JPH02250252A - 走査型反射回折電子顕微鏡 - Google Patents
走査型反射回折電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH02250252A JPH02250252A JP1072078A JP7207889A JPH02250252A JP H02250252 A JPH02250252 A JP H02250252A JP 1072078 A JP1072078 A JP 1072078A JP 7207889 A JP7207889 A JP 7207889A JP H02250252 A JPH02250252 A JP H02250252A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- specimen
- signal
- sample
- scanning
- Prior art date
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- Granted
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、走査型反射回折電子顕微鏡に関する（従来の
技術） 走査型反射回折電子顕微鏡において、−次電子ビームに
対しである傾斜角で置かれた試料を観察する場合、電子
ビームの走査量をＸ、Ｙ方向とも同じにしておくと、試
料面の走査範囲はＹ方向に伸長したものとなるから、Ｙ
方向走査量をＸ方向走査量より小さくしてお（必要があ
り、試料に照射する一次電子ビームを傾斜方向（Ｙ方向
）に走査すると、Ｙ方向の照射位置により、電子ビーム
の焦点位置が試料表面から離れるため、−次電子ビーム
の焦点距離を変更しなければ、試料に照射される電子ビ
ームの照射スポットの大きさが変わり、鮮明な画像が得
られないと云う問題がある。
技術） 走査型反射回折電子顕微鏡において、−次電子ビームに
対しである傾斜角で置かれた試料を観察する場合、電子
ビームの走査量をＸ、Ｙ方向とも同じにしておくと、試
料面の走査範囲はＹ方向に伸長したものとなるから、Ｙ
方向走査量をＸ方向走査量より小さくしてお（必要があ
り、試料に照射する一次電子ビームを傾斜方向（Ｙ方向
）に走査すると、Ｙ方向の照射位置により、電子ビーム
の焦点位置が試料表面から離れるため、−次電子ビーム
の焦点距離を変更しなければ、試料に照射される電子ビ
ームの照射スポットの大きさが変わり、鮮明な画像が得
られないと云う問題がある。
また、電子ビームの焦点は理想的には点であるが、実際
には収差および回折の影響で成る大きさがあり、試料面
が傾斜しているので、第２図Ａに示すように、試料面に
断面真円の一次電子ビームを照射しても、試料面に照射
される電子ビームの照射スポットＰは長円形となり、測
定映像に縦方向と横方向でぼけの程度が異なることが生
じる云う問題があり、試料面に真円の一次電子ビーム照
射スポットを投射しようとすれば、第２図Ｂに示すよう
に、試料面の傾斜角度の合わせて、断面が横長の長円形
の照射ビームを試料に照射するようにしなければならな
い。
には収差および回折の影響で成る大きさがあり、試料面
が傾斜しているので、第２図Ａに示すように、試料面に
断面真円の一次電子ビームを照射しても、試料面に照射
される電子ビームの照射スポットＰは長円形となり、測
定映像に縦方向と横方向でぼけの程度が異なることが生
じる云う問題があり、試料面に真円の一次電子ビーム照
射スポットを投射しようとすれば、第２図Ｂに示すよう
に、試料面の傾斜角度の合わせて、断面が横長の長円形
の照射ビームを試料に照射するようにしなければならな
い。
そのような問題を解消する方法として、試料傾斜角によ
る像の歪やぼけを補正する方法として、特許公報昭６３
−３６１１０号において、−次電子ビームの走査範囲、
焦点位置を調整できるようにした提案がなされている。
る像の歪やぼけを補正する方法として、特許公報昭６３
−３６１１０号において、−次電子ビームの走査範囲、
焦点位置を調整できるようにした提案がなされている。
この方法は、電子ビームのＹ方向の走査量をＸ方向の走
査量に比し小さくし、試料面においてＣＲＴ画面と相似
な長方形の範囲を走査させるようにし、試料の傾斜角度
に対応してＹ方向の走査信号の増幅度を手動で調整する
と共に、調整したＹ方向の走査信号を、電子レンズの焦
点調整コイルに重畳させることにより、電子ビームの焦
点値１が絶えず試料面に位置するようにして、傾斜した
試料面を走査する電子ビームの照射スポットの大きさを
一定にしていた、しかし、この方法では、試料面の傾斜
角度に対応して、電子レンズの焦点調整コイルに重畳さ
せるＹ方向の走査信号を、手動で調整しなければならず
、操作が大変面倒である上、照射スポットが試料の傾斜
方向に延びた長円であるなめ、測定画像に縦方向と横方
向とで分解能の異なるぼけが生じ、且つそのぼけの程度
が試料の傾斜角によって変化すると云う問題が残ってい
た。
査量に比し小さくし、試料面においてＣＲＴ画面と相似
な長方形の範囲を走査させるようにし、試料の傾斜角度
に対応してＹ方向の走査信号の増幅度を手動で調整する
と共に、調整したＹ方向の走査信号を、電子レンズの焦
点調整コイルに重畳させることにより、電子ビームの焦
点値１が絶えず試料面に位置するようにして、傾斜した
試料面を走査する電子ビームの照射スポットの大きさを
一定にしていた、しかし、この方法では、試料面の傾斜
角度に対応して、電子レンズの焦点調整コイルに重畳さ
せるＹ方向の走査信号を、手動で調整しなければならず
、操作が大変面倒である上、照射スポットが試料の傾斜
方向に延びた長円であるなめ、測定画像に縦方向と横方
向とで分解能の異なるぼけが生じ、且つそのぼけの程度
が試料の傾斜角によって変化すると云う問題が残ってい
た。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は、試料の傾斜角度に対応して、電子ビームの焦
点距離及びビーム形状を調整し、試料面に常時同じ円形
の電子ビームが照射されるようにすることを目的とする
。
点距離及びビーム形状を調整し、試料面に常時同じ円形
の電子ビームが照射されるようにすることを目的とする
。
（課題を解決するための手段）
走査型反射回折電子顕微鏡装置において、試料面の傾斜
角度を検出する傾斜角度検出手段と、上記傾斜角度検出
手段からの試料傾斜信号に応じてＸ方向とＹ方向の走査
量の比を調整する調整手段と、Ｙ方向の走査信号に連動
し上記傾斜角度検出手段からの試料傾斜信号に応じて電
子レンズの収束強度を制御する手段と、上記試料傾斜信
号応じて非点補正コイルのＸ或はＹ方向又はＸ、Ｙ方向
の収束強度を制御する非点補正手段とを設けた。
角度を検出する傾斜角度検出手段と、上記傾斜角度検出
手段からの試料傾斜信号に応じてＸ方向とＹ方向の走査
量の比を調整する調整手段と、Ｙ方向の走査信号に連動
し上記傾斜角度検出手段からの試料傾斜信号に応じて電
子レンズの収束強度を制御する手段と、上記試料傾斜信
号応じて非点補正コイルのＸ或はＹ方向又はＸ、Ｙ方向
の収束強度を制御する非点補正手段とを設けた。
（作用）
走査型反射回折電子ｍ微鏡装置において、歪やぼけの無
い像を得るためには、試料表面上において、ＣＲＴ画面
と相似な長方形の範囲を一定の大きさの円形の電子ビー
ム照射スポットで走査しなければならない、更に、試料
表面が傾斜している場合には、傾斜方向（Ｙ方向）の走
査に連動して、電子ビームの焦点位置を調整しなければ
ならない。しかも、−次電子ビームに対する試料の傾斜
角度の変更に対応して、上記の調整を変更しなければな
らない。
い像を得るためには、試料表面上において、ＣＲＴ画面
と相似な長方形の範囲を一定の大きさの円形の電子ビー
ム照射スポットで走査しなければならない、更に、試料
表面が傾斜している場合には、傾斜方向（Ｙ方向）の走
査に連動して、電子ビームの焦点位置を調整しなければ
ならない。しかも、−次電子ビームに対する試料の傾斜
角度の変更に対応して、上記の調整を変更しなければな
らない。
本発明は、試料面においてＣＲＴ画面と相似な長方形の
範囲を走査させる方法として、試料面の傾斜角度を検出
し、その試料傾斜信号に応じて、ＣＲＴ画面の形状に合
うように、電子ビームのＹ方向の走査量をＸ方向の走査
量に比し小さくし、傾斜した試料面を走査する電子ビー
ムの照射スポットの大きさを一定にする方法として、上
記試料傾斜信号に応じて調整したＹ方向の走査信号を信
号を電子レンズの焦点制御信号に重畳させた。従って、
Ｙ方向の走査信号に連動して、試料の傾斜角度に応じて
電子レンズの焦点位置が移動することになり、電子レン
ズの焦点位置が試料表面に絶えず位置するようになった
。更に、試料面に照射される電子ビーム照射スポットを
真円形とする方法として、第２図Ｂに示すように、電子
ビームを非点収束ビームとし、同ビームのＸ方向収束線
が試料面上に照射されるようにし、かつ、上記試料傾斜
信号により、非点補正回路を駆動して、非点補正コイル
のＹ方向或はＸ方向又はＸ、Ｙ方向の収束強度を制御し
、試料の傾斜に対応して電子ビームの断面形状における
長径と短径の比が変更され、試料表面に照射される電子
ビームの照射スポットが絶えず真円形になるようにした
ので、試料面の傾斜にかかわらず測定画像において、Ｘ
方向、Ｙ方向の分解能が常に同一になる。
範囲を走査させる方法として、試料面の傾斜角度を検出
し、その試料傾斜信号に応じて、ＣＲＴ画面の形状に合
うように、電子ビームのＹ方向の走査量をＸ方向の走査
量に比し小さくし、傾斜した試料面を走査する電子ビー
ムの照射スポットの大きさを一定にする方法として、上
記試料傾斜信号に応じて調整したＹ方向の走査信号を信
号を電子レンズの焦点制御信号に重畳させた。従って、
Ｙ方向の走査信号に連動して、試料の傾斜角度に応じて
電子レンズの焦点位置が移動することになり、電子レン
ズの焦点位置が試料表面に絶えず位置するようになった
。更に、試料面に照射される電子ビーム照射スポットを
真円形とする方法として、第２図Ｂに示すように、電子
ビームを非点収束ビームとし、同ビームのＸ方向収束線
が試料面上に照射されるようにし、かつ、上記試料傾斜
信号により、非点補正回路を駆動して、非点補正コイル
のＹ方向或はＸ方向又はＸ、Ｙ方向の収束強度を制御し
、試料の傾斜に対応して電子ビームの断面形状における
長径と短径の比が変更され、試料表面に照射される電子
ビームの照射スポットが絶えず真円形になるようにした
ので、試料面の傾斜にかかわらず測定画像において、Ｘ
方向、Ｙ方向の分解能が常に同一になる。
（実施例）
第１図に本発明の一実施例を示す。第１図において、Ｓ
は試料で電子銃から照射される電子線を回折する。１は
回折電子検出器で試料Ｓからの回折電子を検出する。２
は２次電子検出器で試料Ｓから放射される２次電子を検
出する。３はＣＲＴで回折電子検出器１或は２次電子検
出器で検出された信号を映像表示する。４は傾斜角度検
出器で試料の傾斜角度調整機構と連動した機構により、
試料の傾斜角度を検出する。５は倍率調整回路で、走査
信号発生器１０からの電子ビーム走査信号のＹ方向の走
査量とＸ方向の走査量の比を、上記傾斜角度検出器４で
検出された試料傾斜角度信号により調整し、電子ビーム
が試料面上をＣＲＴ３の表示画面と相銀な領域で走査す
るようにする。
は試料で電子銃から照射される電子線を回折する。１は
回折電子検出器で試料Ｓからの回折電子を検出する。２
は２次電子検出器で試料Ｓから放射される２次電子を検
出する。３はＣＲＴで回折電子検出器１或は２次電子検
出器で検出された信号を映像表示する。４は傾斜角度検
出器で試料の傾斜角度調整機構と連動した機構により、
試料の傾斜角度を検出する。５は倍率調整回路で、走査
信号発生器１０からの電子ビーム走査信号のＹ方向の走
査量とＸ方向の走査量の比を、上記傾斜角度検出器４で
検出された試料傾斜角度信号により調整し、電子ビーム
が試料面上をＣＲＴ３の表示画面と相銀な領域で走査す
るようにする。
７は焦点調整回路で、試料Ｓ表面の測定中心に電子ビー
ムの焦点く詳しくは、非点収束ビームのＸ方向収束線の
近・くの点で、照射スポットのＸ方向の幅が走査ピッチ
と等しくなる点）が位置するように焦点制御信号を発信
して電子レンズ８を制御すると共に、上記傾斜角度検出
器４で検出された試料傾斜角度信号に応じて増幅したＹ
方向走査信号を上記焦点制御信号に重畳し、Ｙ方向走査
信号に連動して試料傾斜角度信号に応じて焦点位置を移
動させる。９は非点補正回路で、上記試料傾斜信号に応
じた収束強度調整信号を、非点補正コイル１１に加え、
Ｙ方向の収束強度を調整することで、上記試料傾斜信号
に応じて照射スポットのＹ方向の長さを変えて、試料表
面に照射される電子ビーム照射スポットＰを絶えず真円
形になるようにする。
ムの焦点く詳しくは、非点収束ビームのＸ方向収束線の
近・くの点で、照射スポットのＸ方向の幅が走査ピッチ
と等しくなる点）が位置するように焦点制御信号を発信
して電子レンズ８を制御すると共に、上記傾斜角度検出
器４で検出された試料傾斜角度信号に応じて増幅したＹ
方向走査信号を上記焦点制御信号に重畳し、Ｙ方向走査
信号に連動して試料傾斜角度信号に応じて焦点位置を移
動させる。９は非点補正回路で、上記試料傾斜信号に応
じた収束強度調整信号を、非点補正コイル１１に加え、
Ｙ方向の収束強度を調整することで、上記試料傾斜信号
に応じて照射スポットのＹ方向の長さを変えて、試料表
面に照射される電子ビーム照射スポットＰを絶えず真円
形になるようにする。
〈発明の効果）
本発明によれば、試料の傾斜角度に対応して、電子ビー
ムの焦点距離及びビーム形状を調整し、試料面に常時同
じ円形の電子ビームを照射できるようになったことによ
り、試料角度に対する電子ビームの走査制御の調整操作
が容易になると共に、表示画面の歪みやぼけがなくなり
、分解能が一段と向上した。
ムの焦点距離及びビーム形状を調整し、試料面に常時同
じ円形の電子ビームを照射できるようになったことによ
り、試料角度に対する電子ビームの走査制御の調整操作
が容易になると共に、表示画面の歪みやぼけがなくなり
、分解能が一段と向上した。
第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図は電子ビー
ムのＸ方向の走査説明図である。 Ｓ・・・試料、１・・・回折電子検出器、２・・・２次
電子検出器、３・・・ＣＲＴ、４・・・傾斜角度検出器
、５ｍ倍率調整回路、６・・・走査コイル、７・・・焦
点調整回路、８・・・電子レンズ、９・・・非点補正回
路、１０・・・走査信号発生器、１１・・・非点補正コ
イル。
ムのＸ方向の走査説明図である。 Ｓ・・・試料、１・・・回折電子検出器、２・・・２次
電子検出器、３・・・ＣＲＴ、４・・・傾斜角度検出器
、５ｍ倍率調整回路、６・・・走査コイル、７・・・焦
点調整回路、８・・・電子レンズ、９・・・非点補正回
路、１０・・・走査信号発生器、１１・・・非点補正コ
イル。
Claims (1)
- 試料面の傾斜角度を検出する傾斜角度検出手段と、上
記傾斜角度検出手段からの試料傾斜信号に応じてＸ方向
とＹ方向の走査量の比を調整する調整手段と、Ｙ方向の
走査信号に連動し上記傾斜角度検出手段からの試料傾斜
信号に応じて電子レンズの収束強度を制御する手段と、
上記試料傾斜信号に応じて非点補正コイルＸ、Ｙ方向の
収束強度を制御する非点補正手段とを設けたことを特徴
とする走査型反射回折電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1072078A JP2737220B2 (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 走査型反射回折電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1072078A JP2737220B2 (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 走査型反射回折電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02250252A true JPH02250252A (ja) | 1990-10-08 |
| JP2737220B2 JP2737220B2 (ja) | 1998-04-08 |
Family
ID=13479014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1072078A Expired - Lifetime JP2737220B2 (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 走査型反射回折電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2737220B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000016372A1 (en) * | 1998-09-11 | 2000-03-23 | Japan Science And Technology Corporation | High energy electron diffraction apparatus |
| KR100384727B1 (ko) * | 1994-12-28 | 2003-08-14 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 주사형전자현미경및그것을이용한시료상관찰방법 |
-
1989
- 1989-03-24 JP JP1072078A patent/JP2737220B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100384727B1 (ko) * | 1994-12-28 | 2003-08-14 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 주사형전자현미경및그것을이용한시료상관찰방법 |
| WO2000016372A1 (en) * | 1998-09-11 | 2000-03-23 | Japan Science And Technology Corporation | High energy electron diffraction apparatus |
| US6677581B1 (en) | 1998-09-11 | 2004-01-13 | Japan Science And Technology Corporation | High energy electron diffraction apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2737220B2 (ja) | 1998-04-08 |
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