JPH02251799A - 原子力プラントのオフガス再結合システム - Google Patents

原子力プラントのオフガス再結合システム

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Publication number
JPH02251799A
JPH02251799A JP7265689A JP7265689A JPH02251799A JP H02251799 A JPH02251799 A JP H02251799A JP 7265689 A JP7265689 A JP 7265689A JP 7265689 A JP7265689 A JP 7265689A JP H02251799 A JPH02251799 A JP H02251799A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recombiner
gas
oxygen
hydrogen
nuclear power
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7265689A
Other languages
English (en)
Inventor
Masato Takahashi
正人 高橋
Tetsuya Noda
哲也 野田
Yoshikazu Matsubayashi
義和 松林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP7265689A priority Critical patent/JPH02251799A/ja
Publication of JPH02251799A publication Critical patent/JPH02251799A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Structure Of Emergency Protection For Nuclear Reactors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【発明の目的】 (産業上の利用分野) 本発明は、水の放射線分解によって生じる水素および酸
素を再結合させて水に戻す原子力プラントのオフガス再
結合システムに関する。 (従来の技術) 一般に、沸騰水型原子炉を錫えた原子力プラントには、
水の放射線分解によって生じる水素および酸素を安全に
処理するために、これらの水素と酸素を再結合させて水
に戻すオフガス再結合システムが設けられている。 第3図は、このような従来の原子力プラントのオフガス
再結合システムの構成を示すもので、図において符号1
は沸騰水型原子炉を示している。 この沸騰水型原子炉1には、主蒸気ライン2が接続され
ており、沸騰水型原子炉1内で発生した蒸気は、この主
蒸気ライン2によって蒸気タービン3へ導かれる。そし
て、蒸気タービン3で仕事をした蒸気は、復水器4で冷
却され水に戻され、ポンプ5および給水加熱器6を有す
る給水ライン7によって再び沸騰水型原子炉1内へ供給
されるよう構成されている。 また、主蒸気ライン2と復水34との間には、蒸気抽出
器11を介挿されたオフガス再結合システムの配管ライ
ン12が接続されており、この蒸気抽出器11で抽出さ
れたガスは、予備加熱fi13で加熱された後、再結合
器14に導入される。 なお、蒸気抽出器11で抽出されたガスには、水の放射
線分解によって生じた水素および酸素、水蒸気の他に、
インリークによって導入された空気(窒素、酸素)が含
まれている。これは、水素に対して酸素を過剰な状態と
することにより、再結合1iJ14内に配設された触媒
による水素を水へ転換させる反応(水素と酸素の結合反
応)を促進して、水素転換比(水素が水に変換される割
合)を向上させるためである。なお、インリークによっ
て空気を導入しない場合、水素酸素比(水素/酸素)は
、はぼ2となるが、通常インリークによって空気を導入
し、水素酸素比が1.86程度となるよう@御されてい
る。 そして、再結合器14内を通過し、再結合した水(蒸気
)を含むガスは、凝縮器15、除湿器16等によって水
(蒸気)を除去され、残りの窒素、酸素、放射性ガス等
は、チャコールオフガス処理装置等によって処理され、
放出される。 (発明が解決しようとする課m) しかしながら、上述したような従来の原子力プラントの
オフガス再結合システムにおいても、さらに処理効率を
向上させることが当然要求される。 本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、従来に較べて処理効率の向上を図ることのできる原子
力プラントのオフガス再結合システムを提供しようとす
るものである。 [発明の構成] (課題を解決するための手段) すなわち本発明は、原子力プラントの配管ラインから導
出したガスを通過させ、このガス中の水素と酸素とを結
合させる再結合器を備えた原子力プラントのオフガス再
結合システムにおいて、前記再結合器を通過したガスを
再び該再結合器に循環させるための再循環ラインを設け
たことを特徴とする。 (作 用) 本発明の原子力プラントのオフガス再結合システムでは
、再結合器を通過したガスを再びこの再結合器に循環さ
せるための再循環ラインが配設されている。 したがって、再結合器を通過した未反応の酸素を再結合
器に再循環させることができ、再結合器の入口における
酸素濃度を上昇させて、水素転換比を上昇させることが
でき、従来に較べて処理効率の向上を図ることができる
。 (実施例) 以下本発明の原子力プラントのオフガス再結合システム
を図面を参照して一実施例について説明する。 第1図は、本発明の一実施例の原子力プラントのオフガ
ス再結合システムの要部構成を示すもので、第3図に示
した前述の従来の原子力プラントのオフガス再結合シス
テムと同一部分には同一符号が付してあ−る。 この実施例の原子力プラントのオフガス再結合システム
では、凝縮器15から、この凝縮器15で水分を除去さ
れたガスの一部を再結合器14へ再循環させるための再
循環配管20が設けられてている。 すなわち、この実施例の原子力プラントのオフガス再結
合システムでは、主蒸気ラインに接続されたオフガス再
結合システムの配管ライン12によって導出され、蒸気
抽出器11によって抽出されたガスは、予備加熱器13
で加熱された後、再結合器14に導入される。なお、こ
のガスには、水の放射線分解によって生じた水素および
酸素、水蒸気の他に、インリークによって導入された空
気(窒素、酸素)が含まれている。 そして、このガス中に含まれる水素と酸素は、再結合器
14を通過する際に、再結合器14内に配設された触媒
14aの作用によって再結合し水(蒸気)となり、この
後この水分は、凝縮器15および除湿器等により除去さ
れ、残りの窒素、酸素、放射性ガス等は、チャコールオ
フガス処理装置等によって処理され、放出される。 また、−旦再結合器14を通過し、凝縮器15により水
分を除去されたガス(窒素、酸素、放射性ガス等)のう
ちの一部は、再循環配管20によって再び結合器14に
導入される。このため、未反応の酸素が再結合器14内
に導入され、再結合=14人口における相対的な酸素濃
度は上昇し、水素酸素比は低下する。 第2図のグラフは、縦軸を水素転換比、横軸を再結合器
14の入口水素酸素比として、これらの関係を示すもの
で、このグラフに示されるように、再結合器14の人口
における酸素濃度を上昇させ、水素酸素比を低下させる
と、水素転換比(水素が水に変換される割合)は上昇す
る。したがって、この実施例の原子力プラントのオフガ
ス再結合システムでは、従来に較べて処理効率の向上を
図ることができる。 すなわち、この実施例の原子力プラントのオフガス再結
合システムでは、再循環ライン20により、再結合器1
4を通過した未反応の酸素を再結合器14に再循環させ
ることができ、再結合器14の入口における酸素濃度を
上昇させて、水素転換比を上昇させることができ、従来
に較べて処理効率の向上を図ることができる。また、触
媒14aを有効利用することにより、従来に較べて触媒
14aの削減も可能となる。 [発明の効果] 以上説明したように、本発明の原子力プラントのオフガ
ス再結合システムによれば、従来に較べて処理効率の向
上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の原子力プラントのオフガス
再結合システムの要部構成を示す図、第2図は再結合器
入口における水素酸素比と水素転換比の関係を示すグラ
フ、第3図は従来の原子力プラントのオフガス再結合シ
ステムの構成を示す図である。 11・・・・・・・・・・・・蒸気抽出器12・・・・
・・・・・・・・オフガス再結合システムの配管ライン 13・・・・・・・・・・・・予備加熱器14・・・・
・・・・・・・・再結合器14m・・・・・・・・・触
媒 15・・・・・・・・・・・・凝縮器 20・・・・・・・・・・・・再循環配管第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)原子力プラントの配管ラインから導出したガスを
    通過させ、このガス中の水素と酸素とを結合させる再結
    合器を備えた原子力プラントのオフガス再結合システム
    において、 前記再結合器を通過したガスを再び該再結合器に循環さ
    せるための再循環ラインを設けたことを特徴とする原子
    力プラントのオフガス再結合システム。
JP7265689A 1989-03-25 1989-03-25 原子力プラントのオフガス再結合システム Pending JPH02251799A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7265689A JPH02251799A (ja) 1989-03-25 1989-03-25 原子力プラントのオフガス再結合システム

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JP7265689A JPH02251799A (ja) 1989-03-25 1989-03-25 原子力プラントのオフガス再結合システム

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Publication Number Publication Date
JPH02251799A true JPH02251799A (ja) 1990-10-09

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ID=13495639

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7265689A Pending JPH02251799A (ja) 1989-03-25 1989-03-25 原子力プラントのオフガス再結合システム

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JP (1) JPH02251799A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6863019B2 (en) 2000-06-13 2005-03-08 Applied Materials, Inc. Semiconductor device fabrication chamber cleaning method and apparatus with recirculation of cleaning gas

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6863019B2 (en) 2000-06-13 2005-03-08 Applied Materials, Inc. Semiconductor device fabrication chamber cleaning method and apparatus with recirculation of cleaning gas

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