JPH02250065A - Planographic original plate - Google Patents

Planographic original plate

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Publication number
JPH02250065A
JPH02250065A JP2870889A JP2870889A JPH02250065A JP H02250065 A JPH02250065 A JP H02250065A JP 2870889 A JP2870889 A JP 2870889A JP 2870889 A JP2870889 A JP 2870889A JP H02250065 A JPH02250065 A JP H02250065A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin
acid
carbon atoms
formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP2870889A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Kazuo Ishii
一夫 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2870889A priority Critical patent/JPH02250065A/en
Publication of JPH02250065A publication Critical patent/JPH02250065A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enhance desensitization performance to fatty change by incorporating hydrophilic resin particles having an average particle diameter same as the maximum particle diameter of photoconductive zinc oxide particles or smaller in a photoconductive layer and adding 2 kinds of specified resins to a binder resin. CONSTITUTION:The photoconductive layer contains the hydrophilic resin particles having an average particle diameter same as the maximum particle diameter of photoconductive zinc oxide particles or smaller than this, and the binder resin contains at least one kind of resin A having a weight average molecular weight of 10<3> - 2X10<4> and copolymerized structural units each having at least one kind of polar group, such as -PO3H2, in an amount of 0.5 - 20wt.%, and at least one kind of resin B having a weight average molecular weight of >=5X10<4>, and a cross-linking structure, and at least one kind of repeating units of copolymerized components each represented by formula I in which T is -COO- or the like; V is a 1 - 22 C hydrocarbon group; and each of a1 and a2 is H or the like, each optionally same or different; thus permitting desensitization for fatty change performance to be enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電子写真方式で製版される電子写真平版印刷
用原版に関するものであり、特に、該平版印刷用原版の
光導電層形成用組成物の改良に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing original plate made by an electrophotographic method, and in particular to a composition for forming a photoconductive layer of the lithographic printing original plate. Concerning the improvement of things.

(従来技術及びその問題点) 現在ダイレクト製版用のオフセット原版には多種のもの
が提案され且つ実用化されているが、中でも、導電性支
持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子及び結着樹脂を
主成分とした光導電層を設けた感光体を通常の電子写真
工程を経て、感光体表面に親水性の高いトナー画像を形
成させ、続いて該表面をエッチ液と言われる不感脂化液
で処理し非画像部分を選択的に親水化することによって
オフセット原版を得る技術が広く用いられている。
(Prior art and its problems) Currently, various types of offset original plates for direct plate making have been proposed and put into practical use. A photoreceptor with a photoconductive layer mainly composed of resin is subjected to a normal electrophotographic process to form a highly hydrophilic toner image on the surface of the photoreceptor, and then the surface is desensitized with an etchant. A widely used technique is to obtain an offset original plate by selectively making non-image areas hydrophilic by treatment with a liquid.

良好な印刷物を得るには、先ずオフセット原版に、原画
が忠実に複写されると共に、感光体表面が不感脂化処理
液となじみ易く、非画像部が充分に親水化されると同時
に耐水性を有し更に印刷においては、画像を有する光導
電層が離脱しないこと、及び湿し水とのなじみがよく、
印刷枚数が多くなっても、汚れが発生しない様に、充分
に非画像部の親水性が保持されること、等の性能を有す
る必要がある。
In order to obtain good printed matter, first, the original image is faithfully copied onto the offset master plate, the surface of the photoreceptor is easily compatible with the desensitizing treatment liquid, and the non-image area is made sufficiently hydrophilic, while at the same time it is water resistant. In addition, during printing, the photoconductive layer with the image does not separate and is compatible with dampening water,
It is necessary to have performance such as sufficient hydrophilicity of non-image areas to prevent staining even if the number of printed sheets increases.

これらの性能には、光導電層中の酸化亜鉛と結着樹脂の
比率が影響することは、既に知られておリ、例えば、光
導電層の酸化亜鉛粒子に対する結着樹脂の比率を小さく
すれば、光導電層表面の不感脂化性が向上し、地汚れは
少なくなるが、他方で光導電層自体の内部凝集力が低下
し、機誠的強度不9足による耐刷力の低下が生じる。逆
に、結着樹脂の比率を大きくすると、耐刷力は向上する
が、地汚れが増大する。特に地汚れは、光導電層表面の
不感脂化性の良否に関係する現象であることは言うまで
もないが、光導電層表面の不感脂化性は、光導電層中の
酸化亜鉛と結着樹脂の比率のみによって左右されるもの
ではなく、結着樹脂の種類によっても、大きく左右され
ることが明らかになってきている。
It is already known that these performances are affected by the ratio of zinc oxide to binder resin in the photoconductive layer.For example, it is possible to reduce the ratio of binder resin to zinc oxide particles in the photoconductive layer. For example, the desensitization property of the surface of the photoconductive layer is improved and scumming is reduced, but on the other hand, the internal cohesive force of the photoconductive layer itself is decreased, and the printing durability is decreased due to a lack of mechanical strength. arise. Conversely, if the ratio of the binder resin is increased, the printing durability will be improved, but the scumming will increase. In particular, it goes without saying that scumming is a phenomenon related to the desensitization property of the surface of the photoconductive layer. It has become clear that it is not only influenced by the ratio of , but also largely influenced by the type of binder resin.

特に、オフセット原版としては、前記の様に、不感脂化
性不充分による地汚れ発生が大きな問題であり、これを
改良するために、不感脂化性を向上させる酸化亜鉛結着
樹脂様樹脂の開発が種々検討されてきている。例えば、
特公昭50−31011号では、フマル酸存在下で(メ
タ)アクリレート系モノマーと他のモノマーと共重合さ
せた、[1,8〜l0XIO’で7810〜80℃の樹
脂と、(メタ)アクリレート系モノマーとフマル酸以外
の他のモノマーとから成る共重合体とを併用したもの、
又特開昭53−54027号では、カルボン酸基をエス
テル結合から少なくとも原子数7個離れて有する置換基
をもつ(メタ)アクリル酸エステルを含む三元共重合体
を用いるもの、又特開昭54−20735号、特開昭5
7−202544号では、アクリル酸及びヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレートを含む4元又は5元共重合体
を用いるもの、又特開昭58−68046号では、炭素
数6〜12のアルキル基を置換基とする(メタ)アクリ
ル酸エステル及びカルボン酸含有のビニルモノマーを含
む3元共市合体を用いるもの等が光導電層の不感脂化性
の向−Lに効果があると記載されている。
In particular, for offset master plates, as mentioned above, scumming due to insufficient desensitization is a major problem. Various developments have been considered. for example,
In Japanese Patent Publication No. 50-31011, a (meth)acrylate-based monomer is copolymerized with other monomers in the presence of fumaric acid, and a (meth)acrylate-based resin is copolymerized with [1,8 to 10XIO' at 7810 to 80°C]. A combination of a monomer and a copolymer consisting of a monomer other than fumaric acid,
Furthermore, JP-A No. 53-54027 discloses a method using a terpolymer containing a (meth)acrylic acid ester having a substituent having a carboxylic acid group separated by at least 7 atoms from the ester bond; No. 54-20735, Japanese Unexamined Patent Publication No. 1973
No. 7-202544 uses a quaternary or penta-component copolymer containing acrylic acid and hydroxyethyl (meth)acrylate, and JP-A-58-68046 uses an alkyl group having 6 to 12 carbon atoms as a substituent. It is described that a method using a ternary co-assembly containing a (meth)acrylic acid ester and a carboxylic acid-containing vinyl monomer is effective in improving the desensitization property of the photoconductive layer.

しかし、上記した不感脂化性向」二に効果があるとされ
る樹脂であっても、現実に評価してみると、地汚れ、耐
刷力において未だ満足できにものではなかった。
However, even if the resin is said to be effective in the above-mentioned desensitization property (2), when it is actually evaluated, it is still unsatisfactory in terms of scumming and printing durability.

更に、結着樹脂として、分解により親水性基を生成する
官能基を含有する樹脂を用いるものが検討されており、
例えば分解によりヒドロキシル基を生成する官能基を含
有するもの(特開昭62−195684号、同62−2
10475号、同62−210476号)や分解により
カルボキシル基を生成する官能基を含有するもの(特開
昭62−212669号)等が開示されている。
Furthermore, as a binder resin, resins containing functional groups that generate hydrophilic groups upon decomposition are being considered.
For example, those containing functional groups that generate hydroxyl groups upon decomposition (JP-A No. 62-195684, No. 62-2)
No. 10475, No. 62-210476) and those containing a functional group that generates a carboxyl group upon decomposition (Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-212669).

これらの樹脂は不感脂化液又は印刷時に用いる湿し水に
より加水分解又は加水素分解されて親水性基を生成する
樹脂であり、これらを平版印刷用原版の結着樹脂として
用いると、親水性基自身をはじめから含有する樹脂を用
いた場合に該親水性基と光導電性酸化亜鉛粒子表面との
強い相互作用によって生ずると思われる種々の問題(平
滑性の悪化、あるいは暗電荷保持量や光感度等の電子写
真特性の悪化等)を回避できるとともに、不感脂化液に
より親水化される非画像部の親水性が、樹脂中Jこおい
て分解により生成される−り記親木性基によってより一
層高められる為、画像部の親油性と非画像部の親水性が
明確となり、印刷時に非画像部にインキが付着するのを
防止し、その結果として地汚れのない鮮明な画質の印刷
物を多数枚印刷することが可能となると記載されている
。
These resins are resins that are hydrolyzed or hydrolyzed by desensitizing liquid or dampening water used during printing to generate hydrophilic groups, and when used as binder resins for lithographic printing original plates, hydrophilic groups can be generated. When a resin containing the group itself is used, various problems (deterioration of smoothness, dark charge retention, The deterioration of electrophotographic properties such as photosensitivity) can be avoided, and the hydrophilicity of the non-image area, which is made hydrophilic by the desensitizing liquid, is generated by decomposition in the resin. As the oleophilicity of the image area and the hydrophilicity of the non-image area become clearer, it prevents ink from adhering to the non-image area during printing, resulting in clear image quality without background smearing. It is stated that it is possible to print a large number of printed materials.

ところで今日、電子写真方式による平版印刷にふいても
、より一層の効率化が要求されており、具体的には、製
版スピードの向上、エツチング処理スピードの向上、あ
るいは印刷時のスタートから鮮明な画質(特に地汚れの
ない)の印刷物を得ること(損紙の減少)等が重要な課
題となってきている。
Nowadays, there is a demand for even greater efficiency in planographic printing using electrophotography. Specifically, improvements in plate-making speed, etching processing speed, and clear image quality from the start of printing are required. Obtaining printed matter (particularly without background smudges) (reducing waste paper) has become an important issue.

こうした要求性能に対し、上記の分解により親水性基を
生成する。結着樹脂を用いたオフセット原版では、エツ
チング処理スピードの向上又は損紙の減少という課題に
対しては、未だその性能を充分に達成しているとは言い
難かった。
In order to meet these required performances, hydrophilic groups are generated by the above decomposition. Offset master plates using binder resins have not yet achieved sufficient performance in terms of improving etching processing speed and reducing paper waste.

(発明の目的) 本発明は、以上の様な従来の電子写真式平版印刷用原版
の有する問題点を改良するものである。
(Object of the Invention) The present invention is intended to improve the problems of the conventional electrophotographic lithographic printing original plates as described above.

すなわち、本発明の目的の1は、静電特性(特に暗電荷
保持静及び光感度)に優れ、原画に対して忠実な複写画
像を再現し、かつオフセット原版として全面一様な地汚
れは勿論、点状の地汚れをも発生させない、不感脂化性
の優れた平版印刷用原版を提供することである。
In other words, the first object of the present invention is to reproduce a copy image that is excellent in electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity), is faithful to the original image, and, as an offset original plate, has uniform background smudges on the entire surface. An object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate which does not cause even dotted background stains and has excellent desensitization properties.

本発明の目的の2は、複写画像形成時の環境が低温低湿
あるいは高温高湿のように変動する場合でも、鮮明で良
質な画像を有する平版印刷用原版を提供することである
。
A second object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that produces clear and high-quality images even when the environment during copy image formation fluctuates, such as low temperature and low humidity, or high temperature and high humidity.

本発明の目的の3は、エツチング処理から印刷に工程に
おいて迅速化を行っても非画像部の親水性が充分保持さ
れ、地汚れが発生せず、かつ高耐刷力を有する平版印刷
用原版を提供することである。
The third object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that retains sufficient hydrophilicity in non-image areas even when the process from etching to printing is sped up, does not cause scumming, and has high printing durability. The goal is to provide the following.

本発明の目的の4は、静電特性に優れ、かつ環境依存性
の小さいCPC感光体を提供することである。
A fourth object of the present invention is to provide a CPC photoreceptor with excellent electrostatic properties and low environmental dependence.

本発明の目的の5は、併用し得る増感色素の種類による
影警を受は難い平版印刷用原版を提供することである。
A fifth object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that is not easily influenced by the types of sensitizing dyes that can be used in combination.

(課題を解決するための手段) 本発明は、上記目的を、導電性支持体上に、少なくとも
1層の光導電性酸化亜鉛と結着樹脂とを含有する光導電
層を設けてなる電子写真式平版印刷用原版において、前
記光導電層中に前記光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径
と同じかそれより小さい平均粒子径を有する親水性樹脂
粒子を含有し、かつ前記結着樹脂が下記樹脂[A]の少
なくとも1種及び下記樹脂CB〕の少なくとも1種を含
有してなることを特徴とする平版印刷用原版により達成
する。
(Means for Solving the Problems) The present invention achieves the above-mentioned object by providing an electrophotographic photoconductive layer comprising at least one photoconductive layer containing photoconductive zinc oxide and a binder resin on a conductive support. In the type lithographic printing original plate, the photoconductive layer contains hydrophilic resin particles having an average particle diameter that is the same as or smaller than the maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles, and the binder resin is as follows: This is achieved by a lithographic printing original plate characterized by containing at least one resin [A] and at least one resin CB below.

樹脂〔A〕 : 103〜2×104の重量平均分子量を有し、かつ−P
03H2基、−3O,ll基、−COO11基、 −0
1l基、−3N基。
Resin [A]: has a weight average molecular weight of 103 to 2 x 104, and -P
03H2 group, -3O,ll group, -COO11 group, -0
1l group, -3N group.

から選択される少なくとも1種の極性基を含有する共重
合成分を0,5〜20重量%含有する樹脂樹脂〔B〕 
: 5X103以上の重量平均分子量を有し、下記一般式〔
I〕で示される繰り返し単位を重合体成分として少なく
とも含有し、かつ架橋構造を有する樹脂。
Resin resin [B] containing 0.5 to 20% by weight of a copolymer component containing at least one polar group selected from
: It has a weight average molecular weight of 5X103 or more and has the following general formula [
A resin containing at least a repeating unit represented by [I] as a polymer component and having a crosslinked structure.

一般式〔I〕 ; あってもよい。General formula [I]; There may be.

(i) : 式〔■〕又は式[I11]で示される1つの繰り返し単
位30重量%以上 式[11] %式% 〔式中、Tは−COD−、−11Cn−−CIl□0C
O−C112COD−、−0−又は−3O,−を表す。
(i): 30% by weight or more of one repeating unit represented by formula [■] or formula [I11] Formula [11] % Formula % [In the formula, T is -COD-, -11Cn--CIl□0C
Represents O-C112COD-, -0- or -3O,-.

■は炭素数1〜22の炭化水素基を表す。(2) represents a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms.

al及びa2は互いに同じでも異なってもよく、各々水
素原子、ハロゲン原子、シアノ原子、炭素数1〜8の炭
化水素基、−coo−z又は炭素数1〜8の炭化水素基
を介した一COO−Z (Zは炭素数1〜18の炭化水
素基を表す)を表す。〕 上記の樹脂[A]は、下記(i)及び(ii)の繰り返
し単位を共重合成分として含有するもので式[111] 〔式中、X、及びx2は互いに独立に、それぞれ水素原
子、炭素数1〜IOの炭化水素基、塩素原子、臭素原子
、−COY、 又バーC00Y2(Y、 及ヒY2は各
々炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表す。但し、
×1とx2がともに水素原子を表すことはない。
al and a2 may be the same or different from each other, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, -coo-z, or a hydrogen atom via a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. COO-Z (Z represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms). ] The above resin [A] contains the following repeating units (i) and (ii) as copolymerization components, and has the formula [111] [In the formula, X and x2 are each independently a hydrogen atom, It represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, -COY, or C00Y2 (Y, and Y2 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). however,
Both x1 and x2 do not represent hydrogen atoms.

W、及びW2はそれぞれ−000−とベンゼン環を結合
する直接結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表す。
W and W2 each represent a direct bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects -000- to the benzene ring.

〕 (ii): −PO,82基、−3O,)I基、−C00I+基、−
P−OH基〔Rは炭素数1〜10の炭化水素基又は−O
R’(R’は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を示
す。] 、−511基及びフェノール性−011基の極
性基並びに環状酸無水物含有基のうち少なくとも1つの
繰返単位0.5〜15重量% 上記の樹脂[B)は、更に少なくとも1つの重合体主鎖
の片末端のみに−110,11,、−3O,ll 、 
−COOI+。
] (ii): -PO,82 group, -3O,)I group, -C00I+ group, -
P-OH group [R is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or -O
R'(R' represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). ], 0.5 to 15% by weight of at least one repeating unit among the polar groups of the -511 group and the phenolic -011 group and the cyclic acid anhydride-containing group The above resin [B) further contains at least one polymer -110,11,, -3O,ll only at one end of the main chain,
-COOI+.

−II+ 、 −3l+ 、 −P−011(R’は炭
化水素を表す)’nR・ 環状酸無水物、−CHo 、 −CONI+□、 −3
O,NH,及び各々水素原子又は炭化水素基を表す)か
ら選択される少なくとも1つの極性基を結合する樹脂〔
B′〕であってもよい。
-II+, -3l+, -P-011 (R' represents a hydrocarbon)'nR cyclic acid anhydride, -CHO, -CONI+□, -3
A resin that binds at least one polar group selected from O, NH, and each of which represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group [
B'] may be used.

また、上記の樹脂〔B〕は、樹脂[A]で示される極性
基又は環状酸無水物含有基を含有する繰り返し単位を重
合体成分として含有しない樹脂であってもよい。
Moreover, the above-mentioned resin [B] may be a resin that does not contain, as a polymer component, a repeating unit containing a polar group or a cyclic acid anhydride-containing group as shown in resin [A].

更に、上記の親水性樹脂粒子は、高次の網目構造を形成
しているものであってもよい。
Furthermore, the above-mentioned hydrophilic resin particles may form a high-order network structure.

なお、本発明における上記の親水性樹脂粒子とは、上記
した平均粒子径を有し、かつ該樹脂粒子を任意の可溶性
溶媒に溶解したものを塗布して形成した該樹脂のフィル
ムが、蒸留水に対する接触角(ゴニオメータ−にて測定
) 50度以下の値、好ましくは30度以下の値を示す
ものをいう。
In addition, the above-mentioned hydrophilic resin particles in the present invention have the above-mentioned average particle diameter, and a film of the resin formed by coating the resin particles dissolved in an arbitrary soluble solvent is dissolved in distilled water. A contact angle (measured with a goniometer) of 50 degrees or less, preferably 30 degrees or less.

(作用) 本発明にふいて、親水性樹脂は、光導電層中に粒子とし
て分散し、かつその平均粒子径が光導電性酸化亜鉛粒子
の最大粒子と同じか、それよりも小さいことが重要であ
る。このような親水性樹脂粒子であれば、分子の状態で
存在するものに比して比表面積が小さくなり、酸化亜鉛
表面との相互作用がなくなり、電子写真特性を阻害せず
、良好な印刷特性を発現する平版印刷版を得ることがで
きる。酸化亜鉛粒子径よりも大きな粒径の該樹脂粒子が
存在すると、電子写真特性が劣化してくる(特に均一な
帯電性が得られなくなる)結果として複写画像において
、画像部の濃度ムラ、文字・細線の切れ、飛び、あるい
は非画像部の地力ブリ等が発生してしまう。
(Function) In the present invention, it is important that the hydrophilic resin is dispersed as particles in the photoconductive layer, and that the average particle diameter is the same as or smaller than the largest particle of the photoconductive zinc oxide particles. It is. Such hydrophilic resin particles have a smaller specific surface area than those existing in the molecular state, eliminate interaction with the zinc oxide surface, do not inhibit electrophotographic properties, and have good printing properties. It is possible to obtain a lithographic printing plate that expresses. If the resin particles have a particle size larger than the zinc oxide particle size, the electrophotographic properties will deteriorate (in particular, uniform charging properties will not be obtained), resulting in uneven density in the image area, characters, etc. in the copied image. Breakage or skipping of thin lines, or blurring of the non-image area may occur.

具体的には、本発明の樹脂粒子は最大粒子の粒子径が1
0μm以下であり、好ましくは5μm以下である。そし
て、粒子の平均粒子径は1.0μm以下であり、好まし
くは0.5μm以下である。
Specifically, the resin particles of the present invention have a maximum particle diameter of 1
It is 0 μm or less, preferably 5 μm or less. The average particle diameter of the particles is 1.0 μm or less, preferably 0.5 μm or less.

なお、親水性樹脂粒子は、粒子径が小さい程比表面積が
大きくなり、上記の電子写真特性上良好な作用を持たら
し、コロイド粒子(0,01μm以下)程度でも充分で
あるが、余り小さくなり過ぎると分子分散の場合と同様
の弊害が生じて来るため0.001μm以上で用いるの
が好ましい。
In addition, the smaller the particle diameter of the hydrophilic resin particles, the larger the specific surface area, which gives good effects on the electrophotographic properties mentioned above, and colloidal particles (0.01 μm or less) are sufficient, but if they are too small, If the thickness is too large, the same disadvantages as in the case of molecular dispersion will occur, so it is preferable to use the thickness at 0.001 μm or more.

また本発明において、高次の網目構造を形成している親
水性樹脂粒子であれば、印刷時の湿し水で溶出すること
はなく、かなり多数枚の印刷を行っても良好な印刷特性
を維持することができる。
Furthermore, in the present invention, if the hydrophilic resin particles form a high-order network structure, they will not be eluted by dampening water during printing, and will maintain good printing characteristics even when printing a large number of sheets. can be maintained.

本発明にふいて、上記のような高次の網目構造を形成し
ていない親水性樹脂粒子(以下、単に親水性樹脂粒子)
又は高次の網目構造を形成している親水性樹脂粒子(以
下、単に網目親水性樹脂粒子)は、光導電性酸化亜鉛1
00重付部に対して0.1〜5重量%の使用量で用いる
ことが好ましい。
In accordance with the present invention, hydrophilic resin particles that do not form a high-order network structure as described above (hereinafter simply referred to as hydrophilic resin particles)
Alternatively, hydrophilic resin particles forming a high-order network structure (hereinafter simply referred to as network hydrophilic resin particles) are photoconductive zinc oxide 1
It is preferable to use it in an amount of 0.1 to 5% by weight based on 0.00 weight parts.

親水性樹脂粒子又は網目親水性樹脂粒子が0.1重量%
より少ないと非画像部の親水性が充分とならず、逆に0
.5重量%より多いと非画像部の親水性の向上は更に図
られるが、電子写真特性が劣化し、複写画像が悪化して
しまう。
0.1% by weight of hydrophilic resin particles or mesh hydrophilic resin particles
If the amount is less than 0, the hydrophilicity of the non-image area will not be sufficient;
.. When the amount is more than 5% by weight, the hydrophilicity of the non-image area can be further improved, but the electrophotographic properties deteriorate and the copied image deteriorates.

本発明の親水性樹脂粒子には、合成親水性樹脂と天然親
水性樹脂とがあり、本発明ではいずれも好ましく用いる
ことができる。
The hydrophilic resin particles of the present invention include synthetic hydrophilic resins and natural hydrophilic resins, and both can be preferably used in the present invention.

また、網目親水性樹脂粒子は、これらを改質したものが
好ましく用いられる。
Furthermore, as the network hydrophilic resin particles, those obtained by modifying these are preferably used.

例えば、P、1Jolyneax  rWater−5
oluble 5ynthetic  Polymer
s  :  Properties  and  Be
havior  JVol  I及びVol II  
CRCPress、Inc、  (1982年)C1^
、Pinch  rchemistry and Te
chnology ofWater−3oluble 
PolymersJPlenam Press (19
73年)、中村亦夫「水溶性高分子」化学工業社(19
68年)、界面化学研究会「水溶性高分子水分散型樹脂
の最新加工・改質技術と用途開発」経営開発センター出
版部(1981年) 、Dav+d−son  rWa
ter 5oluble Re5in JReinho
ld (1968年)等の総説引例の材料が挙げられる
。
For example, P,1Jolyneax rWater-5
olable 5ynthetic Polymer
s: Properties and Be
havior JVol I and Vol II
CRC Press, Inc. (1982) C1^
, Pinch chemistry and Te
Chnology of Water-3olable
PolymersJPlenam Press (19
1973), Nobuo Nakamura “Water-Soluble Polymer” Kagaku Kogyosha (19
1968), Surface Chemistry Study Group, “Latest processing/modification technology and application development of water-soluble polymer water-dispersed resins” Management Development Center Publishing Department (1981), Dav+d-son rWa
ter 5olable Re5in JReinho
ld (1968) and other review articles.

このうち、合成親水性樹脂としては、分子構造中に、エ
ーテル基、エチレンオキサイド基、−囲碁、−811基
、−C0011基、−3O,l+基、−303H基、J
O−R2基、−CN基、−CONIl、基、−CI団基
、−3O,R,基、窒素原子を少なくとも1個含有する
4員〜6員環複素環又はオルガノシラン基から選ばれた
親水性基を少なくとも1種含有するものが挙げられる。
Among these, synthetic hydrophilic resins include ether groups, ethylene oxide groups, -Go, -811 groups, -C0011 groups, -3O,l+ groups, -303H groups, J
selected from O-R2 group, -CN group, -CONIl, group, -CI group, -3O,R, group, 4- to 6-membered heterocyclic ring containing at least one nitrogen atom, or organosilane group Examples include those containing at least one type of hydrophilic group.

上記親水性基において、R8は炭素数1〜6の置換され
てもよい炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、2−クロロエニル基、2−ブロム
エチル基、2−フロロエチル基、3−クロロプロピル基
、3−メトキシプロピル基、2−メトキシブチル基、ベ
ンジル基、フェニル基、プロペニル基、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、2−メトキシエチルμ等)を表
す。
In the above hydrophilic group, R8 is an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroenyl group, 2-bromoethyl group, 2-fluoroethyl group). group, 3-chloropropyl group, 3-methoxypropyl group, 2-methoxybutyl group, benzyl group, phenyl group, propenyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-methoxyethyl μ, etc.).

R3は、炭素数1〜6の置換されてもよい脂肪基(具体
的には、R1と同様の置換基を表わす)又は=OR’ 
(R’はR1と同一の内容を表わす)を表わす。
R3 is an optionally substituted aliphatic group having 1 to 6 carbon atoms (specifically, represents the same substituent as R1) or =OR'
(R' represents the same content as R1).

R3及びR1は各々同じでも異なってもよく、水素原子
又は炭素数1〜6の置換されてもよい炭化水素基(具体
的には、R1と同一の内容を表わす)を表わす。但し、
R5及びR1の炭素数の総和は8以内のものを表わす。
R3 and R1 may be the same or different, and represent a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (specifically, the same content as R1). however,
The total number of carbon atoms in R5 and R1 is 8 or less.

Rs、 Rs及びR7は、各々、同じでも異なってもよ
く、Ra、R4と同一の内容を表わす。
Rs, Rs and R7 may each be the same or different and represent the same content as Ra and R4.

xeは、陰イオンを表わし、例えば、ハロゲンイオン(
例えば、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等)、
バークロレートイオン、テトラフッ素ボレートイオン、
ヒドロオキシイオン、カルボキシレートイオン(例えば
、アセトネートイオン、プロピオネートイオン等)、ス
ルホネートイオン(例えば、メタンスルホネートイオン
、ベンゼンスルホネートイオン、p−トルエンスルホネ
ートイオン等)が挙げられる。
xe represents an anion, for example, a halogen ion (
For example, chloride ions, bromide ions, iodine ions, etc.)
barchlorate ion, tetrafluoroborate ion,
Examples include hydroxyl ions, carboxylate ions (eg, acetonate ions, propionate ions, etc.), and sulfonate ions (eg, methanesulfonate ions, benzenesulfonate ions, p-toluenesulfonate ions, etc.).

rは、1又は2を表わし、r=1の場合は、−R3−,
において少なくとも1種の酸性基(−3O,H。
r represents 1 or 2, and when r=1, -R3-,
at least one acidic group (-3O,H.

−PO,l+2.−COOII )が置換基として含有
される。
-PO, l+2. -COOII) is contained as a substituent.

る。Ru.

又、上記−COOII基、−3O2H基、−3O,H基
、−Po、112基、−P−R,基は各々、アルカリ金
属(例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等)、ア
ルカリ土類金属(例えば、カルシウム、マグネシウム等
)、亜鉛、アルミニウム等の金属塩又は有機塩基(例え
ば、トリエチルアミン、ピリジン、モルホリン、ピペラ
ジン等)との塩を形成していてもよい。
In addition, the -COOII group, -3O2H group, -3O,H group, -Po, 112 group, and -P-R group each represent an alkali metal (e.g., lithium, sodium, potassium, etc.), an alkaline earth metal ( For example, salts with metal salts such as calcium, magnesium, etc.), zinc, aluminum, etc., or salts with organic bases (eg, triethylamine, pyridine, morpholine, piperazine, etc.) may be formed.

又、上記の窒素原子を少なくと61個含有する4員〜6
員環形成の複素環としては、例えば、ピリジン環、ピペ
リジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラジン環、
ピロリジン環、ビロリン環、イミダシリン環、イミダシ
リン環、ピラゾリジン環、ピペラジン環、モルホリン環
、ピロリドン環等が挙げられる。これらの複素環は置換
基を含有してもよ<、置換基としては、例えば、ハロゲ
ン原子(ブッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数
1〜8の置換されてもよい炭化水素基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロモエチル基、2ヒドロキシエチル基、2
−シアノエチル基、2メトキシエチル基、2−エトキシ
エチル基、2ブトキシエチル基、2−カルボキシエチル
基、カルボキシメチル基、3−スルホプロピル基、4ス
ルホブチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
エトキシカルボニルエチル基、2−メタンスルホニルエ
チル基、ベンジル基、カルボキシベンジル基、カルボキ
シメチルベンジル基、フェニル基、カルボキシフェニル
基、スルホフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、
エタンスルホニルフェニル基、カルボキシメチルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基等)、0
11’(R’は、上記炭素数1〜8の置換されてもよい
炭化水素基と同一の内容を表わす)又は−〇001〜基
 (R”はR′と同一の内容を表わす)等が挙げられる
。
Also, a 4- to 6-membered compound containing at least 61 of the above nitrogen atoms.
Examples of membered heterocycles include pyridine rings, piperidine rings, pyrrole rings, imidazole rings, pyrazine rings,
Examples include a pyrrolidine ring, viroline ring, imidacilline ring, imidacilline ring, pyrazolidine ring, piperazine ring, morpholine ring, and pyrrolidone ring. These heterocycles may contain substituents, such as halogen atoms (fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, etc.), optionally substituted hydrocarbons having 1 to 8 carbon atoms. groups (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2
-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-butoxyethyl group, 2-carboxyethyl group, carboxymethyl group, 3-sulfopropyl group, 4-sulfobutyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
Ethoxycarbonylethyl group, 2-methanesulfonylethyl group, benzyl group, carboxybenzyl group, carboxymethylbenzyl group, phenyl group, carboxyphenyl group, sulfophenyl group, methanesulfonylphenyl group,
ethanesulfonylphenyl group, carboxymethylphenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, etc.), 0
11'(R' represents the same content as the above-mentioned optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms) or -0001~ group (R" represents the same content as R'), etc. Can be mentioned.

又、オルガノシラン基としては、例えば、下記一般式(
IV)で示される繰返単位が挙げられる。
In addition, as an organosilane group, for example, the following general formula (
Examples include repeating units represented by IV).

式(rV)中、Aは、炭素数1〜4の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル
基、2−シアノエチル基等)−OR−(R〜は、A中の
炭素数1〜4の置換されてもよいアルキル基と同一の内
容を表わす)、又は“Z”基〔zはトリメチルシロキシ
、ペンタメチルジシロキサニル、ヘプタメチル) IJ
シロキサニル、ノナメチルテトラシ口:トサニル、ビス
(トリメチルシロキシ)メチルシロキサニル、トリス(
トリメチルシロキシ)シロキサニル等を表わす〕を表わ
す。
In formula (rV), A is an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2- cyanoethyl group, etc.) -OR- (R~ represents the same content as the optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in A), or "Z" group [z is trimethylsiloxy, pentamethylsiloxy, Siloxanyl, heptamethyl) IJ
Siloxanyl, nonamethyltetracyclate: tosanyl, bis(trimethylsiloxy)methylsiloxanyl, tris(
(trimethylsiloxy)siloxanyl, etc.].

Wlは、炭素数1〜6の置換されてもよいアルキル基(
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシプロ
ピル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチル基
、2−ヒドロキシ−3−クロロ−プロピル基、2−クロ
ロエチルM ”IF )、−〇R′″’  (R″″は
R#と同一の内容を表わす)又は炭素数1〜6の2価の
炭化水素基を介してビニル、メタクリルオキシ、アクリ
ルオキシ、メタクリルアミド、アクリルアミド、スチリ
ルあるいはアリル等から成る群から選択される不飽和結
合が重合して他の繰り返し単位に連結する基を表わす。
Wl is an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (
For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Hexyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxy-3-chloro-propyl group, 2-chloroethyl M "IF", -〇R''' (R″″ represents the same content as R#) or vinyl, methacryloxy, acryloxy, methacrylamide, acrylamide, styryl, allyl, etc. via a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Represents a group in which an unsaturated bond selected from the group is polymerized and linked to other repeating units.

aは、0又は1〜10の整数であり、aの値の合計は少
なくとも2であることを表わす。
a is 0 or an integer from 1 to 10, and represents that the sum of the values of a is at least 2.

本発明の親水性樹脂は、以上の如き親水性基の少なくと
も1種を重合体側鎖に含有する重合成分を含むホモ重合
体あるいは共重合体であり、該重合成分が該樹脂中の重
合成分として20重量%〜100重量%、好ましくは3
0重M%〜100重量%含まれるものである。
The hydrophilic resin of the present invention is a homopolymer or copolymer containing a polymeric component containing at least one of the above hydrophilic groups in the polymer side chain, and the polymeric component is a polymeric component in the resin. 20% to 100% by weight, preferably 3
It is contained in an amount of 0% to 100% by weight.

更に具体的に、この親水性基含有重合成分の例を一般式
(V)で示す。
More specifically, an example of this hydrophilic group-containing polymerization component is shown by general formula (V).

′FcヒC七   (V) −W−Y 式(V)中、Xは、−coo−、−coc−、−o−。'FchiC7   (V) -W-Y In formula (V), X is -coo-, -coc-, -o-.

o      z、      z、     z。o     z,     z,     z.

で2..22は各々水素原子又は炭素数1〜7の炭化水
素基(好ましくは、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−ヒドロキ
シエチル基、3−ブロム−2−ヒドロキシプロピル基、
2−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル基、
4−カルボキシブチル基、3−スルホプロピル基、ベン
ジル基、スルホベンジル基、メトキシベンジル基、カル
ボキシベンジル基、フェニル基、スルホフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、2−メト
キシエチル基、3−メトキシプロピル基、2−メタンス
ルホニルエチル基、2−シアノエチル基、N、N(ジク
ロロエチル)アミノベンジル基、N、N(ジヒドロキシ
エチル)アミノベンジル基、クロロベンジル基、メチル
ベンジル基、N、N(ジヒドロキシエチル)アミノフェ
ニル基、メタンスルホニルフェニル基、シアノフェニル
基、ジシアノフェニル基、アセチルフェニル基等)を表
わし、2、 、2.は同一でも異なってもよく、水素原
子、ハロゲン原子(好ましくは、例えばフッ素原子、塩
素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4の脂肪族基(好
ましくは、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基等)を表わし、 nは1〜6の整数を表わす。〕 h。
So 2. .. 22 is each a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms (preferably, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-bromo-2- hydroxypropyl group,
2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group,
4-carboxybutyl group, 3-sulfopropyl group, benzyl group, sulfobenzyl group, methoxybenzyl group, carboxybenzyl group, phenyl group, sulfophenyl group, carboxyphenyl group, hydroxyphenyl group, 2-methoxyethyl group, 3- Methoxypropyl group, 2-methanesulfonylethyl group, 2-cyanoethyl group, N,N(dichloroethyl)aminobenzyl group, N,N(dihydroxyethyl)aminobenzyl group, chlorobenzyl group, methylbenzyl group, N,N( dihydroxyethyl) aminophenyl group, methanesulfonylphenyl group, cyanophenyl group, dicyanophenyl group, acetylphenyl group, etc. may be the same or different, and may be a hydrogen atom, a halogen atom (preferably, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or an aliphatic group having 1 to 4 carbon atoms (preferably, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.). group, butyl group, etc.), and n represents an integer of 1 to 6. ] h.

(−c=c→ 、−coo−、−oco−、−o−−5
bs       b、、       b。
(-c=c→ , -coo-, -oco-, -o--5
bs b,, b.

−NHCONH−又は −C−から選択される連結基又
はこれらの連結基の組合せによって形成される結合基を
表わす。
Represents a linking group selected from -NHCONH- or -C- or a linking group formed by a combination of these linking groups.

〔ここで、b1〜b4は各々同じでも異なってもよく、
水素原子、ハロゲン原子(好ましくは、例えば、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜7の炭化
水素基(好ましくは、例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−メトキ
シエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、ベンジ
ル基、メトキシベンジル基、フェニル基、メトニドジフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基等)又は式(
V)の−〔トY〕基を表わし、 bs−b7は上記の21. Lの内容と同一のものを表
わす。〕 Yは、前記した親水性基を表わし、−OH基、−311
基、−CI−10基、−CN基、−COO11基、−3
O2H基、1個含む4員〜6員の複素環又はオルガノシ
ラノ基を表わす。
[Here, b1 to b4 may be the same or different,
Hydrogen atom, halogen atom (preferably, for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.) or a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms (preferably, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2 -chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, benzyl group, methoxybenzyl group, phenyl group, metonide diphenyl group, methoxycarbonylphenyl group) or formula (
V) represents the -[tY] group, and bs-b7 represents the above 21. Represents the same content as L. ] Y represents the above-mentioned hydrophilic group, -OH group, -311
group, -CI-10 group, -CN group, -COO11 group, -3
It represents a 4- to 6-membered heterocycle containing one O2H group or an organosilano group.

〔ここで、R1−R1は前記のR,−R,の内容と同一
のものを表わす。〕 又式(V)において、Yは重合体主鎖に直結してもよい
し、あるいはXが一ロー Xに直結してもよい。
[Here, R1-R1 represents the same contents as R, -R, above. ] In formula (V), Y may be directly bonded to the main chain of the polymer, or X may be directly bonded to one row X.

al * asは、各々同じでも異なってもよく、水素
原子、ハロゲン原子(好ましくは、例えば、フッ素原子
、塩素原子、臭素原子等)、〜C00II基、−CDO
R3基、−[’H,[”00R1基 (Rsは炭素数1
〜7の炭化水素基を表わし、具体的には、前記2. 、
2.の炭化水素基と同様の内容が挙げられる)又は炭素
数1〜4のアルキル基(好ましくは、例えば、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基等)を表わす。
al*as may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (preferably, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a ~C00II group, -CDO
R3 group, -['H, [''00R1 group (Rs has 1 carbon number
-7 hydrocarbon group, specifically, the above-mentioned 2. ,
2. ) or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (preferably, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.).

以下に、更に具体的に」−記の親水性基含有重合成分を
例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない
。
More specifically, hydrophilic group-containing polymerization components indicated by "-" are illustrated below, but the present invention is not limited thereto.

Z。Z.

a a:  −C113。a a: -C113.

CD D H −(CIl□−CH−) [:0NII2゜ C0NHC2H5゜ 0OH COOCI+3 1l −CONII、l −SO□N]12 −(CH2−C−) −C)13゜ I C0NH(CIl□七旧1 n; 1〜12の整数 L: U U (L: II 2t S U s If
整数 M: Li、 Na、 K。
CD D H -(CIl□-CH-) [:0NII2゜C0NHC2H5゜0OH COOCI+3 1l -CONII,l -SO□N]12 -(CH2-C-) -C)13゜I C0NH(CIl□7old 1 n; integer from 1 to 12 L: U U (L: II 2t S U s If
Integer M: Li, Na, K.

H−N(C2H5) 3 a: ■。H-N(C2H5) 3 a: ■.

CL −(CHz −C+ [:0NH2 aニ ーH。C.L. -(CHz -C+ [:0NH2 a ni -H.

CH。CH.

−(CII 、 −C1l−) Y: −Nl+2 し1h−ULIJ (1,:112)rlt:旧111 整数 −(CIl□−C+ CD (CI+2)28IICO(C112) l、C
口OHaニ ーII。
-(CII, -C1l-) Y: -Nl+2 1h-ULIJ (1,:112) rlt: Old 111 Integer -(CIl□-C+ CD (CI+2)28IICO(C112) l, C
Mouth OHa Knee II.

−CH。-CH.

口: 1〜10の整数 −(CH。Mouth: Integer from 1 to 10 -(CH.

CD− C00(C112)、、OC1](C112)、COO
1+11゜ −CI+、。
CD-C00 (C112), OC1] (C112), COO
1+11°-CI+,.

−C)I2COOCH。-C) I2COOCH.

n: 2〜lOの整数 −(CH2−C−) m: 1−10の整数 (但しくn+m) がlO以下) COD (C112) 2(1(:11 (Cllz)
 nCO[]ll−H1 −CI+。
n: An integer from 2 to 1O - (CH2-C-) m: An integer from 1 to 10 (however, n+m is less than or equal to 1O) COD (C112) 2(1(:11 (Cllz)
nCO[]ll-H1-CI+.

−(C11,−C−) Con(C112C11211−hOcl(+:112
)、C00I+a:  −If。
-(C11, -C-) Con(C112C11211-hOcl(+:112
), C00I+a: -If.

C11,。C11,.

I −(CH2−C+ [11〜4の整数 0口0(CH□)20COC)I=CHC0011 m:l〜4の整数 a二  −11,−C)!、。I -(CH2-C+ [Integer from 11 to 4 0mouth0(CH□)20COC)I=CHC0011 m: integer from l to 4 a2 -11, -C)! ,.

CH2C00CH3 −(CH。CH2C00CH3 -(CH.

C± aニ −CH,。C± a ni -CH,.

H COD(CtL)2−3O2CH3 −(CH2−C−) COD (CH2) 2N (C113) 2a:  
it  、  −CL −(Ctl x−咋 ■ −CH。
H COD(CtL)2-3O2CH3 -(CH2-C-) COD (CH2) 2N (C113) 2a:
it, -CL-(Ctl x-咋■-CH.

C0D(CH2)2N (C112CII□O11)2
a: C11s −(CL−C−) Cfln (C112) 2NII[’:n (C7)
 acfl[INa a: =11゜ Cll3゜ CIl□C0DCI+。
C0D(CH2)2N (C112CII□O11)2
a: C11s -(CL-C-) Cfln (C112) 2NII[':n (C7)
acfl[INa a: =11°Cll3°CIl□C0DCI+.

−(C11,−CI+−) COOC!(2C112Sl+ CH3 −(CH,−C−) CODCII□CIICLDCD(CI42)2COO
)1CH3 −(C’)1.−C−)− C=0 以上のような親水性基含有重合体成分とともにC11、
C00+1 共重することのできる他の重合体成分として例え一般式 で示されるものが挙げられ、 これら −([ニーCl1−CH,C(ト)− OJa のうちの1種又は2種以上を共重させることかできる。
-(C11, -CI+-) COOC! (2C112Sl+ CH3 -(CH, -C-) CODCII□CIICLDCD(CI42)2COO
)1CH3-(C')1. -C-)-C=0 Together with the above hydrophilic group-containing polymer component, C11,
C00+1 Examples of other polymer components that can be copolymerized include those represented by the general formula. You can make it heavier.

−(N−CII2CIIr)− COCll。-(N-CII2CIIr)- COCll.

式 Pは式 (V) 中のXと同一の内容 を表わす。formula P is the formula (V) Same content as the X inside represents.

Qは、 炭素数1〜1 8の置換されてもよいアル キル基 (例えば、 メチル基、 エチル基、 プロビル 基、ブチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ト
リデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−ク
ロロエチル基、3−ブロモプロピル基、2−メトキシカ
ルボニルエチル基、4−メトキカルポニルブチル基、4
−メトキシブチル基、3−クロロ−2−メトキシプロピ
ル基、3−クロロ−2−エトキシカルボニルプロビル基
、2−グリシジルプロピル基、3−ブロモ−2−アセチ
ルオキシルプロピル基等)、炭素数2〜20の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等
)、炭素数5〜I2の置換さでもよい脂環式基(例えば
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル
基、クロロシクロヘキシル基、ブロモシクロヘキシル基
、2−シクロヘキシルエチル基、シクロヘキシルメチル
基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル
基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニル
プロピル基、エチル−2−フェニルエチル基、ナフチル
メチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、
ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジ
ル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ジメトキシベンジル基、トリメトキ
シベンジル基、メトキシカルボニルベンジル基、アセト
アミドベンジル基等)、炭素数6〜12の置換されても
よいアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、キシ
リル基、メシチレン基、ナフチル基、クロロフェニル基
、ジクロロフェニル基、トリクロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フロロフェニル基、メトキシフェニル基、ク
ロロ−メチル−フェニル基、メチル−メトキシ−フェニ
ル基、ニトロフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、アセトアミドフェニル基、エトキシフェニル基、ク
ロロナフチル基、エトキシカルボニルナフチル基、プロ
ピルフェニル基、ブチルフェニル基、クロロメチルフェ
ニル基、メトキシメチルフェニル基、N−メチルアミノ
スルフェニル基等)、又は4〜7員環の複素環(前記し
た親水性を示す窒素原子含有の複素環以外の複素環であ
ればいずれでもよく、例えば、チオフェン環、フラン環
、ピラン環、ベンゾピラン環、ビロール通、インドール
環、キノリン環、チアゾール環、オキサゾール環、ベン
ゾチアゾール環、等が挙げられ、これらの環は置換基を
含有してもよい。この置換基としては、前記した式(V
l)中のQと同様の内容を表わす)。
Q is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, probyl group, butyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 3-bromopropyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 4-methoxycarbonylbutyl group, 4
-methoxybutyl group, 3-chloro-2-methoxypropyl group, 3-chloro-2-ethoxycarbonylpropyl group, 2-glycidylpropyl group, 3-bromo-2-acetyloxylpropyl group, etc.), carbon number 2- 20 optionally substituted alkenyl groups (e.g. vinyl group, allyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 5 to 12 carbon atoms (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, chlorocyclohexyl group, bromo cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, cyclohexylmethyl group), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, ethyl-2-phenylethyl group) , naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group,
(dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethoxybenzyl group, trimethoxybenzyl group, methoxycarbonylbenzyl group, acetamidobenzyl group, etc.), carbon atoms of 6 to 12 Aryl groups that may be substituted (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesitylene group, naphthyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trichlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, methoxyphenyl group, chloro-methyl - phenyl group, methyl-methoxy-phenyl group, nitrophenyl group, methoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, ethoxyphenyl group, chloronaphthyl group, ethoxycarbonylnaphthyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, chloromethylphenyl group, methoxymethylphenyl group, N-methylaminosulfenyl group, etc.), or a 4- to 7-membered heterocycle (any heterocycle other than the nitrogen atom-containing heterocycle exhibiting hydrophilicity described above may be used, for example, Examples include a thiophene ring, a furan ring, a pyran ring, a benzopyran ring, a virol ring, an indole ring, a quinoline ring, a thiazole ring, an oxazole ring, a benzothiazole ring, and these rings may contain a substituent. As a substituent, the above-mentioned formula (V
1) represents the same content as Q in).

天然親水性樹脂としては、特に前記した水溶性高分子水
分散型樹脂の総合技術資料集(経営開発センター出版f
f1s)に詳しく記載されているが、例エバリグニン、
澱粉、プルラン、セルロース、アルギン酸、デキストラ
ン、デキストリン、グアーガム、アラビアゴム、グリコ
ーゲン、ラミナラン、リケニン、ニゲラン等、及びその
誘導体等が挙げられる。
As natural hydrophilic resins, in particular, the above-mentioned comprehensive technical data collection of water-soluble polymer water-dispersible resins (Management Development Center Publishing f.
f1s), for example, everignin,
Examples include starch, pullulan, cellulose, alginic acid, dextran, dextrin, guar gum, gum arabic, glycogen, laminaran, lichenin, nigeran, and derivatives thereof.

この誘導体としては、特にスルホン化、カルボキシル化
、リン酸化、スルホアルキレン化、又はカルボキシアル
キレン化、アルキルリン酸化したもの、及びその塩が好
ましい。
As the derivative, particularly preferred are sulfonated, carboxylated, phosphorylated, sulfoalkylenated, carboxyalkylenated, alkylphosphorylated derivatives, and salts thereof.

本発明において、天然親水性樹脂は2種以上併用して用
いてもよい。
In the present invention, two or more natural hydrophilic resins may be used in combination.

また、天然親水性樹脂の中では、グルコース重合体、及
びその誘導体が好ましく、グルコース重合体、及びその
誘導体の中でも、澱粉、グリコーゲン、セルロース、リ
ケニン、デキストラン、ニゲラン等が好ましく、特にデ
キストラン、及びその誘導体が好ましい。
Among natural hydrophilic resins, glucose polymers and derivatives thereof are preferred, and among glucose polymers and derivatives thereof, starch, glycogen, cellulose, lichenin, dextran, nigeran, etc. are preferred, and dextran and its derivatives are preferred. Derivatives are preferred.

以上の合成・天然親水性樹脂を、前述のような特定の粒
子径を有する微粒子とするには、従来公知の乾式及び湿
式の方法が採用できる。即ち、該親水性樹脂粉体を、従
来公知の粉砕機で直接粉砕し、微粒子とする方法(例え
ば、ボールミル、ペイントシェーカー、ジェットミル、
ハンマーミル等を使用する方法)と、高分子ラテックス
粒子とする方法を用いることができる。後者の高分子ラ
テックス粒子とする方法としては、従来公知の塗料ある
いは静電写真用液体現像材のラテックス粒子を製造する
方法を用いることができる。即ち、該親水性樹脂を分散
用ポリマーを併用して分散する方法で、該親水性樹脂と
分散補助ポリマー(又は被覆ポリマー)を予め混練して
混練物とした後粉砕し、次に分散ポリマーを共存させて
分散する方法である。
In order to form the above synthetic/natural hydrophilic resin into fine particles having a specific particle size as described above, conventionally known dry and wet methods can be employed. That is, the hydrophilic resin powder is directly pulverized with a conventionally known pulverizer to form fine particles (for example, a ball mill, a paint shaker, a jet mill,
A method using a hammer mill etc.) and a method of forming polymer latex particles can be used. As a method for producing the latter polymer latex particles, a conventionally known method for producing latex particles for paints or liquid developing materials for electrostatic photography can be used. That is, in a method of dispersing the hydrophilic resin in combination with a dispersing polymer, the hydrophilic resin and the dispersion-assisting polymer (or coating polymer) are kneaded in advance to form a kneaded product, which is then pulverized, and then the dispersed polymer is This is a method of coexisting and dispersing.

具体的には、例えば、植木憲二監訳[塗料の流動と顔料
分散]共立出版(1971年)、「ソロモン、塗料の化
学」、r Pa1nt and SurfaceCoa
ting theory and practice 
」、原崎勇次「コーティング工学」朝食書店(1971
年)、原崎勇次「コーティングの基礎科学」槙書店(1
977年)、特開昭62−96954号、同62−11
5171号、同62−75651号公報等の底置に記載
されている。
Specifically, for example, translated by Kenji Ueki [Paint Flow and Pigment Dispersion] Kyoritsu Shuppan (1971), "Solomon, Chemistry of Paint", rPaint and SurfaceCoa
ting theory and practice
”, Yuji Harasaki “Coating Engineering” Breakfast Bookstore (1971
), Yuji Harasaki “Basic Science of Coatings” Maki Shoten (1)
977), JP-A-62-96954, JP-A No. 62-11
No. 5171, No. 62-75651, and the like.

また、懸濁重合法、分散重合法等の従来公知の重合反応
で容易に該親水性樹脂のラテックス粒子を得る方法を用
いることもできる。
Alternatively, a method for easily obtaining latex particles of the hydrophilic resin by a conventionally known polymerization reaction such as a suspension polymerization method or a dispersion polymerization method can also be used.

具体的には、室井宗−「高分子ラテックスの化学」高分
子刊行会(1970年)、奥田平、稲垣寛[合成樹脂エ
マルジョン」高分子刊行会(1978年)、室井宗−「
高分子ラテックス入門」工文社(1983年)等の底置
に記載されている。
Specifically, So Muroi - "Chemistry of polymer latex" Kobunshi Publishing (1970), Taira Okuda, Hiroshi Inagaki [Synthetic Resin Emulsion] Kobunshi Publishing (1978), So Muroi - "
It is described in the bottom of ``Introduction to Polymer Latex'', Kobunsha (1983), etc.

本発明においては、高分子ラテックス粒子とする方法が
好ましく、この方法により容易に平均粒子径1.0μm
以下の樹脂粒子とすることができる。
In the present invention, a method of forming polymer latex particles is preferred, and by this method, it is possible to easily obtain particles with an average particle diameter of 1.0 μm.
The following resin particles can be used.

ところで、本発明の電子写真式平版印刷用原版において
は、光導電層を形成する場合、光導電性酸化亜鉛を水系
で分散する方法(例えば、特公昭51−450号、同4
7−18599号、同46−41350号等)及び非水
溶媒系で分散する方法(例えば、前記した特公昭50〜
31011号、特開昭53−54027号、同54−2
0735号、同57−202544号、同58−680
46号等)のいずれかでもよいが光導電層中に水が残留
すると、電子写真特性を阻害するため、非水溶媒系で分
散する方法が好ましい。従って、本発明の親水性樹脂の
ラテックス粒子を、非水系で分散された光導電層中に充
分に分散させるために、該ラテックス粒子も非水系ラテ
ックスであることが好ましい。
By the way, in the electrophotographic lithographic printing original plate of the present invention, when forming a photoconductive layer, a method of dispersing photoconductive zinc oxide in an aqueous system (for example, Japanese Patent Publication No. 51-450, No. 4) is used.
No. 7-18599, No. 46-41350, etc.) and methods of dispersing in non-aqueous solvents (for example,
No. 31011, JP-A No. 53-54027, JP-A No. 54-2
No. 0735, No. 57-202544, No. 58-680
No. 46, etc.), but if water remains in the photoconductive layer, the electrophotographic properties will be impaired, so a method of dispersing in a non-aqueous solvent is preferred. Therefore, in order to sufficiently disperse the latex particles of the hydrophilic resin of the present invention in the non-aqueous dispersed photoconductive layer, it is preferable that the latex particles are also non-aqueous latex.

非水系ラテックスに用いられる非水溶媒としては、沸点
200℃以下の有機溶媒であればいずれでもよく、それ
は単独であるいは2種以上を混合して使用してもよい。
The non-aqueous solvent used in the non-aqueous latex may be any organic solvent as long as it has a boiling point of 200° C. or less, and it may be used alone or in combination of two or more.

この有機溶媒の具体例は、メタノール、エタノール、プ
ロパツール、ブタノール、フッ化アル中−ル、ヘンシル
シルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン、ジエチルケトン等のケトン
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、プロピオン酸メチル等のカルボン酸エステル類、ヘ
キサン、オクタン、デカン、トチ゛カン、トリデカン、
シクロへ手サン、シクロオクタン等の炭素数6〜14の
脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
ロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレンクロリド
、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロホルム
、メチルクロロホルム、ジクロロプロパン、トリクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。
Specific examples of this organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propatool, butanol, alcohol fluoride, and hexylsilkol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and diethyl ketone, diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane. ethers such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, etc., hexane, octane, decane, tridecane, tridecane, etc.
Aliphatic hydrocarbons having 6 to 14 carbon atoms such as cyclohexane and cyclooctane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene, methylene chloride, dichloroethane, tetrachloroethane, chloroform, methylchloroform, Examples include halogenated hydrocarbons such as chloropropane and trichloroethane.

これらの非水溶媒系で高分子ラテックスを分散重合法で
合成すれば、ラテックス粒子の平均粒子径は容易に1μ
m以下となり、しかも粒子径の分布が非常に狭く且つ単
分散の粒子とすることができる。
If polymer latex is synthesized using dispersion polymerization in these non-aqueous solvent systems, the average particle diameter of latex particles can easily be reduced to 1 μm.
m or less, and the particle size distribution is very narrow and monodisperse particles can be obtained.

具体的には、に、B、J、Barrett  r Di
spersionPolymerization  i
n  Ouganic  Media  J  Joh
n  Wiley(1975年)、村田耕一部、高分子
加工、23.20 (1974)、松本恒隆・丹下豊吉
、日本接着協会誌9.183(1973)、丹下豊吉、
日本接着協会誌23.26 (1987) 、口、J、
  WaIbridge  、  NAT口、Adv、
5tudy、rnst、Ser、B、   Na67 
.40 (1983)、B、P、893429号、B、
P、93403H号、ll5P1122397号、US
P 3900412号、tlsP 4606989号、
特開昭60−179751号、同60−185963号
等にその方法が開示されている。
Specifically, B, J., Barrett r Di
spersion Polymerization i
n Organic Media J John
n Wiley (1975), Koichi Murata, Polymer Processing, 23.20 (1974), Tsunetaka Matsumoto and Toyokichi Tange, Japan Adhesive Association Journal 9.183 (1973), Toyokichi Tange,
Japan Adhesive Association Journal 23.26 (1987), Kuchi, J.
WaIbridge, NAT port, Adv,
5tudy,rnst,Ser,B,Na67
.. 40 (1983), B, P, No. 893429, B,
P, No. 93403H, No. ll5P1122397, US
P 3900412, tlsP 4606989,
The method is disclosed in JP-A-60-179751 and JP-A-60-185963.

また、網目親水性樹脂粒子としては、具体的には、ポリ
マーの繰り返し単位の少なくとも1つの構造中に−H,
−311,−C口011.−3O211,−5O4H,
−CN。
In addition, the network hydrophilic resin particles specifically include -H,
-311, -C port 011. -3O211, -5O4H,
-CN.

−CONIl、、 −CIIO,−5O,R,。-CONIl, -CIIO, -5O,R,.

エーテル基、エチレンオキサイド基、4員〜6員環形成
の複素環又はオルガノシラン基から選ばれた親水性基を
少なくとも11!1含有するものが挙げられる。
Examples include those containing at least 11:1 hydrophilic groups selected from ether groups, ethylene oxide groups, 4- to 6-membered heterocycles, and organosilane groups.

上記親水性基において、R6は炭素数1〜4の置換され
てもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−ブロム
エチル基、2−フロロエチル基、3−クロロプロピル基
、3−メトキシプロピル基、メトキシエチル基、エトキ
シメチル基、2−メトキシエチル基等)を表わす。
In the above hydrophilic group, R6 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-fluoroethyl group) , 3-chloropropyl group, 3-methoxypropyl group, methoxyethyl group, ethoxymethyl group, 2-methoxyethyl group, etc.).

R3は、炭素数1〜4の置換されてもよいアルキル基(
具体的には、R5と同様の置換基を表わす)又は−OR
’ (R’はLと同一の内容を表わす)を表わす。
R3 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (
Specifically, it represents the same substituent as R5) or -OR
'(R' represents the same content as L).

R3及びR4は、各々同じでも異なってもよく、水素原
子又は炭素数1〜4の置換されてもよいアルキル基(具
体的には、R3と同一の内容を表わす)を表わす。但し
、R3及びR1の炭素数の総和は6以内のものを表わす
。
R3 and R4 may be the same or different, and represent a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (specifically, the same content as R3). However, the total number of carbon atoms in R3 and R1 is 6 or less.

Rs 、 Rs及びR1は、各々、同じでも異なっても
よく、Ra 、 R4と同一の内容を表わす。
Rs, Rs and R1 may be the same or different, and represent the same content as Ra and R4.

Xe、rは、前述の親水性樹脂粒子のXe、rと同じで
ある。
Xe and r are the same as those of the hydrophilic resin particles described above.

又、4員〜6員環を形成する複素環としては、例えば、
フラン環、ピラン環、テトラヒドロフラン環、ピリジン
環、ピペリジン環、ビロール環、イミダゾール環、ピラ
ジン環、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環
、イミダシリン環、ピラゾリジン環、ピペラジン環、モ
ルホリン環、ピロリドン環、ジオキサン環、ジオキソラ
ン環、オキサゾリン環、1.3−才キサジン−2オン環
、モルホリンジオン環、モルホリン環等が挙げられる。
In addition, examples of the heterocycle forming a 4- to 6-membered ring include:
Furan ring, pyran ring, tetrahydrofuran ring, pyridine ring, piperidine ring, virol ring, imidazole ring, pyrazine ring, pyrrolidine ring, pyrroline ring, imidazolidine ring, imidacilline ring, pyrazolidine ring, piperazine ring, morpholine ring, pyrrolidone ring, dioxane ring, dioxolane ring, oxazoline ring, 1.3-year old xazin-2one ring, morpholinedione ring, morpholine ring and the like.

これらの複素環は置換基を含有してもよく、置換基とし
ては、例えば、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、
臭素原子等)、炭素数1〜3の置換されてもよいアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、2−
クロロエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエ
チル基、2−メタンスルホニルエチルM等> 、−OR
’ 基(R’は、上記炭素数1〜3の置換されてもよい
アルキル基と同一の内容を表わす)等が挙げられる。
These heterocycles may contain substituents, such as halogen atoms (fluorine atoms, chlorine atoms,
bromine atom, etc.), an optionally substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, 2-
Chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-methanesulfonylethyl M, etc.>, -OR
' group (R' represents the same content as the above-mentioned optionally substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms), and the like.

又、オルガノシラン基としては、前述の親水性樹脂粒子
のオルガノシラン基と同じものが挙げられる。
Further, examples of the organosilane group include the same organosilane groups as those of the hydrophilic resin particles described above.

本発明の網目親水性樹脂は、以上の如き親水性基の少な
くとも1種を重合体側鎖に含有する重合成分を含むホモ
重合体あるいは共重合体であり、前述の親水性樹脂の場
合と同様に、該重合成分が該樹脂中の重合成分として2
0重量%〜100重量%、好ましくは30重量%〜10
0重量%含まれるものである。
The network hydrophilic resin of the present invention is a homopolymer or copolymer containing a polymeric component containing at least one of the above-mentioned hydrophilic groups in the polymer side chain, and as in the case of the hydrophilic resin described above. , the polymerization component is 2 as a polymerization component in the resin.
0% to 100% by weight, preferably 30% to 10% by weight
It contains 0% by weight.

この網目親水性樹脂の具体的な一般式、具体的な成分例
は、前述の親水性樹脂の一般式(V)、成分例(1)〜
(57)と同じである。
The specific general formula and specific component examples of this network hydrophilic resin are the general formula (V) of the hydrophilic resin described above, component examples (1) to
It is the same as (57).

また、天然の網目親水性樹脂としては、具体的には、界
面化学研究会、「水溶性高分子・水分散型樹脂の最新加
工・改質技術と用途開発」経営開発センター出版部(1
981年刊)、中村亦夫、「水溶性高分子」化学工業社
(1973年刊)、R,L、口avidson、   
r  Handbook  of  Water−3o
lubleGums  and  Re5ius  J
   &lcGraw−11i11  ロ00R[’o
mpany(1980年刊) 、r [1ncyclo
pedia of Polymerscience  
and  Bnginearing  J  VOI 
 3  、  p  6 9 〜270 、 John
 Wiley and 5ons  (1985年刊)
等に詳しく記載されている。
In addition, as a natural network hydrophilic resin, specifically, Interface Chemistry Research Group, "Latest processing/modification technology and application development of water-soluble polymers and water-dispersed resins" Management Development Center Publishing Department (1
(published in 1981), Yoshio Nakamura, "Water-soluble polymer" Kagaku Kogyosha (published in 1973), R, L, Kuchi avidson,
r Handbook of Water-3o
lubleGums and Re5ius J
&lcGraw-11i11 ro00R['o
mpany (published in 1980), r [1ncyclo
pedia of Polymerscience
and Bnginearing J VOI
3, p. 69-270, John
Wiley and 5ons (published in 1985)
etc. are described in detail.

具体的には、前述の天然親水性樹脂と同じであり、また
前述の天然親水性樹脂の誘導体と同じ誘導体が挙げられ
る。
Specifically, the same derivatives as the above-mentioned natural hydrophilic resins and the same derivatives as the above-mentioned natural hydrophilic resin derivatives can be mentioned.

本発明の網目親水性樹脂粒子は、以上のような親水性重
合成分からなる重合体の重合体分子鎖間が橋架けされて
おり高次の網目構造を形成している。
The network hydrophilic resin particles of the present invention have a high-order network structure in which the polymer molecular chains of the polymer made of the above hydrophilic polymer components are bridged.

これにより、網目親水性樹脂粒子は水に対して離溶性あ
るいは不溶性となったものである。具体的には、該樹脂
の水への溶解性は、80重量%以下好ましくは50重量
%以下である。
As a result, the network hydrophilic resin particles become releasable or insoluble in water. Specifically, the solubility of the resin in water is 80% by weight or less, preferably 50% by weight or less.

本発明の架橋は、従来公知の架橋方法によって行うこと
ができる。即ち、(1)該親水性重合成分を含有する重
合体を種々の架橋剤あるいは硬化剤によって架橋する方
法、(2)該親水性重合成分に相当する単量体を少なく
とも含有させて重合反応を行う際に重合性官能基を2個
以上含有する多官能性単量体あるいは多官能性オリゴマ
ーを共存させることにより分子間に網目+11ff造を
形成する方法、及び〔3)該親水性重合成分と反応性基
を含有する成分を含む重合体順とを重合反応あるいは高
分子反応によって架橋させる方法等の方法によって行う
ことができる。
The crosslinking of the present invention can be carried out by conventionally known crosslinking methods. That is, (1) a method of crosslinking a polymer containing the hydrophilic polymerization component with various crosslinking agents or curing agents, (2) a method of containing at least a monomer corresponding to the hydrophilic polymerization component and carrying out the polymerization reaction. A method of forming a network +11FF structure between molecules by coexisting a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups during the process, and [3] the hydrophilic polymerization component and This can be carried out by a method such as a method in which a polymer sequence containing a component containing a reactive group is crosslinked by a polymerization reaction or a polymer reaction.

上記(1)の方法の架(i剤としては、通常架橋剤とし
て用いられる化合物を挙げることができる。具体的には
、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社
刊(1981年)、高分子学余線「高分子データハンド
ブック 基礎編」培風館(1986年)等に記載されて
いる化合物を用いることができる。
Examples of the crosslinking agent used in method (1) above include compounds commonly used as crosslinking agents. ), Compounds described in Polymer Science Yoshin "Polymer Data Handbook Basic Edition" Baifukan (1986), etc. can be used.

例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルオリブトキシシラン、T−グリシド
キシプロビルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリエトキシシラン、T−アミノプロピルトリエト
キシシラン等のシランカップリング剤等)、ポリイソシ
アナート系化合物(例えば、トルイレンジイソシアナー
ト、0トルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタン
ジイソシアナート、トリフェニルメタントリイソシアナ
ート、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、ヘキ
サメチレンジイソシアナート、インホロンジイソシアナ
ート、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオール系化
合物(例えば、1.4−ブタンジオール、ポリオキシプ
ロピレングリコール、ポリオキシレンアルキレングリコ
ール、1゜1.1−)リメチロールプロパン等)、ポリ
アミン系化合物(例えば、エチレンジアミン、T−ヒド
ロキシプロピル化エチレンジアミン、フェニレンジアミ
ンへキサメチレンジアミン、N−アミノエチルピペラジ
ン、変性脂肪族ポリアミン類等)、ポリエポキシ基含有
化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編著「新エボ
・トシ樹脂」昭晃堂(1985年刊)、橋本之編著「エ
ポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載
された化合物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一部、
松永英夫編著「エリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社
(1969年刊)等に記載された化合物類)、ポリ (
メタ)シフリレート系化合物(例えば、大河原信、三枝
武夫、東村敏延編「オリゴマー」講談社(1976年刊
)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」テクノシステム
(1985年刊)等に記載された化合物類が挙げられ、
具体的には、ポリエチレングリコールジアクリラート、
ネオペンチルグリコールシアクリラード、■、6−ヘキ
サンシオールジアクリラート、トリメチロールプロパン
トリアルリラート、ペンタエリスリトールポリアクリラ
ート、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテルジアク
リラート、オリゴエステルアクリラート:これらのメタ
クリラート体等がある。
For example, silane coupling of organic silane compounds (e.g., vinyltrimethoxysilane, vinylolibutoxysilane, T-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, T-aminopropyltriethoxysilane, etc.) agents), polyisocyanate compounds (e.g. toluylene diisocyanate, 0-toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, hexamethylene diisocyanate, inholon) diisocyanate, polymeric polyisocyanate, etc.), polyol compounds (e.g. 1,4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxylene alkylene glycol, 1°1.1-)limethylolpropane, etc.), polyamine-based compounds (for example, ethylenediamine, T-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylenediaminehexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.), polyepoxy group-containing compounds, and epoxy resins (for example, Compounds described in "Evo Toshi Resin" by Shokodo (published in 1985), "Epoxy Resin" edited by Yuki Hashimoto, Nikkan Kogyo Shimbun (published in 1969), melamine resin (for example, some Miwa resins,
Compounds described in "Area Melamine Resin" edited by Hideo Matsunaga, Nikkan Kogyo Shimbun (published in 1969), poly(
Meta) cyfrylate compounds (for example, compounds described in Shin Okawara, Takeo Saegusa, and Toshinobu Higashimura, eds. "Oligomer" Kodansha (1976), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" Technosystem (1985), etc. are mentioned,
Specifically, polyethylene glycol diacrylate,
Neopentyl glycol cyacrylate, ■, 6-hexanethiol diacrylate, trimethylolpropane triallylate, pentaerythritol polyacrylate, bisphenol A diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate: these methacrylates etc.

又、上記(1)の方法の硬化剤のうちゼラチン等の天然
親水性樹脂の硬化剤としては、例えば、米国特許第3.
057.723号、同3,671%256号、同3.3
96゜029号、同4.161.407号、同4.20
7.109号、英国特許第1.322.971号、特公
昭42−17112号、特開昭51−94817号、同
56−66841号、同57−207243号、同59
−121327号、「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォト
グラフィックプロセス」凹版(T、I+、ジェームスら
)94ページや、「ポリメリックアミン アンドアンモ
ニウムソルツJ  (B、J、ゲータルスラ)321ペ
ージなどによって知られているものを用いることができ
る。
Among the hardening agents used in the method (1) above, examples of hardening agents for natural hydrophilic resins such as gelatin include those described in US Patent No. 3.
No. 057.723, No. 3,671% No. 256, No. 3.3
96°029, 4.161.407, 4.20
7.109, British Patent No. 1.322.971, Japanese Patent Publication No. 17112-1972, Japanese Patent Publication No. 94817-1987, Japanese Patent Publication No. 56-66841, British Patent No. 57-207243, Japanese Patent Publication No. 59
-121327, ``The Theory of the Photographic Process,'' intaglio (T, I+, James et al.), page 94, and ``Polymeric Amines and Ammonium Salts J (B, J, Goetalsura), page 321. You can use whatever you have.

又、上記(2)の方法の重合性官能基を2個以上含有す
る多官能性単量体あるいは多官能性オリゴマーの重合性
官能基としては、具体的にはCH2=CH−C1lz−
、Cll2=CII−C−0−、C112=C11−C
H,=C−C0NH CH= [: II −C(I N IICH,=[:
1I−CH,−0−C− C112= CH−N It CO− CH2=CH−CH2−NHCO−CH2=CH−8O
,−CH2=CHl−CO−CH2=CI+−0−CH
2=CH−3−等を挙げることができる。これらの重合
性官能基の同一のものあるいは異なったものを2個以上
有した単量体あるいはオリゴマーであればよい。
Moreover, as the polymerizable functional group of the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups in the method (2) above, specifically, CH2=CH-C1lz-
, Cll2=CII-C-0-, C112=C11-C
H,=C-C0NH CH=[: II-C(IN IICH,=[:
1I-CH, -0-C- C112= CH-N It CO- CH2=CH-CH2-NHCO-CH2=CH-8O
, -CH2=CHl-CO-CH2=CI+-0-CH
2=CH-3-, etc. can be mentioned. Any monomer or oligomer having two or more of the same or different polymerizable functional groups may be used.

重合性官能基を2個以上有した単量体の具体例は、例え
ば同一の重合性官能基を有する単量体あるい1まオリゴ
マーとして、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン等
のスラレン誘fJ体:多価アルコール(例えば、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール#200、# 4 
Fl 0、#600.1.3−ブチレングリコール、ネ
オペンチルグリコール、ジプロピレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、トリ
メチロールエタン、ペンタエリスリトールナト)、又は
ポリヒドロキシフェノール(例えば、ヒドロキノン、レ
ゾルシン、カテコールおよびそれらの誘導体)のメタク
リル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエステル類、ビニ
ルエーテル類又はアリルエーテル類二二塩基酸(例えば
、マロン酸、コノ\り酸、グルタル酸、アジピン酸、ピ
メリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン酸等)のビ
ニルエステル類、アリルエステル類、ビニルアミド頚又
は了りルアミド類:ポリアミン(例えば、エチレンジア
ミン、l、3−プ[]ビレンジミン、l、4−プチレン
ジアミン等)とビニル基を含有するカルボン酸(例えば
、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、アリル酢酸
等)との縮合体などが挙げられる。
Specific examples of monomers having two or more polymerizable functional groups include, for example, monomers or oligomers having the same polymerizable functional groups, such as sularen derivatives such as divinylbenzene and trivinylbenzene: Polyhydric alcohols (e.g. ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol #200, #4
Fl 0, #600.1.3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol nato), or polyhydroxyphenols (e.g. hydroquinone, resorcinol, catechol and esters of methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid (derivatives thereof), vinyl ethers or allyl ethers; Phthalic acid, itaconic acid, etc.) vinyl esters, allyl esters, vinylamide neck or esteramides: polyamines (e.g. ethylenediamine, 1,3-pylene diamine, 1,4-butylene diamine, etc.) and vinyl Examples include condensates with group-containing carboxylic acids (eg, methacrylic acid, acrylic acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.).

又、異なる重合性官能基を有する単量体あるいはオリゴ
マーとしては、例えば、ビニル基を含有するカルボン酸
(例えば、メタクリル酸、アルリル酸、メタクリロイル
酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイルプロピオン酸
、アルリロイルプロビオン酸、イタコニロイル酢酸、イ
タコニロイルプロピオン酸、カルボン酸無水物)とアル
コール又はアミンの反応体(例えば、アリルオキシエ力
ルポニルブロピオン酸、アリルオキシカルボニル酢酸、
・2−アリルオキシカルボニル安息香酸、アリルアミノ
カルボニルプロピオン酸等)等のビニル基を含有したエ
ステル誘導体又はアミド誘導体(例えば、メタクリル酸
ビニル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニル、メタク
リル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸アリル、
メタクリロイル酢酸ビニル、メタクリロイルプロピオン
酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸アリル、メタク
リル酸ビニルオキシカルボニルメチルエステル、アクリ
ル酸ヒ゛ニルオキシ力ルボニルメチルオキシエルボニル
カチレンエステル、N−アリルシクリルアミド、N−ア
リルメタクリルアミド、N−アリルイタコン酸アミド、
メタクリロイルプロピオン酸了りルアミド等)又はアミ
ノアルコール順(例えば、アミノエタノール、■−アミ
ノプロパツール、1−アミノブタノール、l−アミノヘ
キサノール、2−アミノブタノール等)とビニル基を含
有したカルボン酸との縮合体などが挙げられる。
Monomers or oligomers having different polymerizable functional groups include, for example, carboxylic acids containing vinyl groups (e.g., methacrylic acid, allylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloylpropionic acid, allyloylprobion) reactants of alcohols or amines (e.g. allyloxyeruponylpropionic acid, allyloxycarbonyl acetic acid, allyloxycarbonyl acetic acid,
- Ester derivatives or amide derivatives containing vinyl groups such as 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminocarbonylpropionic acid, etc. (e.g., vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate) , allyl itaconate,
Vinyl methacryloyl acetate, vinyl methacryloylpropionate, allyl methacryloylpropionate, vinyloxycarbonyl methyl methacrylate, vinyloxycarbonyl acrylate methyloxyerbonylcartylene ester, N-allyl cyclylamide, N-allyl methacrylamide, N- allyl itaconic acid amide,
methacryloylpropionic acid orylamide, etc.) or amino alcohols (e.g., aminoethanol, -aminopropanol, 1-aminobutanol, l-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and carboxylic acids containing vinyl groups. Examples include condensates.

本発明に用いられる2個以上の重合性官能基を有する単
量体あるいはオリゴマーは、全単量体の10モル%以下
、好ましくは5モル%以下用いて重合し、樹脂を形成す
る。
The monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention is used in an amount of 10 mol % or less, preferably 5 mol % or less of the total monomers, and is polymerized to form a resin.

又本発明では重合性二重結合基を含有した重合体を使用
することもでき、この重合体における該二重結合基の例
としても前記したと同様の基が挙げられる。そして、こ
の重合体間の重合反応において、前記した重合性多官能
性単徂体を併用して反応を行うことも通常知られた方法
である。
Further, in the present invention, a polymer containing a polymerizable double bond group can also be used, and examples of the double bond group in this polymer include the same groups as described above. In the polymerization reaction between the polymers, it is also a commonly known method to carry out the reaction in combination with the above-mentioned polymerizable polyfunctional monomer.

更には、上記(3)の方法の高分子間の反応性基同志の
反応により化学結合を形成し高分子間の橋架けを行う場
合には、通常の有機低分子化合物の反応と同様に行うこ
とができる。具体的には、岩倉義勇、栗田恵輔、「反応
性高分子」講談社(1977年刊)、小田良平、「高分
子ファインケミカル」講談社(1978年刊)、等の装
置に詳細に記載されている。例えば、下表のA群(親水
性基重合体成分)の官能基とB群(反応性基を含有する
成分を含む重合体類)の官能基の組合わせによる高分子
反応が通常よく知られた方法として挙げられる。
Furthermore, in the case of forming a chemical bond and bridging the polymers by the reaction of the reactive groups between the polymers in the method (3) above, it is carried out in the same manner as the reaction of ordinary organic low-molecular compounds. be able to. Specifically, it is described in detail in the apparatuses of Yoshiyu Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymers", Kodansha (published in 1977), Ryohei Oda, "Polymer Fine Chemicals", Kodansha (published in 1978), etc. For example, polymer reactions involving combinations of functional groups in Group A (hydrophilic group polymer components) and Group B (polymers containing components containing reactive groups) in the table below are usually well known. This is one of the methods.

表−1 以上の如く、本発明の網目親水性樹脂粒子は、親水性基
を含有する重合体成分を含有し、且つ分子鎮間が高次に
橋架けされた構造を有する重合体の粒子であり、例えば
、L、Il、Sperling、  rlntre−p
eneLrating Polymer Natwor
ks and Re1ated Ma−terials
 J P1enu+n Press (1981年刊)
 、rBncyc−1opedia of Polym
e’r 5cience and Bngneerin
g 」vol  8  P  279 〜340  (
1985年)  1.1.口、Anclrade。
Table 1 As described above, the network hydrophilic resin particles of the present invention are particles of a polymer containing a polymer component containing a hydrophilic group and having a structure in which molecular chains are highly cross-linked. Yes, e.g. L, Il, Sperling, rlntre-p
eneLrating Polymer Nature
ks and Re1ated Ma-terials
J P1enu+n Press (published in 1981)
, rBncyc-1opedia of Polym
e'r 5science and Bngneerin
g” vol 8 P 279 ~ 340 (
(1985) 1.1. Mouth, Anclrade.

rHyclyogels  for  medical
oand  Re1ated  Applic−ati
on  J  、  ^C3,Symposium  
5eries  No、31.  ^mer−ican
  Chemical  5ociety、Washi
ngton  ロ、C,(1976年)、大森英三、「
高吸水性樹脂の開発動向とその用途展開」テクノフォー
ラム(株)出版部(1987年刊)、入江正洗「機能性
高分子ゲルの製造と応用」シー・エム・シー(株)(1
987年刊)、田中健治、Petrotech、、 1
025  (1987)、N1kkei New Ma
terials  1987年6月1日号、p57.田
口串、石井邦男、「科学と工業」59゜188 (19
85)、増田房義、機能材料 1982年4月号p36
.門@義則、化学工業 3H゜602 (1987年)
等に記載されたヒドロゲルあるいは高吸水性樹脂を用い
ることができる。市販された高吸水樹脂の例として、ア
ラソーブ(荒用化学工業社製)、ワンダーゲル(花王社
製)、KIゲル(クラレイソプレン社製)、サンウェッ
ト(三洋化成工業社!1)、スミカゲル(住人化学工業
社製)、アクアキープ(製鉄化学工業社製)、ランシー
ル(日本エクスラン工業社製)、ライオン・ポリマー(
ライオン(株)製)、GP(日本合成化学工業社製)、
アクアリック(日本触媒化学工業社製)、アクアブレン
(明成化学工業社!1II) 、CL D (Buck
eye Cellulose社製) 、0.W。
rHyclyogels for medical
oandRe1atedApplic-ati
on J, ^C3, Symposium
5eries No.31. ^mer-ican
Chemical 5ociety, Washi
ngton Ro, C. (1976), Eizo Omori, “
``Development trends of super absorbent resins and their application development'', Technoforum Co., Ltd. Publishing Department (published in 1987), Masarai Irie, ``Manufacture and application of functional polymer gels'', CMC Co., Ltd. (1987).
(published in 1987), Kenji Tanaka, Petrotech, 1
025 (1987), N1kkei New Ma
terials June 1, 1987 issue, p57. Kushi Taguchi, Kunio Ishii, “Science and Industry” 59°188 (19
85), Fusayoshi Masuda, Functional Materials April 1982 issue p36
.. Mon @ Yoshinori, Chemical Industry 3H゜602 (1987)
Hydrogels or super absorbent resins described in et al. can be used. Examples of commercially available superabsorbent resins include Arasorb (manufactured by Arayo Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Wonder Gel (manufactured by Kao Corporation), KI Gel (manufactured by Kuraray Soprene Co., Ltd.), Sunwet (manufactured by Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd.!1), and Sumikagel (manufactured by Kuraray Soprene Co., Ltd.). Aqua Keep (manufactured by Seitetsu Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Lanseal (manufactured by Japan Exlan Kogyo Co., Ltd.), Lion Polymer (manufactured by Nippon Exlan Kogyo Co., Ltd.)
(manufactured by Lion Co., Ltd.), GP (manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.),
Aqualic (manufactured by Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Aquabrene (Meisei Kagaku Kogyo Co., Ltd.!1II), CL D (Buck
eye (manufactured by Cellulose), 0. W.

^、L  (口ow  Chemical  社!!!
>  、 G、P、f’:、(Graim  Proc
essing  社製> 、Aqualon (Ile
rcules社製)、Magic Water Get
  (Super Absorbent社製) 、Ce
cagum (CBCA社製)、スポン・ジグナス(鐘
紡合成化学社製)、スーパー・ラブ(旭化成工業社製)
等が挙げられる。
^, L (mouth ow Chemical company!!!
> , G, P, f':, (Graim Proc
Made by essing>, Aqualon (Ile
rcules), Magic Water Get
(manufactured by Super Absorbent), Ce
cagum (manufactured by CBCA), Spon Zygnus (manufactured by Kanebo Synthetic Chemical Co., Ltd.), Super Love (manufactured by Asahi Kasei Industries, Ltd.)
etc.

また、本発明における網目親水性樹脂の粒子化は、前述
の親水性樹脂の粒子化と同じである。
Further, the granulation of the network hydrophilic resin in the present invention is the same as the granulation of the hydrophilic resin described above.

次に、以上の親水性樹脂粒子又は網目親水性樹脂粒子と
併用される結着御脂について説明する。
Next, the binding sesame used in combination with the above hydrophilic resin particles or mesh hydrophilic resin particles will be explained.

本発明に供される結着樹脂は、前記極性基を含有する重
量平均分子量2万以下の樹脂CA)である。
The binder resin used in the present invention is a resin CA) containing the polar group and having a weight average molecular weight of 20,000 or less.

好ましくは、該樹脂〔A〕の重量平均分子量は3X10
3〜1x104であり、該極性基を含有する共重合成分
の存在割合は1〜10重量%が好ましい。
Preferably, the weight average molecular weight of the resin [A] is 3X10
3 to 1x104, and the proportion of the copolymer component containing the polar group is preferably 1 to 10% by weight.

前述の如き従来の酸性基含有結着樹脂は主としてオフセ
ットマスター用であって、膜強度保持による耐刷性端内
上のためにその分子量は大きいものであった(例えば5
XlO’以」二)。
Conventional acidic group-containing binder resins as described above are mainly used for offset masters, and their molecular weights are large (for example, 5.
XlO' 2).

これに対して、本発明では、結着樹脂[A]は樹脂中に
含有される極性基が光導電性酸化亜鉛の化学量論的な欠
陥に吸着し、且つ低分子量体であることから、光導電性
酸化亜鉛の表面の被覆性を向上させることで光導電性酸
化亜鉛のトラップを補償すると共に湿度特性を向上させ
る一方、光導電性酸化亜鉛の分散が充分に行われ、凝集
を抑制することを見出た。
On the other hand, in the present invention, since the polar group contained in the binder resin [A] is adsorbed to the stoichiometric defects of the photoconductive zinc oxide and is a low molecular weight substance, Improving the surface coverage of photoconductive zinc oxide compensates for trapping of photoconductive zinc oxide and improves humidity characteristics, while ensuring sufficient dispersion of photoconductive zinc oxide and suppressing agglomeration. I found out something.

従って、光導電性酸化亜鉛表面の平滑性が滑らかとなる
。
Therefore, the surface smoothness of the photoconductive zinc oxide becomes smooth.

一方、電子写真式平版印刷用原版として光導電層表面の
平滑性の粗らい感光体を用いると、光導電性酸化亜鉛粒
子及び前記した親水性樹脂粒子と結着樹脂の分散状態が
適切でなく、凝集物が存在する状態で光導電層が形成さ
れるため、不感脂化処理液による不感脂化処理をしても
非画像部の親水化が均一に充分に行われず、印刷時に印
刷インキの付着を引き起こし、結果として印刷物の非画
像部の地汚れが生じてしまう。
On the other hand, when a photoreceptor with a rough surface of the photoconductive layer is used as an original plate for electrophotographic planographic printing, the dispersion state of the photoconductive zinc oxide particles, the above-mentioned hydrophilic resin particles, and the binder resin may not be appropriate. Since the photoconductive layer is formed in the presence of aggregates, even if desensitization treatment is performed using a desensitization treatment liquid, the non-image area cannot be made uniformly and sufficiently hydrophilic, and the printing ink may not be sufficiently hydrophilized during printing. This causes adhesion, resulting in background smudges in non-image areas of printed matter.

一方、本発明に従う結着樹脂〔A〕の低分子量化によっ
て、皮膜強度の脆弱化が懸念されたが、光導電性酸化亜
鉛及び親水性樹脂粒子を充分に分校の印刷枚数のオフセ
ット原版としては充分な膜強度を保持していることが見
出された。
On the other hand, due to the lower molecular weight of the binder resin [A] according to the present invention, there was a concern that the strength of the film would become weaker. It was found that sufficient film strength was maintained.

結着樹脂〔A〕の分子量が103より小さくなると、皮
膜形成能が低下し充分な膜強度が保てない。一方分子量
が2×104より大きくなると電子写真特性(特に初期
電位、暗減衰保持率)が劣化するため好ましくない。特
にかかる高分子量体の場合に極性基含有量が3%を越え
るとかかる電子写真特性の劣化が著しく、オフセットマ
スターとして用いたときに地汚れが顕著となる。
When the molecular weight of the binder resin [A] is less than 103, the film forming ability decreases and sufficient film strength cannot be maintained. On the other hand, if the molecular weight is greater than 2×10 4 , electrophotographic properties (especially initial potential and dark decay retention) deteriorate, which is not preferable. Particularly in the case of such a polymer, if the content of polar groups exceeds 3%, the electrophotographic properties deteriorate significantly, and when used as an offset master, background smudge becomes noticeable.

結着樹脂〔A〕における極性基含有成分の量が0.5重
量%より少ないと、初期ii位が低くて充分な画像濃度
を得ることができない。一方、該極性基含有成分の量が
20重u%よりも多いと、分散性が低下し、膜平滑度及
び電子写真特性の高湿特性が低下し、更にオフセットマ
スターとして用いるときに地汚れが増大する。
If the amount of the polar group-containing component in the binder resin [A] is less than 0.5% by weight, the initial ii position will be low and sufficient image density will not be obtained. On the other hand, if the amount of the polar group-containing component is more than 20% by weight, the dispersibility will be lowered, the film smoothness and high-humidity electrophotographic properties will be lowered, and furthermore, background smear will occur when used as an offset master. increase

該樹脂(A〕のガラス転移点は一10℃〜100℃の範
囲のものが好ましいが、より好ましくは一5℃〜80℃
である。
The glass transition point of the resin (A) is preferably in the range of -10°C to 100°C, more preferably in the range of -5°C to 80°C.
It is.

また、該樹脂[A]の極性基のうち、 −P−OR基において、Rは更に具体的には、例えば炭
素数1〜12の置換さていてもよいアルキル基(例え1
f−メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−クロ
ロエチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチ
ル基、3−メトキシプロピル基等)、炭素数7〜12の
ti’Z換されていてもよいアラルキル基(例えばベン
ジル基、フェネチル基、クロロペンシル基、メトキシベ
ンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数5〜8の置換
されていてもよい脂環式基(例えばシクロペンチル基、
シクロヘキシル基等)又は置換されていてもよいアリー
ル基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、ナフチル基、クロフェニル基、メトキシフェニ
ル基)を表わす。
Further, among the polar groups of the resin [A], in the -P-OR group, R is more specifically, for example, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, 1 to 12 carbon atoms).
f-methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, etc.) , an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, chloropentyl group, methoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc.), a substituted aralkyl group having 5 to 8 carbon atoms alicyclic groups (e.g. cyclopentyl group,
cyclohexyl group, etc.) or an optionally substituted aryl group (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, clophenyl group, methoxyphenyl group).

本発明において、樹脂[A]は前記した物性を有してい
れば従来公知の樹脂のいずれでもよく、例えばポリエス
テル樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコン樹脂、オレフィ
ン共重合体、ポリカーボネート樹脂、アルカン酸ビニル
樹脂、アルカン酸アリル樹脂、変性ポリアミド樹脂、フ
ェノール樹脂、脂肪酸変性シルキト樹脂、アクリル樹脂
等が挙げられる。
In the present invention, the resin [A] may be any conventionally known resin as long as it has the physical properties described above, such as polyester resin, modified epoxy resin, silicone resin, olefin copolymer, polycarbonate resin, vinyl alkanoate resin. , allyl alkanoate resin, modified polyamide resin, phenol resin, fatty acid modified silkyto resin, acrylic resin and the like.

更に具体的には、下記一般式(VIT )で示される単
量体を共重合体成分として、その総量で30重量%以上
含有する(メタ)アクリル系共重合体を本発明の樹脂の
例として挙げることができる。
More specifically, as an example of the resin of the present invention, a (meth)acrylic copolymer containing a total amount of 30% by weight or more of a monomer represented by the following general formula (VIT) as a copolymer component can be mentioned.

一般式(■) CIl□−C COO−R’ 一般式(■)において、Xは、水素原子、ハロゲン原子
(例えばクロロ原子、ブロモ原子)、シアノ基又は炭素
数1〜4のアルキル基を表わす。
General formula (■) CIl□-C COO-R' In the general formula (■), X represents a hydrogen atom, a halogen atom (e.g. chloro atom, bromo atom), a cyano group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. .

R′は、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキルコ
、ξ(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、2−メト
キシエチル基、2−エトキシエチル基等)、炭素数2〜
18の置換されてもよいアルケニル基(例えばビニル基
、アリル基、インプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニ
ル基、ヘプテニル基、オクテニル基等)、炭素数7〜1
2の置換されてもよいアラルキル基(例えばベンジル基
、フェネチル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジ
ル基、メチルベンジル基等)、炭素数5〜8の置換され
てもよいシクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、
シクロへニドシル基、シクロヘプチル基等)、アリール
基(例えばフェニル基、トリル基、キシル基、メシチル
基、ナフチル基、メ)−1−ジフェニル基、エトキシフ
ェニル基、クロフェニル基、ジクロロフェニルM等) 
をfit)t。
R' is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms,
dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, etc.), carbon number 2~
18 optionally substituted alkenyl groups (e.g. vinyl group, allyl group, impropenyl group, butenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, etc.), carbon number 7 to 1
2 optionally substituted aralkyl groups (e.g. benzyl group, phenethyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc.), optionally substituted cycloalkyl groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g. cyclopentyl group,
cyclohenidosyl group, cycloheptyl group, etc.), aryl group (e.g. phenyl group, tolyl group, xyl group, mesityl group, naphthyl group, me)-1-diphenyl group, ethoxyphenyl group, clophenyl group, dichlorophenyl M, etc.)
fit)t.

本発明の[極性基を含有する共重合体成分」は例えば一
般式(■)と共重合し得る、該極性基を含有するビニル
系化合物であればいずれでもよく、例えば、高分子デー
タ「高分子データ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館(
1986年)等に記載されている。具体的には、アクリ
ル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例えばα−アセ
トキシ体、α−アセトキシメチル体、α−(2−アミノ
)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ
体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロ
ロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α
、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、イ
タコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、クロト
ン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−一ペン
デン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸
、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オク
テン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、マ
レイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニ
ルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホス
ホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エス
テル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸の
ニスデル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を
含有する化合物等が挙げられる。
The [copolymer component containing a polar group] of the present invention may be any vinyl compound containing a polar group that can be copolymerized with the general formula (■). Molecular Data Handbook [Basic Edition]” Baifukan (
(1986) and others. Specifically, acrylic acid, α- and/or β-substituted acrylic acid (e.g. α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-(2-amino)methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α -fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form, α
, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-monopendenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid) , 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid , vinyl sulfonic acid, vinylphosphonic acid, half ester derivatives of vinyl or allyl groups of dicarboxylic acids, and compounds containing the polar group in the substituent of Nisder derivatives and amide derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids. It will be done.

更に、本発明の樹脂〔A〕は、前記した一般式(■)の
単量体及び該極性ノ1(を含有した単量体とともに、こ
れら以外の他のtv滑体を共重合成分として含有しても
よい。
Furthermore, the resin [A] of the present invention contains the monomer of the general formula (■) described above and the monomer containing the polar No. 1 (), as well as other TV sliders other than these as copolymerization components. You may.

例エバ、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又はアリ
ルエステルn1、アクリロニトリル、メタクリルニトリ
ル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、スチレン類、複素環ビニル類(例えばビニル
ピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダシリンル、
ビニルチオフェン、ビニルイミダシリン、ビニルピラゾ
ール、ビニル−ジオキサン、ビニルキリン、ビニルチア
ソ′−ル、ビニル−オキサジン等)等が挙げられる。特
に酢酸ビニル、酢酸アリル、アクリロニトリル、メタク
リルニトリル、スチレン類等は、膜強度工場の点から好
ましい成分である。
Examples: Eva, α-olefins, vinyl alkanoates or allyl esters n1, acrylonitrile, methacrylnitrile, vinyl ethers, acrylamides, methacrylamides, styrenes, heterocyclic vinyls (e.g. vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidacillin) le,
vinylthiophene, vinylimidacillin, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylkyrin, vinylthiazol, vinyloxazine, etc.). In particular, vinyl acetate, allyl acetate, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrenes, etc. are preferred components from the viewpoint of film strength.

また、前期の樹脂CB]は、以上の樹脂〔A〕を用いた
ことによる電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹
脂〔A〕のみでは不充分な光導電層の機械的強度を充分
ならしめるものである。
In addition, the previous resin [CB] does not impede the high performance of electrophotographic properties obtained by using the above resin [A], and improves the mechanical strength of the photoconductive layer, which is insufficient with resin [A] alone. It is sufficient.

樹脂(B)は、適度に架橋され、更に、樹脂〔B′〕は
主鎖の片末端にのみ極性基を結合した共重合体であるこ
とから、高分子鎮間の相互作用更には極性基と光導電性
粒子との弱い相互作用等が相乗作用して、電子写真特性
及び膜強度において著しく段れた性能を両立しているも
のと考えら′れる。
The resin (B) is moderately crosslinked, and since the resin [B'] is a copolymer with a polar group bonded only to one end of the main chain, the interaction between the polymer chains and the polar group It is thought that the weak interaction between the photoconductive particles and the photoconductive particles acts synergistically, resulting in significantly improved performance in terms of electrophotographic properties and film strength.

一方樹脂〔B〕中に樹脂〔A〕に示されると同様の酸性
基が含有されると光導電体の分散が破壊され、凝集物あ
るいは沈澱物が生成するかあるいはたとえ塗膜ができた
としても、得られた光導電体の静電特性は著しく低下し
てしまったり、感光体表面の平滑度が粗くなり機械的摩
耗に対する強度等が悪化してしまうため好ましくない。
On the other hand, if the resin [B] contains acidic groups similar to those shown in the resin [A], the dispersion of the photoconductor is destroyed, and aggregates or precipitates are formed, or even if a coating film is formed. This is also undesirable because the electrostatic properties of the resulting photoconductor are significantly reduced, the surface smoothness of the photoreceptor becomes rough, and the strength against mechanical abrasion is deteriorated.

樹脂[B]は一般式〔1〕で示される繰り返し単位を少
なくとも1種含有する重合体で、かつ重合体の一部が架
橋されたff[平均分子量が5×104以上の樹脂であ
り、より好ましくは重積平均分子量8X103〜6Xl
O’である。
Resin [B] is a polymer containing at least one type of repeating unit represented by general formula [1], and a part of the polymer is crosslinked ff [average molecular weight is 5 × 104 or more, and more Preferably weight average molecular weight 8X103 to 6Xl
It is O'.

樹脂CB]のガラス転移点は好ましくはO℃〜120℃
の範囲、より好ましくはlO℃〜95℃である。
The glass transition point of the resin CB is preferably 0°C to 120°C.
, more preferably from lO<0>C to 95<0>C.

樹脂〔B〕の重量平均分子量が5X103未満となると
、膜強度が不充分となってくる。又、樹脂[B]の重量
平均分子量が上記の好ましい上限値を超えると、有機溶
媒の溶解性が殆んどなくなり、実際上使用できなくなる
ため、好ましくない。
When the weight average molecular weight of the resin [B] is less than 5×10 3 , the film strength becomes insufficient. Furthermore, if the weight average molecular weight of the resin [B] exceeds the above-mentioned preferred upper limit, it is not preferable because it has almost no solubility in organic solvents and cannot be used in practice.

本発明の樹脂〔B〕は、前記した物性を満たし、重合体
の一部分が架橋され、更に、一般式〔■〕で示される謹
返し単位の中から選ばれた重合体成分を、ホモ重合体成
分として、または後述する一般式[111]で示される
繰返し単位に相当する単量体と共重合し得る他の単量体
と共重合して得られる共重合体成分として含有する重合
体又は共重合体である。
The resin [B] of the present invention satisfies the above-mentioned physical properties, a part of the polymer is crosslinked, and the polymer component selected from the reversible units represented by the general formula [■] is a homopolymer. A polymer or copolymer contained as a component or as a copolymer component obtained by copolymerizing with another monomer that can be copolymerized with a monomer corresponding to a repeating unit represented by the general formula [111] described below. It is a polymer.

一般式〔■〕で示される繰返し単位に右いて、炭化水素
基は置換されていてもよい。
The hydrocarbon group on the repeating unit represented by the general formula [■] may be substituted.

一般弐N)において、Tは好ましくは−C00−−oc
o−、−C)1.0CO−1−CIl、C00−又は−
ローを表わし、より好ましくは−COD−,−[:11
.C00−又は−0−を表わす。
In general 2N), T is preferably -C00--oc
o-, -C) 1.0CO-1-CIl, C00- or -
represents low, more preferably -COD-, -[:11
.. Represents C00- or -0-.

■は好ましくは炭素数1〜18の置換されていてもよい
炭化水素基を表わす。置換基としては後述する重合体主
鎖の片末端に結合する極性基以外の置換基であればいず
れでもよく、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等)、−〇−v、  −coo
−v2、−11cO−V、  、(V。
(2) preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. The substituent may be any substituent other than the polar group bonded to one end of the polymer main chain as described below, such as halogen atom (e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), -〇- v, -coo
-v2, -11cO-V, , (V.

〜V、は、炭素数6〜22のアルキル基を表わし、例え
ばヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘ
キサデシル基、オクタデシル基等である)等の置換基が
挙げられる。好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜
18の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシ
ル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロ
モエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカルボ
ニルエチル −ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換されて
もよいアルケニル基(例えば2−メチル−l−プロペニ
ル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3≧メチル
−2−ペンテニル基、■ーペンテニル基、1−へキセニ
ル基、2−へ−4−t==ル基、4−メチル−2−ヘキ
セニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラ
ルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えばシクロヘキ
シル基、2−シクロへキルエチル基、2−シクロペンチ
ルエチルM 等)又は炭素数6〜12の置換されてもよ
い芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ブチルフェニル基
、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロ
ロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、
アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフ
ェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフ
ェニル基、ドブシロイルアミドフェニル基等)が挙げら
れる。
~V represents an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms, and includes substituents such as hexyl, octyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, etc. A preferable hydrocarbon group has 1 to 1 carbon atoms.
18 optionally substituted alkyl groups (e.g. methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group -bromopropyl group, etc.), an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (e.g., 2-methyl-l-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3≧methyl-2-pentenyl group, -pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-h-4-t==l group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group) , phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group), An optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexyl ethyl group, 2-cyclopentylethyl M, etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms ( For example, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butylphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, Dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group,
acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group,
(ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dobcyroylamidophenyl group, etc.).

at、a2は、互いに同じでも異なってもよく、好まし
くは水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3のアル
キル基、−coo−z又は−C112COOZ(Zは好
ましくは炭素数1〜22の脂肪族基を表わす)を表わす
。より好ましくは、al+ 12は互いに同じでも異な
ってもよく、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基等> 、−cn
o−z又は−C112COD−Z(Zはより好ましくは
炭素数1−18の゛fアルキル基はアルケニル基を表わ
し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オク
タデシル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル
基、デセニル基等が挙げられ、これらアルキル基、アル
ケニル基は前期Vで示したと同様の置換基を有していて
もよい)を表わす。
at and a2 may be the same or different, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, -coo-z or -C112COOZ (Z preferably represents an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms). More preferably, al+12 may be the same or different from each other, and are hydrogen atoms, alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), -cn
oz or -C112COD-Z (Z is more preferably a C1-18 ゛f alkyl group represents an alkenyl group, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, Decyl group, dodecyl group,
Examples include tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, decenyl group, etc., and these alkyl groups and alkenyl groups may have the same substituents as shown in V above. good).

樹脂〔B〕において、重合体中に架橋構造を導入する方
法としては通常知られている方法を利用することができ
る。即ち、単量体の重合反応において多官能性単量体を
共存させて重合する方法及び重合体中に架橋反応を進行
する官能基を含有させ高分子反応で架橋する方法である
。
In resin [B], a commonly known method can be used to introduce a crosslinked structure into the polymer. That is, there are two methods: a method in which a polyfunctional monomer is coexisting in the polymerization reaction of monomers, and a method in which a functional group that promotes a crosslinking reaction is contained in the polymer and crosslinked by a polymer reaction.

本発明の樹脂[B]は、製造方法が簡便なこと(例えば
、長時間の反応を要する、反応が定量的でない、反応促
進助剤を用いる等で不純物が混入する等の問題が少ない
)等から、自己橋かけ反応をする官能基ニーC口N +
1 CH20R0(Reは水素原子又はアルキル基を表
わす)による、あるいは、重合による橋かけ反応が有効
である。
The resin [B] of the present invention has a simple manufacturing method (for example, it requires a long reaction time, the reaction is not quantitative, and there are few problems such as contamination of impurities due to the use of reaction accelerators, etc.). , the functional group that undergoes a self-crosslinking reaction N+
Cross-linking reactions using 1 CH20R0 (Re represents a hydrogen atom or an alkyl group) or polymerization are effective.

重合反応性基の場合には、好ましくは重合性官能基を2
個以上有する単量体を上記した式[1〕の単量体と共に
重合することでポリマー鎮間を橋架けする方法が好まし
い。
In the case of a polymerization-reactive group, the polymerizable functional group is preferably 2
A method of bridging the polymer matrix by polymerizing a monomer having at least 1 or more monomers together with the monomer of formula [1] described above is preferred.

重合性官能基として具体的に、CH□=CH−ロ CL=CLCL−C)+2=CIl−CH−C−0−C
112−C)1−CH2−N11CO−1C112=l
l?1l−3O2−、CI+2=CH−CD−1C11
,=CI+−0−、CH2=Cll−3〜等を挙げるこ
とができるが、上記の重合性官能基を2個以上有する単
量体はこれらの重合性官能基を同一のものあるいは異な
ったものを2個以上有する単量体であればよい。
Specifically, the polymerizable functional group is CH□=CH-CL=CLCL-C)+2=CIl-CH-C-0-C
112-C) 1-CH2-N11CO-1C112=l
l? 1l-3O2-, CI+2=CH-CD-1C11
,=CI+-0-, CH2=Cll-3~, etc., but monomers having two or more of the above polymerizable functional groups may have the same or different polymerizable functional groups. Any monomer having two or more of these may be used.

重合性官能基を2個以上有した単量体の具体例は、例え
ば同一の重合性官能基を有する単量体として、ジビニル
ベンゼン、トリビニルベンゼン等のスチレン誘導体:多
価アルコール(例えば、エチレングリフール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール#200、#400、#600.1.3−ブ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジプロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチ
ロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリス
リトールなど)又はポリヒドロキシフェノール(例えば
ヒドロキノン、レゾルシン、カテコールおよびそれらの
誘導体)のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸の
エステル類、ビニルエーテル類又はアリルエーテル類:
二塩基酸(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル酸、ア
ジピン酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコ
ン酸等)のビニルニスデル類、アリルエステル類、ビニ
ルアミド類又はアリルアミド@:ボリアミン(例えばエ
チレンジアミン、1.3−プロピレンジアミン、1.4
−ブチレンジアミン等)とビニル基を含有するカルボン
酸(例えハメタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、ア
リル酢酸等)との縮合体などが挙げられる。
Specific examples of monomers having two or more polymerizable functional groups include styrene derivatives such as divinylbenzene and trivinylbenzene; polyhydric alcohols (e.g. ethylene Glyfur, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol #200, #400, #600.1.3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc.) or esters, vinyl ethers or allyl ethers of methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid of polyhydroxyphenols (e.g. hydroquinone, resorcinol, catechol and their derivatives):
Vinyl Nisdels, allyl esters, vinylamides or allylamides of dibasic acids (e.g. malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itaconic acid, etc.): polyamines (e.g. ethylenediamine, .3-propylene diamine, 1.4
-butylenediamine, etc.) and a carboxylic acid containing a vinyl group (eg, methacrylic acid, acrylic acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.).

又、異なる重合性官能基を有する単量体として、例えば
ビニル基を含有するカルボン酸(例えばメタクリル酸、
アクリル酸、メタクリロイル酢酸、アクリロイル酢酸、
メタクリロイルプロピオン酸、アクリロイルプロピオン
酸、イタコニロイル酢酸、イタコニロイルプロピオン酸
、カルボン酸無水物とアルコール又はアミンの反応体(
例えばアリルオキシカルボニルプロピオン酸、アリルオ
キシカルボニル酢酸、2−アリルオキシカルボニル安息
香酸、アリルアミノエルボニルプロピオン酸等)等)の
ビニル基を含有するエステル誘導体又はアミド誘導体(
例えばメタクリル酸ビニル、アクリル酸ビニル、イタコ
ン酸ビニル、メタクリル酸アリル、アクリル酸アリル、
イタコン酸アリル、メタクリロイル酢酸ビニル、メタク
リロイルプロピオン酸ビニル、メタクリロイルプロピオ
ン酸アリル、メタクリル酸ビニルオキシカルボニルメチ
ルエステル、アクリル酸ビニルオキシエルボニルメチル
オキシカルボニルエチレンエステル、N−アリルアクリ
ルアミド、N−アリルメタクリルアミド、N−アリルイ
タコン酸アミド、メタクリロイルプロピオン酸アリルア
ミド等)又はアミノアルコール類(例えばアミノエタノ
ール、1−アミノプロパツール、l−アミノブタノール
、1−アミノヘキサノール、2−アミノブタノール等)
と、ビニル基を含有したカルボン酸の縮合体などが挙げ
られる。
In addition, as monomers having different polymerizable functional groups, for example, carboxylic acids containing vinyl groups (such as methacrylic acid,
Acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid,
Methacryloylpropionic acid, acryloylpropionic acid, itaconyloyl acetic acid, itaconyloylpropionic acid, reactant of carboxylic acid anhydride and alcohol or amine (
For example, vinyl group-containing ester derivatives or amide derivatives (such as allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid, 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminoerbonylpropionic acid, etc.)
For example, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate,
Allyl itaconate, Vinyl methacryloyl acetate, Vinyl methacryloyl propionate, Allyl methacryloyl propionate, Vinyloxycarbonyl methyl methacrylate, Vinyloxyerbonyl acrylate methyloxycarbonyl ethylene ester, N-allyl acrylamide, N-allyl methacrylamide, N - allyl itaconic acid amide, methacryloyl propionic acid allyl amide, etc.) or amino alcohols (e.g. aminoethanol, 1-aminopropanol, l-aminobutanol, 1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.)
and a condensate of carboxylic acid containing a vinyl group.

本発明では、これらの2個以上の重合性官能基を有する
単量体を、全単量体の20重量%以下用いて重合するこ
とにより本発明の部分的に架橋された樹脂〔B〕をJl
成することができる。更に好ましくは該単量体を、後述
の連鎖移動剤で末端に極性基を導入する方法で合成する
樹脂〔B′〕の場合には15重量%以下、それ以外の場
合には5重量%以下とすることが好ましい。
In the present invention, the partially crosslinked resin [B] of the present invention is obtained by polymerizing a monomer having two or more of these polymerizable functional groups in an amount of 20% by weight or less of the total monomers. Jl
can be achieved. More preferably, the monomer is not more than 15% by weight in the case of resin [B'] synthesized by the method of introducing a polar group at the terminal with a chain transfer agent described below, and not more than 5% by weight in other cases. It is preferable that

一方、樹脂[B]が末端極性基を含有しない場合(後述
の樹脂〔B′〕でない場合)には、熱及び/又は光で硬
化反応を起こす架橋性官能基を含有する樹脂を用いて樹
脂CB]に架橋構造を形成させてもよい。
On the other hand, if the resin [B] does not contain a terminal polar group (not the resin [B'] described below), a resin containing a crosslinkable functional group that causes a curing reaction with heat and/or light is used. CB] may form a crosslinked structure.

該官能基は、分子間で化学反応を生じ化学結合を形成し
得るものであればいずれでもよい。即ち、縮合反応、付
加反応等による分子間の結合あるいは重合反応による架
橋等を熱及び/又は光によって生じさせる反応様式を利
用することができる。
The functional group may be any functional group as long as it can cause a chemical reaction between molecules and form a chemical bond. That is, it is possible to use a reaction mode in which bonding between molecules by condensation reaction, addition reaction, etc. or crosslinking by polymerization reaction is caused by heat and/or light.

具体的には、解離性の水素原子を有する官能基(例えば
−COH基、−PO3112基、−P−OR,(R1は
炭素数1〜18のアルキル基、好ましくは炭素数1〜6
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基等)、炭素数7〜11のアラル
キル基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベン
ジル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基等)も
しくは炭素数6〜12のアリール基(例えばフェニル基
、トリル基、キシリル基、メシチレン基、クロロフェニ
ル基、エチルフェニル基、メトキシフェニル基、ナフチ
ル基等)又は−OR,基(I12はR+で示した上記炭
化水素基と同一の内容)を表わす) 、−OH基、−5
H基、−NH−R3基(R,は、水素原子又はメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基等の如き炭素数!〜
4のアルキル基を表わす)〕と /口\        /S\ −CL−CH、−CII2 C1l 、−NCO、−N
C3との群から各々選ばれた官能基の組合わせを少なく
ども1組含有する場合あるいは、−CONIICI+2
111. (R,は水素原子又はメチル基、エチル基、
ブfilピル基、ブチル基、ヘキシル基等の如き炭素数
1〜6のアルキル基を表わす)又は重合性二重結合等を
含有する場合が挙げられる。
Specifically, a functional group having a dissociable hydrogen atom (for example, -COH group, -PO3112 group, -P-OR, (R1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms)
alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl groups having 7 to 11 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.) ) or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesitylene group, chlorophenyl group, ethylphenyl group, methoxyphenyl group, naphthyl group, etc.) or -OR, group (I12 is represented by R+) ), -OH group, -5
H group, -NH-R3 group (R is a hydrogen atom or a carbon number such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.)
4)] and /mouth\ /S\ -CL-CH, -CII2 C1l, -NCO, -N
When containing at least one combination of functional groups each selected from the group with C3, or -CONIICI+2
111. (R is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group,
Examples include cases containing an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a butyl group, a butyl group, a hexyl group, etc.) or a polymerizable double bond.

該重合性二重結合基として具体的には、前記の重合性官
能基の具体例として挙げたものを挙げることができる。
Specific examples of the polymerizable double bond group include those mentioned above as specific examples of the polymerizable functional group.

更には、例えば、遠藤剛[熱硬化性高分子の精密化(C
,M、C■、1986年刊)、原崎勇次「最新バインダ
ー技術便覧」第n−を章(総合技術センター、1985
年刊)、大津随行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途
開発」 (中部経営開発センター出版部、1985年刊
)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」 (テクノシス
テム1985年刊)、乾英夫、永松元太部「感光性高分
子」 (講談社、1977年刊)、角10隆弘[新・感
光性樹脂」 (印刷学会出版部、1981年刊) 、G
、E。
Furthermore, for example, Tsuyoshi Endo [Refinement of thermosetting polymers (C
, M, C■, 1986), Yuji Harasaki, "Latest Binder Technology Handbook" Chapter n- (Sogo Technological Center, 1985)
(published in 1985), accompanied by Otsu, "Synthesis, design and development of new uses for acrylic resins" (Chubu Business Development Center Publishing Department, published in 1985), Eizo Omori "Functional acrylic resins" (Technosystem, published in 1985), Hideo Inui, Nagamatsu Gentabe "Photosensitive Polymers" (Kodansha, 1977), Kaku 10 Takahiro "New Photosensitive Resins" (Printing Society Publishing Department, 1981), G.
,E.

Green  and  ロ、P、5Lar  R,J
、Macro、Sci  Revs  1acro。
Green and Ro, P, 5Lar R, J
, Macro, Sci Revs 1acro.

Chem、、C21(2>、  187〜273 (1
981〜82 ) 、  C,G、Roffey、  
I”Photopolymerization ofS
urface CoatingsJ (A、Wiley
 Interscienca Pub。
Chem,, C21 (2>, 187-273 (1
981-82), C.G., Roffey,
I"Photopolymerization of S
surface coatingsJ (A, Wiley
Interscienca Pub.

1982年刊)等に引例された官能基・化合物等を用い
ることができる。
(1982), etc., can be used.

これらの架橋性官能基は、一つの共重合対成分中に含有
されていてもよいし、別個の共重合体成分中に含有させ
て架橋反応を行ってもよい。
These crosslinkable functional groups may be contained in one copolymer component, or may be contained in separate copolymer components to carry out the crosslinking reaction.

これらの架橋性官能基を含有する共重合体成分に相当す
る単量体の具体的なものとしては、例えば、一般式CI
]の単量体と共重合し得る該官能基を含有するビニル系
化合物を挙げることができる。
Specific examples of the monomer corresponding to the copolymer component containing these crosslinkable functional groups include, for example, general formula CI
Examples include vinyl compounds containing the functional group that can be copolymerized with the monomer.

例えば、高分子学会m「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。
For example, see the Polymer Data Handbook by the Society of Polymer Science m.
Basic Edition] Baifukan (published in 1986), etc.

具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル
酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体
、α−(2−丁ミツメチル)体、α−クロロ体、α−ブ
ロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−
シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−
β−メトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル
酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸
半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類
(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸
、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−
エチル−2−オクテンe等> 、マレイン酸、マレイン
酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼ
ンニルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又
はアリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン
酸又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置
換基中に該架橋性官能基を有する化合物等が挙げられる
。
Specifically, acrylic acid, α- and/or β-substituted acrylic acid (e.g. α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-(2-dimethyl) form, α-chloro form, α-bromo form, α -fluoro form, α-tributylsilyl form, α-
Cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-
β-methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl -2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-
Ethyl-2-octene etc.>, maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenylboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, vinyl group or allyl group of dicarboxylic acids Examples include half ester derivatives of , ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, and compounds having the crosslinkable functional group in a substituent of an amide derivative.

本発明の樹脂[B)における上記「架橋性官能基を含有
する共重合体成分」の割合は、該樹脂[B]中好ましく
は1〜80重h1%である。より好ましくは、5〜50
重量%である。
The proportion of the above-mentioned "copolymer component containing a crosslinkable functional group" in the resin [B) of the present invention is preferably 1 to 80% by weight/h1% in the resin [B]. More preferably 5 to 50
Weight%.

かかる樹脂[BEを製造する際には、架橋反応を促進さ
せるために、必要に応じて、反応促進剤を添加してもよ
い。例えば、酸(酢酸、プロピオン酸、酪酸、ベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸等)、過酸化物、
アゾビス系化合物、架橋剤、増感剤、光重合性単量体等
が挙げられる。
When producing such a resin [BE, a reaction accelerator may be added, if necessary, in order to promote the crosslinking reaction. For example, acids (acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.), peroxides,
Examples include azobis compounds, crosslinking agents, sensitizers, photopolymerizable monomers, and the like.

具体的には、架橋剤としては、前述の高次の網目構造を
有する網目親水性樹脂粒子の製造に用いられる架橋剤と
全く同じものが使用できる。
Specifically, as the crosslinking agent, it is possible to use the same crosslinking agent as that used in the production of the network hydrophilic resin particles having the above-mentioned high-order network structure.

光架橋反応性の官能基を含有する場合には、前記した感
光性樹脂に関する総説に引例された化合物等を用いるこ
とができる。
When containing a photocrosslinking-reactive functional group, the compounds cited in the above-mentioned review of photosensitive resins can be used.

また、樹脂CB]は、前記した一般式CI)で示される
繰返し単位に相当する単量体及び前記した多官能性単量
体とともに、これら以外の他の単量体(例えば樹脂(A
、 )にて含有され得る他の単量体として前記したもの
)を共重合成分として含有してもよい。
In addition, the resin CB] includes a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula CI) and the polyfunctional monomer described above, as well as other monomers other than these (for example, the resin (A
, ) may be contained as a copolymerization component.

以上の如く、本発明の樹脂〔B〕は、架橋構造を重合体
の少なくとも1部に有することを特徴とするが、更に無
機光導電体及び該結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層形成周分11に物調整時の有機溶媒に可溶性であるこ
とを必要とする。具体的には、例えばトルエン溶媒10
0重量部に対して、温度25℃において、樹脂(BEが
少なくとも5重量部以上溶解するものであればよい。こ
れら塗布用の溶媒としては、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、メチルクロロホルム、トリクレ
ン等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール
、プロパツール、ブタノール等のアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、テトラヒドロフラン、シトキサン等のエーテル類、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル等のエステル類、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート
等のグリコールエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類等が挙げら
れ、これらは単独で又は混合して使用することができる
。
As described above, the resin [B] of the present invention is characterized by having a crosslinked structure in at least a part of the polymer, and further includes a photoconductive layer forming periphery containing at least an inorganic photoconductor and the binder resin. It is necessary for the material to be soluble in the organic solvent during preparation. Specifically, for example, toluene solvent 10
Any solvent that can dissolve at least 5 parts by weight of the resin (BE) at a temperature of 25°C with respect to 0 parts by weight may be used.Solvents for these coatings include halogens such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, methylchloroform, and trichlene. Hydrocarbons, alcohols such as methanol, ethanol, propatool, butanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ethers such as tetrahydrofuran and cytoxane,
Methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate,
These include esters such as methyl propionate, glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and 2-methoxyethyl acetate, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene, which may be used alone or in combination. can be used.

本発明では、樹脂(A〕及び樹脂CB](CB’)も含
む)の他に他の樹脂を併用させる事もできる。それらの
樹脂としては、例えば、アルノット樹脂、ポリブチラー
ル樹脂、ポリオレフィン類、エチレンニ酢ビ共重合体、
スチレン樹脂、スチレン−ブタジェン樹脂、アクリレー
トブタジェン樹脂、アルカン酸ビニル樹脂等が挙げられ
る。
In the present invention, in addition to resin (A] and resin CB] (including resin CB')), other resins can also be used in combination. Examples of such resins include Arnot resin, polybutyral resin, polyolefins, ethylene divinyl acetate copolymer,
Examples include styrene resin, styrene-butadiene resin, acrylate butadiene resin, vinyl alkanoate resin, and the like.

上記他の樹脂は、本発明の樹脂〔A〕、〔B〕を用いた
全結着樹脂量の30%(重量比)を越えると本発明の効
果(特に静電特性の向上)が失われる。
If the other resins mentioned above exceed 30% (weight ratio) of the total binder resin amount using resins [A] and [B] of the present invention, the effects of the present invention (especially improvement of electrostatic properties) will be lost. .

本発明に用いる樹脂(A)と樹脂[B]の使用量の割合
は、使用する光導電性酸化亜鉛の粒径、表面状態によっ
て異なるが一般に樹脂〔A〕と樹脂[B)の用いる割合
は5〜80対95〜20(重量比)であり、好ましくは
15〜60対85〜40 (重量比)である。
The ratio of resin (A) and resin [B] used in the present invention varies depending on the particle size and surface condition of the photoconductive zinc oxide used, but in general, the ratio of resin [A] and resin [B] used is The ratio is 5 to 80 to 95 to 20 (weight ratio), preferably 15 to 60 to 85 to 40 (weight ratio).

更に、前述の樹脂[A]が、前記した式(III又は式
(III)で示される1つの繰返単位に相当する共重合
成分(i)を含有する樹脂の場合、該共重合成分の存在
割合は30重量%以上であり、好ましくは50〜97重
量%であり、前記した極性基を含有する共重合成分(i
i )を含有する樹脂の場合、該共重合成分(11)の
存在割合は0.5〜20重量%、好ましくは1〜10重
量%である。
Furthermore, when the aforementioned resin [A] is a resin containing a copolymer component (i) corresponding to one repeating unit represented by the above formula (III or formula (III)), the presence of the copolymer component The proportion is 30% by weight or more, preferably 50 to 97% by weight, and the above-mentioned polar group-containing copolymer component (i
In the case of the resin containing i), the proportion of the copolymer component (11) is 0.5 to 20% by weight, preferably 1 to 10% by weight.

式[IIIにおいて、好ましいX、及びX、としてそれ
ぞれ水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好まし
い炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭
素数7〜9のアラルキル基(例エバヘンシル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、クロロベンジル基、
ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル
基等)、アリール基(例えばフェニル基、トリル基、キ
シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並びに−c
oy 、及び−COOY2 (好ましいYl及びY2と
しては上記の好ましい炭化水素基として記載したものを
挙げることができる)を挙げることができる。但し、x
l及びx2がともに水素原子を表す事はない。
In formula [III, preferred X and X are hydrogen, chlorine, and bromine atoms, respectively, and preferred hydrocarbon groups include alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (e.g. evahensyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group,
dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloro-methyl-benzyl group, etc.), aryl group (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group) groups, etc.), and -c
oy, and -COOY2 (preferred Yl and Y2 include those described above as preferred hydrocarbon groups). However, x
Both l and x2 do not represent hydrogen atoms.

式〔■〕において、Il、は、−CDローとベンゼン環
を結合する、直接結合又は−←C112→n  (nは
1〜3の整数を表わす) 、−C1l−C1l*口C0
−1門CH2O七(mはl又は2の整数を表わす) 、
−C11,CH,0−等の如き連結原子数1〜4個の連
結基を表わす。
In formula [■], Il is a direct bond or -←C112→n (n represents an integer of 1 to 3), -C1l-C1l*C0, which connects -CD rho and a benzene ring.
-1 gate CH2O7 (m represents an integer of l or 2),
Represents a linking group having 1 to 4 linking atoms such as -C11, CH, 0-, etc.

式[III)における胃、はLと同一の内容を表わす。Stomach in formula [III) represents the same content as L.

本発明で用いられる式[1)又は[III)で示される
繰返単位(i)の具体例を以下に挙げる。しかし、本発
明の範囲は、これらに限定されるものではない。
Specific examples of the repeating unit (i) represented by formula [1) or [III] used in the present invention are listed below. However, the scope of the present invention is not limited thereto.

C11゜ i−3) i−4) CH。C11゜ i-3) i-4) CH.

」 i−6) i−7) ! i −H) i −14) i −15) i −16) [:l+。” i-6) i-7) ! i-H) i-14) i-15) i-16) [:l+.

CII 2 C、It S C1[。CII 2 C, It S C1[.

i −10) C11゜ i −11) CI C11゜ CI。i-10) C11゜ i-11) C.I. C11゜ C.I.

量 CH3 C11゜ i −19) CH。amount CH3 C11゜ i-19) CH.

一20) CH。120) CH.

し1 L υr CH3 し113 C11゜ C11゜ C1(。1 L υr CH3 113 C11゜ C11゜ C1(.

C11゜ l ! C11゜ C1+3 一26) C11゜ 暑 r i −23> L i −27) C11゜ ■ しI i −24) CH3 i −28) C)1゜ =29) C11゜ C11゜ C11゜ −fcL−C→ 鳳 C11゜ 、−(−C1,−[:→ ! i −35) CH。C11゜ l ! C11゜ C1+3 126) C11゜ heat r i-23> L i-27) C11゜ ■ I i-24) CH3 i-28) C) 1° =29) C11゜ C11゜ C11゜ -fcL-C→ Otori C11゜ , -(-C1,-[:→ ! i-35) CH.

i −36) C11゜ 量 −f CH。i-36) C11゜ amount -f CH.

C→ しUUL:t13 しI r 1r i −37) C11゜ また、樹脂「A〕が[極性基を含有する繰返単位(ii
)Jにおいて、好ましい酸性基は−P03H2基、i 
−3H) CH3 i〜39) C11゜ i〜40) CH。
C→ ShiUUL: t13 ShiI r 1r i -37) C11゜Also, the resin "A" is [repeating unit containing a polar group (ii
) J, preferred acidic groups are -P03H2 group, i
-3H) CH3 i~39) C11゜i~40) CH.

しUULII3 含有基である。ShiUULII3 It is a containing group.

−P−OH基において、Rは炭化水素基又はOR’OR
’ (R’は炭化水素基を表わす)を表わし、R及びR′は
好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2−メトキシエチル基、3−エトキシ
プロピル基、アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シ
クロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基
、フロロベンジル基、メトキシベンジル基等)、又は置
換されてもいアリール基(例えばフェニル基、トリル基
、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェ
ル基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−
メチル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基
、フロロフェニル基、ブトキシフェニル基等)等を表わ
す。
-P-OH group, R is a hydrocarbon group or OR'OR
'(R' represents a hydrocarbon group), and R and R' are preferably aliphatic groups having 1 to 22 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, Decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2-
Chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group , methoxybenzyl group, etc.), or a substituted aryl group (e.g. phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophyll group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-
methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, fluorophenyl group, butoxyphenyl group, etc.).

また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
In addition, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic acid anhydride and aromatic dicarboxylic acid anhydride. It will be done.

脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸む水
物環ζグルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロベンクン−1,2−ジカルボン酸む水物風、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物風、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2.3−ビシク
ロ[2,2゜2〕オクタンジカルボン酸無水物風等が挙
げられ、これらの環には、例えば塩素原子、臭素原子等
のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキ
シル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
Examples of aliphatic dicarboxylic acid anhydrides include succinic acid anhydride ring ζ glutaconic acid anhydride ring, maleic acid anhydride ring, cyclobencune-1,2-dicarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring Examples include acid anhydride, cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride ring, 2,3-bicyclo[2,2゜2]octanedicarboxylic anhydride, and these rings contain, for example, a chlorine atom, A halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a hexyl group, etc. may be substituted.

又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレンジカルボン酸無水物環、ピリジン
−ジカルボン酸無水物環、チオフエンージ′カルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基
、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アル
コキシ基としては、例えば、メトキシJ、l;、エトキ
シ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic anhydrides include phthalic anhydride rings, naphthalene dicarboxylic anhydride rings, pyridine-dicarboxylic anhydride rings, and thiophene dicarboxylic anhydride rings. , for example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, methyl group, ethyl group,
It may be substituted with an alkyl group such as a propyl group or a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (as an alkoxy group, for example, a methoxy group, an ethoxy group, etc.).

本発明の[極性基を含有する繰り返し単位(ii)」に
相当する共重合成分は、例えば式〔■〕又は式(II[
)で示される繰返単位に相当するメチクリレート単量体
と共重合し得る、該極性基を含有するビニル系化合物で
あればいずれでもよく、例えば、高分子学会線[高分子
データ・ハンドブック〔基m編〕」培風館(1986年
)等に記載さている。
The copolymerization component corresponding to the "repeating unit containing a polar group (ii)" of the present invention is, for example, the formula [■] or the formula (II [
) may be any vinyl compound containing the polar group that can be copolymerized with the methicrylate monomer corresponding to the repeating unit represented by M edition] Baifukan (1986), etc.

具体的には、アクリ酸、α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、αアセトキシメチル体、α
−(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、αフロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ
体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−メ
トキシ体、α。
Specifically, acrylic acid, α- and/or β-substituted acrylic acid (e.g. α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α
-(2-amino)methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β- Methoxy form, α.

β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタ
コン酸半エステル類、イタコン酸半アミド頚、クロトン
酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン
酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4
−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン
酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、マレイ
ン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベ
ンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン
酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エステ
ル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエ
ステル誘導体、アミド誘導体の置換基体中に該酸性基を
含有する化合物が挙げられる。
β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amide neck, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, -octenoic acid, 4
-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid Examples include half-ester derivatives of vinyl or allyl groups of acids and dicarboxylic acids, and compounds containing the acidic group in the substituent of these carboxylic or sulfonic acid ester derivatives and amide derivatives.

「極性基含有の繰返単位(ii)」について例示する。The "polar group-containing repeating unit (ii)" will be exemplified.

1i−1) −fc11.−C→ C00lI bl: 11゜ CL( 以下、 同じ) ii −2)     C113 →C)I−CH−+ 0OII if−3) ii−4) b。1i-1) -fc11. -C→ C00lI BL: 11° CL( below, same) ii-2) C113 →C) I-CH-+ 0OII if-3) ii-4) b.

−(−C112−C→ 巖 COD (Cll 2) 、、C00IIo:2〜11
の整数 す。
-(-C112-C→ Iwao COD (Cll 2) ,,C00IIo:2~11
An integer of

−f CH2−C→ 0OII(CH2)I、COO11 0:2〜11の整数 C00(CH2)20CO(C112) 、、CDDH
b2=H,CH,、−CH,C00CI1. (以下、
同シ)n= 1〜3の整数 COD (Cll、) 、SO,l+ n= 2〜4の整数 C00(Cll2)20COCH−C11−COOHC
H。
-f CH2-C→ 0OII(CH2)I, COO11 0: Integer from 2 to 11 C00(CH2)20CO(C112) ,,CDDH
b2=H, CH, , -CH, C00CI1. (below,
Same) n = integer from 1 to 3 COD (Cll, ), SO, l+ n = integer from 2 to 4 C00 (Cll2) 20COCH-C11-COOHC
H.

SO3に CIl□CO口11 ii−19) n011 + C)12−C→ CH2C0OR C1〜C1のアルキル基 1i−21) ii−22) ii −23) 一+CI+、、−CIl→ 直 02H ii−24) fcH2−cH→− C112COD It 量 C0NII (CI+2) 2Sn、112〜IOの整
数 R m:2〜IOの整数 R: C,〜6のアルキル基、ベン ジル基、フェニル基 更に、樹脂〔B〕の好ましい態様として、一般式〔■〕
で示される繰返し単位を少なくとも1種含有する重合体
で、一部が架橋されており、且つ、少なくとも1つの主
鎖の片末端にのみ、−PO,H,基、一3O,H基、−
COOH基、−旧1基、−3l+基、−P−OH基OR
’ (R’は炭化水素基を示し、更に具体的には前記Rと同
一のものを示す)、環状酸無水物含有基(具体的には樹
脂[A]成分(ii)にて記載したと同様の内容を示す
)、 (b+、b2は同じでも異なっていてもよく、水素原子
又は炭化水素基を示す)から選ばれる少なくとも一つの
極性基を結合して成る重量平均分子量5X104以上の
好ましくは重量平均分子量8×104〜6×10sの重
合体(以下、樹脂〔B′〕を挙げることができる。
SO3 has CIl ) fcH2-cH→- C112COD It amount C0NII (CI+2) 2Sn, integer R from 112 to IO m: integer R from 2 to IO: C, ~6 alkyl group, benzyl group, phenyl group, and furthermore, resin [B] As a preferred embodiment, the general formula [■]
A polymer containing at least one type of repeating unit represented by, which is partially crosslinked, and which has -PO,H, group, -3O,H group, - at one end of at least one main chain.
COOH group, -old 1 group, -3l+ group, -P-OH group OR
'(R' indicates a hydrocarbon group, more specifically indicates the same as R above), a cyclic acid anhydride-containing group (specifically, as described in component (ii) of resin [A] (b+, b2 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group), and preferably have a weight average molecular weight of 5 x 104 or more. Polymers (hereinafter referred to as resins [B']) having a weight average molecular weight of 8 x 104 to 6 x 10 s can be mentioned.

樹脂〔B′〕のガラス転移点は好ましくは0℃〜120
℃の範囲、より好ましくは10℃〜95℃である。b、
及びb2の具体例としては、水素原子のほか炭素数1〜
10の置換されてもよい脂肪族(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基
、2−シアノエチル基、2−クロロエチル基、2−エト
キシカルボニルエチル基、ベンジル基、フェネチル基、
クロロベンジル基、等)、置換されてもよいアリール基
(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、シアノフェニル基等)等が挙げられる。
The glass transition point of the resin [B'] is preferably 0°C to 120°C.
℃ range, more preferably 10℃ to 95℃. b,
Specific examples of and b2 include hydrogen atoms as well as carbon atoms with 1 to 1 carbon atoms.
10 optionally substituted aliphatic groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, 2-cyanoethyl group, 2-chloroethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, benzyl group, phenethyl group) basis,
chlorobenzyl group, etc.), optionally substituted aryl groups (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, methoxycarbonylphenyl group, cyanophenyl group, etc.).

また、好ましい末端極性基は、−1’0dlz基、−C
00H基、−80,11基、−囲碁、−811基、−P
−011基、OR’ −CONI+2基及び−5O2Ni12基である。
Further, preferable terminal polar groups are -1'0dlz group, -C
00H group, -80,11 group, -Go, -811 group, -P
-011 group, OR' -CONI+2 group and -5O2Ni12 group.

重合体主鎖の片末端のみに結合する前記特定の極性基は
重合体主鎖の一方の末端に直接結合するか、あるいは任
意の連結基を介して結合した化学構造を有する。
The specific polar group bonded to only one end of the polymer main chain has a chemical structure in which it is bonded directly to one end of the polymer main chain or via an arbitrary linking group.

結合基としては炭素−炭素結合(−重結合あるいは二重
結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子としては例
えば、酸素原子、イ才つ原子、窒素原子、ケイ素原子)
、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の任意の組合わ
せで構成されるものz である。例えば、  fC−)−[R11,R,2は水
素圧R目 子、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素
原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基等)等を示す) 
、fC)I=CI+、I3 11R13 R11 −N11COO−1−Nl−1[:0NH−1−3i−
にこでLsは水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、フェ
ニル基、トリル基等)又は−〇R,4(R,、は、R1
1の炭化水素基と同一の内容を表す)を表わす〕等が挙
げられる。
Bonding groups include carbon-carbon bonds (-double bonds or double bonds), carbon-heteroatom bonds (heteroatoms include, for example, oxygen atoms, diagonal atoms, nitrogen atoms, and silicon atoms).
, z, which is composed of any combination of atomic groups of heteroatom-heteroatom bonds. For example, fC-)-[R11,R,2 is hydrogen pressure R, halogen atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), cyano group, hydroxyl group, alkyl group (e.g. methyl group, ethyl group, Propyl group, etc.)
, fC) I=CI+, I3 11R13 R11 -N11COO-1-Nl-1[:0NH-1-3i-
In Niko, Ls is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, benzyl group, phenethyl group, phenyl group, tolyl group, etc.) or -〇R,4(R,, is R1
(represents the same content as the hydrocarbon group in 1)], etc.

重合体主鎖の少なくとも1つの片末端にのみ特定の極性
基を結合して成る本発明の樹脂CB]は、従来公知のア
ニオン重合あるいはカチオン重合によって得られるリビ
ングポリマーの末端に種々の試薬を反応させる方法(イ
オン重合法による方法)、分子中に特定の極性基を含有
する重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル
重合させる方法(ラジカル重合法による方法)、あるい
は以上の如きイオン重合法もしくはラジカル重合法によ
って得られた末端に反応性基含有の重合体を高分子反応
によって本発明の特定の極性基に変換する方法等の合成
法によって容易に製造することができる。
The resin CB of the present invention, which has a specific polar group bonded only to at least one end of the polymer main chain, can be obtained by reacting various reagents to the ends of living polymers obtained by conventionally known anionic or cationic polymerization. (ionic polymerization method), radical polymerization method using a polymerization initiator and/or chain transfer agent containing a specific polar group in the molecule (radical polymerization method), or the above-mentioned ionic polymerization method. It can be easily produced by a synthetic method such as a method in which a polymer containing a reactive group at the end obtained by a legal or radical polymerization method is converted into the specific polar group of the present invention by a polymer reaction.

具体的には、P、Dreyfuss、 RlP、0ui
rk、 Bncycl。
Specifically, P, Dreyfuss, RlP, 0ui
rk, Bncycl.

Polym、Sci、Bng、 7 ; 551  (
19,87) 、中條善樹、山下雄也「染料と薬品」、
30.232(1985)、上田明、永井進「科学と工
業」60.57(1986)等の総説及びそれに引用の
文献等に記載の方法によって製造することができる。
Polym, Sci, Bng, 7; 551 (
19, 87), Yoshiki Nakajo, Yuya Yamashita "Dye and Medicine",
30.232 (1985), Akira Ueda and Susumu Nagai, "Science and Industry" 60.57 (1986), and other reviews and documents cited therein.

本発明に用いられる樹脂〔B′〕の重合体は、具体的に
は、一般式〔■〕で示される繰返し単位に相当する単歯
体、前記した架橋構造を形成させるための多官能性単量
体及び片末端に結合させるべき極性基を含有する連鎖移
動剤の混合物を重合開始剤(例えばアゾビス系化合物、
過酸化物等)により重合する方法、あるいは上記連鎖移
動剤を用いずに、該極性基を含有する重合開始剤を用い
て重合する方法、あるいは連鎖移動剤及び重合開始剤の
いずれにも該極性基を含有する化合物を用いる方法、更
には、前記3つの方法において、連鎖移動剤あるいは重
合開始剤の置換基として、アミノ基、ハロゲン原子、エ
ポキシ基、酸ハライド基等を含有する化合物を用いて重
合反応後、更に高分子反応でこれらの官能基と反応させ
ることで該極性基を導入する方法、等を用いて製造する
ことができる。用いる連鎖移動剤としては、例えば該極
性基あるいは該極性基に誘導しつる置換基を含有するメ
ルカプト化合物(例えばチオグリコール酸、チオリンゴ
酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸、3
−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト醋酸、N−
(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メルカ
プトニコチン’f/I、3− CN (2−メルカプト
エチル)カルバモイル〕プロピオン酸、3− CN−(
2−メルカプトエチル)アミノコプロピオン酸、N−(
3メルカプトプロピオニル)アラニン、2−メルカプト
エタンスルホン酸、3−メルカプトプロパンスルホン酸
、4−メルカプトブタンスルホン酸、2−メルカプトエ
タノール、3−メルカプト−1゜2−プロパンジオール
、1−メルカプト−2−プロパツール、3−メルカプト
−2−ブタノール、メルカプトフェノール2−メルカプ
トエチルアミン、2−メルカプトイミダゾール、2−メ
ルカプト−3ビリジノール等)、あるいは上記極性基又
は置換基を含有するヨード化アルキル化合物(例えばヨ
ード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノール
、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンス
ルホン酸等)が挙げられる。
Specifically, the polymer of the resin [B'] used in the present invention includes monotooth bodies corresponding to the repeating units represented by the general formula [■], and polyfunctional monomers for forming the above-mentioned crosslinked structure. A polymerization initiator (for example, an azobis compound,
peroxide, etc.), or polymerization using a polymerization initiator containing the polar group without using the above chain transfer agent, or a method in which the chain transfer agent and the polymerization initiator contain the polar group. A method using a compound containing a group, and furthermore, in the above three methods, a compound containing an amino group, a halogen atom, an epoxy group, an acid halide group, etc. is used as a substituent of the chain transfer agent or polymerization initiator. After the polymerization reaction, the polar group can be produced by further reacting with these functional groups in a polymer reaction to introduce the polar group. Examples of the chain transfer agent used include mercapto compounds containing the polar group or a substituent derived from the polar group (e.g., thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid,
-Mercaptopropionic acid, 3-mercaptoacetic acid, N-
(2-mercaptopropionyl)glycine, 2-mercaptonicotine'f/I, 3-CN (2-mercaptoethyl)carbamoyl]propionic acid, 3-CN-(
2-Mercaptoethyl)aminocopropionic acid, N-(
3-mercaptopropionyl)alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1°2-propanediol, 1-mercapto-2-propane tool, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mercaptoimidazole, 2-mercapto-3-viridinol, etc.), or iodized alkyl compounds containing the above polar groups or substituents (e.g., iodoacetic acid, (iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, etc.).

好ましくはメルカプト化合物が挙げられる。Preferred are mercapto compounds.

これらの連鎖移動剤あるいは重合開始剤は、各々全単量
体100重量部に対して、0.5〜15重量部であり、
好ましくは1〜10重量部である。
These chain transfer agents or polymerization initiators are each used in an amount of 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the total monomers,
Preferably it is 1 to 10 parts by weight.

本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
:イメージング1973  (No、8)第12頁、C
,J、Young等: RCA Revie  15 
、469  (1954)、清田航平等:電気通信学余
線文誌J63−C(No。
In the present invention, various dyes can be used in combination as spectral sensitizers, if necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei: Imaging 1973 (No. 8) p. 12, C.
, J. Young et al.: RCA Revie 15
, 469 (1954), Wataru Kiyota: Telecommunications Journal J63-C (No.

2) 97 (1980)、原崎勇次等、工業化学雑誌
66、78及び188 (1963)、谷忠昭、日本写
真学会誌35.208 (1972)等の総説引例のカ
ーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニ
ルメタン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素、
ポリメチン色1(例えばオキソノール色素、メロシアニ
ン色素、シアニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色
素等)、フタロシアニン色素(金属を含有していてもよ
い)等が挙げられる。
2) 97 (1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Chemistry Journal 66, 78, and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 35.208 (1972), etc., carbonium dyes, diphenylmethane dyes, and triphenyl Methane pigments, xanthine pigments, phthalein pigments,
Polymethine colors 1 (for example, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain metal), and the like can be mentioned.

更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン系色素、牛サンテン系色素、フタレイン系色素を中
心に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開
昭50−90334号、同50−114227号、同5
3−39130号、同53−82353号、米国特許第
3052540号、同第4054450号、特開昭57
−16456号等に記載のものが挙げられる。
More specifically, examples using mainly carbonium dyes, triphenylmethane dyes, bovine santhene dyes, and phthalein dyes include Japanese Patent Publication Nos. 51-452, 50-90334, and 50-50. -114227, same 5
No. 3-39130, No. 53-82353, U.S. Pat. No. 3,052,540, U.S. Pat.
-16456 etc. are mentioned.

オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、M
、Hammar、  rThe Cyanine Dy
es andRelated Compounds J
等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には、
米国特許第30473H4号、同第3110591号、
同第3121008号、同第3125447号、同第3
128179号、同第3132942号、同第3622
317号、英国特許第1226892号、同第1309
274号、同第1405898号、特公昭48−781
4号、同55−18892号等に記載の色素が挙げられ
る。
oxonol dye, merocyanine dye, cyanine dye,
Polymethine dyes such as rhodacyanine dyes include F, M
, Hammer, rThe Cyanine Dy
es andRelated Compounds J
It is possible to use the pigments described in et al., and more specifically,
U.S. Patent No. 30473H4, U.S. Patent No. 3110591,
Same No. 3121008, Same No. 3125447, Same No. 3
No. 128179, No. 3132942, No. 3622
317, British Patent No. 1226892, British Patent No. 1309
No. 274, No. 1405898, Special Publication No. 1978-781
Examples include dyes described in No. 4, No. 55-18892, and the like.

更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分
光増感するポリメチン色素として、特開昭47−840
号、同47−44180号、特公昭51−41061号
、特開昭49−5034号、同49−45122号、同
57−46245号、同56−35141号、同57−
157254号、同61−26044号、同61−27
551号、米国特許第361954号、同第41759
56号、r Re5earch口1sclosure 
J 1982年、216、第117〜118頁等に記載
のものが挙げられる。
Furthermore, as a polymethine dye that spectrally sensitizes the near-infrared to infrared light region with a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-47-840
No. 47-44180, Japanese Patent Publication No. 51-41061, Japanese Patent Publication No. 49-5034, Japanese Patent Publication No. 49-45122, Japanese Patent Publication No. 57-46245, Japanese Patent Publication No. 56-35141, Japanese Patent Publication No. 57-
No. 157254, No. 61-26044, No. 61-27
551, U.S. Patent No. 361954, U.S. Patent No. 41759
No. 56, r Re5earch 1 closure
J 1982, 216, pp. 117-118.

本発明の感光体は種々の増感色素を併用させても、その
性能が増感色素により変動しにくい点でも優れている。
The photoreceptor of the present invention is also excellent in that its performance does not easily vary depending on the sensitizing dye, even when various sensitizing dyes are used together.

更には、必要に応じて、化学増感剤等の従来知ら゛れで
いる電子写真感光層用各種添加剤を併用することもでき
る。例えば、前記したイメージング1973 (No、
8)第12頁に引例の電子受容性化合物(例えばハロゲ
ン、ベンゾキノン、クラニル、酸無水物、有機カルボン
酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第4章〜第6章二日本科学情報−出版部(1
986年)に引例のボリアリールアルカン化合物、ヒン
ダードフェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合
物等が挙げられる。
Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers can be used in combination. For example, the aforementioned Imaging 1973 (No.
8) Electron-accepting compounds (e.g. halogens, benzoquinone, cranyl, acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.) cited on page 12, Hiroshi Komon et al., "Recent development and practical application of photoconductive materials and photoreceptors" Chapters 4 to 6 2 Japanese Science Information - Publishing Department (1
986), the cited polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds, etc.

これら各種添加剤の添加量は特に限定的ではないが、通
常光導電性酸化亜鉛100重量部に対してo、ooot
〜2.0重量部である。
The amount of these various additives added is not particularly limited, but usually o, ooot to 100 parts by weight of photoconductive zinc oxide.
~2.0 parts by weight.

光導電層の厚さは1〜100μ、特に10〜50μ、が
好適である。
The thickness of the photoconductive layer is preferably 1 to 100 microns, particularly 10 to 50 microns.

また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型の電荷発生層と
して光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さは0.
01〜1μ、特に0.05〜0.5μが好適である。
Further, when a photoconductive layer is used as a charge generation layer in a laminated structure consisting of a charge generation layer and a charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.
01-1μ, particularly 0.05-0.5μ is suitable.

感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。
In some cases, an insulating layer is added mainly for the purpose of protecting the photoreceptor, improving its durability, dark decay characteristics, etc.

この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and when the photoreceptor is used for a specific electrophotographic process, the insulating layer provided is set to be relatively thick.

後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
In the latter case, the thickness of the insulating layer is between 5 and 70μ, in particular 1
It is set to 0 to 50μ.

積層型の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバゾール
、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリフェニ
ルメタン系色素なとがある。電荷輸送層の厚さとしては
5〜40μ、特には10〜30μが好適である。
Laminated charge transport materials include polyvinylcarbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, and triphenylmethane dyes. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 microns, particularly 10 to 30 microns.

絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリア
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコー
ン樹脂の熱可塑性樹脂および硬化性樹脂が適宜用いられ
る。
Typical resins used to form the insulating layer or charge transport layer include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride vinyl oxide copolymer resin, Thermoplastic resins and curable resins such as polyacrylic resins, polyolefin resins, urethane resins, polyester resins, epoxy resins, melamine resins, and silicone resins are used as appropriate.

本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に言って電子写真光導電層の支持体
は、導電性であることが好ましく、導電性支持体として
は、従来と全く同様、例えば金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる等して導電処
理したもの、基体の裏面(光導電層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、上記支持体の
表面に、耐水性接着層を設けたもの、必要に応じて少な
くとも1層以上のプレコート層を設けたもの、AI等を
蒸着した基体導電化プラスチックを紙にラミネートした
もの等が使用できる。
The photoconductive layer according to the invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photoconductive layer is preferably electrically conductive, and the electrically conductive support can be made by impregnating a low-resistance substance with a base material such as metal, paper, or plastic sheet, just as conventionally. Those that have been subjected to conductive treatment such as coating, those that have been coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photoconductive layer is provided) and further preventing curling, and those that have been coated with at least one layer for the purpose of preventing curling, etc. Supports with a water-resistant adhesive layer on the surface, at least one pre-coat layer if necessary, and paper laminated with a conductive plastic base coated with AI or the like can be used. .

具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、14、(No、1)、第2〜11
頁(1975) 、森賀弘之「入門特殊紙の化学」高分
子刊行会(1975) 、M、F、Ho。
Specifically, examples of conductive substrates or conductive materials include:
Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No. 1), No. 2-11
Page (1975), Hiroyuki Moriga, "Introductory Chemistry of Special Papers", Kobunshi Publishing Association (1975), M, F, Ho.

var、 J、lJacromol、Sci、Chem
、A−4(6)第1327〜1417頁(1970)等
に記載されているもの等を用いる。
var, J, lJacromol, Sci, Chem
, A-4(6), pages 1327-1417 (1970), etc. are used.

以上の本発明の電子写真式平版印刷用原版を用いて平版
印刷版を作製するには公知の方法が適用できる。即ち、
暗所で実質的に一様に帯電し、画像露光により静電潜像
を形成する。露光方法としては、半導体レーザ、tl 
e −N eレーザ等による走査露光あるいはキセノン
ランプ、タングステンランプ、蛍光灯等を光源として反
射画像露光、透明陽画フィルムを通した密着露光などが
挙げられる。
Known methods can be applied to produce a lithographic printing plate using the electrophotographic lithographic printing original plate of the present invention described above. That is,
It is charged substantially uniformly in the dark and forms an electrostatic latent image upon imagewise exposure. The exposure method is semiconductor laser, tl
Examples include scanning exposure using an e-N e laser, reflection image exposure using a xenon lamp, tungsten lamp, fluorescent lamp, etc. as a light source, and contact exposure using a transparent positive film.

次に上記静電潜像をトナーによって現像する。現像法と
しては従来公知の方法、例えば、カスケード現像、磁気
ブラシ現像、パウダークラウド現像、液体現像などの各
種の方法を用いることが出来る。
Next, the electrostatic latent image is developed with toner. As the developing method, various conventionally known methods such as cascade development, magnetic brush development, powder cloud development, and liquid development can be used.

なかでも液体現像は微細な画像を形成することが可能で
あり、印刷版を作製するために好適である。
Among these, liquid development is capable of forming fine images and is suitable for producing printing plates.

形成されたトナー画像は公知の定着法、例えば、加熱定
着、圧力定着、溶剤定着等により定着することが出来る
。
The formed toner image can be fixed by a known fixing method, such as heat fixing, pressure fixing, solvent fixing, or the like.

このようにして形成されたトナー画像を有する印刷版は
次に非画像部の親水化処理が常法により行われる。親水
化処理には通常いわゆる不感脂化処理液が用いられる。
The printing plate having the toner image formed in this manner is then subjected to a hydrophilic treatment for non-image areas by a conventional method. A so-called desensitizing treatment liquid is usually used for the hydrophilic treatment.

従来よりこの種の不感脂化処理液として、フェロシアン
塩、フェリシアン塩を主成分とするシアン化合物含有処
理液、アンミンコバルト錯体、フィチン酸及びその誘導
体、グアニジン誘導体を主成分としたシアンフリー処理
液、亜鉛イオンとキレートを形成する無機酸あるいは有
機酸を主成分とした処理液、あるいは水溶性ポリマーを
含有した処理液等が知られている。
Conventionally, this type of desensitizing treatment liquid includes ferrocyanate, cyanide compound-containing treatment liquid containing ferricyanate as the main component, cyanide-free treatment containing ammine cobalt complex, phytic acid and its derivatives, and guanidine derivative as main component. Treatment liquids containing inorganic or organic acids as main components that form chelates with zinc ions, and treatment liquids containing water-soluble polymers are known.

例えば、シアン化合物含有処理液として、特公昭44−
9045号、同46−39403号、特開昭52−76
101号、同57−107889号、同54−1172
01号等に記載のものが挙げられる。
For example, as a cyanide-containing treatment liquid,
No. 9045, No. 46-39403, JP-A-52-76
No. 101, No. 57-107889, No. 54-1172
Examples include those described in No. 01.

フィチン酸系化合物含有処理液としては、特開昭53−
83H07号、同53−83H05号、同53−102
102号、同53−109701号、同127003号
、同54−2803号、同54−44901号等に記載
のものが挙げられる。
As a treatment liquid containing a phytic acid compound, JP-A-53-
No. 83H07, No. 53-83H05, No. 53-102
Examples include those described in No. 102, No. 53-109701, No. 127003, No. 54-2803, No. 54-44901, and the like.

コバルト錯体等の金属錯体系化合物含有処理液としては
特開昭53−10.’1301号、同53−14010
3号、同54−18304号、特公昭43−28404
号等に記載のものが挙げられる。
As a treatment liquid containing a metal complex compound such as a cobalt complex, JP-A-53-10. '1301, 53-14010
No. 3, No. 54-18304, Special Publication No. 43-28404
Examples include those listed in the No.

無機又は有機酸含有処理液としては、特公昭39−13
702号、同40−10308号、同43−28408
号、同40−26124号、特開昭51−118501
号等に記載のものが挙げられる。
As a treatment liquid containing an inorganic or organic acid, Japanese Patent Publication No. 39-13
No. 702, No. 40-10308, No. 43-28408
No. 40-26124, JP-A-51-118501
Examples include those listed in the No.

グアニジン化合物含有処理液としては、特開昭58−1
11695号等に記載のものが挙げられる。
As a treatment liquid containing a guanidine compound, JP-A-58-1
Examples include those described in No. 11695 and the like.

水溶性ポリマー含有の処理液としては、特開昭52−1
26302号、同52−134501号、同53−49
506号、同53−59502号、同53−10430
2号、特公昭3H−9665号、同39−22263号
、同40−763号、同40−2202号、特開昭49
−36402号等に記載のものが挙げられる。
As a treatment liquid containing a water-soluble polymer, JP-A-52-1
No. 26302, No. 52-134501, No. 53-49
No. 506, No. 53-59502, No. 53-10430
No. 2, Japanese Patent Publication No. 3H-9665, No. 39-22263, No. 40-763, No. 40-2202, Japanese Unexamined Patent Publication No. 49/1973
-36402 etc. are mentioned.

以上のいずれの不感脂化処理液においても、光導電層で
ある表面層中の酸化亜鉛がイオン化して亜鉛うイオンと
なり、このイオンが不感脂化処理液中のキレートを形成
する化合物とキレート化反応を生じ、亜鉛キレート化物
を形成し、これが表面層中に沈着して親水性化されるも
のと考えられている。
In any of the desensitizing solutions mentioned above, zinc oxide in the surface layer, which is the photoconductive layer, is ionized to become zinc ions, and these ions are chelated with the chelate-forming compound in the desensitizing solution. It is believed that a reaction occurs to form a zinc chelate, which is deposited in the surface layer and becomes hydrophilic.

従って、本発明の印刷用原版は、不感脂化処理液による
不感脂化処理を行うことで印刷可能な印刷版となるもの
である。
Therefore, the printing original plate of the present invention becomes a printable printing plate by performing desensitization treatment using a desensitization treatment liquid.

(実施例) 樹脂粒子の製造例1 ドデシルメタクリレ−) 95 g、アクリル酸5g及
びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しな
がら70℃に加温した。これに2.2−アゾビス(イソ
ブチロニトリル)(略称A、 I、 B。
(Example) Production Example 1 of Resin Particles A mixed solution of 95 g of dodecyl methacrylate, 5 g of acrylic acid, and 200 g of toluene was heated to 70° C. with stirring under a nitrogen stream. This is followed by 2,2-azobis(isobutyronitrile) (abbreviations A, I, B).

N、)1.5gを加え8時間反応した。この反応混合溶
液に、グリシジルメタクリレ−)12g、t−ブチルハ
イドロキノン1g及びN、N−ジメチルドデシルアミン
0.8gを加え、100℃で15時間反応した(分散樹
脂α)。
1.5 g of N, ) was added and reacted for 8 hours. To this reaction mixture solution, 12 g of glycidyl methacrylate, 1 g of t-butylhydroquinone, and 0.8 g of N,N-dimethyldodecylamine were added, and the mixture was reacted at 100° C. for 15 hours (dispersed resin α).

次に、上記分散樹脂α7.5g(固形分量として)、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート50gおよびn−へ
ブタン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら
65℃に加温した。これに、2.2−アゾビス(イソバ
レロニトリル)(略称A、1.V、N、) 0.7 g
を加え6時間反応した。
Next, 7.5 g of the above dispersion resin α (as solid content), 2
A mixed solution of 50 g of -hydroxyethyl methacrylate and 200 g of n-hebutane was heated to 65° C. with stirring under a nitrogen stream. To this, 0.7 g of 2.2-azobis(isovaleronitrile) (abbreviation A, 1.V, N,)
was added and reacted for 6 hours.

開始剤(^、 1. V、 N、 )添加20分後均−
溶液が白濁を始め、反応温度は90℃まで上昇した。冷
却後200メツシユのナイロン布を通して白色分散物を
得た。平均粒子径0.19μmのラテックスであった。
20 minutes after addition of initiator (^, 1. V, N, ) -
The solution began to become cloudy and the reaction temperature rose to 90°C. After cooling, it was passed through a 200 mesh nylon cloth to obtain a white dispersion. The latex had an average particle diameter of 0.19 μm.

樹脂粒子の製造例2 2−ホスホノエチルメタクリレート50g1分散樹脂α
8g(固形分量として)、酢酸エチル150g、n−ヘ
キサン150gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら
55℃に加温した。A、I。
Production example 2 of resin particles 2-phosphonoethyl methacrylate 50g 1 dispersion resin α
A mixed solution of 8 g (as solid content), 150 g of ethyl acetate, and 150 g of n-hexane was heated to 55° C. with stirring under a nitrogen stream. A.I.

V、N、0.5gを加え、4時間反応して、白色分散物
を得た。冷却後200メツシユのナイロン布を通して、
得られた分散物は平均粒子径0.45μmのラテックス
であった。
0.5 g of V and N were added and reacted for 4 hours to obtain a white dispersion. After cooling, pass it through a 200 mesh nylon cloth.
The resulting dispersion was a latex with an average particle size of 0.45 μm.

樹脂粒子の製造例3 N−ビニルピロリドン50g1分散樹脂αlOg(固形
分量として)、トルエン200gの混合溶液とする以外
は、製造例1と同様にして反応し、平均粒子径0.30
μmの白色ラテックスを得た。
Production Example 3 of Resin Particles The reaction was carried out in the same manner as Production Example 1, except that a mixed solution of 50 g of N-vinylpyrrolidone, 1 Og of dispersed resin (as solid content), and 200 g of toluene was used, and the average particle size was 0.30.
A white latex of μm was obtained.

樹脂粒子の製造例4 エチレングリコール31.5g、無水フタル酸51.8
g、メタクリル酸6.0g、)リクロロエチレン10g
、p−)ルエンスルホンit20.7 gの混合物を加
温し6時間反応した。反応温度は107℃からIll始
し、6時間で150℃に上昇する様にした(反応により
副生ずる水は、Dean−3tark法で除去した)。
Production example 4 of resin particles: 31.5 g of ethylene glycol, 51.8 g of phthalic anhydride
g, methacrylic acid 6.0g, )lichloroethylene 10g
, p-) A mixture of 20.7 g of luenesulfone was heated and reacted for 6 hours. The reaction temperature was set to start at 107°C and rise to 150°C in 6 hours (water by-produced by the reaction was removed by the Dean-3 tark method).

次に、メタクリル酸6g、クロロホルム76g1エタノ
ール11.6 g及び上記の反応で得られた分散樹脂β
5.8g(固形分として)の混合溶液を、窒素気流下に
還流させた。これに、A、1.B、 N、 0.8gを
加え3時間反応させて白色分散物を得た。平均粒子径0
.40μmのラテックスであった。
Next, 6 g of methacrylic acid, 76 g of chloroform, 11.6 g of ethanol, and the dispersion resin β obtained in the above reaction were added.
5.8 g (as solid content) of the mixed solution was refluxed under a nitrogen stream. To this, A, 1. 0.8 g of B and N were added and reacted for 3 hours to obtain a white dispersion. Average particle size 0
.. It was 40 μm latex.

樹脂粒子の製造例5 N、N−ジメチルシミノエチルメタクリレート50g1
ポリ (ドデシルメタクリレ−))15g及びトルエン
300gの混合溶液とし、以下は製造例1の造粒条件と
同様に操作して、平均粒子径0.28μmの白色分散物
を得た。
Production example of resin particles 5 N,N-dimethylciminoethyl methacrylate 50g1
A mixed solution of 15 g of poly(dodecyl methacrylate) and 300 g of toluene was prepared, and the following operations were conducted in the same manner as in Production Example 1 to obtain a white dispersion with an average particle size of 0.28 μm.

樹脂粒子の製造例6 (2−ヒドロキシエチルアクリレート/メチルメタクリ
レート)共重合体(重量組成比l/1)粉末10g、(
ドデシルメタクリレート/アクリル酸)共重合体(重量
組成比9515)2 g及びトルエン100gの混合物
をボールミルで48時間処理し分散物を得た。平均粒子
径0.3Hμmのラテックスであった。
Production Example 6 of Resin Particles 10 g of (2-hydroxyethyl acrylate/methyl methacrylate) copolymer (weight composition ratio l/1) powder, (
A mixture of 2 g of dodecyl methacrylate/acrylic acid) copolymer (weight composition ratio 9515) and 100 g of toluene was processed in a ball mill for 48 hours to obtain a dispersion. The latex had an average particle diameter of 0.3 Hμm.

樹脂粒子の製造例7 (ビニルアルコール/メタクリル酸)共重合体(重量組
成比7/3)10g、(デシルメタクリレート/N、N
−ジメチル力チルアクリレート)共重合体(重量比95
15)1.8g及びトルエン100gの混合物をボール
ミルで56時間処理し、分散物を得た。平均粒子径0.
32μmのラテックスであった。
Production example 7 of resin particles 10 g of (vinyl alcohol/methacrylic acid) copolymer (weight composition ratio 7/3), (decyl methacrylate/N, N
-dimethyl acrylate) copolymer (weight ratio 95
15) A mixture of 1.8 g and 100 g of toluene was processed in a ball mill for 56 hours to obtain a dispersion. Average particle size 0.
It was 32 μm latex.

樹脂粒子の製造例8 樹脂粒子の製造例1において、分散樹脂αに2−ヒドロ
キシエチルメタクリレートとn−へブタンの他に、エチ
レングリコールジメタクリレート1gを加える以外は樹
脂粒子の製造例1と全く同様の操作を行い、平均粒子径
0.25μmのラテックス粒子を得た。
Resin particle production example 8 Resin particle production example 1 is exactly the same as resin particle production example 1 except that 1 g of ethylene glycol dimethacrylate is added to the dispersed resin α in addition to 2-hydroxyethyl methacrylate and n-hebutane. The following operations were performed to obtain latex particles having an average particle diameter of 0.25 μm.

樹脂粒子の製造例9 樹脂粒子の製造例2において、分散樹脂αに2−ホスホ
ノエチルメタクリレート、酢酸エチル、n−ヘキサンの
他に、ジビニルベンゼン1.2 g ヲ加える以外は樹
脂粒子の製造例1と全く同様の操作を行い、平均粒子径
0.40μmのラテックス粒子を得た。
Production example 9 of resin particles Production example of resin particles except that in production example 2 of resin particles, 1.2 g of divinylbenzene was added to the dispersion resin α in addition to 2-phosphonoethyl methacrylate, ethyl acetate, and n-hexane. The same operation as in 1 was performed to obtain latex particles with an average particle diameter of 0.40 μm.

樹脂粒子の製造例10 樹脂粒子の製造例3において、分散樹脂αにN−ビニル
ピロリドンとトルエンの他に、エチレングリコールジメ
タクリレート灯1.5 gを加える以外は樹脂粒子の製
造例3と全く同様の操作を行い、樹脂粒子の製造例3と
同様の平均粒子径のラテックス粒子を得た。
Production Example 10 of Resin Particles In Production Example 3 of Resin Particles, the procedure is exactly the same as Production Example 3 of Resin Particles, except that 1.5 g of ethylene glycol dimethacrylate lamp is added to the dispersed resin α in addition to N-vinylpyrrolidone and toluene. The following operations were performed to obtain latex particles having the same average particle diameter as in Production Example 3 of Resin Particles.

樹脂粒子の製造例11 樹脂粒子の製造例4において、分lt&樹脂βにメタク
リル酸とクロロホルムとエタノールの他に、1.6−ヘ
キサンシオールジアクリレー) 0.05gを加える以
外は樹脂粒子の製造例4と全く同様の操作を行い、平均
粒子径0.45μmのラテックス粒子を得た。
Production Example 11 of Resin Particles Production of resin particles in Production Example 4 of Resin Particles except that 0.05 g of 1,6-hexanethiol diacrylate (1,6-hexanethiol diacrylate) was added to lt&resin β in addition to methacrylic acid, chloroform, and ethanol. The same operation as in Example 4 was performed to obtain latex particles with an average particle size of 0.45 μm.

樹脂粒子の製造例12 樹脂粒子の製造例5において、トリエチレングリコール
ジメタクリレー) 0.8 gを加える以外は樹脂粒子
の製造例5と全く同様の操作を行い、平均粒子径0.4
3μmのラテックス粒子を得た。
Production Example 12 of Resin Particles In Production Example 5 of Resin Particles, the same operation as in Production Example 5 of Resin Particles was performed except that 0.8 g of triethylene glycol dimethacrylate was added, and the average particle diameter was 0.4.
Latex particles of 3 μm were obtained.

樹脂粒子の製造例13 下記単量体(a)50g、メチルメタクリレ−)30g
、2−ヒドロキシエチルメタクリレート17g1アリル
メタクリレート3g及びテトラヒドロフラン300gの
混合溶液を窒素気流下に80℃に加温した。^、 l、
B、 N、 1.5 gを加え6時間反応した後、n−
ヘキサン中で再沈澱処理し、固形物を濾葉した。乾燥後
、粉末84gを得た。
Production example 13 of resin particles 50 g of the following monomer (a), 30 g of methyl methacrylate)
A mixed solution of 17 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 3 g of allyl methacrylate, and 300 g of tetrahydrofuran was heated to 80° C. under a nitrogen stream. ^、l、
After adding 1.5 g of B and N and reacting for 6 hours, n-
It was reprecipitated in hexane and the solid was filtered. After drying, 84 g of powder was obtained.

H3 c+12=c トリル20gの混合物を100℃で7時間対質重合を行
った。得られた反応物を、メタノール中で再沈澱処理し
、固形物を濾葉した。乾燥後、粉末4.1gを得た。
H3 c+12=c A mixture of 20 g of tolyl was subjected to homopolymerization at 100° C. for 7 hours. The obtained reaction product was reprecipitated in methanol, and the solid matter was filtered. After drying, 4.1 g of powder was obtained.

本製造例で得られる樹脂(ヒドロゲル)は下記構造を示
す。
The resin (hydrogel) obtained in this production example has the following structure.

樹脂粒子の製造例14 (2−ヒドロキシプロピルメタクリレート/エチルメタ
クリレート)共重合体(重量組成比7/3)50g及び
メチルセルソルブ200gの混合物を40℃に加温し溶
解した。1.6−ヘキサメチレンシイソシアナー) 1
.0 gを加え、4時間攪拌した。混合物を冷却後、水
で再沈澱処理し、固形物を濾葉した。
Production Example 14 of Resin Particles A mixture of 50 g of (2-hydroxypropyl methacrylate/ethyl methacrylate) copolymer (weight composition ratio 7/3) and 200 g of methyl cellosolve was heated to 40° C. and dissolved. 1.6-Hexamethylenecyisocyaner) 1
.. 0 g was added and stirred for 4 hours. After the mixture was cooled, it was reprecipitated with water, and the solid matter was filtered.

乾燥後、粉末35gを得た。After drying, 35 g of powder was obtained.

樹脂粒子の製造例15 2−メチル−2−才キサシリン5g、1.4−テトラメ
チレン−2,2′−ビスオキサゾリン1、 o g 、
メチルトリフレート0.1 g及びアセトニ(Ct12
)* べN−C112CH2−) 樹脂粒子の製造例16 2−メタンスルホニルエチルメタクリレート50g、ジ
l:”ニルコハク酸0.8g及びジメチルホルムアミド
200gの混合溶液を窒素気流下70℃に加温し、^、
1.B、N、 1.5 gを加え8時間反応した。得ら
れた反応物をヘキサン中で再沈澱処理し、固形物を濾葉
した。乾燥後、粉末3Hgを得た。
Production example 15 of resin particles 2-methyl-2-year-old xacillin 5 g, 1,4-tetramethylene-2,2'-bisoxazoline 1, og,
0.1 g of methyl triflate and acetonylate (Ct12
) * BeN-C112CH2-) Production Example 16 of Resin Particles A mixed solution of 50 g of 2-methanesulfonyl ethyl methacrylate, 0.8 g of dil:'nylsuccinic acid, and 200 g of dimethylformamide was heated to 70°C under a nitrogen stream. ,
1. 1.5 g of B and N were added and reacted for 8 hours. The obtained reaction product was reprecipitated in hexane, and the solid matter was filtered. After drying, a powder of 3Hg was obtained.

樹脂〔B〕の合成例1:樹脂〔B)−1工チルメタクリ
レート100g、エチレングリコールジメタクリレート
1. Og及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流
下75℃の温度に加温した後、アゾビスイソブチロニト
リル1. Ogを加え、10時間反応させた。得られた
共重合体[B)−1の重量平均分子量は4.2 X 1
0 ’であった。
Synthesis Example 1 of Resin [B]: Resin [B)-1 100 g of methyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate 1. After heating a mixed solution of Og and 200 g of toluene to a temperature of 75° C. under a nitrogen stream, azobisisobutyronitrile 1. Og was added and reacted for 10 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer [B)-1 was 4.2 x 1
It was 0'.

樹脂〔B〕の合成例2:樹脂[:B] −2工チルメタ
クリレート99g1ジビニルベンゼンIg、)ルエン1
50g及びメタノール50gの混合溶液を窒素気流下7
0℃の温度に加温した後、4.4’ −アゾビス(4−
シアノペンタン酸)1.5gを加え、8時間反応した。
Synthesis example 2 of resin [B]: Resin [:B] -2-functional methyl methacrylate 99 g 1 divinylbenzene Ig,) toluene 1
A mixed solution of 50 g and 50 g of methanol was heated under a nitrogen stream for 7 days.
After heating to a temperature of 0°C, 4.4'-azobis(4-
1.5 g of cyanopentanoic acid) was added and reacted for 8 hours.

得られた共重合体のFk曽は1.2 X 10 ’であ
った。
The Fk so of the obtained copolymer was 1.2 x 10'.

樹脂〔B〕の合成例3〜6:樹脂〔B〕−3〜6上記樹
脂〔B〕の合成例2において、重合開始剤:4.4’ 
−アゾビス(4−シアノペンタン酸)の代わりに下記表
−1の化合物を用いて、合成例2と同様の条件で樹脂[
B]−3〜6を各々製造した。各樹脂の〜は1.0X1
03〜3X103であった。
Synthesis Examples 3 to 6 of Resin [B]: Resin [B]-3 to 6 In Synthesis Example 2 of the above resin [B], polymerization initiator: 4.4'
The resin [
B]-3 to 6 were each produced. ~ of each resin is 1.0X1
It was 03-3X103.

樹脂〔B〕の合成例7:樹脂[1(]−]7n−プロピ
ルメタクリレート9!Igチオグリコール酸1.0 g
 、ジビニルベンゼン2.0 g FjLびトルエン2
00gの混合溶液を窒累気流下攪拌しながら温度80℃
に加温した。2.2′−アゾビス(シクロヘキサン−1
−カルボニトリル)(略称ACIIN) 0.8 gを
加え4時間反応し1.更にA、 C3lI、 N。
Synthesis example 7 of resin [B]: Resin [1(]-]7n-propyl methacrylate 9!Ig thioglycolic acid 1.0 g
, divinylbenzene 2.0 g FjL and toluene 2
00g of mixed solution was heated to 80°C while stirring under nitrogen flow.
It was heated to 2.2'-azobis(cyclohexane-1)
-carbonitrile) (abbreviated as ACIIN) was added and reacted for 4 hours.1. Further A, C3lI, N.

を0.4g加えて2時間、その後A、 l:、 It、
 N、を0.2 g加えて、2時間反応した。
0.4g of was added for 2 hours, then A, l:, It,
0.2 g of N was added and reacted for 2 hours.

得られた重合体の隔は1.2 X l 11 ’であっ
た。
The spacing of the obtained polymer was 1.2 X l 11'.

樹脂[B]の合成例8〜17:樹脂〔131−8〜17
樹脂〔B〕の合成例7において用いたメタクリレート及
びジビニルベンゼン(架14用単量体)の代わりに、表
−2の各化合物を用いて、各共重合体を製造した。
Synthesis examples 8 to 17 of resin [B]: Resin [131-8 to 17
Each copolymer was produced using each compound in Table 2 instead of the methacrylate and divinylbenzene (monomer for bridge 14) used in Synthesis Example 7 of Resin [B].

得られた重合体の陽は1. OX l 05〜3XlO
’であった。
The positive of the obtained polymer is 1. OXl 05~3XlO
'Met.

実施例1及び比較例A−B 2.6−シクロロフエニルメタクリレート85g、6−
ヒドロキシへキサメチレンメタクリレ−)10g、アク
リル酸5g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流
下90℃の温度に加温した後、2.2′−アゾビス(イ
ソブチロニトリル)6gを加え、8時間反応させた。
Example 1 and Comparative Examples A-B 2.6-cyclophenyl methacrylate 85 g, 6-
After heating a mixed solution of 10 g of hydroxyhexamethylene methacrylate, 5 g of acrylic acid, and 200 g of toluene to a temperature of 90°C under a nitrogen stream, 6 g of 2,2'-azobis(isobutyronitrile) was added, and 8 Allowed time to react.

得られた樹脂(A−1)の≦は7,800であった。The obtained resin (A-1) had a ≦7,800.

樹脂(A−11 メチレンシアニン色素[:Al1.02g、フタル酸無
水物0.02 g及びトルエン300gの混合物をボー
ルミル中で2時間分散して、感光層形成物を調製し、こ
れを導電処理した紙に、乾燥付着量が20g/m’とな
る様に、ワイヤーバーで塗布し、110℃で1分間乾燥
し、ついで暗所で20℃、65%RHの条件で24時間
放置することにより、電子写真感光材料を作製した。
A mixture of resin (A-11 methylene cyanine dye [: 1.02 g of Al, 0.02 g of phthalic anhydride, and 300 g of toluene) was dispersed in a ball mill for 2 hours to prepare a photosensitive layer-forming product, which was subjected to conductive treatment. By applying it to paper with a wire bar so that the dry adhesion amount is 20 g/m', drying it at 110°C for 1 minute, and then leaving it in the dark for 24 hours at 20°C and 65% RH. An electrophotographic light-sensitive material was produced.

(シアニン色素〔A〕) し1 上記の共重合体[A−1]を66g固形分量として)、
樹脂〔B〕の合成例2で製造した樹脂(Bl−2を34
g(固形分量として)、樹脂粒子の製造例1Oの粒子を
20g(固形分量として)、酸化亜鉛200g、下記構
造式で示されるヘプタ比較例A 実施例1にいて樹脂粒子の製造例1の粒子を除いた他は
、実施例1と全く同様にして操作し、電子写真感光材料
を作製した。
(Cyanine dye [A]) 1 The solid content of the above copolymer [A-1] is 66 g),
The resin produced in Synthesis Example 2 of Resin [B] (Bl-2 was
g (as solid content), 20 g (as solid content) of the particles of Resin Particle Production Example 1O, 200 g of zinc oxide, Hepta Comparative Example A represented by the following structural formula, and the particles of Resin Particle Production Example 1 in Example 1. An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except for the following.

比較例B 実施例1において共重合体[A]−1及び共重合体(B
)−1の代わりに、下記構造の共重合体(R−1)40
gを用いた他は、実施例1と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。
Comparative Example B In Example 1, copolymer [A]-1 and copolymer (B
)-1, copolymer (R-1) 40 with the following structure
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that G was used.

共重合体[R−1] CH。Copolymer [R-1] CH.

表−3 Mw  :  34.000 これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性
、撮像性及び環境条件を30℃、80%RHとした時の
撮像体を調べた。更に、これらの感光材料をトフセック
マスター用原版として用いた時の光導電性の不感脂化性
(不感脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わす)
及び印刷性(地汚れ、耐刷性等)を調べた。
Table 3 Mw: 34,000 The film properties (surface smoothness), electrostatic properties, imaging performance, and environmental conditions of these photosensitive materials were examined at 30° C. and 80% RH. Furthermore, the desensitization property of photoconductivity (expressed as the contact angle with water of the photoconductive layer after desensitization treatment) when these photosensitive materials are used as original plates for TOFSEC masters.
and printability (scumming, printing durability, etc.) were investigated.

以上の結果をまとめて、表−3に示す。The above results are summarized in Table 3.

表−3に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。
The implementation aspects of the evaluation items shown in Table 3 are as follows.

注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工側
部)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was tested for its smoothness (
sec/cc) was measured.

注2)光導電層の機械的強度: 得られた感光材料表面をヘイトン−14型表面製試験材
(新車化学■rm>を用い、荷重50g/clのエメリ
ー紙(#1000)で1000回繰返し擦り、摩耗粉を
取除き、感光層の重量減少から残膜率(%)を求め機械
的強度とした。
Note 2) Mechanical strength of photoconductive layer: The surface of the obtained photosensitive material was repeatedly tested 1000 times with emery paper (#1000) with a load of 50 g/cl using Hayton-14 type surface test material (Shinsha Kagaku ■rm>). Abrasion and abrasion powder were removed, and the residual film rate (%) was determined from the weight loss of the photosensitive layer, which was taken as mechanical strength.

注3)静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペー
パーシナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザー
−3P−428型)を用いて一6kVで20秒間コロナ
放電させた直後の表面電位をVGとし、10秒間放置後
の表面電位V、。を測定した。次いでそのまま暗中で9
0秒間静置下後の電位をV、。0を測定し、90秒間暗
減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率[0
,R,R(%)]を(L。。/V、。)X100(%)
で求めた。又、コロナ放電により光導電層表面を一40
0Vに帯電させた後、該光導電層表面をガリウムーアル
ミニウムーヒ素半導体レーザ(発振波長830 r++
n)光で照射し、表面電位(V、。)が1710に減衰
するまでの時間を求め、これから露光量B、7.。(e
rg/cm”)を算出する。
Note 3) Electrostatic properties: In a dark room at a temperature of 20°C and 65% RH, each photosensitive material was subjected to corona discharge at -6 kV for 20 seconds using a paper cynalyzer (Paper Analyzer-3P-428 model manufactured by Kawaguchi Electric). The surface potential immediately after heating is VG, and the surface potential after being left for 10 seconds is V. was measured. Then 9 in the dark
The potential after standing still for 0 seconds is V. 0 and dark decay for 90 seconds, that is, the dark decay retention rate [0
,R,R(%)](L../V,.)X100(%)
I asked for it. In addition, the surface of the photoconductive layer is heated to 40° by corona discharge.
After charging to 0V, the surface of the photoconductive layer was heated with a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength: 830 r++
n) Irradiate with light, calculate the time until the surface potential (V,.) attenuates to 1710, and calculate the exposure amount B, 7. . (e
rg/cm”).

測定時の環境条件は、20℃、65%旧1(I)と30
℃。
The environmental conditions at the time of measurement were 20℃, 65% old 1 (I) and 30
℃.

80%RH(II)で行った。It was carried out at 80% RH (II).

注4)撮像性: 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、各感
光材料を、−6kVで帯電し、光源として2.8mWの
ガリウムーアルミニウムーヒ素半導体レーザー(発振波
長830 nm)を用いて、感光材料表面上で、64 
erg/cm’の照射量下、ピッチ25μm及びスキヤ
ング速度300 m/secのスピードで露光後、液体
現像材として、ELF−T  (富士写真フィルム()
!31!l )を用いて現像し、定着することで得られ
た複写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮
像時の環境条件は、20℃65%(1)と30℃80%
RH(II)で実施した。
Note 4) Imaging properties: After leaving each photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, each photosensitive material was charged at -6 kV, and a 2.8 mW gallium-aluminum-arsenide semiconductor laser (oscillation wavelength: 830 nm) was used as a light source. ) on the surface of the photosensitive material, 64
After exposure under an irradiation dose of erg/cm' at a pitch of 25 μm and a skiing speed of 300 m/sec, ELF-T (Fuji Photo Film) was used as a liquid developer.
! 31! The copied image (fogging, image quality) obtained by developing and fixing using 1) was visually evaluated. The environmental conditions during imaging were 20°C 65% (1) and 30°C 80%.
Performed on RH(II).

注5)水との接触角: 各感光材料を不感脂化処理液BLP−8(富士写真フィ
ルム側部)を水で2倍量に希釈した液を用いて、エツチ
ングプロセッサーに1回通して光導電層面を不感脂化処
理した後、これに蒸留水2μlの水滴を乗せ、形成され
た水との接触角をゴニオメータ−で処理する。
Note 5) Contact angle with water: Each photosensitive material was passed once through an etching processor using a solution prepared by diluting the desensitizing liquid BLP-8 (Fuji Photo Film side) to twice the volume with water. After the surface of the conductive layer is desensitized, a drop of 2 μl of distilled water is placed on it, and the contact angle with the water formed is measured using a goniometer.

注6)耐刷製 上記注4)の撮像性と同様にして製版した後、上記注4
)と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマスタ
ーとしてオフセット印刷機(桜井製作所■製オリバー5
2型)にかけ、上質紙を印刷用紙として用い、印刷物の
非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで
印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐刷性が良
好なことを表わす)。
Note 6) Durable printing After making the plate in the same way as the imaging performance in Note 4 above,
) was desensitized under the same conditions as the offset printing machine (Oliver 5 manufactured by Sakurai Manufacturing Co., Ltd.) and used as an offset master.
2 type) and using high-quality paper as the printing paper, it indicates the number of sheets that can be printed without causing background stains in the non-image areas of the printed matter or problems with the image quality of the image areas (the higher the number of sheets printed, the better the printing durability. ).

表−3に示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の平
滑性膜の強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像も
地力ブリがなく複写画像も鮮明であった。このことは光
導電体及び樹脂粒子と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、
光導電性酸化亜鉛粒子表面を被覆していることによるも
のと推定される。同様の理由で、オフセットマスター原
版として用いた場合でも不感脂化処理液による不感脂化
処理が充分に進行し、非画像部の水との接触角が10度
以下と小さく、充分に親水化されていることが判る。実
際に1万枚印刷しても印刷物の地汚れを観察しても地汚
れは全く認められなかった。
As shown in Table 3, in the photosensitive material of the present invention, the strength and electrostatic properties of the smooth film of the photoconductive layer were good, and the actual copied images were clear with no ground blur. This means that the photoconductor and resin particles and the binder resin are sufficiently adsorbed, and
This is presumed to be due to the fact that the surface of the photoconductive zinc oxide particles is coated. For the same reason, even when used as an offset master original, the desensitizing treatment with the desensitizing treatment liquid progresses sufficiently, and the contact angle with water in the non-image area is as small as 10 degrees or less, making it sufficiently hydrophilic. It can be seen that Even after 10,000 sheets were actually printed, no background stains were observed when observing the printed matter.

本発明の樹脂粒子のみを除いた比較例Aは、静電特性は
極めて良好であったが、オフセットマスター原版として
用いて印刷した所、5000枚で印刷物の画質が劣化し
た。
Comparative Example A, in which only the resin particles of the present invention were removed, had extremely good electrostatic properties, but when printed using it as an offset master master plate, the image quality of the printed matter deteriorated after 5000 sheets.

又、比較例Bは、90秒間のり、+1.Rが著しく低下
し、又B17.。も大きくなってしまった。実際の複写
画像も、とうてい満足できるものではなかった。
Comparative Example B was glued for 90 seconds and +1. R was significantly reduced, and B17. . has also grown larger. The actual copy images were also not very satisfactory.

更に、比較例Bの樹脂の化学構造を示す共重合体で重量
平均分子量を大きくした場合の比較例Cでは、静電特性
が著しく悪化した。このことは、結着樹脂の分子量が大
きくなることによって、光導電性酸化亜鉛粒子への吸着
とともに該粒子間の凝集が引き起こされ、悪影響をもた
らすものと推定される。
Furthermore, in Comparative Example C, in which the weight average molecular weight was increased using a copolymer exhibiting the chemical structure of the resin of Comparative Example B, the electrostatic properties were significantly deteriorated. It is presumed that as the molecular weight of the binder resin increases, adsorption to the photoconductive zinc oxide particles and aggregation between the particles are caused, resulting in an adverse effect.

以上のことにより、本発明の場合にのみ静電特性及び印
刷適性を満足する電子写真感光体が得られる。
As a result of the above, an electrophotographic photoreceptor satisfying electrostatic properties and printability can be obtained only in the case of the present invention.

実施例2〜13 実施例1において、樹脂[A−1]の合成例と同様にし
て、表−4に示す共重合体を製造した。
Examples 2 to 13 In Example 1, copolymers shown in Table 4 were produced in the same manner as in the synthesis example of resin [A-1].

得られた樹脂〔八−2〜22〕の各樹脂の重量平均分子
量は7.000〜8.000であった。
The weight average molecular weight of each of the obtained resins [8-2 to 22] was 7.000 to 8.000.

表−4 実施例1において樹脂(A−1)、樹脂〔B〕−2及び
樹脂粒子の製造例1の粒子の代わりに表−5に示した樹
脂(A16g、樹脂(B’134g及び樹脂粒子18g
(各々固形分量として)を各々用いた他は実施例1と同
様に操作して、各感光体を製造し、実施例1と同様に各
特性を測定した。
Table 4 In Example 1, instead of the particles of Resin (A-1), Resin [B]-2, and Resin Particle Production Example 1, the resin (A16g, resin (B'134g, and resin particles) shown in Table 5 was used. 18g
Each photoreceptor was manufactured in the same manner as in Example 1, except that (each as solid content) was used, and each characteristic was measured in the same manner as in Example 1.

各感光体の光導電層表面の平滑性はすべて80(sec
/cc)以上で、平滑であった。又膜強度も85%以上
で、充分な強さを示した。(30℃、80%RH)の環
境条件での静電特性についての結果を表−6に記した。
The surface smoothness of the photoconductive layer of each photoreceptor is 80 (sec).
/cc) or more, it was smooth. Moreover, the film strength was 85% or more, indicating sufficient strength. Table 6 shows the results of electrostatic properties under environmental conditions (30° C., 80% RH).

本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、光
感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(30℃、80
%RH)の過酷な条件においても地力ブリの発生や細線
飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
All of the photosensitive materials of the present invention have excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual copied images are also produced at high temperatures and high humidity (30°C, 80°C).
Even under severe conditions (%RH), it provided clear images with no occurrence of ground blur or fine line skipping.

又、オフセットマスターとして、実施例1と同様にして
印刷した所、各感光材料とも鮮明な画像で、地汚れの全
くない印刷物が1万枚以上印刷ができた。
Further, when printing was performed as an offset master in the same manner as in Example 1, more than 10,000 prints with clear images and no background smudges were printed on each photosensitive material.

実施例14 下記の樹脂[A−131を8g、樹脂〔B〕−9332
g、樹脂粒子の製造例2の粒子を20g(固形分量とし
て)、酸化亜鉛を200 g、下記構造のシアニン色素
[、B)を0.02 g、フタル酸無水物を0.20 
g及びトルエンを300g混合物し、ボールミル中で2
時間分散した。
Example 14 8 g of the following resin [A-131, resin [B]-9332
g, 20 g (solid content) of the particles of Resin Particle Production Example 2, 200 g of zinc oxide, 0.02 g of cyanine dye [, B) having the following structure, and 0.20 g of phthalic anhydride.
Mix 300 g of toluene and 300 g of
Spread out time.

これを導電処理した紙に、乾燥付着量が22g/m′と
なる様にワイヤーバーで塗布し、100℃で30秒間加
熱した。次いで、20℃、65%RHの条件で24時間
放置することにより電子写真感光材料を作製した。
This was applied to electrically conductive treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 22 g/m', and heated at 100° C. for 30 seconds. Next, an electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours at 20° C. and 65% RH.

樹脂〔Δ−133 シアニン色素[B] 実施例1と同様にして、各特性を測定した。但し、光源
としてはガリウムーアルミニウムーヒ素半導体レーザー
(発振波長780 nm)を用いた。
Resin [Δ-133 Cyanine Dye [B] Each characteristic was measured in the same manner as in Example 1. However, a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength: 780 nm) was used as the light source.

光導電層の平滑性:   102  (cc/5ec)
光導電層の強度=94  % 静電時   性     V。(V)   D、R,R
B、/、。
Smoothness of photoconductive layer: 102 (cc/5ec)
Strength of photoconductive layer = 94% Electrostatic resistance V. (V) D, R, R
B./.

(%)   (erg/cm”) I (20℃、65%旧1)   −5408332■
 (30℃、80%RH)   −5008036撮 
 像  性:(20℃、65%R11)及び(30℃。
(%) (erg/cm”) I (20℃, 65% old 1) -5408332■
(30℃, 80%RH) -5008036 photo
Image properties: (20°C, 65% R11) and (30°C.

80%旧1)いずれの条件でも、良好 な複写画像を得た。80% old 1) Good under all conditions A copy image was obtained.

耐  刷  性: 1000枚まで良好な印刷画像を得
た。
Printing durability: Good printed images were obtained up to 1000 sheets.

以上の様に、本発明の感光材$11;L In:れた電
子写1真特性と高耐刷性を揚ることができた。
As described above, the photosensitive material of the present invention was able to exhibit excellent electrophotographic characteristics and high printing durability.

実施例I5 下記樹脂(A−1(i)を7F? % il!脂〔B〕
−16を33g1樹脂粒子のI!Jli造例5)造粒5
を18g(固形分子ilとして)、酸化1111参fl
 211 [) g ’+ローズベンガルを0.50 
g 、デトラブ■1ムフェノールブルーを11.25 
g %ウラニンを0. :l 11 g 、無水フタノ
ール酸を13.18 g及びトルエンを240g混合物
し、ボールミル中で211−問つ)散した。これを導電
処理した紙に、乾煙付首…が211 g / m’とな
る様にワイヤーバーで塗1ii L、、、l1lltで
30秒間加熱した。次いで、2 (l t=、 ri 
596121(の条件下で24時間放置することにより
電子写真感光材料を作製した。
Example I5 The following resin (A-1(i) was 7F?%il! fat [B]
-16 to 33g1 resin particle I! Jli granulation example 5) Granulation 5
18g (as solid molecule IL), oxidized 1111 fl
211 [) g'+0.50 Rose Bengal
g, Detlab ■1 Muphenol Blue 11.25
g % uranine to 0. A mixture of 13.18 g of phthalic anhydride and 240 g of toluene was dispersed in a ball mill. This was coated on electrically conductive treated paper with a wire bar so that the dry smoke weight was 211 g/m', and heated for 30 seconds using a wire bar. Then, 2 (lt=, ri
596121 (24 hours) to produce an electrophotographic light-sensitive material.

樹脂〔△−1[i] Fi・l  li、!1ll11 本発明の各感光飼料はいずれも:1)電性、導電11v
保持率、光感度に1.1!れ、実トIiの複写画像も高
温高湿(30℃、80%l? H)の過酷な条件におい
ても、地力ブリの発生のない鮮明t、f、 jilii
像を111だ。
Resin [△-1[i] Fi・l li,! 1ll11 Each of the photosensitive feeds of the present invention has: 1) electrical conductivity, electrical conductivity of 11v;
Retention rate and photosensitivity are 1.1! In addition, even under harsh conditions of high temperature and high humidity (30°C, 80% l?H), the reproduced images of the actual t, f, jilii are clear and free from soil blurring.
The statue is 111.

更に、これをオフセットマスター・11:(版として用
いて印刷した所、1001111枚でも鮮明な画rtの
印刷物を得た。
Furthermore, when this was printed using Offset Master 11: (plate), clear prints with rt were obtained even on 1001111 sheets.

但し、感光材料の製版は、全自軸製版n を吃L p4
04V(7i士写真フィルl、Qη製)でII”、 L
 I) −1’をトナーどして用い−C,)す−画像を
形成した。
However, for photosensitive material plate making, all self-axial plate making is required.
04V (7i Photo Film L, manufactured by Qη) II”, L
I) -1' was used as a toner to form -C,) S- images.

(発明の効果) 以上のように、本発明によれば5極めて丑れた印刷特性
を発現する平版印刷川原1iftを提供することができ
る。。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing machine that exhibits extremely poor printing characteristics. .

また、本発明は、親水性iJI Iff? fJ J’
が、非画像部。
The present invention also provides hydrophilic iJI If? fJ J'
is the non-image part.

の不感服化を最適に保つ。更に、この樹脂粒子が、一部
分が架橋されている場合は、上記の湿し水中。
Maintain optimal desensitization. Furthermore, when this resin particle is partially crosslinked, it can be used in the above-mentioned dampening solution.

に溶解しでしまうことはない。従って、本発明原版によ
る平版印刷の耐刷力は著しく向上すると共に、本発明原
版は平版印刷用原版として繰返し良好な状態で使用する
ことができる。。
It will not dissolve into the water. Therefore, the printing durability of lithographic printing using the original plate of the present invention is significantly improved, and the original plate of the present invention can be repeatedly used as a lithographic printing original plate in good condition. .

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)導電性支持体上に、少なくとも1層の光導電性酸
化亜鉛と結着樹脂とを含有する光導電層を設けてなる電
子写真式平版印刷用原版において、前記光導電層中に前
記光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じかそれより
小さい平均粒子径を有する親水性樹脂粒子を含有し、か
つ前記結着樹脂が下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び
下記樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有してなることを
特徴とする平版印刷用原版。 樹脂〔A〕: 10^3〜2×10^4の重量平均分子量を有し、かつ
−PO_3H_2基、−SO_3H基、−COOH基、
−OH基、−SH基▲数式、化学式、表等があります▼ から選択される少なくとも1種の極性基を含有する共重
合成分を0.5〜20重量%含有する樹脂樹脂〔B〕: 5×10^4以上の重量平均分子量を有し、下記一般式
〔 I 〕で示される繰り返し単位を重合体成分として少
なくとも含有し、かつ架橋構造を有する樹脂。 一般式〔 I 〕: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Tは−COO−、OCO−、CH_2CO−、
−CH_2COO−、−O−又は−SO_2−を表す。 Vは炭素数1〜22の炭化水素基を表す。 a_1及びa_2は互いに同じでも異なってもよく、各
々水素原子、ハロゲン原子、シアノ原子、炭素数1〜8
の炭化水素基、−COO−Z又は炭素数1〜8の炭化水
素基を介した −COO−Z(Zは炭素数1〜18の炭化水素基を表す
)を表す。〕
(1) In an electrophotographic lithographic printing original plate comprising a photoconductive layer containing at least one photoconductive zinc oxide layer and a binder resin on a conductive support, the photoconductive layer contains the photoconductive layer. Contains hydrophilic resin particles having an average particle diameter equal to or smaller than the maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles, and the binder resin is at least one of the following resins [A] and the following resins [B] A lithographic printing original plate comprising at least one of the following. Resin [A]: has a weight average molecular weight of 10^3 to 2 x 10^4, and -PO_3H_2 group, -SO_3H group, -COOH group,
-OH group, -SH group▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼Resin containing 0.5 to 20% by weight of a copolymer component containing at least one type of polar group [B]: 5 A resin having a weight average molecular weight of ×10^4 or more, containing at least a repeating unit represented by the following general formula [I] as a polymer component, and having a crosslinked structure. General formula [I]: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, T is -COO-, OCO-, CH_2CO-,
-CH_2COO-, -O- or -SO_2-. V represents a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. a_1 and a_2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano atom, or a carbon number of 1 to 8.
represents a hydrocarbon group, -COO-Z or -COO-Z via a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms (Z represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms). ]
(2)樹脂〔A〕が下記(i)及び(ii)の繰返単位
を共重合成分として含有するものであることを特徴とす
る請求項(1)記載の平版印刷用原版。 (i): 式〔II〕又は式〔III〕で示される1つの繰り返し単位
30重量%以上 式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、X_1及びX_2は互いに独立に、それぞれ水
素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素
原子、−COY_1又は−COOY_2(Y_1及びY
_2は各々炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表す
。但し、X_1とX_2がともに水素原子を表すことは
ない。 W_1及びW_2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を
結合する直接結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表
す。〕 (ii): −PO_3H_3基、−SO_3H基、−COOH基、
▲数式、化学式、表等があります▼〔Rは炭素数1〜1
0の炭化水素基又は−OR′(R′は炭素数1〜10の
炭化水素基を示す)を示す。〕、−SH基及びフェノー
ル性−OH基の極性基並びに環状酸無水物含有基のうち
少なくとも1つの繰返単位0.5〜15重量%
(2) The lithographic printing original plate according to claim (1), wherein the resin [A] contains the following repeating units (i) and (ii) as copolymer components. (i): 30% by weight or more of one repeating unit represented by formula [II] or formula [III] Formula [II] ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Formula [III] ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, X_1 and
_2 each represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. However, both X_1 and X_2 do not represent hydrogen atoms. W_1 and W_2 each represent a direct bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects -COO- and the benzene ring. ] (ii): -PO_3H_3 group, -SO_3H group, -COOH group,
▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [R is 1 to 1 carbon number
0 hydrocarbon group or -OR'(R' represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). ], 0.5 to 15% by weight of at least one repeating unit among polar groups such as -SH group and phenolic -OH group, and cyclic acid anhydride-containing group
(3)樹脂〔B〕が、更に少なくとも1つの重合体主鎖
の片末端のみに−PO_3H_2、−3O_3H、−C
OOH、−OH、−SH、▲数式、化学式、表等があり
ます▼(R″は炭化水素を表す)環状酸無水物、−CH
O、−CONH_2、−SO_2、NH_2及び▲数式
、化学式、表等があります▼(b_1及びb_2は同じ
でも異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表
す)から選択される少なくとも1つの極性基を結合して
なる樹脂〔B′〕である請求項(1)〜(2)記載の平
版印刷用原版。
(3) Resin [B] is further added to -PO_3H_2, -3O_3H, -C only at one end of at least one polymer main chain.
OOH, -OH, -SH, ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(R'' represents hydrocarbon) Cyclic acid anhydride, -CH
At least one polarity selected from O, -CONH_2, -SO_2, NH_2 and ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (b_1 and b_2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group) The lithographic printing original plate according to claims (1) to (2), which is a resin [B'] formed by bonding groups.
(4)樹脂〔B〕が、樹脂〔A〕で示される極性基又は
環状酸無水物含有基を含有する繰り返し単位を重合体成
分として含有しない樹脂である請求項(2)〜(3)記
載の平版印刷用原版。
(4) The resin [B] is a resin that does not contain, as a polymer component, a repeating unit containing a polar group or a cyclic acid anhydride-containing group represented by the resin [A]. Original plate for lithographic printing.
(5)親水性樹脂粒子が高次の網目構造を形成している
ことを特徴とする請求項(1)〜(4)記載の平版印刷
用原版。
(5) The lithographic printing original plate according to any one of claims (1) to (4), wherein the hydrophilic resin particles form a high-order network structure.
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