JPH0225698B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、連続鋳造による長尺金属製品の製造
に係る。

発明の背景 より詳細には本発明は、鋳造ラインに沿つて進
行中の鋳造品内部に液状に維持された金属を撹拌
するために使用される電磁装置に係る。鋳造品は
このような進行中に冷却され、表面から少しずつ
凝固する。鋳造品の最終金属的品質を改良するた
めに、液状に維持された金属の撹拌が行なわれる
ことは従来から公知である。この撹拌運動が電磁
誘導によつて生起されるときはこれを「電磁撹
拌」と指称する。工業的にはかかる撹拌運動は連
続鋳造ラインの１つ又は複数のレベルで生起され
る。例えば、鋳型のレベル（当業者はＭレベルと
指称）、鋳型の下方の二次冷却ゾーン（Ｓレベ
ル）、凝固ウエルの底部（Ｆレベル）等で撹拌を
用いる。

また、鋳造品に侵入する可動磁場、即ち回転磁
場又は摺動磁場を用いて撹拌を行なうことも公知
である。

これらの磁場は、鋳造品のできるだけ近くに配
置された静止多相誘導子によつて生成される。回
転磁場は「回転」誘導子によつて生成され、摺動
磁場は「線形」誘導子によつて生成される。

鋳造軸に垂直な平面内で撹拌を行なう場合、円
形、方形、やや矩形即ちほぼ方形の断面を夫々有
する製品例えばビレツト及びブルームに対しては
回転撹拌が好ましい。このような場合、回転誘導
子は、鋳造品の心部に磁気誘導を十分に侵入さ
せ、従つて撹拌すべき液体全体に有効に作用す
る。

対照的に、スラブのごとき扁平品には線形撹拌
が有利である。

従来の回転誘導子はいずれも、鋳造軸に垂直に
鋳造品を貫通する磁気誘導を生成するように構成
されている。誘導子に多相電流（一般に方形誘導
子の場合は２相、円形誘導子の場合は３相であ
る）を供給することによつて磁気誘導が前記鋳造
軸の周囲で回転する。磁場の均一回転を確保する
ために誘導子が鋳造品を完全に包囲する。言い替
えると、鋳造品を完全には包囲しない回転磁場の
誘導子がこれまでに製造又は発表されたことはな
い。連続鋳造機が、撹拌を行なうべきレベルで鋳
造品を誘導子で完全に包囲するのに適した構造で
はないため、連続鋳造機において回転磁場を使用
することは経済的に不可能であると考えられてい
た。

従つて、鋳造ラインの最も接近し易い面又は唯
一の接近可能な面に配置される線形誘導子が使用
されてきた。言い替えると、回転撹拌が最も有効
である用途に対して効率の悪い線形誘導子を使用
してきたわけである。

鋳造ラインの周囲に可使用スペースがないとい
う問題があるにもかかわらず効率のよい回転撹拌
を利用するために提案された第１の解決方法で
は、機械的には別々であるが電気的及び磁気的に
結合した複数の部分誘導子を使用し、これらの部
分誘導子を鋳造品の周囲に対称配置し、公知の単
一回転誘導子のごとき回転磁場を生成させる。し
かしながらこの解決方法は、既存の連続鋳造ライ
ンに回転界磁を組み込むときに生じるすべての困
難を必ずしも解決することはできない。

例えば、金属が鉛直軌道に沿つて鋳型から導出
されその軌道が次第に水平方向に湾曲する場合が
ある。鋳造ラインのこの湾曲は凹部側と凸部側と
を形成する。鋳型の直ぐ下方の場所、即ち鋳造品
の表面の凝固金属皮膜がまだ薄いので鋳造品をそ
の周囲全体及びある程度の高さにわたつて互いに
極めて接近した支持ローラで案内する必要がある
場所で回転撹拌を行なう場合、しかも作用させる
撹拌パワーが比較的大きいため誘導子をローラに
内蔵させることができない場合、誘導子をローラ
の周囲に配置せざるを得ない。しかしながらライ
ンの凸部側は鋳造ライン全体を支持する支持構造
体を形成するビームで占拠されているので、誘導
子又は２つの誘導子半体をラインの凹部側から導
入できない限りその配置が難しい。誘導子のかか
る導入方法では一般に、誘導子又は２つの誘導子
半体の設置又は取外しのために第１案内セグメン
ト（即ち、これらのローラを内蔵し支持する構
造）を取り外す必要がある。また、組立及び保守
作業でもかなりの制約がある。

また、従来型の回転磁場誘導子だけしか入手で
きないと想定すると、鋳造ラインの構成から考え
て、従来型の単一回転誘導子又は２つの誘導子半
体を配置することは難しくときには不可能であ
る。

本発明の目的は、所望の撹拌レベルでの誘導子
の配置に不利な構成をもつ多くの連続鋳造ライン
において、誘導子の配置、作動、保守及び交換が
可能でありまた容易であるような装置を提供する
ことである。

発明の概要 従つて本発明は、連続鋳造ラインにおける液状
金属の電磁撹拌装置を提供する。本発明装置は、
鋳造軸に沿つて鋳型を離れ連続的に下降する金属
鋳造品の最初は薄い凝固金属の外側皮膜に包囲さ
れた内部液状材料を連続鋳造鋳型の近傍で撹拌す
るように設計されており、前記鋳造品が支持ロー
ラを含む案内セグメントに包囲されている。

装置は、撹拌手段として誘導子を含み、該誘導
子は、少なくとも前記鋳造品を少なくとも部分的
に包囲し前記軸に実質的に垂直で該軸の周囲で回
転する磁場を前記鋳造品に侵入させるように構成
されている。

前記誘導子は強力な誘導子であり磁場生成用巻
線と該巻線を支持する剛性ケーシングと冷却回路
とを少なくとも含む。

装置は更に、外部電源から該巻線に給電する配
電箱と、冷却回路に給水する給水箱とを含む。

本発明装置の特徴は、 −前記誘導子が、実質的に前記鋳造軸を通る分割
面の両側に配置された分離可能な２つの誘導子
部分から構成され、前記部分の各々が夫々に固
有の巻線とケーシングと冷却回路とを含み、 −装置が更に、誘導子の開閉運動に従つて２つの
誘導子部分のケーシングを前記分割面の両側に
離間させる分離手段と、 −前記２つの誘導子部分と前記分離手段とを担持
するキヤリツジとを含み、該キヤリツジが、前
記誘導子を該鋳造品の周囲に配置する前進した
作動位置と、該鋳造品の周囲にスペースを空け
るように後退した非作動位置との間で移動し得
ることである。

更に、状況に応じて以下の好ましい構成を任意
に採用し得る。

前記分離手段が、 −前記鋳造軸に実質的に平行で誘導子の後方に位
置する回転軸の周囲で前記ケーシングの回転を
案内するヒンジと、 −前記回転軸の周りで限定回転中の２つのケーシ
ングの各々を支持するために前記キヤリツジに
よつて担持された支持手段とを含み、該支持手
段は、前記誘導子担持キヤリツジを移動せしむ
べく前記誘導子の前端を開くことが可能であ
り、また、該キヤリツジが該鋳造品内部の液状
金属を撹拌すべく作動位置に配置されていると
きは前記鋳造品の周囲で前記誘導子を少なくと
も部分的に閉鎖せしめる。

前記キヤリツジが、鋳造品の両側にＵ字の２つ
のアームが係合できるように前端が開いた実質的
に水平のＵ形であり、ケーシングの各々が底部に
転動手段を含み、該転動手段は、前記開閉運動中
に、対応する前記アームの上面に形成された案内
軌道を転動し、これにより支持手段を構成する。

前記配電箱及び前記給水箱が前記誘導子の後方
に配置されている。

最初は実質的に鉛直な鋳造軸が複数の中間方向
を経由して水平鋳造方向に次第に移行し、水平鋳
造方向に向かつて軸が湾曲した凹部側と反対側の
凸部側とが形成され、ライン支持構造体は該ライ
ンの凸部側に配置され従つて該凸部側からのライ
ンへの接近が妨害されるような場合には、前記回
転軸が鉛直に近い中間方向の１つに沿つて延びて
おり、該キヤリツジの移動方向が移動容易な水平
方向であり、誘導子及びキヤリツジの前部が前記
凸部側に向き合つている。

鋳造品を支持する支持ローラが互いに極めて接
近している連続鋳造ラインのレベルで撹拌を行な
う必要がある場合には、作動位置の前記誘導子が
前記鋳造品と前記案内セグメントとを包囲し、磁
場内に位置する支持ローラ及びその軸受けは非磁
性オーステナイトスチールから成り、任意にセグ
メント全体も同様の材料から成る。

前記ケーシングの各々がサポートを介して前記
ヒンジ及び前記キヤリツジによつて案内及び担持
されている。

前記給水箱が前記キヤリツジによつて担持さ
れ、可撓管によつて前記誘導子部分の冷却回路に
接続され、同じく可撓性の入口管及び出口管を介
して外部源に接続されている。

前記配電箱が前記キヤリツジによつて担持さ
れ、前記誘導子部分の各々に夫々固定された可撓
性リードと２つの端子箱とを介して前記２つの誘
導子部分の各々に給電する。

前記誘導子は、各々が前記誘導子部分の１つを
含み各々が前記金属ケーシングの１つに内蔵され
た２つの誘導子半体から成るバイポーラ多相誘導
子であり、これらの２つの誘導子半体は機械的に
分離可能であり且つ単一誘導子と等価の動作を行
なうように電気的及び磁気的に結合されている。

装置は更に、前記サポートと前記誘導子部分と
を開閉し作動位置でロツクする機械的手段を含
む。

通常は装置が更に、給水及び給電の操作を確保
する電気制御及び油圧制御の制御卓を含む。

従つて、本発明装置は、ヒンジの周囲に枢着さ
れ操作手段及び供給手段を備えた機械的アセンブ
リの２つの半体を含む。本発明装置は極めて広範
で有利な実用化が可能である。装置は機械的に分
離可能で電気的及び磁気的に結合された２つの誘
導子半体から成り、これらの半体は互いにロツク
された後に所望撹拌レベルで連続鋳造ラインを完
全又はほぼ完全に包囲するか又はラインの対向両
面に配置される。装置はまた、電気的及び磁気的
な見地から別個の２つの誘導子から構成されても
よく、連続鋳造ラインを部分的に包囲してもよく
又は該ラインの対向両面に配置されてもよい。

本発明は、回転磁場の使用が望ましいが連続鋳
造ラインの構成のため従来型の回転界磁の設置が
難しい場合に特に有利である。この場合、作動位
置で互いにロツクされた２つの誘導子半体は該当
レベルで連続鋳造ラインを完全に包囲する従来型
の回転誘導子と実質的に等価である。

本発明によれば、誘導子部分の操作、保守及び
交換が特に容易である。

本発明をより十分に理解するために、本発明を
非限定具体例に基づいて以下に説明する。この具
体例では、誘導子ホルダがＵ形キヤリツジに装着
され、円形底部をもつほぼ円柱状の２つの３相バ
イポーラ誘導子半体がビレツトの連続鋳造鋳型の
直ぐ下方のレベルＳに配置され、このゾーンで
は、金属鋳造品を支持するローラが互いに極めて
接近し鋳造品の４つの面全部に配置されそれらの
アセンブリが「案内セグメント」を構成してい
る。

具体例 第１Ａ図、第１Ｂ図及び第１Ｃ図より本発明の
原理が理解されよう。

鋳造ラインの湾曲軸が符号Ａで示される。この
軸は同時に金属鋳造品の進路を示す。この場合、
鋳造品はスチールブルームである。このブルーム
軸だけが図示されている。鋳造品は連続鋳造鋳型
１において形成され、該鋳型から導出され、ブル
ームの各面に１組ずつ該面に極めて近接して配置
された４組のローラの作用を受ける。上記ローラ
によつて形成されたエンベロープはほぼ方形の断
面をもち、「セグメント２」を構成する。このセ
グメントのレベルＳで製品の液状部分の電磁撹拌
が行なわれる。

２つの誘導子半体を内蔵したケーシング３，４
と夫々のサポート５，６とがヒンジ７の心棒７ｂ
の周囲に枢着されており水平移動可能なＵ形キヤ
リツジ８に載置されている。

レベルＳでセグメント２の周囲に２つの誘導子
半体を配置する作業は、本発明の機械的装置を使
用し第１Ａ図、第１Ｂ図及び第１Ｃ図に示す３段
階で行なわれる。

第１Ａ図において、閉鎖状態の２つの誘導子半
体のケーシング３，４と夫々のサポート５，６と
ヒンジ７とは吊り上げ手段９に懸吊されている。
該手段は第１Ｂ図に示すごとくセグメント２の側
にＵ形切欠きをもつキヤリツジ８にこれらを下ろ
す。このとき装置の２つの半体は第１Ａ図、第１
Ｂ図及び第１Ｃ図に図示しないが第２図及び第３
図に示す機械的手段によつて半開きになつてい
る。同時に、冷却水の給水管、排水管と電気ケー
ブルとを図示しない可撓管を介して接続する。

次に、機械的手段によつてキヤリツジ８をセグ
メント２の方向に押出し、第１Ｃ図に示す位置
（又は第１Ｂ図に点線で示す位置）に到達させる。
ここで枢着された２つの装置半体を閉鎖し、ヒン
ジ７に対向する側のロツク装置を作動させる。

このようにして２つの誘導子半体から成る誘導
子がレベルＳで作動位置に配置される。

最後に、誘導子の取外し操作は設置操作を逆の
順序で行なうとよい。

誘導子ホルダの細部を第２図及び第３図に基づ
いて説明する。

矩形キヤリツジ８はＵ形の広い切欠き１０と２
つの案内軌道２７，２８とをもつ。該キヤリツジ
に以下の素子が支持される。

−ヒンジ７の心棒７ｂの周囲で回動する夫々のサ
ポート５，６によつて支持された２つの誘導子
半体の２つのケーシング３，４。この心棒はキ
ヤリツジに固定されている。２つのケーシング
は２つのローラ２９，３０を介して支持されて
おり、各ローラは軌道２７，２８上を転動し、
且つ各ローラが各ケーシングの底部に固定した
図示しないフオークを受容する。

−誘導子半体の冷却水を配給する水圧制御給水
箱。上流の水道網に接続された可撓管１１が水
圧制御給水箱１２に冷却水を供給する。箱１２
は２つのパイプ１３，１４を介して２つの誘導
子半体に冷却水を配給する。排水は２つのパイ
プ１５，１６を介して行なわれる。パイプ１
５，１６は水圧制御給水箱１２の第２隔室に接
続され、該隔室に流入した水は可撓管１１と同
様の図示しない可撓管から排出される。図示し
ない給水弁はキヤリツジの近傍に配置された制
御卓によつて制御される。

−適当な電力装置から４つの可撓性ケーブルを介
して３相電流を受容する配電箱１７。３つのケ
ーブルは各位相に各１つのケーブル１８から成
り１つのケーブルは中性ケーブル１８ｂであ
る。この具体例で、誘導子半体の各々は、各位
相に各１つの３つの巻線を含み、このため６つ
の給電リード１９が必要である。従つて合計１
２のリードが配電箱１７から引き出される。

−ケーシング３，４に収納された誘導子半体に
夫々給電する２つの端子箱２０，２１。配電箱
と２つの端子箱との全体回路図は第４図に示さ
れる。

−ヒンジ７の周囲で２つの可動部を開閉し得る機
械的手段２２，２３。

各ケーシングは、該ケーシングに溶接されロツ
ド３１，３１ｂを備えたガセツトプレートを含
み、フオーク３２，３２ｂと係合し、ねじ−ナツ
トシステム３３，３３ｂを介してハンドル３４，
３４ｂによつて操作されるときに必要な可撓性を
与える。

手動制御による開閉の一例を上記に説明した。
また、これらの機能を油圧制御又は電気制御で行
なうことも可能である。制御手段はキヤリツジに
搭載されてもよく又は制御卓に配置されてもよ
い。

第３図の閉鎖位置即ち撹拌位置においては、ロ
ツクシステム２４によつて２つの可動部が互いに
しつかりと固定されており、第５図に示すごとく
２つの誘導子半体の間に極めて狭い間〓２５，２
６が残存しているのもかかわらず磁束の閉鎖が確
保されている。

この位置で誘導子半体は連続鋳造ライン、即ち
鋳造品４０とセグメント２に集合したローラ４２
とを完全に包囲する。ローラはその軸受けと共に
非磁性オーステナイトステンレススチールで製造
されている。

この具体例で誘導子半体の各々は互いに均等に
離間した３つの巻線を含む。各巻線は直径上に対
向する別の誘導子半体の巻線と位相合わせされて
いる。即ち、巻線Ｂ１とＢ１ｂとが位相１であ
り、Ｂ２とＢ２ｂとが位相２であり、Ｂ３とＢ３
ｂとが位相３である（第５図）。

第４図は配電箱１７と２つの端子箱２０，２１
との電気回路図である。

可撓性給電ケーブルは位相１、２、３及び中性
に夫々対応するPh1、Ph2、Ph3及びＮで示され
ており、キヤリツジ８の端子１８，１８ｂに接続
されている。

端子箱２１の端子Ｕ１は位相１から給電され、
巻線Ｂ１に接続されている。該巻線Ｂ１の他端は
箱２１の端子Ｕ１１に接続されている。

端子Ｕ１１は配電箱１７を介して別の端子箱２
０の端子Ｕ２２に接続されている。端子Ｕ２２
は、Ｂ１と直径上に対向する別の誘導子半体の巻
線Ｂ１ｂに接続されている。巻線Ｂ１ｂの別の端
子は端子箱２０の端子Ｘに接続されている。従つ
て、２つの巻線Ｂ１及びＢ１ｂは直列で位相合わ
せされている。

同様に、位相２は、端子箱２１の端子Ｖ１、誘
導子半体４の巻線Ｂ２、端子箱２１の端子Ｖ１
１、配電箱１７、端子箱２０の端子Ｖ２２、別の
誘導子半体３の巻線Ｂ２ｂ及び端子箱２０の端子
Ｙに順次接続されている。従つて、巻線Ｂ２とＢ
２ｂは直列で位相合わせされている。

最後に、位相３は端子箱２０の端子Ｗ１、誘導
子半体３の巻線Ｂ３ｂ、端子箱２０の端子Ｗ１
１、配電箱１７、端子箱２１の端子Ｗ２２、誘導
子半体４の巻線Ｂ３及び端子箱２１の端子Ｚに順
次接続されている。

配電箱１７において、３つの端子Ｘ，Ｙ及びＺ
は互いに接続され、キヤリツジ８の端子１８ｂに
接続されている。次に中性ケーブルＮに接続され
ている。

従つて、本発明の機械的装置は配電箱及びキヤ
リツジに支持された２つの端子箱と協働し、分離
可能な２つの誘導子半体から形成されたアセンブ
リの電磁効果は実質的に全く損なわれない。

第５図は、電磁サイクルの所与の瞬間の磁束の
構成の概略図である。磁束線が細線で示されてお
り、給電サイクルの進行に伴つて回転する。２つ
の磁心の間に存在する間〓２５，２６は極めて狭
く磁束の効率に悪い影響を殆ど与えない。

本発明の機械的装置は、一体部材から成る回転
誘導子を連続鋳造ラインの所望のレベルに設置で
きないようないかなる場合にも使用可能である。
また、特殊な理由から配置が難しい一対の線形誘
導子にも使用可能である。

第１の場合：所望場所に撹拌装置を設置し維持
するために機械のかなりの部分の分解が必要であ
るような連続鋳造機。

第２の場合：鋳造金属ラインのスタートとして
機能するジグがローラ間に螺合され鉛直面内で移
動する機械的アームによつて鋳型の底部に挿入さ
れるタイプの連続鋳造機。

レベルＳ及びレベルＦにおいてアームが移動す
るため、鋳造品を包囲する従来型の誘導子を配置
することはできない。本発明装置ではこの作業中
に誘導子を後退させることができ従つてよい解決
方法を与える。

第３の場合：極めて寸法差の大きい複数の型材
を鋳造する連続鋳造機。金属学的及び技術的な理
由からＳ及びＦで２つのタイプの撹拌、例えば大
きい型材に撹拌に適した１つのタイプ及び小さい
型材の撹拌に適したより小さい直径の別のタイプ
とを使用する必要がある。小さい型材に適した誘
導子として（ラインから容易に退却させ得る）本
発明装置を使用すると、小さい型材の撹拌と大き
い型材の撹拌とを順次に用いる連続鋳造を、機械
に介入することなく（即ち、小さい型材に対応す
る誘導子を大きい型材の鋳造のときに取り外すこ
となく）行なうことが可能である。

第４の場合：最大鋳造型材より大きい寸法のジ
グをもつ連続鋳造機。この場合、従来の方法では
誘導子の内径の寸法を該ジグの関数として決定す
る必要がある。本発明装置では誘導子の内径寸法
は鋳造品の寸法だけに従つて決定できる。このた
め、装置が小型化され従つて等しい撹拌性能を得
るための所要パワーも少ない。

本発明の範囲内で細部の変形及び改良並びに等
価の手段の使用が可能であることは勿論理解され
よう。

【図面の簡単な説明】

第１Ａ図、第１Ｂ図及び第１Ｃ図は３つの連続
使用段階を示す本発明装置の概略斜視図、第２図
は開いた「後退」位置にある本発明装置の誘導子
ホルダとキヤリツジと２つの誘導子半体とを含む
アセンブリの平面図、第３図は閉鎖した作動位置
にある同じアセンブリの平面図、第４図は配電箱
とキヤリツジによつて支持された２つの端子箱と
の電気回路図、第５図は電磁サイクルの所与の時
点での磁束線の構成を示す作動中の２つの誘導子
半体の断面図である。 １……鋳型、２……セグメント、３，４……ケ
ーシング、５，６……サポート、７……ヒンジ、
８……キヤリツジ、１２……給水箱、１７……配
電箱、２０，２１……端子箱。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 鋳造軸に沿つて鋳型を離れ連続的に下降する
   金属鋳造品の最初は薄い凝固金属の外側皮膜に包
   囲された内部液状材料を連続鋳造鋳型の近傍で撹
   拌するように設計されており、前記鋳造品が支持
   ローラを含む案内セグメントに包囲されており、
   装置が、撹拌手段として誘導子を含み、該誘導子
   は、少なくとも前記鋳造品を少なくとも部分的に
   包囲し前記軸に実質的に垂直で該軸の周囲で回転
   する磁場を前記鋳造品に侵入させるように構成さ
   れ、前記誘導子が強力な誘導子であり磁場生成用
   巻線と該巻線を支持する剛性ケーシングと冷却回
   路とを少なくとも含み、装置が更に、外部電源か
   ら巻線に給電する配電箱と、冷却回路に給水する
   給水箱とを含む連続鋳造ラインにおける液状金属
   の連続電磁撹拌装置であつて、 −前記誘導子が、実質的に前記鋳造軸を通る分割
   面の両側に配置された分離可能な２つの誘導子
   部分から構成され、前記部分の各々が夫々に固
   有の巻線とケーシングと冷却回路とを含み、 −前記装置が更に、誘導子の開閉運動に従つて２
   つの誘導子部分のケーシングを前記分割面の両
   側に離間させる分離手段と、前記２つの誘導子
   部分と前記分離手段とを担持するキヤリツジと
   を含み、前記誘導子担持キヤリツジは、前記誘
   導子を前記鋳造品の周囲に配置させる前進した
   作動位置と、該鋳造品の周囲にスペースを空け
   るように後退した非作動位置との間で移動し得
   ることを特徴とする装置。 ２ 前記分離手段が、 −前記鋳造軸に実質的に平行で誘導子の後方に位
   置する回転軸の周囲で前記ケーシングの回転を
   案内するヒンジと、 −前記回転軸の周りで限定回転中の２つのケーシ
   ングの各々を支持するために前記キヤリツジに
   よつて担持された支持手段とを含み、該支持手
   段は、前記誘導子担持キヤリツジが移動せしむ
   べく前記誘導子の前端を開くことが可能であ
   り、また、該キヤリツジが前記鋳造品内部の液
   状金属を撹拌すべく作動位置に存在するときに
   前記鋳造品の周囲で少なくとも部分的に前記誘
   導子を閉鎖せしめることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項に記載の装置。 ３ 前記キヤリツジが、Ｕ字の２つのアームが前
   記鋳造品の両側に係合できるように前端が開いた
   実質的に水平のＵ形であり、前記ケーシングの
   各々が底部に転動手段を含み、該転動手段は、前
   記開閉運動中に、対応する前記アームの上面に形
   成された案内軌道を転動し、これにより支持手段
   を構成することを特徴とする特許請求の範囲第１
   項に記載の装置。 ４ 前記配電箱及び前記給水箱が前記誘導子の後
   方に配置されていることを特徴とする特許請求の
   範囲第２項に記載の装置。 ５ 最初は実質的に鉛直な鋳造軸が複数の中間方
   向を経由して水平鋳造方向に次第に移行し、水平
   鋳造方向に向かつて軸が湾曲する凹部側とその反
   対側の凸部側とが形成され、ライン支持構造体が
   該ラインの凸部側に配置され従つて該凸部側から
   のラインへの接近が妨害されるような連続鋳造ラ
   インで使用される装置であつて、 −前記回転軸が、前記複数の中間方向のうちの鉛
   直に高い１つの中間方向に沿つて延びており、
   キヤリツジの移動方向は移動容易な水平方向で
   あり、 −誘導子及びキヤリツジの前部が前記凸部側に配
   置されることを特徴とする特許請求の範囲第２
   項に記載の装置。 ６ 鋳造品を支持するローラが互いに極めて接近
   して配置されている連続鋳造ラインのレベルで使
   用される装置であつて、前記誘導子が作動位置で
   鋳造品と案内セグメントとを包囲し、磁場内に配
   置された支持ローラと該ローラの軸受けとが非磁
   性オーステナイトスチールから製造されているこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項から第５項
   のいずれか１項に記載の装置。 ７ 前記ケーシングの各々がサポートを介して前
   記ヒンジ及び前記キヤリツジによつて案内及び担
   持されていることを特徴とする特許請求の範囲第
   ２項に記載の装置。 ８ 前記給水箱が前記キヤリツジによつて担持さ
   れ、可撓管によつて前記誘導子部分の冷却回路に
   接続され、同じく可撓性の入口管及び出口管を介
   して外部源に接続されていることを特徴とする特
   許請求の範囲第４項に記載の装置。 ９ 前記配電箱が前記キヤリツジによつて担持さ
   れ、前記誘導子部分の各々に夫々固定された可撓
   性リードと２つの端子箱とを介して前記２つの誘
   導子部分の各々に給電することを特徴とする特許
   請求の範囲第４項に記載の装置。 １０ 前記誘導子は、各々が前記誘導子部分の１
   つを含み各々が前記金属ケーシングの１つに内蔵
   された２つの誘導子半体から成るバイポーラ多相
   誘導子であり、これらの２つの誘導子半体は機械
   的に分離可能であり且つ単一誘導子と等価の動作
   を行なうように電気的及び磁気的に結合されてい
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
   の装置。