JPH02257449A - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
光磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH02257449A JPH02257449A JP7699589A JP7699589A JPH02257449A JP H02257449 A JPH02257449 A JP H02257449A JP 7699589 A JP7699589 A JP 7699589A JP 7699589 A JP7699589 A JP 7699589A JP H02257449 A JPH02257449 A JP H02257449A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光磁気ディスクの製造方法、特に詳細には欠陥
検査信号の消去処理を改善して、生産性向上を図った光
磁気ディスクの製造方法に関するものである。
検査信号の消去処理を改善して、生産性向上を図った光
磁気ディスクの製造方法に関するものである。
(従来の技術)
高密度記録媒体である光磁気ディスクは従来、基本的に
、 ■円形の基板に光磁気記録層を層成する。
、 ■円形の基板に光磁気記録層を層成する。
■この光磁気記録媒体を初期化配向処理する。
■光磁気記録媒体の中心部にセンタハブを取り付ける。
■センタハブが付いた光磁気記録媒体をカートリッジ内
に回転自在に収納する。
に回転自在に収納する。
■このカートリッジにシャッタを取り付ける。
■光磁気記録層の欠陥検査を行ない、その結果を光磁気
記録媒体に記録する。
記録媒体に記録する。
という工程によって製造されている。
上記■の工程はより詳しくは、光磁気記録媒体に欠陥検
査信号を記録し、次いでこの検査信号を再生して光磁気
記録媒体の欠陥を検出し、それによ−り分かった欠陥位
置を外部記憶手段に記憶させ、次いで検査信号を消去し
た後、上記外部記憶手段から読み出した欠陥位置を示す
信号を光磁気記録媒体の所定の領域に記録する、という
ものである。
査信号を記録し、次いでこの検査信号を再生して光磁気
記録媒体の欠陥を検出し、それによ−り分かった欠陥位
置を外部記憶手段に記憶させ、次いで検査信号を消去し
た後、上記外部記憶手段から読み出した欠陥位置を示す
信号を光磁気記録媒体の所定の領域に記録する、という
ものである。
(発明が解決しようとする課題)
ところで従来、上記■の工程では、欠陥検査信号記録、
信号再生、および信号消去の3つの主要処理を、光磁気
ディスクを回転させてヘッドをトラックを追随させなが
ら行なっていたので、これらの処理に合計2,30分程
度の時間を要していた。例えば5.25インチサイズの
光磁気ディスクにおいては、ディスク回転速度2400
ppmの下で、上記3つの処理のそれぞれに8分程度、
したがって合計では24分程度を要していた。なお実際
には、欠陥位置信号の記録等のために、■の工程全体で
はそれ以上の時間がかかることになる。
信号再生、および信号消去の3つの主要処理を、光磁気
ディスクを回転させてヘッドをトラックを追随させなが
ら行なっていたので、これらの処理に合計2,30分程
度の時間を要していた。例えば5.25インチサイズの
光磁気ディスクにおいては、ディスク回転速度2400
ppmの下で、上記3つの処理のそれぞれに8分程度、
したがって合計では24分程度を要していた。なお実際
には、欠陥位置信号の記録等のために、■の工程全体で
はそれ以上の時間がかかることになる。
上記の消去処理は基本的には、初期化配向処理の場合と
同様に光磁気記録層の磁化方向を一方向に揃えるもので
ある。この初期化配向処理の短縮化を図った方法として
、本願出願人による特願昭63−284988号明細書
に記された方法がある。この方法は、光磁気記録媒体を
瞬間磁場中に置くことによって光磁気記録層の磁化方向
を上下一方向に揃えるものであり、この方法が上記の欠
陥検査信号消去処理にも適用できれば、前記■の工程を
短縮できることになる。
同様に光磁気記録層の磁化方向を一方向に揃えるもので
ある。この初期化配向処理の短縮化を図った方法として
、本願出願人による特願昭63−284988号明細書
に記された方法がある。この方法は、光磁気記録媒体を
瞬間磁場中に置くことによって光磁気記録層の磁化方向
を上下一方向に揃えるものであり、この方法が上記の欠
陥検査信号消去処理にも適用できれば、前記■の工程を
短縮できることになる。
ところが実際には、組立てが完了した光磁気ディスクを
上記瞬間磁場中に置いても、欠陥検査信号を良好に消去
することは不可能であることが分かった。すなわち、通
常、カートリッジのヘッド挿入用開口の部分に組み付け
られるシャッタは、磁性金属であるステンレスから形成
され、また光磁気記録媒体の中央部に固定されるセンタ
ハブも同様にステンレスから形成されるので、従来方法
により組立てが完了した光磁気ディスクを瞬間磁場中に
置くと、それらが飛び跳ねてしまう。そうなると、光磁
気記録層が一様に加熱されず、加熱ムラが生じて消去精
度が低下してしまうのである。
上記瞬間磁場中に置いても、欠陥検査信号を良好に消去
することは不可能であることが分かった。すなわち、通
常、カートリッジのヘッド挿入用開口の部分に組み付け
られるシャッタは、磁性金属であるステンレスから形成
され、また光磁気記録媒体の中央部に固定されるセンタ
ハブも同様にステンレスから形成されるので、従来方法
により組立てが完了した光磁気ディスクを瞬間磁場中に
置くと、それらが飛び跳ねてしまう。そうなると、光磁
気記録層が一様に加熱されず、加熱ムラが生じて消去精
度が低下してしまうのである。
本発明は上記のような事情に鑑みてなされたものであり
、欠陥信号消去処理に上述の瞬間磁場を利用することが
できる光磁気ディスクの製造方法を提供することを目的
とするものである。
、欠陥信号消去処理に上述の瞬間磁場を利用することが
できる光磁気ディスクの製造方法を提供することを目的
とするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明による光磁気ディスクの製造方法は、シャッタお
よびセンタハブをステンレス等の磁性金属で形成するこ
とを前提とするものであるが、光磁気ディスクの組立て
完了後に欠陥検査を行なうことを止め、 光磁気記録層の層成、初期化配向処理、センタハブの取
付け、および光磁気記録媒体のカートリッジ内への収納
が終了したところで光磁気記録媒体に欠陥検査信号を記
録し、 この欠陥検査信号を再生して光磁気記録媒体の欠陥を検
出した後、その欠陥の位置を外部記憶手段に記憶させ、 次にセンタハブを非磁性材料からなる押え手段によって
押さえながら、瞬間磁場中に光磁気記録媒体を配して上
記欠陥検査信号を消去し、その後上記外部記憶手段から
読み出した欠陥位置を示す信号を、光磁気記録媒体の所
定領域に記録するとともに、 カートリッジに磁性金属製のシャッタを取り付けること
を特徴とするものである。
よびセンタハブをステンレス等の磁性金属で形成するこ
とを前提とするものであるが、光磁気ディスクの組立て
完了後に欠陥検査を行なうことを止め、 光磁気記録層の層成、初期化配向処理、センタハブの取
付け、および光磁気記録媒体のカートリッジ内への収納
が終了したところで光磁気記録媒体に欠陥検査信号を記
録し、 この欠陥検査信号を再生して光磁気記録媒体の欠陥を検
出した後、その欠陥の位置を外部記憶手段に記憶させ、 次にセンタハブを非磁性材料からなる押え手段によって
押さえながら、瞬間磁場中に光磁気記録媒体を配して上
記欠陥検査信号を消去し、その後上記外部記憶手段から
読み出した欠陥位置を示す信号を、光磁気記録媒体の所
定領域に記録するとともに、 カートリッジに磁性金属製のシャッタを取り付けること
を特徴とするものである。
(作 用)
カートリッジに磁性金属製のシャッタを取り付ける前に
欠陥検査信号の消去を行なえば、瞬間磁場中でシャッタ
が(すなわち光磁気記録媒体が)飛び跳ねることを防止
できる。また光磁気ディスクを瞬間磁場中に置く際に、
上述のように押え手段でセンタハブを押さえておけば、
該センタハブが飛び跳ねることも防止できる。またこの
押え手段を非磁性材料からなるものとしておけば、該押
え手段が瞬間磁場の作用で動いてしまうことも防止でき
る。
欠陥検査信号の消去を行なえば、瞬間磁場中でシャッタ
が(すなわち光磁気記録媒体が)飛び跳ねることを防止
できる。また光磁気ディスクを瞬間磁場中に置く際に、
上述のように押え手段でセンタハブを押さえておけば、
該センタハブが飛び跳ねることも防止できる。またこの
押え手段を非磁性材料からなるものとしておけば、該押
え手段が瞬間磁場の作用で動いてしまうことも防止でき
る。
なお上記瞬間磁場は、磁場形成時間が数m sec程度
のものとすればよい。したがってこの瞬間磁場の作用で
センタハブが発熱して光磁気記録層が変形したり、その
光特性が変化してしまうことはない。
のものとすればよい。したがってこの瞬間磁場の作用で
センタハブが発熱して光磁気記録層が変形したり、その
光特性が変化してしまうことはない。
そして、欠陥検査に係わる3つの主要処理の1つである
欠陥信号消去処理を、上述のようにほとんど瞬時に実行
できれば、これらの3つの処理に要する時間は、すべて
の処理を光磁気記録媒体を回転させながら行なう場合に
比べて、概ね2/3に短縮されることになる。
欠陥信号消去処理を、上述のようにほとんど瞬時に実行
できれば、これらの3つの処理に要する時間は、すべて
の処理を光磁気記録媒体を回転させながら行なう場合に
比べて、概ね2/3に短縮されることになる。
(実 施 例)
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
。
第1図は、本発明の方法によって光磁気ディスクを製造
する工程を順を追って示すものである。
する工程を順を追って示すものである。
第1図(1)に示される光磁気記録媒体lOは、例えば
PC(ポリカーボネイト)の円形基板10c上に公知の
方法により光磁気記録層10aが形成され、そして該記
録層10aの磁化方向を上下一方向に揃える初期化配向
処理が既になされたものである。なお光磁気記録層10
aは例えば、希土類金属と遷移金属のアモルファス合金
をスパッタリング等の薄膜形成技術によって成膜して形
成される。また初期化配向処理は、前述の特願昭83−
284986号明細書に示される方法、すなわち前記光
磁気記録媒体IOを前記記録層10aの抗磁力(Hc)
より高い瞬間磁場中に置く方法によって行なわれるのが
好ましいが、その他の公知の方法によって行なわれても
構わない。
PC(ポリカーボネイト)の円形基板10c上に公知の
方法により光磁気記録層10aが形成され、そして該記
録層10aの磁化方向を上下一方向に揃える初期化配向
処理が既になされたものである。なお光磁気記録層10
aは例えば、希土類金属と遷移金属のアモルファス合金
をスパッタリング等の薄膜形成技術によって成膜して形
成される。また初期化配向処理は、前述の特願昭83−
284986号明細書に示される方法、すなわち前記光
磁気記録媒体IOを前記記録層10aの抗磁力(Hc)
より高い瞬間磁場中に置く方法によって行なわれるのが
好ましいが、その他の公知の方法によって行なわれても
構わない。
次に第2図(2)に示されるように、前記光磁気記録媒
体10の中央円孔tobに、磁性金属であるステンレス
製のセンタハブ11が取り付けられる。このセンタハブ
11は、光磁気ディスク駆動装置のスピンドルに前記光
磁気記録媒体10を位置決め固定するためのものである
。該センタハブ11の取付けは、例えば感熱型接着剤を
使用して行なわれる。
体10の中央円孔tobに、磁性金属であるステンレス
製のセンタハブ11が取り付けられる。このセンタハブ
11は、光磁気ディスク駆動装置のスピンドルに前記光
磁気記録媒体10を位置決め固定するためのものである
。該センタハブ11の取付けは、例えば感熱型接着剤を
使用して行なわれる。
次に第1図(3)に示されるように、前記センタハブ1
1が取り付けられた光磁気記録媒体10が、例えばプラ
スチック製のカートリッジ12内に回転自在に収納され
る。
1が取り付けられた光磁気記録媒体10が、例えばプラ
スチック製のカートリッジ12内に回転自在に収納され
る。
次に第1図(4)に示されるように、前記カートリッジ
12が欠陥検査装置13に装填され、この欠陥検査装置
13により前記光磁気記録媒体10の記録層10aに欠
陥検査信号が記録される。この際前記光磁気記録媒体1
0が回転され、図示しない記録ヘッドが記録層10aの
トラックに追随して、該記録層lOaの全面に欠陥検査
信号が記録される。その後前記欠陥検査装置13により
再度光磁気記録媒体10が回転され、欠陥信号の再生が
なされる。そのとき該欠陥検査装置13は、予め定めら
れた大きさの欠陥の有無を検出し、検出された欠陥の位
置を示す信号をその内部メモリに一時的に記憶する。以
上述べた欠陥検査信号の記録および再生処理は、従来方
法と比べれば、カートリッジ1zのヘッド挿入用開口1
2aにシャッタが取り付けられていない点が異なるだけ
で、基本的には従来方法と同様にして行なわれつる。
12が欠陥検査装置13に装填され、この欠陥検査装置
13により前記光磁気記録媒体10の記録層10aに欠
陥検査信号が記録される。この際前記光磁気記録媒体1
0が回転され、図示しない記録ヘッドが記録層10aの
トラックに追随して、該記録層lOaの全面に欠陥検査
信号が記録される。その後前記欠陥検査装置13により
再度光磁気記録媒体10が回転され、欠陥信号の再生が
なされる。そのとき該欠陥検査装置13は、予め定めら
れた大きさの欠陥の有無を検出し、検出された欠陥の位
置を示す信号をその内部メモリに一時的に記憶する。以
上述べた欠陥検査信号の記録および再生処理は、従来方
法と比べれば、カートリッジ1zのヘッド挿入用開口1
2aにシャッタが取り付けられていない点が異なるだけ
で、基本的には従来方法と同様にして行なわれつる。
次に前記カートリッジ12が前記欠陥検査装置13から
取り出され、第1図(5)に示すカートリッジ受け14
上に載置される。なおこのカートリッジ受け14は、瞬
間磁場発生装置を構成する空芯コイル15内に配されて
おり、ベークライト等の非磁性材料から形成されている
。次に、上下方向に移動する押え部材16が降ろされて
、前記センタハブ11を上方から押圧し、それにより前
記光磁気記録媒体lOが、前記空芯コイル15内でコイ
ル長さ方向中央近傍に固定される。なお上記押え部材1
Bも、ベークライト等の非磁性材料から形成されている
。
取り出され、第1図(5)に示すカートリッジ受け14
上に載置される。なおこのカートリッジ受け14は、瞬
間磁場発生装置を構成する空芯コイル15内に配されて
おり、ベークライト等の非磁性材料から形成されている
。次に、上下方向に移動する押え部材16が降ろされて
、前記センタハブ11を上方から押圧し、それにより前
記光磁気記録媒体lOが、前記空芯コイル15内でコイ
ル長さ方向中央近傍に固定される。なお上記押え部材1
Bも、ベークライト等の非磁性材料から形成されている
。
この空芯コイル15は例えば円環状とされ、内部に前記
カートリッジ12を、光磁気記録媒体lOの厚さ方向が
コイル軸方向と一致する状態で配置しうる大きさとされ
ている。例えば前記光磁気記録媒体lOが5.25イン
チサイズのものである場合、このカートリッジ12の大
きさも考慮して、前記空芯コイル15の内径りは例えば
220m mとされる。またコイル長りは、磁場効率を
良好とするように前記コイル内径りよりも小さい値とさ
れ、例えば180mmとされる。なお、上記空芯コイル
15の巻数は瞬間磁場の大きさに影響を与えないので、
適当な値とすればよい。
カートリッジ12を、光磁気記録媒体lOの厚さ方向が
コイル軸方向と一致する状態で配置しうる大きさとされ
ている。例えば前記光磁気記録媒体lOが5.25イン
チサイズのものである場合、このカートリッジ12の大
きさも考慮して、前記空芯コイル15の内径りは例えば
220m mとされる。またコイル長りは、磁場効率を
良好とするように前記コイル内径りよりも小さい値とさ
れ、例えば180mmとされる。なお、上記空芯コイル
15の巻数は瞬間磁場の大きさに影響を与えないので、
適当な値とすればよい。
第2図は瞬間磁場発生装置の全体構成を示すものであり
、以下この第2図も参照して、瞬間磁場による欠陥検査
信号消去処理について詳しく説明する。瞬間磁場発生装
置は上記の空芯コイル15と、この空芯コイル15にパ
ルス電流を印加するパルス電流発生回路20とから構成
されている。このパルス電流発生回路20は、電源E1
充電スイッチK11抵抗RおよびコンデンサCからなる
充電回路と、このコンデンサC1放電スイッチに2およ
び抵抗「からなる放電回路とにより構成されている。以
下、この回路の動作を説明する。まず、所定のタイミン
グで上記充電スイッチに1が閉じられ、それにより上記
コンデンサCが充電される。その後上記スイッチに1を
開くとともにスイッチに2を閉じて、上記コンデンサC
に蓄えられた電荷を放電させる。この放電により発生す
るパルス電流は上記空芯コイル15に印加され、この空
芯コイル15内に瞬間磁場が発生する。なお上記電源E
の電圧は例えば4000V、上記コンデンサCの容量は
例えば3000μFである。このときパルス電流のパル
ス幅は、例えば5〜5m5ecとなる。また空芯コイル
15のサイズが前述の値であるとき、上記条件下での最
大瞬間磁場は15kOeとなる。なお、瞬間磁場発生効
率等については、前記特願昭83−28498B号明細
書に詳しい記載がなされている。
、以下この第2図も参照して、瞬間磁場による欠陥検査
信号消去処理について詳しく説明する。瞬間磁場発生装
置は上記の空芯コイル15と、この空芯コイル15にパ
ルス電流を印加するパルス電流発生回路20とから構成
されている。このパルス電流発生回路20は、電源E1
充電スイッチK11抵抗RおよびコンデンサCからなる
充電回路と、このコンデンサC1放電スイッチに2およ
び抵抗「からなる放電回路とにより構成されている。以
下、この回路の動作を説明する。まず、所定のタイミン
グで上記充電スイッチに1が閉じられ、それにより上記
コンデンサCが充電される。その後上記スイッチに1を
開くとともにスイッチに2を閉じて、上記コンデンサC
に蓄えられた電荷を放電させる。この放電により発生す
るパルス電流は上記空芯コイル15に印加され、この空
芯コイル15内に瞬間磁場が発生する。なお上記電源E
の電圧は例えば4000V、上記コンデンサCの容量は
例えば3000μFである。このときパルス電流のパル
ス幅は、例えば5〜5m5ecとなる。また空芯コイル
15のサイズが前述の値であるとき、上記条件下での最
大瞬間磁場は15kOeとなる。なお、瞬間磁場発生効
率等については、前記特願昭83−28498B号明細
書に詳しい記載がなされている。
上述のようにして瞬間磁場が発生すると、前記光磁気記
録媒体10の記録層10aの磁化方向が前記基板10c
に対して上下一方向に揃い、該記録層108に記録され
ていた欠陥検査信号が消去される。
録媒体10の記録層10aの磁化方向が前記基板10c
に対して上下一方向に揃い、該記録層108に記録され
ていた欠陥検査信号が消去される。
なお前述した通り、押え部材1Bによって前記センタハ
ブ11が押さえられているから、上記瞬間磁場が発生し
たときに、ステンレスからなるこのセンタハブ11が飛
び跳ねてしまうことはない。また、押え部材lBとカー
トリッジ受け14は非磁性材料から形成されているから
、それらが動いてしまうこともない。また、この時点で
前記カートリッジ12には後述するステンレス製のシャ
ッタが取り付けられていないから、シャッタが飛び跳ね
ることもない。こうして瞬間磁場発生時に光磁気記録媒
体10が静置されていれば、前述した消去ムラが生じる
ことがない。そして、瞬間磁場の形成時間は前述の通り
極めて短いから、この磁場の影響で前記センタハブ11
が発熱し、それにより光磁気記録層10aが変形したり
、その光特性が変化してしまうこともない。
ブ11が押さえられているから、上記瞬間磁場が発生し
たときに、ステンレスからなるこのセンタハブ11が飛
び跳ねてしまうことはない。また、押え部材lBとカー
トリッジ受け14は非磁性材料から形成されているから
、それらが動いてしまうこともない。また、この時点で
前記カートリッジ12には後述するステンレス製のシャ
ッタが取り付けられていないから、シャッタが飛び跳ね
ることもない。こうして瞬間磁場発生時に光磁気記録媒
体10が静置されていれば、前述した消去ムラが生じる
ことがない。そして、瞬間磁場の形成時間は前述の通り
極めて短いから、この磁場の影響で前記センタハブ11
が発熱し、それにより光磁気記録層10aが変形したり
、その光特性が変化してしまうこともない。
以上説明のように、本方法において欠陥信号消去処理は
、はとんど瞬時になされつる。したがって、従来方法で
この消去処理に8分程度を要していたとすると、本方法
によれば1つの光磁気ディスク製造に要する時間が8分
程度短縮されることになる。
、はとんど瞬時になされつる。したがって、従来方法で
この消去処理に8分程度を要していたとすると、本方法
によれば1つの光磁気ディスク製造に要する時間が8分
程度短縮されることになる。
以上述べた消去処理が終了すると、第1図(6)に示さ
れるように前記カートリッジ12が前記欠陥検査装置1
3に再度装填される。この際欠陥検査装置13は、前記
光磁気記録媒体10を回転させながらその所定の領域に
、前記内部メモリから読み出した欠陥位置信号を記録す
る。なおこの欠陥位置信号の記録は、上記欠陥検査装置
13とは別の記録専用装置によって行なってもよい。
れるように前記カートリッジ12が前記欠陥検査装置1
3に再度装填される。この際欠陥検査装置13は、前記
光磁気記録媒体10を回転させながらその所定の領域に
、前記内部メモリから読み出した欠陥位置信号を記録す
る。なおこの欠陥位置信号の記録は、上記欠陥検査装置
13とは別の記録専用装置によって行なってもよい。
次に上記カートリッジ12が上記欠陥検査装置13から
取り出され、第1図(7)に示されるように、そのヘツ
l’挿入用開口12aの部分にステンレス製のシャッタ
17が取り付けられ、光磁気ディスクが完成する。なお
このシャッタ17の取付けは、欠陥検査信号消去処理の
後ならばいつ行なわれてもよく、例えば欠陥位置信号記
録の前に行なわれても構わない。
取り出され、第1図(7)に示されるように、そのヘツ
l’挿入用開口12aの部分にステンレス製のシャッタ
17が取り付けられ、光磁気ディスクが完成する。なお
このシャッタ17の取付けは、欠陥検査信号消去処理の
後ならばいつ行なわれてもよく、例えば欠陥位置信号記
録の前に行なわれても構わない。
以上、片面記録型の光磁気ディスクを製造する場合の実
施例について説明したが、本発明は両面記録型の光磁気
ディスクを製造する場合にも適用可能である。その際、
光磁気記録媒体の画記録層を瞬間磁場により同時に消去
処理すれば、磁気記録層の磁化方向は互いに同方向(光
磁気ディスクの各面を使用状態に配した際には、各面で
互いに反対方向)となる。そのようにはせず、上記磁化
方向を各面で互いに反対方向(光磁気ディスクの各面を
使用状態に配した際には、各面とも同方向)とするには
、一方の光磁気記録層の消去処理を瞬間磁場によって行
ない、他方の光磁気記録層の消去処理を、光磁気ディス
クを回転させながら消去ヘッドによって行なえばよい。
施例について説明したが、本発明は両面記録型の光磁気
ディスクを製造する場合にも適用可能である。その際、
光磁気記録媒体の画記録層を瞬間磁場により同時に消去
処理すれば、磁気記録層の磁化方向は互いに同方向(光
磁気ディスクの各面を使用状態に配した際には、各面で
互いに反対方向)となる。そのようにはせず、上記磁化
方向を各面で互いに反対方向(光磁気ディスクの各面を
使用状態に配した際には、各面とも同方向)とするには
、一方の光磁気記録層の消去処理を瞬間磁場によって行
ない、他方の光磁気記録層の消去処理を、光磁気ディス
クを回転させながら消去ヘッドによって行なえばよい。
そうする場合でも、各2回ずつ行なう欠陥検査信号記録
、信号再生、および信号消去処理のうち、1回の信号消
去処理がほとんど瞬時になされるから、これらの処理を
すべて光磁気ディスクを回転させながら行なう場合に比
べれば、これらの処理全体に要する時間が概ね5/6に
短縮される。
、信号再生、および信号消去処理のうち、1回の信号消
去処理がほとんど瞬時になされるから、これらの処理を
すべて光磁気ディスクを回転させながら行なう場合に比
べれば、これらの処理全体に要する時間が概ね5/6に
短縮される。
(発明の効果)
以上詳細に説明した通り本発明の光磁気ディスクの製造
方法においては、欠陥検査信号の消去処理を、光磁気記
録媒体を瞬間磁場中に置くことによって行なうようにし
たので、従来光磁気記録媒体を回転させながら数分以上
要していたこの消去処理が、はとんど瞬時になされうる
ようになる。
方法においては、欠陥検査信号の消去処理を、光磁気記
録媒体を瞬間磁場中に置くことによって行なうようにし
たので、従来光磁気記録媒体を回転させながら数分以上
要していたこの消去処理が、はとんど瞬時になされうる
ようになる。
したがって本方法によれば、光磁気ディスクの生産性が
確実に向上する。
確実に向上する。
第1図は、本発明の方法によって光磁気ディスクを製造
する工程を順を追って示す説明図、第2図は、本発明の
方法において用いられる瞬間磁場発生装置の一例を示す
電気回路図である。 10・・・光磁気記録媒体 10a・・・光磁気記録
層10c・・・基板 11・・・センタハブ
12・・・カートリッジ 13・・・欠陥検査装置
14・・・カートリッジ受け 15・・・空芯コイル1
G・・・押え部材 17・・・シャッタ20・
・・パルス電流発生回路 第1図 第2図
する工程を順を追って示す説明図、第2図は、本発明の
方法において用いられる瞬間磁場発生装置の一例を示す
電気回路図である。 10・・・光磁気記録媒体 10a・・・光磁気記録
層10c・・・基板 11・・・センタハブ
12・・・カートリッジ 13・・・欠陥検査装置
14・・・カートリッジ受け 15・・・空芯コイル1
G・・・押え部材 17・・・シャッタ20・
・・パルス電流発生回路 第1図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光磁気記録層が形成され、初期化配向処理がなされた円
形の光磁気記録媒体に磁性金属製のセンタハブを取り付
け、 この光磁気記録媒体をカートリッジ内に回転自在に収納
し、 前記光磁気記録媒体に欠陥検査信号を記録し、この欠陥
検査信号を再生して光磁気記録媒体の欠陥を検出した後
、その欠陥の位置を外部記憶手段に記憶させ、 次に前記センタハブを非磁性材料からなる押え手段によ
って押さえながら、瞬間磁場中に光磁気記録媒体を配し
て前記欠陥検査信号を消去し、その後前記外部記憶手段
から読み出した欠陥位置を示す信号を、前記光磁気記録
媒体の所定領域に記録するとともに、 前記カートリッジに磁性金属製のシャッタを取り付ける
ことを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7699589A JPH02257449A (ja) | 1989-03-29 | 1989-03-29 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7699589A JPH02257449A (ja) | 1989-03-29 | 1989-03-29 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02257449A true JPH02257449A (ja) | 1990-10-18 |
Family
ID=13621362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7699589A Pending JPH02257449A (ja) | 1989-03-29 | 1989-03-29 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02257449A (ja) |
-
1989
- 1989-03-29 JP JP7699589A patent/JPH02257449A/ja active Pending
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