JPH0225848A - 感光性セラミックコーテイング組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、改良されたセラミックコーティング組成物に
係り、特に多層厚膜回路の形成に有用な誘電材料として
役立ち得る焼成セラミックの前駆体として機能するコー
ティング組成物に関する。

本発明は、米国特許第４．６１３．５６０号に記載され
ている、実質的に非酸化性雰囲気で焼成される改良され
た感光性セラミックコーティング重量％以上が１〜１０
μｍの粒径を有するセラミック固体の微細粒子、（ｂ）
１０ｍ２７ｇ以下の表面積／ｉｉ量比を有し、９５重量
％以上が１〜１０μｍの粒径を有する無機バインダーの
微細粒子、（ａ）に対する（ｂ）のＩｉ重量比０．６な
いし２であり、前記（ａ）及び（ｂ）は、有機媒体に分
散されている、（Ｃ）前記有機媒体に含まれる、（１）
ＣＩ−ＣＩＯアルキルアクリレート、ＣＬ−Ｃ１Ｇメタ
クリレート、スチレン、α−メチルスチレン及び０〜２
重量％のエチレン性不飽和カルボン酸、アミンまたはシ
ラン含有化合物のホモポリマーおよびコポリマー　（２
）　ＣＩ−ＣＩＧアルキルモノオレフィンのホモポリマ
ー及びコポリマー　（３）Ｃ１−４アルキレンオキサイ
ド、及びその混合物からなる群から選択され、５〜２５
％の前記無機固形物を含有する有機ポリマーバインダー
　（ｄ）前記有機媒体に含まれる光開始系、＜ｅ＞前記
光開始系を溶解する光硬化性モノマー、および（ｆ）揮
発性非水溶性有機溶媒の混合物からなるコーティング組
成物が開示されている。この特許に記載されているプロ
セスは、（１）セラミック基体にコーティング組成物を
ラミネートすること、（２）化学線をイメージ様に照射
してフィルムの照射された領域を硬化させること、（３
）溶媒により現像してフィルムの非照射領域を除去する
こと、及び（４）実質的に非酸化性雰囲気で焼成して有
機溶媒を揮発させ、無機バインダーとセラミック固体を
焼結することである。

更に他の背景技術として、多層厚膜回路が、単色面積あ
たりの回路の機能を増加させるために、多年にわたり用
いられてきた。更に、最近の回路技術の進歩は、この用
途に対する誘電材料の新しい要求を生じさせた。これま
で、多層回路に用いられた誘電材料の多くは、通常の厚
膜誘電組成物であった。

これらは、不活性有機媒体に分散された誘電体と無機バ
インダーの微粒子から構成される。そのような厚膜材料
は、他の手段でも施し得るが、通常、スクリーン印刷に
より施される。

この型の厚膜材料は非常に重要であり、そうされ続ける
であろう。しかし、スクリーン印刷によると、微細なラ
インやスペースの解像度を得ることが困難である。スク
リーンの質、スキージ−硬度、印刷速度、分散特性のよ
うなスクリーン印刷のすべてのパラメーター・を注意深
く制御し、良好な収率が得られるように一定にモニター
する事が必要である。もちろん、同様の問題が厚膜導電
体および抵抗材料を用いる場合にも存在する。

この問題の一つの解決法は、（１）感光媒体中の分散体
により、基体に誘電体の層を適用し、この層に化学線を
イメージ様に照射し、（３）溶媒によりパターンを現像
し、非照射部分を除去し、（４）パターンの残留照射部
分を焼成して、すべての残留有機物質を除去し、無機材
料を焼結する事である。

従来の組成物、特に米国特許第４．６１３．５６０号に
記載されている組成物の欠点は、化学線のイメージ様の
照射の後に、そのような材料を現像するために溶媒が必
要であるということである。

即ち、有機溶媒が、照射された領域を除去せずに、照射
されない領域を除去してしまう。

本発明は、（ａ）１０ｍ２／ｇ以下の表面積／重量比を
をし、８０重量％以上が１〜１０μｍの粒径を有するセ
ラミック固体の微細粒子、バインダーの微細粒子、（ａ
）ｊζ対する（ｂ）の重量比が０．６ないし２であり、
前記Ｃａ＞及び（ｂ）は、有機媒体に分散されている、
；（ｃ）前記を機媒体に含まれる有機ポリマーバインダ
ー （ｄ）前記有機媒体に含まれる光開始系、（ｅ）前記光
開始系を溶解する光硬化性モノマ、および （ｆ）有機媒体の混合物からなり、実質的に非酸化性剪
囲気で焼成され得る感光性セラミックコーティング組成
物において、ＣＬ−ＣＩＯアルキルアクリレート、Ｃ１
−Ｃｌ０メタクリレート、スチレン、置換されたスチレ
ンまたはその組合せ、及びエチレン性不飽和カルボン酸
の、コポリマーまたはインターポリマーを含む有機ポリ
マーバインダーを含有し、前記バインダー中の不飽和カ
ルボン酸から派生する部分は１５重量％以上のポリマー
を含有し、前記バインダーは５０．０００を越えない分
子量を有し、前記組成物は、化学線にイメージ様露光さ
れて１重量％の炭酸ナトリウムを含む水溶液により現像
され得る感光性セラミックコーティング組成物を提供す
るものである。

本発明は、米国特許第４．６１３，５６０号に記載され
ている改良された感光性セラミックコーティングに係る
ものである。この特許の成分は、修正された形で本発明
において採用されているので、この特許は、本明細書に
おいて一部再現されている。また、異なる現像剤を用い
ていることを除いて、米国特許第４，６１３．５６０号
に記載されているのと同様のプロセスを採用することが
出来る。

セラミック固体 本発明は、事実上、どのような高融点無機固体材料にも
適用可能である。しかし、アルミナ、チタン酸塩、ジル
コン酸塩、及びスズ酸塩のような誘電体の分散体の製造
に特に適切である。また、そのような材料の前駆体、即
ち焼成により誘電体に変換され得るもの及びこれらの混
合物にも適用可能である。

本発明に使用され得る多くの誘電材料の中には、Ｂａ　
Ｔｔ　０３　、Ｃａ　Ｔｔ　０３　、Ｓｒ　Ｔ１０３、
Ｐｂ　Ｔｉ　０３　、Ｃａ　Ｚｒ　０３　、Ｂａ　Ｚｒ
　０３　、Ｃａ　Ｓｎ　０３　、Ｂａ　Ｓｎ　０３及び
Ａｌ２Ｏ３がある。

セラミックの当業者に明らかなように、本発明の組成物
に用いられるセラミックの正確な化学的組成は、レオロ
ジーの意味において通常は厳密ではない。セラミックは
、分散体のレオロジー特性はそれによって実質的に変化
しないので、有機分散体において膨潤特性を持たないこ
とが好ましい。

フィルムを焼成し、有機媒体を除去し、無機バインダー
とセラミックとを焼結するとき、有機媒体を十分に完全
に焼失させるために、本発明の分散体は、０．２μｍ未
満の粒径のものを含むべきではない。しかし、通常、セ
ラミックは、２０μｍを越えてはならず、その８０％以
上が１〜１０μｍのサイズでなければならない。通常、
スクリーン印刷で施される厚膜ペーストをつくるために
分散体を用いるとき、最大粒子径はスクリーンの厚さを
越えてはならず、分散体がドライ感光フィルムをつくる
ために用いられる場合には、最大粒子径はフィルムの厚
さを越えてはならない。セラミックの８０重量％以上が
１〜１０μｍのサイズであることが好ましい。

加えて、セラミック粒子の表面積／重量比は、無機バイ
ンダーの焼結特性に悪影響を与えるため、１０ｍ２／ｇ
を越えないことが好ましい。更に、表面積／重量比は、
５　ｍ　２／　ｇを越えないことが好ましい。表面積／
重量比は、１〜５ｍ２／ｇが最も好ましい。

ｄ５０、即ち小さい粒子の重量と大きい粒子の重量とが
等しい点に於ける好ましい粒子径は、２゜３０〜２．７
０ミクロンである。この範囲は、密封構造を維持しつつ
気泡のない表面を得る上で好ましい。この範囲は、ガラ
スフリットの無機バインダーにとって好ましい範囲、即
ち２．３０−２゜７０ミクロンと類似である。

微細なメツシュスクリーン（例えば４００メツシユ）に
粉砕された水アルミナスラリーを通し大きな粒子を除去
し、または磁気セパレーターを通す場合に好ましい材料
はアルミナである。磁気セパレーターはすべての磁気導
電物質を除去し、そうでなければ最終製品の導電性が増
加してしまう。

重要なことは、塊状とならないセラミック組成物を達成
することである。所望の粒径分布を達成するためには、
通常、セラミックの粉砕後に、真空中での加熱または空
気流中での加熱により水または混合溶媒を除去する。こ
の方法は、セラミック粒子のある程度を塊状とし、焼成
後に、大きな粒子塊及び／または気泡を生じさせる。

この特に重大な欠点は、粉砕されたアルミナを凍結乾燥
させるという好ましい方法により除去される。凍結乾燥
の非常に緩やかな条件は、通常、粉体が加熱される時に
生ずる塊状化の可能性を除去する。類似の方法は、異な
るセラミックにも適用可能である。

無機バインダー 本発明に用いられるガラスフリットは、無機結晶粒子の
焼結を助けるものであり、セラミック体の融点より低い
融点を有する公知の組成物とすることが出来る。それに
も関わらず、デバイスの十分な気密性を得るために、無
機バインダーのガラス転移点（Ｔｇ　）は５５０〜８２
５℃であり、好ましくは５７５〜７５０℃である。５５
０℃以下で融解が生ずるならば、有機物質がカプセル化
され、有機物質が分解するにしたがって誘電体層中に気
泡を形成する傾向にある。一方、８２５℃以上のガラス
転移点は、銅のメタライゼーションに匹敵する焼結温度
たとえば９００℃が用いられるときに、気孔質誘電体を
形成する傾向にある。

最も好ましく用いられるガラスフリットは、ホウケイ酸
鉛フリット、ビスマス、カドミウム、バリウム、カルシ
ウムまたは他のアルカリ土類ホウケイ酸塩フリットであ
る。そのようなガラスフリットの製造は公知であり、例
えば酸化物の形のガラス成分とともに溶解し、水中に注
いでフリットを形成することからなる。もちろん、バッ
チ成分は、通常のフリット生成条件の下で、所望の酸化
物を与えるものであってもよい。例えば、酸化ホウ素は
ホウ酸から得られ、二酸化珪素はフリントから得られ、
酸化バリウムは炭酸バリウムから得られる。ガラスは、
好ましくは水とともに振動ミルで粉砕され、フリットの
粒子径を減少され、実質的に均一なサイズのフリットが
得られる。

その後、フリットは好ましくはセラミック固体と同様の
方法で加工される。固体組成物は凝集塊が存在しない状
態でなければならないから、このフリットは微細なスク
リーンを通され、大きな粒子を除去される。セラミック
固体のような無機バインダは１０ｍ２／ｇ以下の表面積
／重量比と、好まり、　＜は粒径１−１Ｏμ−の粒子を
少なくとも９０重量％有しなければならない。

等重量部の大きい粒子および小さい粒子で定義される無
機バインダのｄ５０は、セラミック固体のそれ以下であ
ることが好ましい。セラミック固体の所与の大きさに対
して、気密性を達成するためにに必要とされる無機バイ
ンダ／セラミック固体の比は、無機バインダの大きさの
減少するに伴って減少する。所与のセラミック固体−無
機バインダ系に関して、もしセラミック固体に対する無
機バインダの比率が気密性を達成するために必要な比率
よりも顕著に高いと、誘電体層は焼成に際して膨れ生じ
る易い。この比率が顕著に低いと焼成された誘電体層は
多孔質となり、従って非気密性となる。

上記粒子サイズおよび表面積の限界内において、無機バ
インダ粒子はむしろ０．５−６μ戊であるのが好ましい
。その理由は、高い表面積を有する小さい粒子は有機材
料を吸着し安く、従って清浄な分解を妨げるからである
。他方、粒子寸法が大きいと焼結特性が劣化し易い。セ
ラミック固体に対する無機バインダの比率は、０．６−
２であるのが好ましい。

光開始系 好ましい光開始系は、熱的に不安定で且つ１８５℃以下
での化学線露光により遊離ラジカルを生じるものである
。このような光開始系には、共役炭素環系における二つ
の環内炭素原子を有する置換もしくは非置換の多核キノ
ン、例えば９．ｔｏ−アントラキノン、２−メチルアン
トラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ
−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン
、１．４−ナフトキノン、９．１０−フェナントレンキ
ノン、ベンズ（ａ）アントラセン−７，１２−ジオン、
２，３−ナフタセン−５，１２−ジオン、２−メチル−
１，４−ナフトキノン、■、４−ジメチル−アントラキ
ノン、２，３−ジメチルアントラキノン、２−フェニル
アントラキノン、２．３−ジフェニルアントラキノン、
レチンキノン、７．８．９．１０−テトラヒドロナフタ
セン−５，１２−ジオン及び１．２．Ｌ４−テトラヒド
ロベンズ（ａ）アントラセン−７，１２−ジオンが含ま
れる。米国特許第２，７８０，８６３号には、幾つかは
８５℃以下の温度において活性であるかもしれないが、
他の有用な光開始剤が記載されている。その中にはベン
ゾイン、ピバロインのようなりｉｅ−ケトアルドニルア
ルコール、例えばベンゾインメチルエーテル及びベンゾ
インエチルエーテルのようなアシロインエーテル、α−
メチルベンゾイン、α−アリルベンゾイン及びα−フェ
ニルベンゾインを含むα−炭化水素躍換芳香族アシロイ
ンが含まれる。米国特許第２．８５０，４４５号、第２
，８７５，０４７号、第３．０９７．０９６号、第３，
０７４，９７４号、第８，０９７，０９７号および第３
．１４５．１０４号に記載された光還元可能な色素及び
還元剤は、米国特許第３．４２７，１８１号、第３．４
７９，１８５号および第３．５４９，３６７号に記載さ
れたロイコ色素類およびこれらの混合物と共に用いるフ
ェナジン、オキサジン及びキノン級のマイケルケトン（
旧ｃｈ！ｅｒ’ｓ　ｋｅｔｏｎｅ）、ベンゾフェノン、
２．４．５−トリフェニルイミダゾイルニｍ体と同様に
、開始剤として用いることができる。また光開始剤及び
光陽止剤と共に、米国特許第４，１０２，１８２号に開
示された感光剤も有用である。光開始系または光阻止系
は、乾燥した光重合可能な層の全重量を基準として０．
０５〜ＬＯ！！ｌｆｆ１％存在する。

光硬化可能なモノマー 本発明の光硬化可能な成分は、少なくとも一つの重合可
能なエチレン性基を有する、付加重合可能な少なくとも
一つのエチレン的不飽和化合物を包含する。このような
化合物は、遊離ラジカルで開始された連鎖成長付加重合
によって高重合体を形成することができる。このモノマ
ー化合物類は非ガス状である。即ち、これらは１００℃
より高い正常沸点を有し、を機雷合体バインダに対する
可塑化作用を有する。

単独または他のモノマーと組み合わせて使用し得る好適
なモノマーには、次のものが含まれる。

即ち、ｔ−ブチルアクリレート及びｔ−ブチルメタクリ
レート、ｌ、５−ペンタンジオ−ルアクリレート及び１
．５−ベンタンジオールメタクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミノエチルアクリレート及びＮ、Ｎ−ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、エチレングリコールジアク
リレート及びエチレングリコールジメタクリレート、ｌ
、４−ブタンジオールジアクリレート及び１．４−ブタ
ンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート及びジエチレングリコールジメタクリレー
ト、ヘキサメチレングリコールジアクリレート及びヘキ
サメチレングリコールジメタクリレート、１．３−プロ
パンジオールジアクリレート及び１．３−プロパンジオ
ールジメタクリレート、デカメチレングリコールジアク
リレート及びデカメチレングリコールジメタクリレート
、■、４−シクロヘキサンジオールジアクリレート及び
１．４−シクロヘキサンジオールジメタクリレ−１，２
，２−ジメチロールプロパンジアクリレート及び２，２
−ジメチロールプロパンジメタクリレート、グリセロー
ルジアクリレート及びグリセロールジメタクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート及びトリプロ
ピレングリコールジメタクリレート、グリセロールトリ
アクリレート及びグリセロールトリメタクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート及びトリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、ペンタエリトリトー
ルトリアクリレート及びペンタエリトリトールトリメタ
クリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパ
ントリアクリレート及びポリオキシエチル化トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート並びに米国特許第３．
８８０．Ｈ１号に開示された同様の化合物、２，２−ジ
（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジアクリレート
、ペンタエリトリトールテトラアクリレート及びペンタ
エリトリトールテトラメタクリレート、２．２−ジー（
ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジメタクリレート
、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシ
エチル−２，２−ジー（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロ
パンジメタクリレート、ビスフェノールＡのジー（３−
メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、
ビスフェノールＡのジー（２−メタクリロキシエチル）
エーテル、ビスフェノールＡのジー（３−アクリロキシ
−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフェノール
Ａのジー（２−アクリロキシエチル）エーテル１１．４
−ブタンジオールのジー（３−メタクリロキシ−２−ヒ
ドロキシプロピル）エーテル、トリエチレングリコール
ジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロール
プロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアク
リレート及びブチレングリコールジメタクリレート、１
．２．４−ブタントリオールトリアクリレート及び１．
２．４−ブタントリオールトリメタクリレート、２，２
．４−）リフチル−１，３−ベンタンジオールジアクリ
レート及び２．２．４−）ジメチル−１，３−ベンタン
ジオールジメタクリレート、■−フェニルエチレンー１
，２−ジメチタクリレート、ジアリルフマレート、スチ
レン、■、４−ベンゼンジオールジメタクリレート、ｌ
、４−ジイソプロペニルベンゼン、１．Ｌ５−＝）ジイ
ソプロペニルベンゼンである。分子量が少なくとも３０
０のエチレン的不飽和化合物、例えば炭素数２〜１５の
アルキレングリコール若しくはエーテル結合１〜１０の
ポリアルキレンエーテルグリコールから調製されたアル
キレン又はポリアルキレングリコールジアクリレート、
並びに米国特許第２．９２７．０２２号に開示された、
例えば重合可能な複数の付加されたエチレン的結合を特
に末端結合として有するものもまた有用である。好まし
いモノマー類は、ポリオキシエチル化トリメチロ−・ル
プロパントリアクリレート、エチル化ペンタエリトリト
ールトリアクリレート、ジペンタエリトリトールモノヒ
ドロキシペンタアクリレート及び１．１０−タンカンジ
オールジメチルアクリレートである。本発明のこの不飽
和成分は、乾燥した光重合可能な層の全重量を基準とし
て５〜４５重量％の量で存在する。他の好ましいモノマ
ー類は、モノヒドロキシポリカプロラクトンモノアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート（分子
量約２００）及びポリエチレングリコール４００ジメタ
クリレート（分子量約４００）である。

有機媒質 有機媒質の主な目的は、組成物の微細に粉砕された固体
を、セラミックス又は他の基体に容易に塗布できる形に
分散するための媒体として作用することである。従って
、有機媒質は、第一に上記固体が十分な安定性をもって
その中に分散できるものでなければならない。第二に、
この有機媒質の流体学的性質は、分散体に良好な塗布性
を与えるものでなければならない。

分散体がフィルムに整形されるときは、その中にセラミ
ック固体および無機バインダが分散される有機媒質には
、揮発性有機溶媒中に溶解された重合体バインダ、モノ
マー及び開始剤が含有され、また任意に可塑剤、剥離剤
、分散剤、ストリッピング剤、汚れ防止剤および湿潤剤
のような溶解された他の材料を含んでいる。

有機媒質のこの溶媒成分（複数の溶媒の混合物であって
もよい）はポリマーの完全な溶液が得られるように、ま
た大気圧下で比較的低いレベルの熱を適用することによ
り溶媒が分散液から蒸発できるほど充分に高い揮発性で
あるように選択される。加えて、溶媒は有機媒質中に含
まれる他のどのような添加剤の沸点及び分解温度より充
分に低い温度で沸騰しなければならない。従って、大気
圧下で１５０℃未満の沸点を有する溶媒が最も頻繁に用
いられる。このような溶媒には、ベンゼン、アセトン、
キシレン、メタノール、エタノール、メチルエチルケト
ン、１．１．１−トリクロロエタン、テトラクロロエチ
レン、アミルアセテート、２，２゜４−トリエチルペン
タンジオ−ルー１．３−モノイソブチレート、トルエン
、塩化メチレン、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピ
ルエーテルのようなエチレングリコールモノアルキルエ
ーテル及びエチレングリコールジアルキルエーテルが含
まれる。フィルムのキャスティングには、その揮発性の
ために塩化メチレンが特に好ましい。

また、有機媒質には重合体バインダのＴ１を低下させる
ように作用する一以上の可塑剤がしばしば含有される。

このような可塑剤は、セラミック基板に対する良好な積
層を確実化するのを補助し、また組成物の非露光領域の
現像性を高める。しかしながらこのような材料の使用は
、この材料からキャストされたフィルムが焼成されたと
きに除去しなければならない有機材料の量を減少させる
ために、最小限におさえなければならない。もちろん、
可塑剤の選択は主として変性されるべきポリマーによっ
て決定される。種々のバインダ系中に用いられている可
塑剤のなかには、次のような可塑剤が含まれる。即ち、
ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ブチルベン
ジルブタレート、ジベンジルフタレート、アルキルホス
フェート、ポリアルキレングリコール類、グリセロール
、ポリ（エチレンオキサイド）、ヒドロキシエチル化ア
ルキルフェノール、トリクレジルホスフェート、トリエ
チレングリコールジアセテート及びポリエステルである
。ジブチルフタレートは比較的低濃度で効果的に使用さ
れ得るため、アクリルポリマー系中にしばしば用いられ
る。

本発明の感光性組成物は、基体フィルムに感光層が被覆
されるレジスト素子（ｒｅｓｉｓｔ　ａｌｅ■ｅｎｔ）
の感光層としてしばしば用いられる。

従来の光レジスト素子においては、これをロールの形で
保存するときに、感光層と基体の裏面との間のブロッキ
ングを防止するために、除去可能なカバーシートで感光
層を保護することが必要とされ、或いは少なくとも極め
ての望ましいとされている。また、撮像露光の間、基体
に積層される層と光器具との間のブロッキングを防止す
るために、この層を除去可能な支持フィルムを用いて保
護するのが望ましい。

光重合可能な組成物は、乾燥被覆での厚さが約０．００
１インチ（約０．０Ｇ２５ｃｍ）　〜約０．０１インチ
（約０．０２５ｃｍ　）以上になる量で、支持フィルム
上に被覆される。好ましくは温度変化に対して高度の寸
法安定性を有する剥離可能な好適な支持体は、例えばポ
リアミド類、ポリオレフィン類、ポリエステル類、ビニ
ルポリマー類およびセルロースエステル等の高分子量ポ
リマーからなる広範な種類のフィルムの中から選択すれ
ばよい。また、この支持体は、Ｏ，０００５インチ（約
０．００１３ｃｍ）　〜０．００８インチ（約０．０２
ｃｍ＞またはそれ以上の厚さを有し得る。言うまでもな
く、剥離可能な支持体を除去する前に露光が行われるな
らば、支持体はその上に照射される化学線の殆どの部分
を透過させなければならない。露光の前に剥離可能な支
持体が除去されるならば、このような制限は全く適用さ
れない。特に好ましい支持体は、厚さ約ｏ、ｏｏｔイン
チ（約０．００２５ｃｍ）の透明なポリエチレンテレフ
タレートのフィルムである。

素子が除去可能な保護カバーシートを全く含まず、且つ
ロールの形で保存されるものであるときは、剥離可能な
支持体の裏面には、光重合可能な層とのブロッキングを
防止するために、好ましくはワックス又はシリコーンの
ような材料の薄い剥離層が塗布される。或いは、被覆さ
れるべき支持体表面を火炎処理又は電気放電処理するこ
とによって、好ましくは光重合可能な被覆層に対する付
着性を増大させてもよい。

使用に際し、除去可能な好適な保護被覆シートは上記と
同様の高分子量ポリマーフィルムの群から選択されれば
よく、また同様に広範な厚さを有すればよい。厚さｏ、
ｏｏｔインチ（約０．００２５ｃｍ）のポリエチレン被
覆シートが特に好ましい。上記の支持体および被覆シー
トは、使用前の貯蔵の間、光重合可能なレジスト僧に対
して良好な保護を与える。

有機成分に対する無機固体（誘電体およびガラス）の重
量比は２．０〜６．０の範囲内であるのが好ましく、２
．８〜４．５がより好ましい。充分な分散および流動学
的性質を得るためには、６．０以下の比率が必要である
。しかしながら、２．５よりも小さいと焼却しなければ
ならない有機成分の量が多くなり過ぎ、最終的な層の質
が損なわれる。有機成分に対する無機固体の比率は無機
固体の粒子サイズ、有機成分に依存し、また無機固体の
表面予備処理に依存する。粒子がオルガノシランカップ
リング剤で処理されるとき、有機成分に対する無機固体
の比率は増大し得る。焼成欠陥を最小限にするために、
低レベルの有機成分を用いるのが好ましい。有機成分に
対する無機成分の比率をできるだけ高くすることが特に
重要である。本発明において使用される好適なオルガノ
シランは、一般式Ｒ８ｉ　　（ＯＲ’）ｖに対応するも
のである。但し、Ｒ−はメチル又はエチルであり、Ｒは
アルキル、メタクリロキシプロピル、ポリアルキレンオ
キサイド又はフィルムの有機母体と相互作用する他の有
機官能基から選択される。

一方、分散液が厚いフィルムペーストとして塗布される
ときは、従来の厚膜有機媒質を適当な流動学的調節剤と
共に用いることができ、また揮発性の低い溶媒を用いる
ことができる。

本発明の組成物が厚膜組成物として処方されるときは、
該組成物はスクリーン印刷によって基体に塗布される。

従って、スクリーンを容易に通過できるように適当な粘
度をもたなければならない。

第一に重要なのは流動学的性質であるが、有機媒質はま
た、好ましくは固体及び基体の適当な濡れ性、良好な乾
燥速度、荒い取扱いに絶えるに十分な乾燥フィルム強度
および良好な焼成性を与えるように処方される。焼成さ
れた組成物の満足できる外観も重要である。

これら基準の全ての観点において、広範な不活性液体が
有機媒質として用いられ得る。殆どの厚膜組成物のため
の有機媒質は、典型的には溶媒中の樹脂溶液である。通
常、この溶媒は１３０〜３５０℃の範囲で沸騰する。

この目的のために特に適した樹脂は低級アルコールのポ
リメタクリレートと、エチレングリコールモノアクリレ
ートの酸含有部分とのモノブチルエーテルである。厚膜
塗布のために最も広く用いられる溶媒は、α−若しくは
β−テルピネオールのようなテルペン類、またはこれら
とケロセン、ジブチルフタレート、ブチルカルピトール
、ブチルカルピトールアセテート、ヘキサメチレングリ
コール及び高沸点アルコールやアルコールエステルのよ
うな他の溶媒との混合物である。夫々の塗布のために要
求される望ましい粘度および揮発性を得るために、これ
ら及び他の溶媒の種々の組み合わせが処方される。

この技術分野における従来の技術に従って、最終組成物
はチキソトロピックであってもよく、または組成物中に
導入される添加物に依存して、ニュートン特性を有して
いてもよい。

分散液中での無機固体に対する有機媒質の比率は、分散
液を塗布する方法および使用する有機媒質の同順に応じ
て顕著に変化し得る。良好な被覆を達成するために、分
散液は通常５０〜９０重量％の固体および５０〜１０重
量％の有機媒質を相補的に含有する。通常、このような
分散液は粘性の半流動物で、普通は「ペースト」と称さ
れる。

ペーストは三ロールミル（ｔｈｒｅｅ−ｒｏｌｌ　ｍ１
ｌｌ）で都合よく調製される。ペーストの粘度は、典型
的には２５〜２００　ｐ、ｓ、の範囲内である。使用さ
れる有機媒質の量およびタイプは、最終的な望ましい処
方濃度およびプリント厚さによって主に決定される。

水系バインダー 水系における加工性にとって重要であり、高い解像性を
もたらすバインダーポリマーは、ｃ１〜Ｃ１０アルキル
アクリレート、０１〜Ｃでメタクリレートまたは置換も
しくは非置換スチレンとエチレン性不飽和カルボン酸含
有部位との共重合体または相互重合体（Ｉｎｔｅｒｐｏ
ｌｙｍｅｒ）であフて、該部位は前ポリマー１ｉ量の少
なくとも１５％を占めるものを含有する。好ましい置換
スチレンは、アルファーメチルスチレンである。好適な
共重合性カルボン酸は、アクリル酸、メタクリル酸およ
びクロトン酸のようなエチレン性不飽和モノカルボン酸
、並びにフマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、ビニル
コハクおよびマレイン酸のようなエチレン性不飽和ジカ
ルボン酸、さらにはそれらの半エステル、並びに適当で
あれば、それらの無水物および混合物を含む。低酸素雰
囲気中でよりきれいに燃焼するので、メタクリルポリマ
ーがアクリルポリマーよりも好ましい。

非酸系コモノマーについての上記制限の範囲内で、アル
キルアクリレートまたはメタクリレートは、ポリマーの
少なくとも７０重量％好ましくは少なくとも７５重量％
を構成していることが好ましい。他の好ましい非酸系コ
モノマーは、スチレンおよびアルファーメチルスチレン
である。これらは、ポリマーの５０重量％として存在し
得、その場合、他の５０％はマレイン酸のような酸無水
物の半エステルである。

ポリマーバインダーの非酸系部分は、上述の組成的要件
並びに以下の物理的要件が満たされる限り、ポリマーの
アルキルアクリレートまたはメタクリレート部分の代替
として約５０重量％までの他の非アクリル系および非酸
系コモノマー例えばアクリロニトリル、酢酸ビニル、ア
クリルアミド、アミノアルキルアクリレートもしくはメ
タクリレート等を含有していてもよい。もっとも、その
ようなモノマーを約２５重量％以下用いることが好まし
い。それら七ツマ−はきれいに焼却することがより困難
であるからである。

それ故、上記アクリル系およびメタクリル系ポリマーに
加えて、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン
、ポリイソブチレン、およびエチレン−プロピレン共重
合体のような種々のポリオレフィンを用いることもでき
る。また、この発明において、ポリエチレンオキシドの
ような低級アルキレンオキシドのポリマーであるいわゆ
るポリエーテルも有用である。

ポリマーは、通常の溶液重合法により当業者により製造
することができる。典型的に、酸系アクリレートポリマ
ーは、アルファ、ベーターエチレン性不飽和酸を、１種
またはそれ以上の共重合性ビニルモノマーと、比較的低
沸点（７５〜１５０℃）有機溶媒中で組み合わせてモノ
マー混合物の１０ないし６０％溶液を作り、ついで、重
合触媒の添加および大気圧下での溶液の還流温度におけ
る該混合物の加熱によりモノマーを重合させることによ
り調製される。重合反応が実質的に完結した後、得られ
た酸ポリマー溶液を室温まで冷却し、ポリマーの粘度、
分子量、酸価等を測定するために試料を採取する。

該組成物の酸系成分の存在は、本技術にとって重要であ
る。酸官能基は、炭酸ナトリウムの１％溶液のような水
性塩基中での現像性を生み出す。

１５％未満の酸濃度は、水性塩基中で洗い出されず、３
０％を越える濃度は湿潤条件下で一般に不安定であり、
また画像領域において部分的に現像してしまう。

さらに、酸含有バインダーポリマーの分子量を５０．０
００を越えない、好ましくは２５，０００を越えない、
さらに好ましくは１５，０００を越えない値に保持する
ことが必要である。

バインダーポリマーのＴｇは、ペーストの要求が、スク
リーン印刷された後、ペーストを１００℃までの温度で
乾燥するということであるから、１００℃を越えること
が好ましい。この値よりも低いＴｇは、一般に、非常に
・粘着性の組成物をもたらす。より低いＴｇ値は、スク
リーン印刷以外の方法で適用された材料に対して用いる
ことができる。

分散剤 分散剤は、無機物質の有機ポリマーおよびモノマーによ
る効率のよい濡れを確保するために使用される。良好な
スクリーン印刷性およびレベリング性並びに焼却特性と
いう必要な特性を有する光活性ペーストの調製には、完
全に分散した無機物質が望ましい。分散剤は、ポリマー
バインダーをして無機固体を会合もしくは湿潤させて、
凝集物の無い系を与えるように作用する。好ましい分散
剤は、ジャーナル・オブ争コーティング・テクノロジー
　５８巻、ナンバー７３６．７１〜８２頁のＨ，Ｌ、　
ジャクバラスカスによる「非水系コーティングシステム
用の分散剤としてのＡ−Ｂブロック共重合体の使用」に
一般的に記載されているＡ−８分散剤である。有用なＡ
−８分散剤は、米国特許３．６８４．７７１；　３．７
８８．９９８；　４．０７Ｇ、３８８および４．０１２
，８９８　、並びに英国特許１，３３９．９１０に記載
されている。これら文献の開示内容はここに含めておく
。Ａ−８分散剤の好ましいクラスは、構造（ここで、Ｑ
は、 ａ、アクリル酸またはメタクリル 酸と、炭素数１〜１８のアルカノールとのエステル、 ｂ、スチレンまたはアクリロニト リル、 Ｃ，エステル部位が２〜１８個の 炭素原子を含有するビニルエステル、またはｄ、ビニル
エーテル の重合もしくは共重合セグメント； Ｘは、連鎖移動剤の残基； Ｙは、イソシアネート基の除去後のジ、トリ、またはテ
トライソシアネート基の残基；Ａは、反応前のものとし
ては５〜１４ のＰｋαを有している塩基ラジカルまたはその塩の残基
：および ｍおよびｎは、１．２または３であっ て合計は４を越えない。ただし、ｎが２または３のとき
、Ａのみが上記定義の通りである）で示される、米国特
許４．Ｈ２，８９８に記載されたポリマー材料である。

このクラスの中で特に好ましいものは、後にＡ−Ｂ分散
剤■として表示され、構造（ココテ、Ｑは、６０００な
いし８０００）ｉｉｆｆｉ平均分子量を有するメチルメ
タクリレートポリマーセグメント）で示されるポリマー
材料である。

また、特に好ましいものは、構造 （ここで、Ｑは、約２０単位のブチルメタクリレートを
含有するアルキルメタクリレートポリマーセグメント、
ｎは２０、ｍは８ないし１２、およびＲは、連鎖停止剤
残基）で示されるポリマー材料である。この分散剤は、
以後Ａ＝Ｂ分散剤ＩＩと称する。

光重合性組成物中には、小量の他の成分例えば、顔料１
．染料、熱重合開始剤、オルガノシランカップリング剤
のような接着促進剤、可塑剤、ポリエチレンオキシドの
ような塗布助剤等が、光重合性組成物がその必須の性質
を保持する限り、存在していてもよい。オルガノシラン
は、無機粒子の重量を基準として３．０重量％以下の量
において特に有用である。処理された粒子は、有機物質
に対するより低い要求を有する。従って、コーティング
中の有機物質のレベルを減少させることができ、焼成時
の焼却がより容品となる。オルガノシランは、また、分
散性を改善し、同じ気密度においてより低い無機バイン
ダー／セラミック固体比を許容する。

加工 感光性セラミックコーティング組成物は、基板に適用さ
れたフィルムの形態または例えばシルクスクリーニング
によって適用されたペーストの形態にあるような層の形
成において常法により基板に適用される。しかる後、セ
ラミック組成物は、化学放射に画像露光されて、化学放
射線に曝された領域と、露光されていない領域を得る。

層の非露光領域は、現像として知られているプロセスで
除去される。水系現像のためには、層は露光されていな
い部分においで除去されるが露光された部分は１重量％
の炭酸ナトリウムを含有する全体的に水系の溶液のよう
な液体による現像中に典型的な現像時間内で実質的に影
響を受けない。一般的ニ現像は０．２５ないし２分以内
で生じる。

常法であり得る他の加工工程は、特に実質的に非酸化性
雰囲気中での焼成操作がおこなわれる前におこなわれ、
有機成分を揮発させ、無機バインダーとセラミック固体
を焼結させる。

以下の実施例において、他の指示がない限り、全ての部
およびパーセントは重量により、度は百分度である。

Ａ、無機物質 ガラスフリット：２．３〜２．７ミクロンの粒子サイズ
範囲ｄ５０まで水中で粉砕され、磁気的に分離され、凍
結乾燥されたフェロガラス＃　３４６７　：組成（成分
モル％）；酸化鉛（５，６）、二酸化珪素（６８，１）
、酸化ホウ素（４，７）　、アルミナ（６，５）、酸化
カルシウム（１１，１）、酸化ナトリウム（２，８）　
、および酸化カリウム（１，３）。

アルミナ二酸化アルミニウム（Ａ１２０３）：粒子サイ
ズｄ５０−２．４〜２．６ミクロン、表面積３．５〜４
．５ｍ２ｇ。

顔料：コバルトアルミネート（ＣｏＡ　ｌ　２０４）。

Ｂ、ポリマーバインダー バインダー１：スチレン５０％およびマレイン酸無水物
のイソブチル半エステル５０％の共重合体、Ｍｗ＝２５
００、Ｔｇ−６２℃、酸価１７５゜バインダー■ｌ：メ
チルメタクリレート７５％およびメタクリル酸２５％の
共重合体、Ｍｗ−７０００、Ｔｇ−１２０℃、酸価１６
４゜ バインダー１１１：メタクリル酸２１％、エチルアクリ
レート３８％およびメチルメタクリレート４１％の共重
合体、Ｍ　ｗ　＝　５００００、Ｔｇ−１０１℃、酸価
１２０゜ バインダー１■：メチルメタクリレート３４％、アクリ
ル酸１６％、オクチルアクリルアミド４０％、ヒドロキ
シプロピルメタクリレート６％、およびｔｅｒｔ−ブチ
ルアミノエチルメタクリレート４％の共重合体、Ｍｗ５
００００、Ｔｇ１２０℃、酸価１１８゜ Ｃ，コモノマー モノマーＩ　　ＴＥＯＴＡｌｏｏＯ−ポリオキシエチル
化トリメチロールプロパントリアクリレート；ＭＷ−１
１６２゜ モノマー■１　　モノヒドロキシポリカプロラクトンモ
ノアクリレ−）；Ｍｗ４５８゜ Ｄ、溶媒 ベーターテルピネオール（１−メチル−１−（４−メチ
ル−４−ヒドロキシシクロヘキシル）エタン）。

Ｅ、開始剤 ＴＢＡＱ　：　２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン。

ＢＰ／ＭＫ：ベンゾフエノン／ミヒラーズケトンＦ、安
定剤 酸化防止剤：イオノール：２，６−ジーｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−メチルフェノール。

０９分散剤 Ａ−Ｂ分散剤Ｉ（前記記載参照） Ａ−８分散剤１１（前記記載参照） 誘電性ペーストの調製 Ａ、有機ベヒクルの調製 有機成分、溶媒およびアクリル系ポリマーを混合し、撹
拌しながら１３５℃に熱し、加熱および撹拌を、全ての
アクリル系ポリマーが溶解するまで続ける。この溶液を
１００℃に冷却し、開始剤および安定剤を加える。この
混合物を、固形分が溶解するまで撹拌し、しかる後溶液
を４００メツシユフイルターに通じ、冷却させる。

Ｂ、誘電；性無機物質−ガラスフリットの調製ガラスフ
リットフェロ８４８７　８　Ｋ　ｇを、スウエコミル中
８リットルの水において、直径０４５インチ、長さ０．
５インチのアルミナシリンダーを用いて約１６時間粉砕
し、２．３〜２．７ミクロンのｄ５０粒子サイズ分布を
達成する。このフリット水混合物を４００メツシユスク
リーンに通じ、１１．５Ｖ（７）ＤＣ設定値、３０７ン
ベ７でＳ、Ｇ。

フランツモデル２４１Ｆ２磁気分離器に通じる。

ついで、ガラスフリット混合物をヴイルチスコンソール
１２フリーズドライヤを用いて凍結乾燥する。この手法
は、全ての水を除去するために、通常、３日を要する。

セラミックーアルミナ アルコア社から受は取ったままのアルミナＡ１４の８Ｋ
ｇを、スウエコミル中８リットルの水において、直径０
．５インチ、長さ０．５インチのアルミナシリンダーを
用いて１４〜１５時間粉砕する。この粉砕時間および構
成は２．３〜２．７ミクロンのｄ５０粒子サイズ範囲を
与える。この水アルミナ混合物を４００メツシユスクリ
ーンに通じ、１１．５ＶのＤＣ設定値、３０アンペアで
Ｓ、Ｇ、フランツモデル２４１Ｆ２磁気分離器に通じる
。ついで、水アルミナ混合物をヴイルチスコンソール１
２フリーズドライヤを用いて凍結乾燥する。この手法は
、全ての水を除去するために約３日を要する。得られた
アルミナ粉末は、凝集物の無い自由流動性粉末である。

アルミナ−コバルトアルミネート アルミナ８Ｋｇおよびコバルトアルミネート顔料１４４
グラムを８リツトルの水中で混合し、スウェコミル中で
直径０．５インチ、長さ０．５インチのアルミナシリン
ダーを用いて１時間粉砕する。これは、これら材料を完
全に混合するためにおこなう。この粉砕したアルミナ−
顔料混合物を４００メツシユスクリーンに通じ、ついで
１１゜５　Ｖｃ）Ｄ　Ｃ設定値、３０アンペアでＳ、０
．７ランフモデル２４１Ｆ２磁気分離器に通じる。つい
で、この混合物をヴイルチスコンソー・ル１２フリーズ
ドライヤを用いて凍結乾燥する。この手法は、全ての水
を除去するために約３日を要する。

Ｃ，ペーストの配合 黄色光の下で、有機ベヒクル、モノマーおよび分散剤を
混合容器中に混合することにより誘電性ペーストを調製
する。ついで、ガラスフリットおよびアルミナ／コバル
トアルミネート混合物を加える。この組成物を３０分間
混合する。この混合物を約１２時間熟成させ、ついでロ
ール圧４００ｐＳｉで三本ロールミルを用いてロール粉
砕する。

通常、組成物を完全に混合するためにはミルに５回通じ
ることで充分である。ついで、ペーストを４００メツシ
ユスクリーンに通じてスクリーニングする。

この時点でペースト粘度は、ベーターテルピネオールの
添加により８０無いし８０Ｐ、Ｓ、に調節する。この粘
度範囲はスクリーン印刷に最適である。

Ｄ、プロセス条件 コーティング組成物の調製プロセスおよび誘電性部材の
調製において、汚れ汚染を避けるように注意する。その
ような汚染は、焼成された誘電体に欠陥をもたらすから
である。プロセス操作は、クラス−１００のクリーンル
ームでおこなうのが最もよい。

ペーストは、３２５メツシユスクリーンを用いたスクリ
ーン印刷によりセラミック部材に適用される。部材は、
窒素雰囲気もしくは空気雰囲気オーブン中、７５〜１０
０℃で乾燥する。乾燥したコーティングは２０ミクロン
の厚さを有する。より厚い部材（４０ミクロン）を得る
ために、通常、第２の印刷および乾燥工程がおこなわれ
る。

部材は、光ターゲットとの接触により、バーキー−アス
コール真空プリンタまたはコラム化された（ｅｏｌｕａ
ｎａｔｅｄ）　ＨＴ　Ｇ　　Ｕ　Ｖ　＠光源のいずれか
で、１５秒の窒素パージおよび真空プリンタにおける１
５秒の引落しく　ｄｒａｖｄｏｖｎ）を用いて、露光さ
れる。最適の露光時間は、現像後に誘電体中に正確なサ
イズのヴアイアもしくは光形成された孔を生じさせる最
もよい露光についての情報を与える露光シリーズから決
定される。

露光された部分は、１％炭酸ナトリウムを含むデュポン
ＡＤＳ−２４プロセッサーを現像剤として用いて現像さ
れる。温度は、２０〜４５℃に渡り得る。溶媒は、４フ
イートチヤンバを介して３゜４〜１５フイ一ト／分の現
像速度のために３０ｐｓｉでスプレーされる。

現像された部分は、７５℃の強制ドラフトオーブン中で
１５分間乾燥され、ピーク温度９００℃を有する炉中で
２時間サイクルで焼成される。焼成に当たり、この発明
の組成物は、無機バインダーのガラス転移点温度まで実
質的に非酸化性雰囲気に曝され、および最終工程の焼結
相中に本質的に完全な非酸化性雰囲気に曝される。

「実質的に非酸化性雰囲気」という語は、銅金属の有意
の酸化をおこなうには不十分の酸素を含有するが、なお
有機物質の酸化をおこなうには充分な酸素を含有する雰
囲気を意味する。実際、焼成工程の予備焼結相において
は、１００〜１１０００ｐｐの０２の窒素雰囲気が適切
であることが分かっている。３００〜８００ｐｐｍの０
２が好ましい。酸素の量は、誘電性層の厚さが増えるに
つれ増加される。焼却されて２０ミクロンになる誘電性
ペーストの２つの層については、３００〜４００ｐｐｍ
の０２で充分である。他方、焼成工程のガラス焼結工程
中に使用される本質的に完全な非酸化性雰囲気とは、わ
ずか残渣量の、例えば約１０ｐｐｍの０２　Ｌ、か含有
しない窒素雰囲気のことである。焼成層における物理的
欠陥を最小限とするために、この発明の組成物を低い加
熱速度で焼成することが好ましい。

以下の実施例のそれぞれにおいて、以下のものを用いた
。

アルミナ／コバルトアルミネート　　　％アルミナ　　
　　　　　　　　９８．２コバルトアルミネート　　　
　　１．８ガラスフリツト　　　　　　　　　　　　％
５ｉＯｚ　　　　　　　　　　　　４０．２ＢａＣＯ３
１７，９ ＡＩ２０３　　　　　　　　　　９．９Ｚｎ０　　　　
　　　　　　　　　８ Ｍｇ０　　　　　　　　　　　　　５ Ｂ２０３　　　　　　　　　　　　５．９Ｃａ０　　　
　　　　　　　　　　５．ｌＰｂ０　　　　　　　　　
　　　　８ 試験手順 １　ｃｇｉの面積を有する銅デイスク、およびアルミナ
基板上に支持されたコンタクトタブからなるキャパシタ
を上記誘電性フィルムから形成する。銅デイスクを覆っ
て誘電性フィルムの層があり、この誘電性層を覆って、
下側のタブに対して９０〜１８０度回転しているコンタ
クトタブを有する同−サイズの第２の鋼ディスクがある
。

キャパシタンスおよび誘電圧接（ｄｌｓｓｌｐａｔｌｏ
ｎｆａｃｔｏｒ）を、ヒエーレットーパッカードＨＰ４
２７４Ａマルチ−周波ＬＣＲメータを用いて１ｋＨ２で
測定し、絶縁抵抗値は、スーパーメグオームメータモデ
ルＲＭ１７０（ビドル・インストルメント、ＡＶＯ，Ｌ
ｔｄ、、Ｕ、に、）を用いて測定する。絶縁抵抗値測定
は、キャパシタを１００ＶＤＣに荷電した後におこなう
。各数値は、少なくとも１０回の測定の平均である。誘
電性層の厚さは、グールビサーフアナライザー１５０／
レコーダー２５０を用いて測定する。誘電率は、弐に−
（Ｃ／Ａ）・ｔ （ここで、Ｃは、キャパシタのキャパシタンス、Ａは、
誘電性層と接触する小電極の面 積、および ｔは、誘電性層の厚さ）を用いて計算 する。

全てのキャパシタは、焼成後電気的測定をおこなう前に
少なくとも１５時間熟成する。誘電正接（Ｄ　Ｆ）は、
この熟成時間内に０．５〜２％低下することは普通であ
る。しかしながら、キャパシタンスは、一般に、この期
間中には影響を受けない。

湿潤基準の誘電圧接は、ディスクを濡らすがコンタクト
タブを濡らさないように上側鋼ディスク上に一滴の水を
置くことによって測定する。３０秒間放置した後、ＤＦ
を通常の方法で測定する。

誘電体は、湿潤ＤＦが１％未満であるとき気密性（ｈｅ
ｒｍｅｔｉｃ）であるとみなされる。０．５％未満が好
ましい。

実施例　１ 成分 アルミナ／コバルトアルミネート ガラスフリット ベヒクル バインダー： バインダーＩＩ　　　　３６．０ バインダーＩＩＩ　　　　　４．　０ 溶媒：ベーターテルピネオール 開始剤：　ＴＢＡＱ 酸化防止剤：イオノール モノマー：ＴＥＯＴＡ 分散剤：Ａ−Ｂ分散剤！ 結果 解像性＝３ミルヴアイア 光速度：５０〜９０　ｍ　ｊ　／　ｃｊ現像：１％炭酸
ナトリウム水溶液 部 ２７゜ ２７゜ ３１゜ ４０゜ ５４゜ ５゜ ０゜ １０゜ ２゜ 実施例　２ 成分　　　　　　　　　　　部 アルミナ／コバルトアルミネート　　２７，６ガラスフ
リツト　　　　　　　　　　２７．４ベヒクル　　　　
　　　　　　　　　　３１・　０バインダー： バインダーＩＩ　　　　　　　　　４０．０溶媒：ベー
ターテルピネオール　５４．９開始剤：　　　　　　　
　　　　　　４．８０ベンゾフエノン　　　４．０ ミヒラーズケトン　　０．８０ 酸化防止剤：イオノール　　　　　０．３０モノマー：
ＴＥＯＴＡ　　　　　　　　１０．６結果 解像性＝２ミルヴアイア 光速度：５０〜９０ｍｊ／ｃｊ 現像＝１％炭酸ナトリウム水溶液 実施例　３ 実施例　４ 成分　　　　　　　　　　　部 アルミナ／コバルトアルミネート　　２７，６ガラスフ
リツト　　　　　　　　　　２７．４ベヒクル　　　　
　　　　　　　　　　３１．０バインダー： バインダーＩＩ　　　　　　　　　　４０．０溶媒：ベ
ーターテルピネオール　５４．９開始剤：　　　　　　
　　　　　　　５，０５ベンゾフエノン　　　４．２５ ミヒラーズケトン　　０．８０ 酸化防止剤：イオノール　　　　　０．３モノマー：モ
ノマーＩＩ　　　　　　　　１０．６分散剤：　Ａ−Ｂ
分散剤Ｉ　　　　　　　２．１結果 解像性＝２ミルヴアイア 光速塵：５０〜９０ｍｊ／ｃｄ 現像＝１％炭酸ナトリウム水溶液 成分　　　　　　　　　　　部 アルミナ／コバルトアルミネート　　２７．６ガラスフ
リツト　　　　　　　　　　２７．４ベヒクル　　　　
　　　　　　　　　　３１．０バインダー： バインダーＩＩ　　　　　　　　　　４０．０溶媒：ベ
ーターテルピネオール　５４．１５開始剤：　　　　　
　　　　　　　　５．５５ベンゾフエノン　　　４．７
５ ミヒラーズケトン　　０．８０ 酸化防止剤：イオノール　　　　　０，３モノマー：モ
ノマーＩＮ　　　　　　　　　７．９５ＴＥＯＴＡ　　
　　　　　　　２．６５分散剤：Ａ−Ｂ分散剤■　　　
　　　　２．１結果 解像性＝２ミルヴアイア 光速塵：　５０〜９０　ｍ　ｊ　／　ｃｄ現像：１％炭
酸ナトリウム水溶液 実施例　５ 成分　　　　　　　　　　　部 アルミナ／コバルトアルミネート　　２７゜ガラスフリ
ット　　　　　　　　　　　２７゜ベヒクル　　　　　
　　　　　　　　　３１゜バインダー： バインダー１１　　　　　　　　４０゜溶媒：ベーター
テルピネオール　５４゜開始剤：　　　　　　　　　　
　　５゜ベンゾフェノン　　　４．７５ ミヒラーズケトン　　０．８０ 酸化防止剤：イオノール モノマー：モノマー１１ ＴＥＯＴＡ 分散剤：Ａ−Ｂ分散剤！ 結果 解像性：２ミルヴアイア 光速塵：　５０〜９０　ｍ　ｊ　／　ｃｊ現像：１％炭
酸ナトリウム水溶液 実施例　６ 成分　　　　　　　　　　　部 アルミナ／コバルトアルミネート　　２７．６ガラスフ
リツト　　　　　　　　　　２７．４ベヒクル　　　　
　　　　　　　　　　３１．０バインダー：　　　　　
　　　　　　４０．０バインダーＩ＋　　　　３６．０ バインダーＩＩ＋　　　　　４．　０ 溶媒：ベーターテルピネオール　５４．１５開始剤：　
　　　　　　　　　　　　５．５５ベンゾフエノン　　
　４．７５ ミヒラーズケトン　　０．８０ 酸化防止剤：イオノール　　　　　０．３モノマー：Ｔ
ＥＯＴＡ　　　　　　　　：ｔｏ、６分散剤：Ａ−Ｂ分
散剤ｌ　　　　　　　２，１結果 解像性：２ミルヴアイア 光速度：５０〜９０ｍｊ／ｃシ 現像：１％炭酸ナトリウム水溶液 実施例　７ 実施例　８ 成分　　　　　　　　　　　部 アルミナ／コバルトアルミネート　　２７．６ガラスフ
リツト　　　　　　　　　　２７．４ベヒクル　　　　
　　　　　　　　　　３１．０バインダー？　　　　　
　　　　　　４０．０バインダー１１　　　４０．０ 溶媒：ベーターテルピネオール　５４．６５開始剤：　
　　　　　　　　　　　　５．０５ベンゾフエノン　　
　４．２５ ミヒラーズケトン　　０．８０ 酸化防止剤：イオノール　　　　　０．３０モノマー：
ＴＥＯＴＡ　　　　　　　　１０．６分散剤：Ａ−Ｂ分
散剤ＩＩ　　　　　　　　２．　１結果 解像性：５ミルヴアイア 光速度：　５０〜９０ｍ　ｊ／ｃＪ 現像：１％炭酸ナトリウム水溶液 成分 アルミナ／コバルトアルミネート ガラスフリット ベヒクル バインダー： バインダーＩ＋　　　　４０．０ 溶媒：ベーターテルピネオール 開始剤：　ＴＢＡＱ 酸化防止剤：イオノール モノマー：ＴＥＯＴＡ 分散剤：Ａ−８分散剤１１ 結果 解像性＝４ミルヴアイア 光速度：５０〜９０ｍｊ／ｃシ 現像：１％炭酸ナトリウム水溶液 部 ２７゜ ２７゜ ３１゜ ４０゜ 実施例　９ 成分 アルミナ／コバルトアルミネート ガラスフリット ベヒクル バインダー： バインダー１　　３８．５ バインダーＩＩ　　　　１．５ 溶媒：ベーターテルピネオール 開始剤：　ＴＢＡＱ 酸化防止剤：イオノール モノマ−：　ＴＥＯＴＡ 分散剤：Ａ−Ｂ分散剤Ｉ 結果 解像性二３ミルヴアイア 光速度：　５０〜９０　ｍ　ｊ　／　（Ｊ現像＝１％炭
酸ナトリウム水溶液 部 ２７゜ ２７゜ ３１゜ ４０゜ 出原人代理人弁理土鈴江武彦

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）（ａ）１０ｍ＾２／ｇ以下の表面積／重量比を有
   し、８０重量％以上が１〜１０μｍの粒径を有するセラ
   ミック固体の微細粒子、 （ｂ）５５０ないし８２５℃のガラス転移点と１０ｍ＾
   ２／ｇ以下の表面積／重量比を有し９０重量％以上が１
   〜１０μｍの粒径を有する無機バインダーの微細粒子、
   （ａ）に対する（ｂ）の重量比が０．６ないし２であり
   、前記（ａ）及び（ｂ）は、有機媒体に分散されている
   、； （ｃ）前記有機媒体に含まれる有機ポリマーバインダー
   、 （ｄ）前記有機媒体に含まれる光開始系、 （ｅ）前記光開始系を溶解する光硬化性モノマー、およ
   び （ｆ）有機媒体の混合物からなり、実質的に非酸化性雰
   囲気で焼成され得る感光性セラミックコーティング組成
   物において、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキルアクリレート
   、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０メタクリレート、スチレン、置換
   されたスチレンまたはその組合せ、及びエチレン性不飽
   和カルボン酸の、コポリマーまたはインターポリマーを
   含む有機ポリマーバインダーを含有し、前記バインダー
   中の不飽和カルボン酸から派生する部分は１５重量％以
   上のポリマーを含有し、前記バインダーは５０，０００
   を越えない分子量を有し、前記組成物は、化学線をイメ
   ージ様露光されて１重量％の炭酸ナトリウムを含む水溶
   液により現像され得る感光性セラミックコーティング組
   成物。
2. （２）前記ポリマーバインダーは、メチルメタクリレー
   トのコポリマーである請求項１に記載の組成物。
3. （３）前記有機ポリマーバインダーは、不飽和カルボン
   酸から派生した部分を含み、それはバインダー重量の３
   ０重量％以下である請求項１に記載の組成物。
4. （４）前記有機ポリマーバインダーの分子量は、２５，
   ０００以下である請求項１に記載の組成物。
5. （５）前記分子量は１５，０００以下である請求項１に
   記載の組成物。
6. （６）前記有機媒体は、β−テルピネオールである請求
   項１に記載の組成物。
7. （７）前記有機媒体は分散剤を含有する請求項１に記載
   の組成物。
8. （８）（ａ）１０ｍ＾２／ｇ以下の表面積／重量比を有
   し、８０重量％以上が１〜１０μｍの粒径を有するセラ
   ミック固体の微細粒子、 （ｂ）５５０ないし８２５℃のガラス転移点と１０ｍ＾
   ２／ｇ以下の表面積／重量比を有し、９０重量％以上が
   １〜１０μｍの粒径を有する無機バインダーの微細粒子
   、（ａ）に対する（ｂ）の重量比が０．６ないし２であ
   り、前記（ａ）及び（ｂ）は、有機媒体に分散されてい
   る、； （ｃ）前記有機媒体に含まれる有機ポリマーバインダー
   、 （ｄ）前記有機媒体に含まれる光開始系、 （ｅ）前記光開始系を溶解する光硬化性モノマー、およ
   び （ｆ）有機媒体の混合物からなり、実質的に非酸化性雰
   囲気で焼成され得る感光性セラミックコーティング組成
   物であって、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキルアクリレート
   、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０メタクリレート、スチレン、置換
   されたスチレンまたはその組合せ、及びエチレン性不飽
   和カルボン酸の、コポリマーまたはインターポリマーを
   含む有機ポリマーバインダーを含有し、前記バインダー
   中の不飽和カルボン酸から派生する部分は１５重量％以
   上のポリマーを含有し、前記バインダーは５０，０００
   を越えない分子量を有し、前記組成物は、化学線にイメ
   ージ様露光されて１重量％の炭酸ナトリウムを含む水溶
   液により現像され得る感光性セラミックコーティング組
   成物の製造方法において、前記成分（ａ）、（ｂ）、（
   ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）の混合前に、成分（ａ）
   及び（ｂ）をその形成の際に凍結乾燥することを特徴と
   する感光性セラミックコーティング組成物の製造方法。
9. （９）前記成分（ａ）は、磁気セパレーターを通される
   請求項８に記載の方法。
10. （１０）前記有機媒体は分散剤を含有する請求項９に記
    載の方法。