JPH02250887A - 水酸基含有置換基を有するシロキサン化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野〕 本発明は、合成樹脂の改質に、特にエポキシ樹脂の応力
緩和に好適な新規なシロキサン化合物とその製造方法に
関する。 （従来の技術〕 従来より、耐湿性、電気特性、成形性、機械的特性など
に優れたエポキシ樹脂は半導体素子の樹脂封止材として
広く利用されてきた。しかし、エポキシ樹脂は一般的に
低弾性率である九め可撓性に乏しく、成形を行うときに
これが内部応力として残り、クラックの発生や素子の破
損が生じ易いといった欠点があった。このため従来よシ
、シリコン系改質剤、ゴム、低応力樹脂などを用いて応
力を緩和する措置が検討されてきた。 また、ヒドロシリル基を持つシリコーン化合物にヒドロ
シリル化反応を用いて水酸基を有するオレフィンを付加
する場合、ヒドロシリル化触媒により水酸基がヒドロシ
リル基の水素原子と脱水素の副反応を起こし目的物の収
率が下がってしまうため、トリメチルシリル基などの置
換基で該水酸基を保護してやる必要があった。

【発明が解決しようとする課題】

しかし、近年においてはパッケージの薄型化や小型化、
又、半導体素子の高集積化にともなう素子上のパターン
の緻密化や素子のチップの大型化が進み、半導体封止材
料への要求特性が厳しくなり、従来のエポキシ樹脂の改
質剤よシさらに優れた、特に、応力緩和、耐湿性、半田
などへの耐熱性に優れ且つエポキシ樹脂への反応性が良
好な改質剤が望まれていた。 また、ヒドロシリル基を持つシリコーン化合物にヒドロ
シリル化反応を用いて水酸基を有するオレフィンを付加
する場合は、主原料のほかに保餓基として用いる化合物
が必要である上、さらにヒドロシリル化反応の前に水酸
基を保護する工程とヒドロシリル化反応の終了後に保護
基を外す工程が必要であつ九。このため反応工程が長く
なり且つ製造コストがかさむという欠点があった。 本発明は、以上のような問題点を改良するのに優れた、
エポキシ樹脂の改質剤としてのシロキサン化合物とその
安価な製造方法を提供することを目的とする。 〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明者等は、
上記の目的を達成するために鋭意研究した結果下記発明
に到達した。即ち、第１の発明は、一般式（１） （式中、ｊはθ〜２０００の整数を表わし、Ｒ１は次式 （式中、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基又は炭素原
子数１〜４のアルコキシ基を表わし、Ａは単なる結合手
又は炭素原子数１〜４の２価の炭化水素基を表わし、ａ
はθ〜３の整数を表わし、ｂは１又は２の整数を表わす
）で示される基を表ｂｔ、、Ｒ２、Ｈｓ　％Ｒ４、Ｒ’
及ヒＲ’ｔｉ−すれぞれ炭素原子数１〜４のアルキル基
又はフェニル基を表わす１によって示されるシロキサン
化合物である。 第２の発明は、一般式（１） （式中、ｋ及びｔけそれぞわ０〜２０００の整数を表わ
し、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒｓ及びＲ６は前記と同じ意味
を表わし、Ｒ８は炭素原子数１〜４のアルキル基または
フェニル基を表わす）によって示されるシロキサン化合
物である。 第３の発明は、一般式（ＩＤ （式中、ｑ及びｒはそれぞれθ〜２０００の整数を表わ
し、Ｒ１、Ｒコ、Ｒ１、Ｒ−及びＲ６は前記と同じ意味
を表わし、Ｒ７は炭素原子数１〜４のアルキル基又はフ
ェニル基を表わす）によって示されるシロキサン化合物
である。 第５の発明は、−殺伐（Ｖ） （式中、’ｍｓｎ及びｐはそれぞれ０〜２０００ｏｕ数
’を表わｔ、、Ｒ１、Ｒ’ｓ　Ｒ’、ＲＥ′及ヒＲ’Ｈ
１前記と同じ意味を表わす）によって示されるシロキサ
ン化合物である。 第４の発明は、−殺伐■ （式中、ＳはＯ〜２０００の整数を表わし、ｔは１〜２
０００の整数を表わし、Ｒ１％Ｒ２、Ｒ３Ｒ６、Ｒ６及
びＲ７は前記と同じ意味を表わし、Ｒ″及びＲＩＤはそ
れぞれ炭素原子数１〜４のアルキル基又はフェニル基を
表わす）によって示されるシロキサン化合物である。 第６の発明は、下記式（ト）、弐■又は式（ｖＩＤ（式
中、ｊ、に、１％　ｍ、ｎｓ　　ｐ％Ｒ”、、Ｒ”、Ｒ
３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ６及びＲ１は前記と同じ意味を表わ
す）で示されるヒドロシリル基含有シロキサン化合物へ
、周期律表第■属の金属元素の錯化合物又はそれらと各
種オレフィンのコンプレックスを触媒として用い、水酸
基部分を他の置換基によって保護していない次式（ｎ）
で示されるフェノール化合物 （ここに、Ｒ％Ａｘａ及びｂは前記と同じ意味を表わす
）の少なくとも１種をヒドロシリル化反応によって付加
させることを特徴とする第１発明、第２発明又は第３発
明に係るシロキサン化合物の製造方法である。この方法
における反応温度は３０〜１５０℃が好ましい。 第７の発明は、下記式■又は式の （式中、ｑ、ｒｓ　　ｓ、ｉ　Ｒ”、ｕｊ、Ｒ１１、Ｒ
・、Ｒ７、Ｒ′及びＲ１１ｌは前記と同じ意味を表わす
）で示されるヒドロシリル基含有シロキサン化合物へ、
周期律表第■属の金属元素の錯化合物もしくはそれらと
各種オレフィンのコンプレックスを触媒として用い、水
酸基部分を他の置換基によって保護していない前記式〇
Ｄで示されるフェノール化合物の少なくとも１種をヒド
ロシリル化反応によって付加させることｅ％徴とする第
４発明又は第５発明に係るシロキサン化合物の製造方法
である。この方法における反応温度は３０〜１５０℃が
好ましい。 第８の発明は、第６発明の製造方法において、触媒が白
金錯体化合物又はそれらと各種オレフィンのコンプレッ
クスであり、その使用量が原料シロキサン化合物の珪素
原子に結合した水素原子１個に対して１ｘｉｏ−ｓ〜Ｉ
　Ｘ　１０−４モルである方法である。 第９の発明は、第７発明の製造方法において、触媒が白
金錯体化合物又はそれらと各種オレフィンのコンプレッ
クスであり、その使用量が原料シロキサン化合物の珪素
原子に結合した水素原子１個に対してＩ　Ｘ　１ｏ−８
〜Ｉ　Ｘ　１０−４モルである方法である。 第１０の発明は、第６発明の製造方法において、触媒が
塩化白金酸又は塩化白金酸と各種オレフィンのコンプレ
ックスであり、その使用量が原料シロキサン化合物の珪
素原子に結合した水素原子１個に対してＩ　Ｘ　１０−
８〜ｌＸｌ０−４モルである方法である。 第１１の発明は、第７発明の製造方法において、触媒が
塩化白金酸又は塩化白金酸と各種オレフィンのコンプレ
ックスであり、その使用量が原料シロキサン化合物の珪
素原子に結合した水素原子１個に対してＩ　Ｘ　ＩＱ−
ＩＩ〜ｌＸｌ０−４モルである方法である。 第１２の発明は、第６発明の製造方法において、触媒が
塩化ロジウム、ロジウム錯体化合物又はそれらと各種オ
レフィンのコンプレックスであり、その使用量が原料シ
ロキサン化合物の珪素原子に結合した水素原子１個に対
してｌＸ１０−６〜Ｉ　Ｘ　１０−１モルである方法で
ある。 第１３の発明は、＠７発明の製造方法において、触媒が
塩化ロジウム、ロジウム錯体化合物又はそれらと各種オ
レフィンのコンプレックスであり、その使用量が原料シ
ロキサン化合物の珪素原子に結合した水素原子１個に対
して１×１０−６〜ｉ　ｘ　１ｏ−ｔモルである方法で
ある。 第１４の発明は、第６発明の製造方法において、触媒が
ウィルキンソン錯体又はウィルキンソン錯体と各種オレ
フィンのコンプレックスであり、その使用量が原料シロ
キサン化合物の珪素原子に結合した水素原子１個に対し
てｌＸ１０−６〜Ｉ　Ｘ　１０−１モルである方法でお
る。 １ｇ１５の発明は、＊７発明の製造方法において、触媒
がウィルキンソン錯体又はウイルキ／ソン錯体、ｌ［オ
レフィンのコンプレックスであり、その使用量が原料シ
ロキサン化合物の珪素原子に結合した水素原子１個に対
して１×１０−６〜Ｉ　Ｘ　１０−１モルである方法で
ある。 本発明の、上記、第１発明の一般式（１）におけるｊ、
第２発明の一般式（１）におけるｋ及びｔ１第３発明の
一般式（資）におけるｍｂ　　ｎ及びｐ、＠４発明の一
般式（ト）におけるｑ及びｒｌまた第５発明の一般式（
Ｖ）におけるＳ及びｔはポリシロキザン直鑓部のシロキ
サンユニットの個数ヲアられし、それらの範囲は、合成
樹脂へ導入した場合にシロキサンの持つ機能特性の明確
な発現を得るため、合成樹脂への導入を容易にするため
、及び、合成を容易にする九めに、１％に、　ｔ。 ｍｓｎ％ｐ％ｑ〜ｒ及び８の値の範囲をそれぞれθ〜２
０００とし、ｔの値の範囲を１〜２０００とする。 本発明のシロキサン化合物は、水酸基含有置換基を基準
とし九シロキサン鎖の本数が、上記第１発明の一般式（
１）で示される１本、第２発明の一般式（１）で示され
る２本及び第３発明の一般式（８）で示される３本の３
ｓ類の構造があることを特徴としている。父、虹４発明
は、一般式（ト）におけるｒの値がＯの場合社分子鎖両
末端にのみそれぞれ水酸基含有置換基を有する化合物、
ｒの値が１以上の場合は分子鎖両末端に加え分子鎖のペ
ンダント部位にも水酸基含有置換基を有する化合物であ
り、１分子中に水酸基含有置換基を２個以上持つことｔ
％徴とし、さらに、製造時にｑ及びｒの値を任意に設定
することにより、自由に目的とする比率で分子鎖ペンダ
ント部位へ水酸基含有置換基金導入することができるこ
と全特徴としている。又、第５発明は、一般式（Ｖ）で
示されるようにペンダント部位にのみ水酸基含有置換基
を有し、製造時に１及びｔの値を任意に設定することに
より、自由に目的とする比率で分子鎖のペンダント部位
へ水酸基含有置換基を導入することができることを特徴
としている。これらから、目的とする合成樹脂や付与し
たい機能特性に合わせて任意の構造のものを選択し、単
独で又は混合して用いることができる。 さらに、第２発明の一般式（１）、及び、第３発明の一
般弐〇１）で示される、水酸基含有置換基金基準とした
シロキサン化合物が２本及び３本の場合のそれぞれのシ
ロキサン鎖長け、目的によってはそれぞれ違った分子鎖
長を設定することもできるが、合成樹脂に特殊な機能を
付与する必要がある場合や特性をより細かくコントロー
ルする必要がある場合以外は、製造工程が増え合成条件
の許容範囲が狭くなるのを避けるため、それぞれ同一の
シロキサン鎖長に設定するのが好ましい。 前記Ｒ’で表わされる基としては％３−（０−ヒドロキ
シフェニル）プロピル基、３−（Ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）プロピル＆、３−（ｍ　−ヒドロキシフェニル）フ
ロビル＆、２−（ｏ　−ヒドロキシフェニル）エチル基
、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル基、２−（ｍ
−ヒドロキシフェニル）エチル基又は３−（ｐ−ヒドロ
キシ″′″ｍ−メトキシフェニル）プロピル基、３−（
２，５−ジヒドロキシフェニル）プロピルＭ、３−（３
，４−ジヒドロキシフェニル）プロピル基、３−（３，
５−ジヒドロキシフェニル）プロピル基、２−（３，５
−ジヒドロキシフェニル）エチル基、３−　（３−１ｆ
ｈ　−ｓ−ヒドロキシフェニル）プロピル基、２−（３
−メチル−５−ヒドロキシフェニル）エチル基、３−（
３−エチル−５−ヒドロキシフェニル）プロピル基、２
−（３−エチル−５−ヒドロキシフェニル）エチル基％
　３−（３１５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピル基を挙げることができる。 本発明の、第１発明の一般式（り、第２発明の一般式（
１）、第３発明の一殺伐＠、第４発明の一般弐倍）及び
第５発明の一般式（Ｖ）で示されるシロキサン化合物は
、分子中に存在する水酸基をこれと反応可能なエポキシ
樹脂などの合成樹脂へ反応させ、化学結合により組み込
むことにより、合成樹脂の特性改善に有用なシロキサン
化合物として用いることができ、特に半導体素子の樹脂
封止材の内部応力緩和剤として優れた効果を得ることが
できる。 本発明の第６発明、第７発明、第８発明、第９発明、第
１０発明、第１１発明、第１２発明、第１３発明、第１
４発明及び第１５発明の製造方法は、添加する触媒の種
類と量により、更に好ましくけそれらに合わせて反応温
度をコントロールすることにより、水酸基を持つオレフ
ィンである前記式（ｎ）で示されるフェノール化合物の
水酸基部分をヘキサメチルジシラザンやトリメチルクロ
ロシラン力どの各種シリル化剤で検層しなくともほとん
ど副反応を起こさず９５％以上の収率で目的化合物を得
ることができることを特徴としている。従来、水酸基を
持つオドロシリル化触媒の作用により珪素原子に結合し
た水素原子と付加しようとするオレフィンの持つ水酸基
の水素原子が結合することによシ副反応である脱水素反
応が生じ目的物の収量を減少させていた。この九め水酸
基部分を、これに他の置換基を付加させることによって
保護し、ヒドロシリル化反応終了後にその保護基を外す
操作が必要であった。本発明による製造方法を用いるこ
とにより、水酸基保護工程に必要な製造設備への投資や
保護置換基として用いる原料が不要となるため大幅な装
造工程の短縮及びコストダウンが可能となった。 本発明において用いられるヒドロ７リル化触媒としては
、周期律宍第■属の金属元素の錯化合物又はそれらと各
種オレフィンのコンプレックスを用いることができ、特
に白金化合物及びロジウム化合物が良好である。触媒の
使用量は白金化合物の場合で、原料シロキサンの珪素原
子に結合した水素原子１個に対してＩ　Ｘ　１０−１〜
Ｉ　Ｘ　１０−４モルの範囲が良く、Ｉ　Ｘ　１０−テ
〜１　Ｘ　１０−６モルの範囲が特によい。Ｉ　Ｘ　１
０−８モル未満では反応系中の微量の水分や妨害物質の
影響によって触媒が失活し申す＜％ｌＸ１０−４モルを
越える量では副反応が起きやすく目的シロキサン化合物
の収量が低化することがある。 ロジウム化合物では原料シロキサンの珪素原子に結合し
た水素原子１個に対してＩ　Ｘ　１０””〜Ｉ　Ｘ　１
０−１モルの範囲がよく、Ｉ　Ｘ　１０−５〜ｌＸｌ０
−２モルの範囲が特によい。ｌＸｌ０−６モル未満では
反応系中の微量の水分や妨害物質の影響によって触媒が
失活しやすく、Ｉ　Ｘ　ｔｏ−ｔモルを越える量では副
反応が起きやすく目的シロキサン化合物の収量が悪化す
ることがある。 本発明方法におけるヒドロシリル化の反応温度は３０〜
１５０℃の範囲がよく５０〜１００°Ｃの範囲が特によ
い。３０℃未満では反応時間が長くかかる上、微量の反
応妨害物質の存在によって反応がスムーズに進行しない
ことがあり、１５０℃を越える温度では副反応が起きや
すく目的シロキサン化合物の収量が低化することがある
。この反応温度は使用触媒の種類及び量、又、合成スケ
ールによって決定され、触媒として塩化白金酸を原料シ
ロキサンの水素原子１個に対して１×１０″′″６モル
使用し、数幻の合成スケールの場合は、６０〜７０℃の
範囲がよい。 反応の終点は、ガスクロマトグラフィー、赤外分光等に
よって確認できる。 反応溶媒を用いるときは、α−オレフィンでなく、又活
性水素を持たない通常の炭化水素系の溶媒がよく、たと
えばトルエン、キシレン及びヘキサンなどを使用できる
。しかし、容積効率の悪化や危険物である溶媒の取扱い
などのデメリットが大きいので、原料シロキサンが高粘
度であるなど特別の場合をのぞいては、反応溶媒は使用
しない方が望ましい。 以下に本発明の化合物の本造法をより具体的に説明する
。 本発明の化合物の原料であるヒドロシリル基を有するシ
ロキサン化合物は、市販品を入手できる他、以下の方法
によっても容易に得られる。 （手法１−ａ） まず、下記式■ （式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１及びＲ６は前記と同じ意味を
表わし、ｕｌは０〜６の整数を表わす）で示されるシラ
ノール化合物の１８１又は２種以上を開始剤とし、開始
剤に対しＯ，ＯＳ〜１００モル％のリチウム系触媒の存
在下、下記式（■）（式中、Ｒ２は３〜５の整数全表わ
し、Ｒ５及びＲ６は前記と同じ意味を表わす）で示され
るシロキサン環状体化合物の１種又は２種以上を活性水
素を有しない極性溶媒中でアニオン重合させ、又は式（
至）の化合物をそのまま用いて下記式（Ｘ’ｌ）で示さ
れる中間体化合物を得る。 （式中、ではリチウム原子又は水素原子を表わし、Ｒ３
、Ｒ４、Ｒ５及びＲ・は前記と同じ意味を表わし、Ｒ３
は０〜２０００の整数を表わす）（手法１−ｂ） 手法１−ａによって得られた中間体、式（ＸＩ）のシロ
キサン化合物を、下記式（ＩＩＶ）ｃｔｓｌＲ”ｔ　　
　　　・・−（ＩＩＶ）（Ｒ”は前記と同じ意味を表わ
す）で示されるクロロシラン化合物で重合停止させるこ
とによって下記式（資） （式中、ｊは０〜２０００の整数を表わし、Ｒ’％Ｒ３
、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前記と同じ意味を表わす）テ示
されるヒドロシリル基含有シロキサン化合物を得る。 （手法１−ｃ） 手法１−＆によって得られた中間体、式（ＸＩ）のシロ
キサン化合物を、下記式（ＸＶ）Ｃ４５ｉＲ’　　　　
−・・（ＩＴ） （Ｒ’は前記と同じ意味を表わす）で示されるクロロシ
ラン化合物で重合停止させることＫよって下記式（至） （式中、ｋ、ｔ、Ｒ”、Ｒ４、Ｒ１１、Ｒ６及びＲ８は
前記と同じ意味を表わす）で示されるヒドロシリル基含
有シロキサン化合物を得る。 （手法１−ｄ） 手法１−ａによって得られた中間体、式（ｎｌＤのシロ
キサン化合物ヲ、トリクロロシランで重合停止させるこ
とによって下記式（マＩ）（式中、Ｔｎ　、ｎ　ｈ　ｐ
　ｓ　Ｒ”、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前記と同じ意味ヲ表
わす）で示されるヒドロシリル基含有シロキサン化合物
を得る。 上記式＠、式（１）及び式（■）で示されるシロキサン
化合物においてｊ　％　ｋ　ｂ　２％　ｍ％ｎ及びｐで
表わされるその１合度は、開始剤である上記式（ＸＩ）
の化合物と上記式（Ｘｌ）で示されるシロキサン環状体
化合物の仕込比を変えることＫよって任意にコントロー
ルでき、シロキサン鎖１本ｉｂの数平均分子量が約１５
万以下のもの（シロキサンユニットの個数で２０００以
下）であれば自由に目的分子量のシロキサン化合物を合
成できる。また、これを越える分子量のものでも重合条
件を変えることにより調製可能である。 又、上記式（ＶＤ、式（■）及び式（■）で示されるシ
ロキサン化合物を合成するとき用いるリチウム系触媒と
しては、金属リチウム、ブチルリチウム、水酸化リチウ
ム及びリチウムトリアルキルシラル−ト等を挙げること
ができ、こｈらの１種又は２種以上の混合物を触媒とし
て用いることができる。 上記式（ＸＩ　）で示される化合物の例としては、トリ
メチルシラノール、トリエチルシラノール、トリフェニ
ルシラノール、ジメチルプテルシ２ノール、ジフェニル
ブチルシラノール、１−ヒドロキシ−１，１，３，３，
３−ペンタメチルジシロキサン、１−ヒドロキシ−１，
１，３゜３．５．５．７，７．７−ノナメチルブト２シ
ロキサン、１−ヒドロキシ−１，１，３，３゜５．５．
７，７，９．９．９−ウンデカメチルベンタシ［１キサ
ン、１−ヒドロキシ−１，１゜３．３．５．５−ヘキサ
メチル−７，７，７−トリフエニルテトラシロキサ／、
１−ヒドロキシ−１，１，３，３，５，５−へキサフェ
ニル−７，７，７−トリメチルテトラシロキサン、１−
ヒドロキシ−１，３，５−トリメチル−１゜３．５−）
ジフェニル−７，７，７−１リメテルテトラシロキサン
及び１−ヒドロキシ−１゜３．５−トリメチル−１，３
，５−）ジフェニル−７，７，７−）リフェニルテト２
シロキサン等がある。 上記式（１）で示される化合物の例としては、ヘキサメ
チルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラ
シロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ヘキ
サメチルシクロトリシロキサン、オクタエチルシクロテ
トラシロキサン、テカエチルシクロベンタシロキサン、
ヘキサプロピルシクロトリシロキサン、オクタプロピル
シクロテトラシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシ
ロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、１
，３．５−トリメチル−１，３，５−）ジフェニルシク
ロトリシロキサン、１．３．５．７−テトラメチル〜１
．３゜５．７−テトラフエニルシクロテトラシロキサン
、１．３．５−）ジエチル−１，３，５−）リプロビル
シクロトリシロキサン及び１，３゜５．７−テトラメチ
ル−１，３，５，フーチトラグロビルシクロテトラシロ
キサン等がある。 上記式（′Ｗ）で示される化合物の例としては、ジエチ
ルクロロシラン、ジエチルクロロシラン及びジフェニル
クロロシラン等がある。 上記式（ＸＶ）で示される化合物の例としては、メチル
ジクロロシラン、エチルジクロロシラン及びフエニルジ
クロロシラン等がある。 （手法２−ａ） 次に、下記式（ＩＷ）及び式（ｙｙ層）（式中、ｕ４及
びｕ５はそれぞれＯ〜８の整数を表わし、かつｕ’　＋
　ｕ’が３以上の整数であり、Ｕ＠及びｕ７は、それぞ
れ０〜２０００の整数全表わし、かつ１１”　＋　ｕ’
が１以上であり、Ｒ’　、Ｒ・及びＲ７は前記と同じ意
味を表わす）で示されるシロキサン化合物の１種類又は
２種類以上と下記式（珂） （式中、ｕｍは０〜４０ＪＩｌ１表ｔ）ｔ、、Ｈ！　、
Ｒ３Ｒ６及びＲ６は前記と同じ意味ｔ−表わす）で示さ
れるシロキサン化合物を硫酸、酸性活性白土などの酸触
媒の存在下で平衡化反応を行うことにより、又は式（ｍ
）の化合物をそのまま用いて下記式■ の割合は、上記式（ＸＭ）中のＲ４とＲ６の割合、又、
上記式（細巾のＲ６とＲ７の割合によって任意に設定で
きる。例えばＲ５及びＲ７の値が０の化合物を用いて合
成した場合、又は式（ｌの化合物をそのまま使用する場
合は、上記式■中のｒの値が０の、両末端にのみ珪素原
子に結合した水素原子を持つ化合物である下記式（■′
）を得ることができる。 （式中、ｑｔ　ｒ、　Ｒ２、Ｒ３、Ｒ’、Ｒ’及び８７
杜前記と同じ意味を表わす）で示されるヒドロシリル基
含有シロキサン化合物を得る。 上記式ωで示されるシロキサン化合物においてｑｔｒで
表わされるその重合度は、式（罰）及び式（蜀で示され
る化合物と式（ＸＶＩ）の仕込、比を変えることによシ
、又は式（ＩＶＩ）の化合物をそのまま使用するときは
適当なものを選定することにより、任意にコントロール
でき、ペンダント部位に存在する珪素原子に結合した水
素原子（式中、ｑは０〜２０００の整数を表わし、Ｒ２
、Ｒ３、Ｒ１１及びＲ６は前記と同じ意味を表わす）（
手法２−ｂ） 手法２−ａにおいて、式（■）で示される化合物にかえ
て下記式（ＸｒＸ） （式中、Ｒ９はＯ〜４の整数を表わし、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ
’　、　Ｒ’　、Ｒ″及びＲＩＧは前記と同じ意味を表
わす）で示されるシロキサン化合物を用い、ｕ５≧１で
ある式（■）の化合物及びｕ７≧１である式（ｍｌの化
合物を用いて硫酸、酸性活性白土などの酸触媒の存在下
で平衡化反応を行うことにより、下記式■ ルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシ
ロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、オクタ
エテルシクロテトラシロキサン、デカエチルシクロペン
タシロキサン、ヘキサプロピルシクロトリシロキサン、
オクタプロピルシクロテトラシロキサン、デカプロピル
シクロペンタシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシ
ロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、デ
カフェニルシクロベンタシロキ（式中、３は０〜２００
０の整数を表わし、ｔは１〜２０００の整数を表わし、
Ｒ２、Ｒ１、ＢＳ、Ｒ＠　、ＲＴ　、Ｒ１１及びＲＩＧ
は前記と同じ意味を表わす）で示されるヒドロシリル基
含有シロキサン化合物を得る。 シクロキサン、１，３，５．７．９−ペンタメチルシク
ロペンタシロキサン、１．３．５−）リメチル−１，３
，５−）リフェニルシクロトリシロキサン、１．３，５
．７−テ“トラメチル−１，３，５，７−テトラフエニ
ルシクロテトラシロキサン、１，３．５−）リメチル−
１゜３．５−）リプロビルシクロトリシロキサン、１．
３．５．７−テト２メチル−１，３，５゜７−テトラプ
ロビルシクロテトラシロキサン、１．１，３．３．５−
ペンタメチルシクロトリシロキサン、１，１，３．５−
テトラメチルシクロトリシロキサン、１，１．３．３．
５．５゜７−へブタメチルシクロテトラシロキサン、１
゜１．３．３．５．７−へキサメチルシクロテトラシロ
キサン、１．１．３，５．５．７−へキサメチルシクロ
テトラシロキサン及び１．１゜３．５．７−ペンタメチ
ルシクロテトラシロキサン等がある。 上記式（ｍ）で示される化合物の例としては、及び （式中、Ｍ・はメチル基、　Ｅｔはエチル基、Ｐｒはプ
ロピル基、ｐｈはフェニル基を表わし％’　　Ｆは１〜
２０００の整数を表わし、ｙｏｌ、１．．１＋ｙ３はそ
れぞれ独立に０〜２０００の整数ｔ−表わすがｙ’　＋
　ｙ’≧１、ｙＯ＋　、ｌ　＋、３≧１である）等があ
る。 上記式（ＸＩ）で示される化合物の例としては、１．１
．３．３−テトラメチルジシロキサン、１．１，３．３
−テトラフエニルジシロキサン及び１．１−ジメチル−
３，３−ジフェニルジシロキサン等がある。 上記式（ＸＩＸ）で示される化合物の例としては、ヘキ
サメチルジシロキサン、ヘキサフエニルジシロキサン及
び１．１．１．３．３．５．５゜５−オクタメチルジシ
ロキサン等がある。 以上のような手法にて得られた珪素原子に結合した水素
原子を有するシロキサン化合物を原料に用いて、次に示
すヒドロシリル化反応によシ本発明の目的とするシロキ
サン化合物を得る。 （１）　　水酸基含有置換基を基準としたシロキサン鎖
の本数が１本のシロキサン化合物 まず上記手法によって得られ友、目的とする置換基の種
類（メチル基、エチル基、フェニル基など）及び分子量
を持つ下記式（イ）で示されるヒドロシリル基含有シロ
キサン化合物と前記式頃）で示されるフェノール化合物
を、周期律表第■属の金属元素の錯化合物又はそれらと
各種オレフィンのコンプレックスを触媒として用いヒド
ロシリル化反応を行うことにより、第１発明である下記
式（１）で示されるシロキサン化合物を得る。 各穫オレフィンのコンプレックスを触媒として用いヒド
ロシリル化反応を行うことにより、第２発明である下記
式（１）で示されるシロキサン化合物を得る。 （式中、ｊ、　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ６
は前記と同じ意味を表わし、Ｘは前記式（ＸＸ）で示さ
れるフェノール化合物を示す） （２）水酸基含有置換基を基準としたシロキサン鎖の本
数が２本のシロキサン化合物 まず上記手法によって得られた、目的とする置換基の檻
類及び分子量を持つ下記式（２）で示されるヒドロシリ
ル基含有シロキサン化合物と前記式（Ｈ）で示されるフ
ェノール化合物管、周期律表第■馬の金属元素の錯化合
物又はそれらと（式中、ｋ％ｔ％Ｒ］、Ｒ”、　Ｒ’、
　Ｒ’、ＨＡ　、　Ｒ８及びＸは前記と同じ意味を表わ
す） （３）　　水酸基含有置換基を基準としたシロキサン鎖
の本数が３本のシロキサン化合物 まず上記手法によって得られた、目的とする置換基の種
類及び分子量を持つ下記式（■）で示されるヒドロシリ
ル基含有シロキサン化合物と前記式（Ｘｌｒ）で示され
る化合物を、周期律表第■属の金属元素の錯化合物又は
それらと各種オレフィンのコンプレックスを触媒として
用いヒドロシリル化反石を行うこにより、第３発明であ
る下記式（資）で示されるシロキサン化合物を得る。 ＋ を持９下記弐〇で示されるヒドロシリル基含有シロキサ
／化合物と前記式（ｎ）で示される化合物を、周期律表
第Ｙｌｌ属の金属元素の錯化合物又はそれらと各種オレ
フィンのコンプレックスを触媒として用いヒドロシリル
化反応を行うことにより、第４発明である下記式（５）
で示されるシロキサン化合物を得る。 （式中、ｍ　ｋ　ｎ　％　Ｐ　％　Ｒ’　％　Ｒ”　ｓ
　Ｒ’、Ｒ’　、　Ｒ・　及びＸは前記と同じ意味を表
わす） （４）分子鎖両末端に水酸基含有置換基を持ちさらに必
要に応じて分子鎖のペンダント部位に任意の割合の水酸
基含有置換基を持つシロキサン化合物 まず上記手法によって得られ九、目的とするペンダント
部位の水酸基含有置換基と置換さるべき水素原子の割合
、置換基の種類及び分子量（式中、ｑ、　ｒ、　Ｒ１，
Ｒ”、Ｒ”ｂＲ’％Ｒ’、Ｒ’　　及びＸ社前記と同じ
意味を表わす） （６）　　シロキサン分子鎖のペンダント部位に任意の
割合の水酸基含有置換基を持つシロキサン化合物 まず上記手法によって得られ九、目的とするペンダント
部位の水酸基含有置換基と置換さるべき水素原子の割合
、置換基の種類及び分子量を持つ下記式α）で示される
ヒドロシリル基含有シロキサン化合物と前記式（ｎ）で
示されるフェノール化合物を、周期律表第■属の金属元
素の錯化合物又はそれらと各種オレフィンのコンプレッ
クスを触媒として用いヒドロシリル化反応を行うことで
第５発明である下記式■で示される目的シロキサン化合
物を得る。 触媒 ＋Ｘ （式中、Ｓは０〜２０００の整数を表わし、ｔは１〜２
０００の整数を表わし、Ｒ１、１！　、Ｒ３、Ｒ’　、
　Ｒ・、Ｒ７、Ｒ１１、Ｒ１０及ＵＸ［ｔｌ、！［じｉ
味を表わす） 前記式（ＸＸ）で示されるフェノール化合物としては、
ｏ−アリルフェノール、ｐ−アリルフェノール、ｍ−ア
リルフェノール、Ｏ−ビニルフェノール、ｐ−ビニルフ
ェノール、ｍ−ビニルフェノール、　ｐ−ヒドロキシ−
ｍ−メトキシ−２−プロペニルベンゼン、３−（２，５
−ジヒドロキシフェニル）−１−プロペン、３−（３，
４−ジヒドロキシ７エエル）−１−プロペン、３−（３
，５−ジヒドロキシフェニル）−１−７’ロペン、３１
５−ジヒドロキシ７エエルエテン、３−（３−メチル−
５−ヒドロキシフェニル）プロペン、３−メゾルー５−
ヒドロキシフェニルエテン、３−（３−エチル−５−ヒ
ドロキシフェニル）フロペン、３−エチル−５−ヒドロ
キシフェニルエテン、３−（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロペン等を挙げることができる。 以上のようにして第１発明の一般式（１）、第２発明の
一般式（１）、第３発明の一般式（至）、第４発明の一
般式（ト）及び第５発明の一殺伐σ）で示される水１！
ｉ！基含有置換基金有する新規シロキサン化合物を安価
な製造方法で容易に得ることができる。 （発明の効果〕 本発明のシロキサン化合物は、エポキシ樹脂を用いた半
導体素子の樹脂封止においてその内部応力を緩和するの
に極めて優れたシロキサン化合物である。更に、水酸基
含有置換基を基準としたシロキサン鎖の本数及び両末端
部位に加えペンダント部位への水酸基含有置換基の導入
割合などをコントロールしたシロキサン化合物を任意に
得ることができるので、緻密で多彩な要求特性にも対応
し次化合物を供給できる。 又、本発明の製造方法では水酸基部位の保護が不要であ
るため保護置換基用の原料が不要となる上・水酸基を検
層する工程とそれを外す工程が不要となり、それだけ原
料費、設備費及び装置運転費が削減され、よシ迅速に安
価な製品の供給が可能となる。 〔実施例〕 以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるもので
はない。 参考例１ の製造 攪拌装置と冷却装ｆを取９付けた３１三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール９０．０ｙｉＮｔ気流下で仕込
み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１，５モル／　ｌ　
）　６６６　ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、その中
へ乾燥テトラヒドロフラン３００　ｍｌに溶解させたヘ
キサメチルシフ筒トリシロキサン２２３ｆｔ−仕込み、
２０℃で１０時間重合させた。 次に、ジメチルクロロシラン９４．６ｆとトリエチルア
ミン１０１ｆを加え１時間攪拌し重合を停止させた。合
成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗により除去
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こうして得
られた反応生成物から低沸点成分を１００℃／　Ｉ　Ｑ
　Ｏｇ＊Ｈｇの条件で２時間かけて留去し、＄残に目的
シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得た。得られた
シロキサン化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペ
クトルのそれぞれの分析結果及び５ｉ−Ｈ基定量データ
は下記の通りであり、次式の構造と確認された。 （式中、ｚｌはシロキサンユニットの個数ｆｔ表わす） ”Ｈ−ＮＭＲ（ｃＤｃｔｓ　）　：δｐｐｍ０．１０　
（５ｌ−ＣＨｓ　、ａ、３３Ｈ）４．５５　（８１−Ｈ
，ｍ　、　Ｉ　Ｈ）ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０３−１（Ｃ−Ｈ） ２２５０ａｔ−１（８１−Ｈ） １２６０Ｃ！ＩＩ−’　（５ｔ−ＣＨｓ　）１１２０〜
１０５０ｃｍ−’　（Ｓｔ　−０）Ｓｔ−Ｈ基の定量デ
ータ Ｈ（ｐｐｍ）　　　　　　　　　　２７０３　（ｐｐｍ
）Ｈ（ｐｐｍ）よりの計算当量　　　　　３７０実施例
１ １（３−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル）−１，
１，３，３，５，５，７，７，９゜９．９−ウンデカメ
チルペンタシロキサンの製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１１三口丸底フラスコ
に参考例１で得られた１−ヒドロ−１，１，３，３，５
，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロ
キサン７４．Ｏｆ’に仕込み６０″Ｃに加熱した。これ
に塩化白金酸１．０　Ｘ　１０−４ｇ　を添加したのち
にＯ−アリルフェノール４０．２ｆ’に滴下しつつ添加
した。滴下終了後、そのまま２時間熟成させた。こうし
て得られた反応生成物から低沸点成分を１００℃／　１
　ｆｌＨｇの条件で２時間かけて留去し、≦残に目的シ
ロキサン化合物をほぼ定量的な収車で得た。 得られたシロキサン化合物の”）ｉ−ＮＭＲスペクトル
、ＩＲスペクトル、粘度のそれぞれの分析結果及び水酸
基定量データは下記のとおりであり、次式の構造と確認
された。 （式中％　Ｘ’は０−ヒドロキシフェニル基金表ワＬ、
ｚ’ｔｉシロキサンユニットの個数を表わす）”　Ｈ−
ＮＭＲ（ＣＤＣ２５）　：δｐｐｍ０．１　（５ｔ−Ｃ
Ｈｓ　、　ｓ　、　３３　Ｈ）０．５〜２．７　（５ｔ
−ＣＨｌＣＨｔＣＨｔ−、ｂｒｏａｄ　、　６Ｈ）６．
３〜７．２　（フエ＝ｈ基、ｍ、４Ｈ）ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｎ−’　（−ＯＨ）２９７０３−１
（Ｃ−Ｈ） １２６　（Ｂｌｌ−’　（８ｌ−ＣＨｓ　）１１２０〜
１０５０４−１　（８１−０）７５Ｑｎ−ｔ　（１，２
−二置換フェニル基）水酸基の定量データ 水酸基　　　　３．３８重景％ 粘度（２５＠Ｃ） ５０センチボイズ 参考例２ ０位にヒドロシリル基金有するシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装ｆ’に取り付けた３１三口丸底フラス
コにトリメチルシラノールｉｓ、ｏｙ’ｉＮｔ気流下で
仕込み、ブチルリチウムへキサン溶液（１，５モル／　
ｌ　）　１３３　ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、そ
の中へ乾燥テトラヒドロ７ラン２００　ｍｌに溶解させ
たへキナメチルシクロトリシロキサン１７１ｆを仕込み
、２０°Ｃで２０時間重合させた。 次に、ジメチルクロロシラン１９．０ｆＩとトリエチル
アミン２１ｆｔ加え１時間攪拌し重合を停止させた。合
成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗により除去
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こうして得
られた反応生成物から低沸点成分を１００℃／１ｆｉＨ
ｇの条件で２時間かけて留去し、薔残に目的シロキサン
化合物をほぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトクラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び５ｉ−Ｈ暴走量データは下記のと
おりであり、次式の構造と確認され次。 （式中％Ｚ”はシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ＣＭ−１（Ｃ−Ｈ） ２２５０ａ−’　（８１−Ｈ） １２６０α−”　（Ｓｔ　−ＣＬ　） １１２０〜１０５０ｍ−１（Ｓｔ−０）ＧＰＣ（）ルエ
ン）ポリスチレン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　
　　　１２００重量平均分子量（Ｍｗ）　　　　１３０
０分散度　　（Ｍｙ／Ｍｎ　）　　　　　　１．１８１
−Ｈ基の定量データ Ｈ（ｐｐｍ）　　　　　　　　　　１０７４（ｐｐｍ１
０７４（ｐｐよりの計算当量　　　９３１粘度（２５°
Ｃ） ６センチボイズ 実施例２ ０位にヒドロキシフェニル基を有するシロキサン化合物
の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１１三口丸底フラスコ
に参考例２で得られｆｉａ位にヒドロシリル基を有する
シロキサン化合物４６５．５ｆを仕込み６０″Ｃに加熱
した。これに塩化白金酸２．６Ｘ１０−４ｆｔ−添加し
九のちに０−アリルフェノール８０．４　ｆ　？滴下し
つつ添加した。滴下終了後、そのまま２時間熟成させた
。 こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１５０℃
／ＩＩ＠Ｈｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に目的
シロキサン化合物音はぼ定量的な収率で得た。得られた
シロキサン化合物のＩＲスペクトル、粘度のそれぞれの
分析結果及び水酸基定量データは下記のとおりであり、
次式の構造と確認された。 （式中％　Ｘ”は０−ヒドロキシフェニル基金表わし、
Ｚ”はシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃｎ−１（−ＯＨ）２９７０ａ、−
ｔ　（Ｃ−Ｈ） １２６０ａｓ−’　（Ｓｉ　−ＯＨ５）１１２０〜１０
５１０５０ｃＩ　（Ｓｔ−０）７５０３−１（１，２−
二置換フェニル基）水酸基の定量データ 水酸基　　　１．６０重ｌ５ 粘度（２５℃） ２２センチボイズ 参考例３ α位にヒドロシリル基を有するシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を堰り付けた５１三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール２．７ｆｆＮｔ気流下で仕込み
、ブチルリチウムへキサン溶液（１，５モル／ｌ）２０
ｍｌｆ滴下しつつ添加した。 更に、その中へ乾燥テトラヒドロ７ラン２０００Ｉｌｌ
に溶解させたヘキサメチルシクロトリシロキサン２２２
３１を仕込み、２５°Ｃで２５時間重合させた。 次に、ジメチルクロロシラン８．１２Ｆと）！ｊエチル
アミン４ｆを加え１時間攪拌し１合を停止させ念。合成
物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗により除去し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。 こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１５０°
Ｃ／１ｆｉＨｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に目
的シロキサン化合物を＃１ぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクト′ル、ＧＰＣ
（ゲルパーミェーションクロマトクラフィー）、粘度の
それぞれの分析結果及び５ｉ−Ｈ暴走量データは下記の
とおりであり、次式の構造と確認された。 （式中、ｚａはシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０３−Ｌ　（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃＩ１１−’（８１−Ｈ） １２６０ｃｍ−’　（８１−ＣＨｓ　）１１２０〜１０
５０４−１（Ｓｔ−０）ＧＰＣ（）ルエン）ポリスチレ
ン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　６３６０
０重量平均分子量（Ｍｙ）　　　　７９８００分散度　
　（Ｍｗ／Ｍｎ　）　　　　　　　１．３８１−Ｈ基の
定量データ Ｈ（Ｐｐｍ）　　　　　　　　　　　１５．１　（Ｔ）
Ｐｍ）Ｈ（ｐｐｍ　）よりの計算当量　６６２３０粘度
（２５°Ｃ） ４３１０センチボイズ 実施例３ ０位にヒドロキシフェニル基ヲ有スルシロキサン化合物
の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１１Ｉ三口丸底フラス
コに参考例３で得られた０位にヒドロシリル基を有する
シロキサン化合物１００．Ｏｆトトルエン５０　ｍｊ及
Ｕ　ｏ−アリルフェノール０、３　’ｌ　’に仕込み８
０℃に加熱した。これに塩化白金酸（１０７８Ｘ　１０
−４　Ｆを添加し、そのまま２時間熟成させた。こうし
て得られた反応生成物から低沸点成分を１５０℃／ｌｆ
ｆＨｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。 得られ之シロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び水酸基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。 （式中、Ｘｌは０−ヒドロキシフェニル基ヲ表ワシ、ｚ
ｓハシロキサンユニットの個数を表わす）ＩＲ（ＫＢｒ
） ３６５０〜３２００ａＩＩ−’　（−ＯＨ）２９７０ｃ
ｍ−１（Ｃ−Ｈ） １２６０ｃ１１″″ｔ　（８１−ＣＬ）１１２０〜１０
５０３−’　（８１−０）７５０ｃ’ｓ−１（１、２−
二置換フェニル基）ＧＰＣ（）ルエン）ポリスチレン換
算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　５４２００重
量平均分子量（Ｍｗ）　　　７９７００分散度　　（Ｍ
ｗ／Ｍｎ　）　　　　　　１．５水酸基の定量データ 水酸基　　　０．０３重量％ 粘度（２５°Ｃ） １０９４０センチポイズ 参考例４ ヒドロシリル基を基準としたシロキサン鎖が２本のシロ
キサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた３１三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール１８．ＯｆをＮｔ気流下で仕込
み、プ楚リチウムヘキサン溶液（１，５モル／　ｌ　）
　１３３　＃Ｚを滴下しつつ添加した。更に、その中へ
乾燥テトラヒドロフラン２００　ｍｌに溶解させたヘキ
サメチルシクロトリシロキサン１７１ｆＴｈ仕込み、２
０″Ｃで２０時間重合させた。 次に、メチルジクロ四シラン１１．５ｆとトリエチルア
ミン２１ｆｔ−加え１時間攪拌し重合を停止させた。合
成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗により除去
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こうして得
られ九反応生成物から低沸点成分を１００″Ｃ／１ｆｉ
Ｈｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトクラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及びＳｉ　−Ｈ暴走量データは下記の
通りであり、次式の構造と確認された。 （式中％　　Ｚ’及びｚｌｌはそれぞれシロキサンユニ
ットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０３−１（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｍ−１（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｔ’１ｌｌ−１（８１−Ｃ山）１１２０〜１０
１０５Ｏ’（Ｓｔ−０）ＧＰＣ（）ルエン）ポリスチレ
ン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　１７００
重量平均分子量（Ｍｗ）　　　　２１００分散度　　（
Ｍｙ／Ｍｎ　）　　　　　　１．２Ｓｔ−Ｈ基の定量デ
ータ Ｈ（ＰＰｍ）　　　　　　　　　　　　　５０３（ｐｐ
ｍ）Ｈ（ｐｐｍ）よりの計算当量　　１９９０粘度（２
５℃） ２８センチボイズ 実施例４ ヒドロキシフェニル基を基準としたシロキサン鎖が２本
のシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１１三口丸底フラスコ
に参考例４で得られたヒドロシリル基を基準とし次シロ
キサン鎖が２本のシロキサン化合物９９．５１及びＯ−
アリルフェノール１０．１ｆｔ−仕込み６０℃に加熱し
た。これに塩化白金酸２．６　Ｘ　１０−４　Ｆを添加
し、そのまま２時間熟成させた。こうして得られた反応
生成物から低沸点成分を１５０℃／ｌｆｆＨｇの条件で
２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び水酸基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。 （式中、Ｘ３はＯ−ヒドロキシフェニル基ヲ表わし、ｚ
４及びｚ６はそれぞれシロキサンユニットの個数を表わ
す） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｆｆｉ−１（−０Ｈ）２９７００ｍ
−１（Ｃ−Ｈ） １２６０＞−’（８１−Ｃル） １１２０〜１０１０５Ｏ’（８１−０）７５０α−１（
１，２−二置換フェニル基）ＧＰＣ（）ルエン）ポリス
チレン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　１２
００重景平均分子量（Ｍｗ）　　　　２０１０分散度　
　（Ｍｙ／Ｍｎ　）　　　　　　１．７水酸基の定量デ
ータ 水酸基　　　０．８０重量％ 粘度（２５°Ｃ） ６４センチボイズ 参考例５ ヒドロシリル基を基準としたシロキサン鎖が２本のシロ
キサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた５１三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール６７．５　ｆｌ　ｆＮ！気流下
で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１，５モル／
　ｌ　）　５００　ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、
その中へ乾燥テトラヒドロフラン１５００　ｍｌに溶解
させたヘキサメチルシクロトリンロキサン１２１７ｇを
仕込み、２゛０℃で２５時間重合させた。 次に、メチルジクロロシラン４８．１Ｎとトリエチルア
ミン７６ｆｋ加え１時間攪拌し重合を停止させた。合成
物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗により除去し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ念。こうして得ら
れた反応生成物から低沸点成分を１５０℃／１１ＥＩＩ
Ｈｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。 得られ九シロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び８１−Ｈ基定量データは下記のと
おりであり、次式の構造と確認され友。 （式中、ｚ６及びｚ７はそれぞれシロキサン二二ットの
個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃＭ−１（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃＩＩ−１（Ｓｔ−Ｈ） １２６０ＣＩＩ−’　（８１−ＣＬ　）１１２０〜１０
５０ｃｍ’（Ｓｉ−０）ＧＰＣ（トルエン）ポリスチレ
ン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　２１２０
０重量平均分子量（Ｍｗ）　　　　２３４００分散度　
　（Ｍｗ／Ｍｎ　）　　　　　　　１．　ｌ５ｔ−Ｈ基
の定量データ Ｈ（ｐｐｍ）　　　　　　　　　　　４９．６（ｐｐｍ
）Ｈ（ｐｐｍ）よりの計算当貴　２０１７０粘度（２５
°Ｃ） ３７１センチボイズ 実施例５ ヒドロキシフェニル基を基準としたシロキサン鎖が２本
のシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１１三口丸底フラスコ
に参考例５で得られたヒドロシリル基を基準としたシロ
キサン鎖が２本のシロキサン化合物２０１．７ｇ及び０
−アリルフェノール２．０１ｙ′ｌｉｒ仕込み７０″Ｃ
に加熱した。これに塩化白金酸０．５２　Ｘ　１０−４
　Ｎを添加し、そのｔま２時間熟成させた。こうして得
られた反応生成物から低沸点成分を１５０°Ｃ／１ｆｌ
Ｈｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物ＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ゲ
ルパーミェーションクロマドグ９フイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果及び水酸基定量データは下記のとおりで
あり、次式の構造と確認された。 （式中、Ｘ３は０−ヒドロキシフェニル基ヲ表わし、ｚ
６及びｚ７はそれぞれシロキサンユニットの個数を表わ
す） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｔｙｘ−’　（−ＯＨ）２９７０ｃ
ＩＲ−’　（、Ｃ−Ｈ） １２６０ｃＩＩ−’　（Ｓｉ　−ＣＨｍ　）１１２０〜
１０５０ｃ１１”（Ｓｉ−０）７５０ｃ１１１（１，２
−二置換フェニル基）ＧＰＣ（）ルエン）ポリスチレン
換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　１６７００重
景平均分子量（ＭＹ）　　　２２６００分散度　　（Ｍ
ｗ／Ｍｎ　）　　　　　　　１．４水酸基の定量データ 水酸基　　　　０．０８重量％ 粘度（２５°Ｃ） ８７１センチボイズ 参考例６ ヒドロシリル基を基準とし之シロキサン鎖が３本のシロ
キサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた５１三口丸底フラスコ
にトリメチルシラノール６７．５１をＮ！気流下で仕込
み、ブチルリチウムヘキサン溶液（１，５モル／　ｌ　
）　５００　ｍｌを滴下しつつ添加した。更に、その中
へ乾燥テトラヒドロフラン１５００　ｇｔに溶解させ念
へキサメチルシクロトリシロキサン１２１７Ｆを仕込み
、２０″Ｃで１７時間重合させた。 次に、トリクロロシラン３４．Ｏｆとトリエチルアミン
７６１を加え１時間攪拌し重合を停止させた。合成物を
分液ロートに移し、生成した塩を水洗により除去した後
、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こうして得られた
反応生成物から低沸点成分を１５０°Ｃ／１ｗＨｇの条
件で２時間かけて留去し、鶴残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。 得られ念シロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトクラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び５ｉ−Ｈ差足量データは下記のと
おりであり、次式の構造と確認された。 （式中、Ｚ”ｓＺ”及びｚ　１０はそれぞれシロキサン
ユニットの個数を表わす） Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ　） ２９７０ｃＩＩ−１（Ｃ−Ｈ） ２２５０ａｍ−１（８１−Ｈ） １２６０ｃＩｌ−１（８１−ＣＨｓ　）１１２０〜１０
５０３−１（Ｓｔ−０）ＧＰＣ（）ルエン）ポリスチレ
ン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　４２００
重量平均分子量（Ｍｙ）　　　　５３００分散度　　（
Ｍｙ／Ｍｎ　）　　　　　　　１．３８１−Ｈ基の定量
データ Ｈ（ｐｐｍ）　　　　　　　　　　　２１７（ｐｐｍ）
Ｈ（ｐｐｍ）よりの計算当量　　　　　４６１０粘度（
２５°Ｃ） ３８センチポイズ 実施例６ ヒドロキシフェニル基を基準としたシロキサン鎖が３本
のシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１１三口丸底フラスコ
に参考例６で得られたヒドロシリル基を基準としたシロ
キサン鎖が３本のシロキサン化合物４６１ｆ及び０−ア
リルフェノール２０．１ｆｔ−仕込み７０℃に加熱した
。これに塩化白金酸５．２　Ｘ　１０−４　ｆ−ｉ添加
し、そのまま２時間熟成させた。こうして得られた反応
生成物から低沸点成分を１５０°Ｃ／１ａ＋Ｈｇの条件
で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサン化金物を
ほぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロ！トクラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び水駿基定量データは下記のとおシ
であり、次式の構造と確認された。 （式中％　Ｘ”は０−ヒドロキシフェニル基を表わし％
　Ｎ、ｚ９及びｚ　Ｉｓはそれぞれシロキサンユニット
の個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００３−１（−０Ｈ） ２９７０ｃ１１−１　（Ｃ−Ｈ） １２６０ＣＭ−’　（５ｉ−ＣＨｓ　）１１２０〜１０
５（１＋＋−’　（Ｓｉ−０）７５０３−１（１，２−
二置換フェニル基）ＧＰＣ（）ルエン）ポリスチレン換
算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　３７５０重量
平均分子食（Ｍｙ）　　　　５２８０、分散度　　（Ｍ
ｙ／Ｍｎ　）　　　　　　　１．４水酸基の定量データ 水酸基　　　０．３６重量％ 粘度（２５°Ｃ） １４１センチボイズ 参考例７ ａ位とω位にヒドロシリル基を有するシロキサン化合物
の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた５で三日丸底フラスコ
にオクタメチルシクロテトラシロキサン２０００Ｆ、１
，１．３．３−テトラメチルジシロキサン１２０７Ｆ及
び触媒として酸性活性白土ｘｏｙｔ仕込み、７０℃で２
５時間重合させた。反応終了後、触媒をテ過にて除去し
、得られ九反応生成物から低沸点成分を１００℃／　２
００１ｆｌｌＨｇの条件で１時間かけて留去し、釜残に
目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＸＲスペクトル、粘度のそ
れぞれの分析結果及び５ｌ−Ｈ差足量データは下記のと
おり、次式の構造と確認された。 ｚｌ　１はシロキサン化合物 （式中、 わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃ１１−’（Ｃ−Ｈ） ２２ｓｏｃ１１１−１　（Ｓｌ−Ｈ） １２６０ａａ−’　（８１−ＣＨｓ　）トの個数を表 １１２０〜１Ｑ５ＱｃＮ−’　（８１−０）Ｓｔ−Ｈ基
の定量データ Ｈ（ｐｐｍ）　　　　　　　　　　６４１０（ＰＰｍ）
Ｈ（１）ｐｍ）よりの計算当量　　　１５６粘度（２５
°Ｃ） ５センチボイズ 実施例７ α位とω位にヒドロキシフェニル基を有するシロキサン
化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた５１三口丸底フラスコ
に参考例７で得られた６位とω位にヒドロシリル基を有
するシロキサン化合物２０００ｇを仕込み４０″ＣｌＩ
Ｃ加熱した。これに塩化白金酸２７Ｘ１０−４ｆｋ添加
した後に〇−アリルフェノール２０６１ｆ１に滴下しつ
つ添加した。滴下終了後、そのまま５時間熟成させた。 ζうして得られた反応生成物から低沸点成分を１４０℃
／　１　ｆｉ　Ｈｇの条件で２時間かけて留去し、釜残
に目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、粘度のそ
れぞれの分析結果及び水酸基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。 （式中、Ｘ”　ハｏ−ヒドロ、キシフェニル基を表ワシ
、ｚ１１ハシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００３−１（−０Ｈ） ２９７０（′１Ｉ−１（Ｃ−Ｈ） １２６０（１１−’　（５ｔ−ＣＨｓ　）１１２０〜１
０５０ｃＭ−１（Ｓｉ−０）１０５０ｃ’（１，２−二
置換フェニル基）水酸基の定量データ 水酸基　　　６．８２ｘ量％ 粘度（２５°Ｃ） １５０センチボイズ 参考例８ α位とω位にヒドロシリル基を有するシロキサン化合物 チッソ（内より市販されている“サイラブレーン”（登
碌商標）のＦＭ−１１１１を使用した。 ＦＭ−１１１１のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ゲルパーミ
ェーションクロマトグラフィー）、粘度のそれぞれの分
析結果及び８１−Ｈ差足量データは下記のとおりであり
、次式の構造と確認された。 （式中、２０はシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ｚ９７０３−１　（Ｃ−）ｔ） ２２５０４−Ｉ　Ｃ８ｌ−Ｈ） １２６０ｃＭ−’　（Ｓｉ　−ＣＮ３　）１１２０〜１
０５０ａｌｌ−１（ｓｉ−０）ＧＰＣ（）ルエ／）ポリ
スチレン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　１
１００重量平均分子量（Ｍｗ）　　　　１２００分散度
　　（Ｍｗ／Ｍｎ　）　　　　　　　１．２８１−Ｈ基
の定量データ Ｈ（ｐｐｍ　）　　　　　　　　　　２４４５　（ｐｐ
ｍ）Ｈ（ｐｐｍ）よりの計算幽量　　　４０９粘度（２
５°Ｃ） ７センチボイズ 実施例８ α位トω位にヒドロキシフェニル基を有するシロキサン
化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた５１三口丸底フラスコ
に参考例８のシロキサン化合物（サイラブレーン（登録
商標）ＦＭ−１１１１）３０００　ｆｅ仕込み６０℃に
加熱した。これに塩化白金酸３８Ｘ１０−４Ｆを添加し
た後にｏ　−アリルフェノール１４７４ＪＦｔ滴下しつ
つ添加した。滴下終了後、そのまま２時間熟成させた。 こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１５０°
Ｑ　／　ｌ　ｌｎｌ　ｌ（Ｈの条件で２時間かけて留去
し、瓢残に目的シロキサン化合物ｔｉｔぼ定量的な収率
で得比。 得られたシロキサ／化合物のＩＲスペクトル、粘度のそ
れぞれの分析結果及び水酸基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。 （式中％　Ｘ’は０−ヒドロキシフェニル基ヲ表わし、
ｚ１２はシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００３−１　（−□Ｈ）２９７０ａ−１
（Ｃ−Ｈ） １２６０　（ＩＩ−’　（Ｓｔ　−ＣＮ３　）１１２０
〜１０５０３−’（８１−０）７５０１″′″１（１，
２−二置換フェニル基）水酸基の定量データ 水酸基　　　　２．９３ｇ量％ 、粘度（２５℃） ７３センチポイズ 参考例９ ０位とω位にヒドロシリル基を有するシロキサ／化合物
の製造 攪拌装置と冷却装置を取シ付けた１１三口丸底フラスコ
にオクタメチルシクロテトラシロキｆｙ２００ｆ、１．
１．３．３−テトラメチルジシロキサン０．７３ｆ及び
触媒として酸性活性白土１ｆを仕込み、７０’Ｃで２５
時間重合させた。反応終了後、触媒をｐ過にて除去し、
得られた反応生成物から低沸点成分″ｆｒ１５０°Ｃ／
ＩＭＨｇの条件で１時間かけて留去し、釜残に目的シロ
キサン化合物をほぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び８１−Ｈ差足量データは下記のと
おりであり、次式の構造と確認され九。 （式中、ｚｌａはシロキサンユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０３−１　（Ｃ−Ｈ） ２２ｓｏｍ−１（８１−Ｈ） １２６０ＣＩＭ−’　（８１−ＣＮ３　）１１２０〜１
０５０ｆｆｉ−１（Ｓｉ−０）ＧＰＣ（）ルエン）ポリ
スチレン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　５４
６００重量平均分子量（Ｍｗ）　　　８０３００分散度
　　（Ｍｗ／　Ｍ　ｎ　）　　　　　　　１．５８ｉ−
Ｈ基の定ｌデータ Ｈ（ｐｐｍ）　　　　　　　　　　４３６（Ｐｐｍ）Ｈ
Ｃｐ障〕よシの計算当量　　２２９０粘度（２５℃） １１０８０センチポイズ 実施例９ ６位とω位にヒドロキシフェニル基を有するシロキサン
化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた１ｔ三口九底フラスコ
に参考例９で得られたα位とω位にヒドロシリル基を有
するシロキサン化合物１００ｆとトルエン５０ｍ１’に
仕込み７０℃に加熱した。 これに塩化白金酸０．２３Ｘ１０−４ｙ’ｅ添加した後
に０−アリルフェノール０．８８Ｆ’（添加した。 そのまま２時間熟成させ次。こうして得られた反応生成
物から低沸点成分を１５０℃／１ｗＨｇの条件で２時間
かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量
的な収率で得た。 得られ之シロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトクラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び水酸基定量データは下記のとお夛
であり、次式の構造と確認され次。 （式中％　Ｘ”は０−ヒドロキシフェニル基を表ｂ　Ｌ
％　ｚ”　ハシ−キサ／ユニットの個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｃＩＩＩ−１（−〇Ｈ）２９７０ｚ
−１（Ｃ−Ｈ） １２６０Ｃ’１ｌｌ−’　（Ｓｉ　−ＣＨｓ　）１１２
０〜１０５０ｃ１１−’　（Ｓｉ−０）７５Ｑｉｍ−１
（１、２−二置換フェニル基）ＧＰＣ（）ルエン）ポリ
スチレン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　４
６７００重量平均分子量（ＭＹ）　　　　７９９００分
散度　　（Ｍｗ／Ｍｎ　）　　　　　　　１．７水酸基
の定量データ 水酸基　　　０．０７重量％ 粘度（２５℃） １６５００センチボイズ 参考例１０ α位とω位及びシロキサン鎖ペンダン）Ｎｆｆｉにヒド
ロシリル基を有するシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた５１三口丸底フラスコ
にオクタメチルシクロテトラシロキサン４２３５Ｆ、１
．３．５．７−チトラメチルシクロテトラシロキサン４
１．８Ｆ、１．１゜３．３−テトラメチルジシロキサン
１０８．６Ｆ及び触媒として酸性活性白土２０ｆｆ：仕
込み、７０″Ｃで２５時間重合させ念。反応終了後、触
媒を濾過にて除去し、得られた反応生成物から低沸点成
分を１５０℃／１ｗＨｇの条件で１時間かけて留去し、
釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得喪
。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び５ｔ−Ｈ差足量データは下記のと
おりであり、次式の構造と確認された。 （式中ｂ　　Ｚ”及びｚ　１６はそれぞれシロキサンユ
ニットの個数を表わす） Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ　） ２９７０ｃ１１−１　（Ｃ−Ｈ） ２２５０ａｇ　１（Ｓｌ−Ｈ） １２６０ＣＩＩ−’　（８ｌ−ＣＨｓ　）１１２０〜ｌ
Ｑ５Ｑｃｍ−１（Ｓｌ−０）ＧＰＣ（）ルエン）ポリス
チレン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　　７
６００算量平均分子量（Ｍｗ）　　　　１３０００分散
度　　（Ｍｙ／Ｍｎ　）　　　　　　　　１．７Ｓｉ−
Ｈ基の定量データ Ｈ（ｐＰｍ）　　　　　　　　　　　６５３（ｐｐｍ）
Ｈ（ｐｐｍ）よりの計算当量　　１５３０粘度（２５℃
） １０６センチボイズ 実施例１０ α位とω位及びシロキサン鎖ペンダント部位にヒドロキ
シフェニル基を有するシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた３１三す丸底フラスコ
に参考例１０で得られたシロキサン化合物１５３（ｌｔ
−仕込み７０℃に加熱し九。 これに塩化白金酸５２Ｘ１０−４ｆを添加した後に０−
アリルフェノール２０１ｆｋ滴下しつつ添加した。滴下
終了後、そのまま２時間熟成させ九。こうして得られた
反応生成物から低沸点成分を１５０℃／１ｆｉｌＨｇの
条件で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合
物をほぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び水酸基定量データは下記のとおり
であり、次式の構造と確認された。 ＣＨ鵞ＣＨｔ　ＣＨｓ　−Ｘ’ （式中、Ｘ３は０−ヒドロキシフェニル基を表わし、ｚ
１４及びｚｌｌｉはそれぞれシロキサンユニットの個数
を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ａ−’　（−ＯＨ）２９７０ｆｆｉ
−１（Ｃ−Ｈ） １２６０　ｓ−’　（８ｉ　−ＣＬ　）１１２０〜１０
５０ｃＩｌ−’　（Ｓｌ−０）７ｓ　Ｏｔｘ　１　（１
、２−二ｆｌＬ換７−Ｘ−ｘ”ｋｔｓ　）ＧＰＣ（）ル
エン）ポリスチレン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）
　　　　　６８００重量平均分子量（Ｍｙ）　　　　１
２５００分散度　　（Ｍｙ／Ｍｎ　）　　　　　　　１
．８水酸基の定量データ 水酸基　　　　１．０７Ｘ量％ 粘度＜２５”Ｃ） ２２０センチポイズ 参考例１１ α位とω位及びシロキサン鎖ペンダント部位にヒドロシ
リル基含有するシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けｆＦ−５１三口丸底フラ
スコにオクタメチルシクロテトラシロキサン４２１５Ｆ
、１．３．５．７−テトラメチルシクロテトラシロキサ
ン６２．７　ｆ、１．１゜３．３−テトラメチルジシロ
キサン５９．２ｆ及び触媒として酸性活性白土２０９に
仕込み、７０°Ｃで２５時間１合させた。反応終了後、
触媒をｐ過にて除去し、得られた反応生成物から低沸点
成分を１５０℃／１ｗＨｇの条件で１時間かけて留去し
、釜残に目的シロキサン化合物をほぼ定量的な収率で得
意。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び５ｔ−Ｈ暴走量データは下記のと
おりであり、次式の構造と確認され九。 （式中、ｚ　１６及びｚｘＴはそれぞれシロキサンユニ
ットの個ａを表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０ｃＩＩ−１（Ｃ−Ｈ） ２２５０備−１（Ｓｔ−Ｈ） １２６０ｃｍ−’　（Ｓｌ　−ＣＨａ　）１１２０〜１
０５０ａｌ−１（８１−０）ＧＰＣ（）ルエン）ポリス
チレン換算分子量数平均分子量　（Ｍｎ）　　　　１３
０００重量平均分子量（Ｍｙ）　　　　２１０００分散
度　　（Ｍｗ／Ｍｎ　）　　　　　　　１．６Ｓｔ−Ｈ
基の定量データ Ｈ（ｐｐｍ）　　　　　　　　　　５００（ｐｐｍ）Ｈ
（ｐｐｍ）よりの計算当量　　２０００粘度（２５°Ｃ
） ２７３センチボイズ 実施例１１ α位トω位及びシロキサン鎖ペンダント部位にヒドロキ
シフェニル基を有するシロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた５Ｉ三口丸底フラスコ
に参考例１１で得られ九シロキサン化合物３０００ｆ’
を仕込み７０℃に加熱し九。 これに塩化白金酸７８Ｘ１０−４ｆＴｈ添加した後Ｋｏ
−アリルフェノール３０１ｇを滴下にて添加した。滴下
終了後、そのま１２時間熟成させた。こうして得られた
反応生成物から低沸点成分を１５０℃７１ｍｍＨＨの条
件で２時間かけて留去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、ＧＰＣ（
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー）、粘度のそ
れぞれの分析結果及び水酸基定量データは下記のとおシ
であり、次式の構造と確認された。 ＣＬＣＨｔＣＨｔ−Ｘ’ （式中％　Ｘ”は０−ヒドロキシフェニル基金貴わし、
ｚ１６及びｚ　Ｉｆはそれぞれシロキサンユニットの個
数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００ｆｆｉ−１（−０Ｉ（）２９７ｏｃ
Ｉ１１−１　（Ｃ−Ｈ） １２６０α−１（８１−ＣＨａ） １１２０〜１０５１０５０ａ　（Ｓｔ−０）７５０ｃｍ
−１（１、２−二置換フェニル基）ＧＰＣ（）ルエン）
ポリスチレン換算分子１数平均分子量　（Ｍｎ）　　　
　１２７００重量平均分子量（Ｍｙ）　　　　２０８０
００８００分散　Ｍｗ／Ｍｎ　）　　　　　　　　１．
６水酸基の定量データ 水酸基　　　　０．８０重量％ 粘度（２５°Ｃ） ５２８センチボイズ 参考例１２ シロキサン鎖ペンダント部位にヒドロシリル基を有する
シロキサン化合物の製造 攪拌装置と冷却装置を取り付けた２Ｉ三口丸底フラスコ
にオクタメチルシクロテトラシロキサン３２ＯＮ、１．
３．５．７−チトラメチルシクロテトラシロキサン２３
０ｇ、ヘキサメチルジシロキサン３５５ｆ及び触媒とし
て酸性活性白土２ｆを仕込み、７０℃で２５時間重合さ
せた。反応終了後、触媒をｐ過にて除去し、得られた反
応生成物から低沸点成分’！ｒｌｏｏ″Ｃ／１００ｗＨ
ｇの条件で１時間かけて留去し、釜残に目的シロキサン
化合物をほぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、粘度のそ
れぞれの分析結果及び５ｉ−Ｈ暴走量データは下記のと
おりであり、次式の構造と確認された。 （式中、ｚｌｓ及び２″はそれぞれシロキサンユニット
の個数を表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ２９７０３−１（Ｃ−Ｈ） ２２５０ｃｌＲ−１（Ｓｉ−Ｈ） １２６０ｃＩ１１’　（Ｓｔ　−ＣＨａ）１１２０〜１
０５０ａ＋＋−１（８１−０）Ｓｔ−Ｈ基の定量データ Ｈ（ｐＰｍ）　　　　　　　　　　　　４２２０　Ｃｐ
ｐｍ）Ｈ（ｐｐｍ）よりの計算当量　　２３７粘度（２
５℃） ５センチポイズ 実施例１２ シロキサン鎖ペンダント部位にヒドロキシフェニル基を
有するシロキサン化合物の製造攪拌装置と冷却装置を取
シ付けた１１三口丸底フラスコに参考例１２で得られた
シロキサン化合物９０．５ｆｔ仕込み７０℃に加熱した
。これに塩化白金酸０．２　Ｘ　１０−４１を添加した
後に０−アリルフェノール７６．７１を滴下にて添加し
虎、滴下終了後、そのまま２時間熟成させた。 こうして得られた反応生成物から低沸点成分を１２０°
Ｃ／１ｗＨｇの条件で２時間かけて留去し、釜残に目的
シロキサン化合物をはぼ定量的な収率で得た。 得られたシロキサン化合物のＩＲスペクトル、粘度（２
５℃） １４８センチボイズ 以上 ＣＨｔＣＨｔＣＨｔ−Ｘ” （式中、Ｘ３は０−ヒドロキシフェニル基を表わし、ｚ
ｌｍ及びｚ１９はそれぞれシロキサンユニットの個数を
表わす） ＩＲ（ＫＢｒ） ３６５０〜３２００４−１（−ＯＨ） ２９７０ｃ１Ｍ−１（Ｃ−Ｈ） １２６０３−’　（Ｓｔ　−ＣＨｍ　）１１２０〜１０
５０ｃ１１−１　（８１−０）７５０ｍ−１（１，２−
二葉換フェニル基）水酸基の定量データ 水酸基　　　　４．６０ｘ量％

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼…（ I ） （式中、ｊは０〜２０００の整数を表わし、Ｒ＾１は次
   式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基又は炭素原
   子数１〜４０アルコキシ基を表わし、Ａは単なる結合手
   又は炭素原子数１〜４の２価の炭化水素基を表わし、ａ
   は０〜３の整数を表わし、ｂは１又は２の整数を表わす
   ）で示される基を表わし、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ
   ＾５及びＲ＾６は、それぞれ炭素原子数１〜４のアルキ
   ル基又はフェニル基を表わす］によつて示されるシロキ
   サン化合物。
2. （２）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼…（II） （式中、ｋ及びｌはそれぞれ０〜２０００の整数を表わ
   し、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６は請求
   項（１）に記載したものと同じ意味を表わし、Ｒ＾３は
   炭素原子数１〜４のアルキル基又はフェニル基を表わす
   ）によつて示されるシロキサン化合物。
3. （３）一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｍ、ｎ及びｐはそれぞれ０〜２０００の整数を
   表わし、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６は
   請求項（１）に記載したものと同じ意味を表わす）によ
   つて示されるシロキサン化合物。
4. （４）一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼…（IV） （式中、ｑ及びｒはそれぞれ０〜２０００の整数を表わ
   し、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾５及びＲ＾６は請求
   項（１）に記載したものと同じ意味を表わし、Ｒ＾７は
   炭素原子数１〜４のアルキル基又はフェニル基を表わす
   ）によつて示されるシロキサン化合物。
5. （５）一般式（Ｖ） （式中、ｓは０〜２０００の整数を表わし、ｔは１〜２
   ０００の整数を表わし、Ｒ＾１、Ｒ＾２Ｒ＾３、Ｒ＾５
   、Ｒ＾６及びＲ＾７は請求項（４）に記載のものと同じ
   意味を表わし、Ｒ＾９及びＲ＾１＾０は、それぞれ炭素
   原子数１〜４のアルキル基又はフェニル基を表わす）に
   よつて示されるシロキサン化合物。
6. （６）下記式（VI）、式（VII）または式（VIII）▲数
   式、化学式、表等があります▼…（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼…（VII） ▲数式、化学式、表等があります▼…（VIII） （式中、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ及びｐはそれぞれ０〜２０
   ００の整数を表わし、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５
   、Ｒ＾６及びＲ＾８は請求項（１）及び（２）に記載の
   ものと同じ意味を表わす）で示されるヒドロシリル基含
   有シロキサン化合物へ、周期律表第VIII属の金属元素の
   錯化合物又はそれらとオレフィンのコンプレックスを触
   媒として用い、水酸基部分を他の置換基によつて保護し
   ていない次式（ＸＸ）で示されるフェノール化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼…（ＸＸ） （ここに、Ｒ、Ａ、ａ及びｂは請求項（１）に記載のも
   のと同じ意味を表わす）の少なくとも１種をヒドロシリ
   ル化反応によつて付加させることを特徴とする請求項（
   １）、（２）又は（３）に記載の一般式（ I ）、（II
   ）又は（III）で表わされるシロキサン化合物の製造方
   法。
7. （７）下記式（IX）又は式（Ｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼…（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼…（Ｘ） （式中、ｑ、ｒ及びｓは、それぞれ０〜 ２０００の整数を表わし、ｔは１〜２０００の整数を表
   わし、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾５、Ｒ＾６、Ｒ＾７、Ｒ＾
   ９及びＲ＾１＾０は請求項（５）に記載のものと同じ意
   味を表わす）で示されるヒドロシリル基含有シロキサン
   化合物へ、周期律表第VIII属の金属元素の鎖化合物又は
   それらと各種オレフィンのコンプレックスを触媒として
   用い、水酸基部分を他の置換基によつて保護していない
   請求項（６）に記載の式（ＸＸ）で示されるフェノール
   化合物の少なくとも１種 をヒドロシリル化反応によつ て付加させることを特徴とする請求項（４）又は（５）
   に記載の一般式（IV）又は（Ｖ）で表わされるシロキサ
   ン化合物の製造方法。
8. （８）請求項（６）に記載の方法において、前記触媒が
   白金錯体化合物又はそれらと各種オレフィンのコンプレ
   ックスであり、その使用量が原料シロキサン化合物の珪
   素原子に結合した水素原子１個に対して１×１０＾−＾
   ８〜１×１０＾−＾４モルである方法。
9. （９）請求項（７）に記載の方法において、前記触媒が
   白金錯体化合物又はそれらと各種オレフィンのコンプレ
   ックスであり、その使用量が原料シロキサン化合物の珪
   素原子に結合した水素原子１個に対して１×１０＾−＾
   ８〜１×１０＾−＾４モルである方法。
10. （１０）請求項（６）に記載の方法において、前記触媒
    が塩化白金酸又は塩化白金酸と各種オレフィンのコンプ
    レックスであり、その使用量が原料シロキサン化合物の
    珪素原子に結合した水素原子１個に対して１×１０＾−
    ＾８〜１×１０＾−＾４モルである方法。
11. （１１）請求項（７）に記載の方法において、前記触媒
    が塩化白金酸又は塩化白金酸と各種オレフィンのコンプ
    レックスであり、その使用量が原料シロキサン化合物の
    珪素原子に結合した水素原子１個に対して１×１０＾−
    ＾８〜１×１０＾−＾４モルである方法。
12. （１２）請求項（６）に記載の方法において、前記触媒
    が塩化ロジウム、ロジウム錯体化合物又はそれらと各種
    オレフィンのコンプレックスであり、その使用量が原料
    シロキサン化合物の珪素原子に結合した水素原子１個に
    対して１×１０＾−＾６〜１×１０＾−＾１モルである
    方法。
13. （１３）請求項（７）に記載の方法において、前記触媒
    が塩化ロジウム、ロジウム錯体化合物又はそれらと各種
    オレフィンのコンプレックスであり、その使用量が原料
    シロキサン化合物の珪素原子に結合した水素原子１個に
    対して１×１０＾−＾６〜１×１０＾−＾１モルである
    方法。
14. （１４）請求項（６）に記載の方法において、前記触媒
    がウイルキンソン錯体又はウイルキンソン錯体と各１オ
    レフィンのコンプレックスであり、その使用量が原料シ
    ロキサン化合物の珪素原子に結合した水素原子１個に対
    して１× １０＾−＾６〜１×１０＾−＾１モルである方法。
15. （１５）請求項（７）に記載の方法において、前記触媒
    がウイルキンソン錯体又はウイルキンソン錯体と各種オ
    レフィンのコンプレックスであり、その使用量が原料シ
    ロキサン化合物の珪素原子に結合した水素原子１個に対
    して１× １０＾−＾６〜１×１０＾−＾１モルである方法。