には
それぞれエッヂ状の遮光部材を設け、各受光系に於いて
前記受光素子上の光量分布状態からそれぞれ異なった経
線方向の眼屈折力を測定し得る様に構成したことを特徴
とする眼屈折力測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1074187A JP2775285B2 (ja) | 1988-12-06 | 1989-03-27 | 眼屈折力測定装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30831488 | 1988-12-06 | ||
| JP63-308314 | 1988-12-06 | ||
| JP1074187A JP2775285B2 (ja) | 1988-12-06 | 1989-03-27 | 眼屈折力測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02249939A true JPH02249939A (ja) | 1990-10-05 |
| JP2775285B2 JP2775285B2 (ja) | 1998-07-16 |
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|---|---|---|---|---|
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-
1989
- 1989-03-27 JP JP1074187A patent/JP2775285B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2775285B2 (ja) | 1998-07-16 |
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