JPH02259510A - 面形状等測定方法及び装置 - Google Patents
面形状等測定方法及び装置Info
- Publication number
- JPH02259510A JPH02259510A JP8234689A JP8234689A JPH02259510A JP H02259510 A JPH02259510 A JP H02259510A JP 8234689 A JP8234689 A JP 8234689A JP 8234689 A JP8234689 A JP 8234689A JP H02259510 A JPH02259510 A JP H02259510A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measured
- interference
- measurement
- measuring
- phase difference
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、例えば被測定物体からの光を利用した干渉作
用を用いて3次元物体形状等を高精度に測定する方法及
び装置に関する。
用を用いて3次元物体形状等を高精度に測定する方法及
び装置に関する。
[従来の技術]
従来、非対称非球面やシリンドリカル、トーリックとい
った特殊形状を高精度に計測する方法としては、第4図
に示す様な構成を用いて被測定面の点座標測定を繰り返
して全体形状を得る方法が知られている(光学12.1
983.450〜454頁参照)。
った特殊形状を高精度に計測する方法としては、第4図
に示す様な構成を用いて被測定面の点座標測定を繰り返
して全体形状を得る方法が知られている(光学12.1
983.450〜454頁参照)。
また、被測定面の形状全体を一括で測定する方法として
は、ヌルテストと呼ばれるものがあり、これは、第4図
に示す様に、被測定面形状とほぼ同じ形状を持つ形状の
知れた参照面を用いて通常の干渉縞による形状測定を行
なうものである。
は、ヌルテストと呼ばれるものがあり、これは、第4図
に示す様に、被測定面形状とほぼ同じ形状を持つ形状の
知れた参照面を用いて通常の干渉縞による形状測定を行
なうものである。
更に両方法を組み合わせた測定方法として、軸対称非球
面を光軸方向に移動させて5粗い干渉縞を生み出す被測
定面の各部の測定形状を繋ぎ合わせて全体形状を得る方
法が知られている(光学2.1983,296〜3゜0
頁参照)。
面を光軸方向に移動させて5粗い干渉縞を生み出す被測
定面の各部の測定形状を繋ぎ合わせて全体形状を得る方
法が知られている(光学2.1983,296〜3゜0
頁参照)。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記従来例のうち点座標計測法は様々な
形状の被測定物体が測定できて汎用性が高い反面、測定
点数が多くなると測定時間が長くなるという欠点がある
。
形状の被測定物体が測定できて汎用性が高い反面、測定
点数が多くなると測定時間が長くなるという欠点がある
。
また、ヌルテスト法は、1つの被測定物形状に対して1
つの参照用ミラーやレンズが必要となり、汎用性が低(
計測コストが高くなるという欠点がある。
つの参照用ミラーやレンズが必要となり、汎用性が低(
計測コストが高くなるという欠点がある。
更に、干渉縞の粗い部分を繋ぎ合わせて全体形状を得る
方法は、汎用性があり且つ測定時間も点座標計測に比べ
て短くなるという利点があるが、繋ぎ合わせるに際し重
複部分の1点の座標が同じであるとして繋ぎ合わせる為
、例えば、重複部分のその1点の測定データの測定誤差
が繋ぎ合わせた後の面形状データ全部の測定エラーとな
る。その上、機械的な移動をさせる事に伴う被測定物の
あおり方向の移動δθがあると、繋ぎ合わせる部分のラ
ジアル方向距離をrとして、r・δθの形状測定エラー
が発生するという精度上の問題を有している。また、こ
の従来例では、光軸方向にのみ被測定物を動かす構成な
ので、軸対称非球面などしか測定できず、シ・リントリ
カルやトーリックといった特殊形状は測定不可能であっ
た。
方法は、汎用性があり且つ測定時間も点座標計測に比べ
て短くなるという利点があるが、繋ぎ合わせるに際し重
複部分の1点の座標が同じであるとして繋ぎ合わせる為
、例えば、重複部分のその1点の測定データの測定誤差
が繋ぎ合わせた後の面形状データ全部の測定エラーとな
る。その上、機械的な移動をさせる事に伴う被測定物の
あおり方向の移動δθがあると、繋ぎ合わせる部分のラ
ジアル方向距離をrとして、r・δθの形状測定エラー
が発生するという精度上の問題を有している。また、こ
の従来例では、光軸方向にのみ被測定物を動かす構成な
ので、軸対称非球面などしか測定できず、シ・リントリ
カルやトーリックといった特殊形状は測定不可能であっ
た。
従って、本発明の目的は、上記問題点に鑑み、測定時間
が短縮され且つ多様な形状を測定可能として汎用性を高
めた面形状等測定方法及び装置を提供する事にある。
が短縮され且つ多様な形状を測定可能として汎用性を高
めた面形状等測定方法及び装置を提供する事にある。
[課題を解決するための手段1
上記目的を達成する為の本発明においては、被測定物を
い(つかの部分領域に分割し、光波干渉法を用いてその
3次元形状等が測定され、予め知られた被測定物の設計
データ又は別途行なわれた粗測定によって得たデータを
基に、干渉光波受光手段の隣接する画素間で、分割領域
の基準参照波面からのずれ量が位相・差で所定値(例え
ばπ)を越えない事を条件にして当該分割領域が決定さ
れる。
い(つかの部分領域に分割し、光波干渉法を用いてその
3次元形状等が測定され、予め知られた被測定物の設計
データ又は別途行なわれた粗測定によって得たデータを
基に、干渉光波受光手段の隣接する画素間で、分割領域
の基準参照波面からのずれ量が位相・差で所定値(例え
ばπ)を越えない事を条件にして当該分割領域が決定さ
れる。
また、本発明の干渉測定装置においては。
干渉縞より分割部分領域の基準参照波面からのずれ量を
検出する為の干渉光波受光手段と、この受光手段より出
力される干渉縞信号を処理して各分割領域の参照波面か
らのずれ量の、上記受光手段の隣接する画素間での差を
演算する信号演算処理手段と、この演算処理手段からの
信号に基づき上記画素間での差が所定値を越えない様に
被測定物の干渉光学系に対する相対位置を最適位置にも
たらす為の制御手段が具備されている。上記所定値は典
型的には位相差でπである。
検出する為の干渉光波受光手段と、この受光手段より出
力される干渉縞信号を処理して各分割領域の参照波面か
らのずれ量の、上記受光手段の隣接する画素間での差を
演算する信号演算処理手段と、この演算処理手段からの
信号に基づき上記画素間での差が所定値を越えない様に
被測定物の干渉光学系に対する相対位置を最適位置にも
たらす為の制御手段が具備されている。上記所定値は典
型的には位相差でπである。
また、干渉光学系を用いて3次元形状等を測定する本発
明の干渉測定装置において、′#rl測定部に形状測定
用波面を与える手段と、該測定用波面と参照用の波面よ
り被測定部の3次元形状等測定用干渉縞を発生する手段
と、被測定部をその形状に応じて測定に適正な波面が与
えられるように位置合わせする手段とが具備されている
。
明の干渉測定装置において、′#rl測定部に形状測定
用波面を与える手段と、該測定用波面と参照用の波面よ
り被測定部の3次元形状等測定用干渉縞を発生する手段
と、被測定部をその形状に応じて測定に適正な波面が与
えられるように位置合わせする手段とが具備されている
。
[作用]
上記構成を有する本発明では、各分割領域について上記
画素間での差が例えば位相差でπを越えない様にして測
定が行なわれるので、各分割領域の測定が高精度に行な
われる。
画素間での差が例えば位相差でπを越えない様にして測
定が行なわれるので、各分割領域の測定が高精度に行な
われる。
[実施例]
第1図は本発明の1実施例を示し、同図において、lは
光源であるレーザ、2はビーム径を拡げるビームエキス
パンダ、3は入射光なP偏光成分とS偏光成分に2分す
る偏光ビームスプリッタ、4a、4bは往復する事で偏
光方向を90度回転せしめるところの丸/4@、5は参
照面である平面ミラー、6は平面波を球面波に変換する
コリメータレンズ、7は被測定物、8は互いに直交する
2偏光酸分を干渉せしめるところの偏光板、9は結像レ
ンズ、10は干渉縞を観測するところのCCD素子など
の光検出器、11は被測定物7にあおりを与えるチルト
ステージ、12.13.14は被測定物7に並進移動を
与えるステージで、夫々、Zステージ、Yステージ、X
ステージ、15は干渉縞をスキャンして縞走査測定を行
なわせる為のピエゾ素子、16はステージの光軸方向(
X方向)の移動距離を測定するレーザ測長器、17はピ
エゾ素子を光軸方向に駆動する為のPZTドライバ、1
8はCCD素子10からのデータを一時蓄積する画像メ
モリ、19はステージを駆動する為のステージドライバ
、20は全システムを管理すると共にCOD素子lOか
らのデータを処理するマイクロコンビエータである。
光源であるレーザ、2はビーム径を拡げるビームエキス
パンダ、3は入射光なP偏光成分とS偏光成分に2分す
る偏光ビームスプリッタ、4a、4bは往復する事で偏
光方向を90度回転せしめるところの丸/4@、5は参
照面である平面ミラー、6は平面波を球面波に変換する
コリメータレンズ、7は被測定物、8は互いに直交する
2偏光酸分を干渉せしめるところの偏光板、9は結像レ
ンズ、10は干渉縞を観測するところのCCD素子など
の光検出器、11は被測定物7にあおりを与えるチルト
ステージ、12.13.14は被測定物7に並進移動を
与えるステージで、夫々、Zステージ、Yステージ、X
ステージ、15は干渉縞をスキャンして縞走査測定を行
なわせる為のピエゾ素子、16はステージの光軸方向(
X方向)の移動距離を測定するレーザ測長器、17はピ
エゾ素子を光軸方向に駆動する為のPZTドライバ、1
8はCCD素子10からのデータを一時蓄積する画像メ
モリ、19はステージを駆動する為のステージドライバ
、20は全システムを管理すると共にCOD素子lOか
らのデータを処理するマイクロコンビエータである。
上記構成において、レーザlから出射した光はビームエ
キスパンダ2によって所定の径に拡げられ偏光ビームス
プリッタ3に入射する。この光のうち、S偏光成分は上
方に折り曲げられ、λ/4板4aを通り参照ミラー5で
反射されて、再びλ/4板4aを通って、偏光角が90
度回転した状態で偏光ビームスプリッタ3に戻り下方に
直進する。こうして偏光板8、結像レンズ9を通ってC
CD素子10に入射する。
キスパンダ2によって所定の径に拡げられ偏光ビームス
プリッタ3に入射する。この光のうち、S偏光成分は上
方に折り曲げられ、λ/4板4aを通り参照ミラー5で
反射されて、再びλ/4板4aを通って、偏光角が90
度回転した状態で偏光ビームスプリッタ3に戻り下方に
直進する。こうして偏光板8、結像レンズ9を通ってC
CD素子10に入射する。
一方、偏光ビームスプリッタ3に入射した光のうち、P
偏光成分は右方に直進し、a、/4板4bを通ってコリ
メータレンズ6によって適当な球面波とされて被測定物
7に入射する。そして、ここで反射されて再びコリメー
タレンズ6、λ/4板4bを通り、偏光角が90度回転
された状態で偏光ビームスプリッタ3に戻り、下方に折
り曲げられて偏光板8、結像レンズ9を通ってCCD素
子loに入射する。
偏光成分は右方に直進し、a、/4板4bを通ってコリ
メータレンズ6によって適当な球面波とされて被測定物
7に入射する。そして、ここで反射されて再びコリメー
タレンズ6、λ/4板4bを通り、偏光角が90度回転
された状態で偏光ビームスプリッタ3に戻り、下方に折
り曲げられて偏光板8、結像レンズ9を通ってCCD素
子loに入射する。
このとき、被測定物7の位置が調整されて被測定物7の
形状とコリメータレンズ6が作り出す球面波との形状が
概略一致していれば、COD素子10上には充分な粗さ
の干渉縞が観測される。観測された干渉縞は被測定物7
の形状と球面波との形状のズレ即ち波面収差の情報を与
えており、縞1本が丁度レーザlからの光の波長んの半
分のズレに等しくなっている。
形状とコリメータレンズ6が作り出す球面波との形状が
概略一致していれば、COD素子10上には充分な粗さ
の干渉縞が観測される。観測された干渉縞は被測定物7
の形状と球面波との形状のズレ即ち波面収差の情報を与
えており、縞1本が丁度レーザlからの光の波長んの半
分のズレに等しくなっている。
従って、被測定物7の形状が球面に近い場合は、全体に
亙って干渉縞の粗さが適当なものとなって干渉縞パター
ンを解析する事により被測定物7の全体形状を一括で測
定できるピエゾ素子15を用いた縞走査測定を行なう事
で、COD画素間の位相差を読んで全体形状を高精度に
計測することができる。
亙って干渉縞の粗さが適当なものとなって干渉縞パター
ンを解析する事により被測定物7の全体形状を一括で測
定できるピエゾ素子15を用いた縞走査測定を行なう事
で、COD画素間の位相差を読んで全体形状を高精度に
計測することができる。
ところが、被測定物7の形状が特殊で球面から大きくず
れている場合、全体形状を一括で測定しようとすると部
分的に縞間隔が細か(なり過ぎ測定不能となる。原理的
には、eCDIO上でCCDの隣接画素間の干渉縞パタ
ーンの位相差がπ以上になると測定不能となる。
れている場合、全体形状を一括で測定しようとすると部
分的に縞間隔が細か(なり過ぎ測定不能となる。原理的
には、eCDIO上でCCDの隣接画素間の干渉縞パタ
ーンの位相差がπ以上になると測定不能となる。
しかし、被測定物7の形状を幾つかの小部分に分ければ
、その小領域内では干渉縞パターンを観測可能な粗さと
する事ができる。
、その小領域内では干渉縞パターンを観測可能な粗さと
する事ができる。
このことについて第2図及び第3図を参照しつつ詳説す
る。先ず被測定物7が手作業によりステージ11ヘセツ
トされ測定が開始される。開始信号がマイクロコンピュ
ータ20により確認されるとマイクロコンピュータ20
のメモリ中に記録されている被検物の設計形状データに
基づいて、被検物の全体が、受光手段であるCCD素子
10の隣接する画素間の干渉縞の位相差がπを越えない
事を条件に、い(つかの部分領域すなわちサブアパーチ
ャーに分割される。
る。先ず被測定物7が手作業によりステージ11ヘセツ
トされ測定が開始される。開始信号がマイクロコンピュ
ータ20により確認されるとマイクロコンピュータ20
のメモリ中に記録されている被検物の設計形状データに
基づいて、被検物の全体が、受光手段であるCCD素子
10の隣接する画素間の干渉縞の位相差がπを越えない
事を条件に、い(つかの部分領域すなわちサブアパーチ
ャーに分割される。
第3図はこの様子を示し、被検物7が例えば軸対称形状
であれば同図(a)の如く重なり合う部分を持つ同心輪
帯状に複数(例えば5)に分割され、非軸対称形状であ
れば同図(b)の如く非同心円状ないし方形状に複数(
例えば10)に分割される。
であれば同図(a)の如く重なり合う部分を持つ同心輪
帯状に複数(例えば5)に分割され、非軸対称形状であ
れば同図(b)の如く非同心円状ないし方形状に複数(
例えば10)に分割される。
このデータは駆動部すなわちステージドライバー19へ
転送され被測定物7が第1番目の測定初期位置(n=1
の分割領域がコリメータレンズ6からの測定波面で照射
される位置)へ移動される。
転送され被測定物7が第1番目の測定初期位置(n=1
の分割領域がコリメータレンズ6からの測定波面で照射
される位置)へ移動される。
次に、被測定物7と干渉ないし測定光学系の光軸及び参
照球面波との光軸及び曲率合わせか、ステージ12〜1
4により行なわれる。この先軸及び曲率合わせは、CC
D素子lO上の縞画像を2次元フーリエ変換しその空間
周波数が最も低くなる様にマイクロコンビエータ20か
らステージ12〜14に指示が出され広くなった縞画像
が観測されるに至って終了する。
照球面波との光軸及び曲率合わせか、ステージ12〜1
4により行なわれる。この先軸及び曲率合わせは、CC
D素子lO上の縞画像を2次元フーリエ変換しその空間
周波数が最も低くなる様にマイクロコンビエータ20か
らステージ12〜14に指示が出され広くなった縞画像
が観測されるに至って終了する。
続いて、PZT素子15を駆動してCCD素子10から
縞画像が取り込まれて測定が1回行なわれ、マイクロコ
ンビエータ20により画素間位相差演算を行ない測定範
囲内で隣接画素間の位相差がπを越えていないかが判断
される。越えていれば前述の設計形状データと一致して
いなかったと見做して測定分割領域を小さ(し、隣接画
素間の位相差がπを越えない事が確認されるまで測定を
繰り返す位相差がπ以下である事が確認されると被測定
物7をコリメータレンズ6の焦点まで光軸方向に移動し
、前述した様に、マイクロコンビエータ20による画像
判断によって干渉縞の縞間隔が最も広くなる事から上記
焦点位置まで移動したことが検出される。そしてこの移
動距離がレーザ測長器16により測定されて参照球面波
の曲率を求め、この曲率データと干渉縞の画素間位相差
より被検物7の測定下にある分割領域の面形状データが
演算される。この結果はこの分割領域の面形状測定デー
タとして記録され1次の分割領域側定位ra(例えばn
=2)へ被検物7が移動される、以上のステップが全面
走査が終了する迄操り返される。
縞画像が取り込まれて測定が1回行なわれ、マイクロコ
ンビエータ20により画素間位相差演算を行ない測定範
囲内で隣接画素間の位相差がπを越えていないかが判断
される。越えていれば前述の設計形状データと一致して
いなかったと見做して測定分割領域を小さ(し、隣接画
素間の位相差がπを越えない事が確認されるまで測定を
繰り返す位相差がπ以下である事が確認されると被測定
物7をコリメータレンズ6の焦点まで光軸方向に移動し
、前述した様に、マイクロコンビエータ20による画像
判断によって干渉縞の縞間隔が最も広くなる事から上記
焦点位置まで移動したことが検出される。そしてこの移
動距離がレーザ測長器16により測定されて参照球面波
の曲率を求め、この曲率データと干渉縞の画素間位相差
より被検物7の測定下にある分割領域の面形状データが
演算される。この結果はこの分割領域の面形状測定デー
タとして記録され1次の分割領域側定位ra(例えばn
=2)へ被検物7が移動される、以上のステップが全面
走査が終了する迄操り返される。
次いで、全部分領域で得られた面形状データはメモリよ
り次々と読み出され、互いに重なり合う部分のデータを
用いて、例えば両者のデータの差の自乗和が最小になる
様に一方のデータを座標変換して他方にフィッティング
させ、被検物の全体形状ケ復元してゆ(。
り次々と読み出され、互いに重なり合う部分のデータを
用いて、例えば両者のデータの差の自乗和が最小になる
様に一方のデータを座標変換して他方にフィッティング
させ、被検物の全体形状ケ復元してゆ(。
この全体形状が復元されたら、例えば、設計データから
のずれ量を3次元グラフィック表示するといった理解し
易い型にデータ加工し、表示ないしプリントアウトを行
なって測定を終了する。
のずれ量を3次元グラフィック表示するといった理解し
易い型にデータ加工し、表示ないしプリントアウトを行
なって測定を終了する。
[発明の効果〕
以上説明した様に、本発明においては、軸対称非球面の
みならずシリンドリカルやトーリックといった特殊形状
等も測定できると共に、複雑な分割領域の決定を粗形状
データ等を用いてコンピュータが行なう事により最小の
分割数で全体データが得られ1個人差による分割の不正
確さが排除されて精度が向上し更に測定が高速化される
。
みならずシリンドリカルやトーリックといった特殊形状
等も測定できると共に、複雑な分割領域の決定を粗形状
データ等を用いてコンピュータが行なう事により最小の
分割数で全体データが得られ1個人差による分割の不正
確さが排除されて精度が向上し更に測定が高速化される
。
更に、時間のかかる光軸合わせなども縞画像処理を用い
て行なえば測定時間が更に短縮される。
て行なえば測定時間が更に短縮される。
第1図は本発明の1実施例を示す図、第2図は本発明を
実施するシーケンスを示すフローチャート図、第3図は
測定領域の分割例を示す図、第4図は点計測の従来例の
図、第5図はヌルテストの従来例の図である。 1・・・・・レーザ、3・・・・・偏光ビームスプリッ
タ、5・・・・・参照平面ミラー、6・・・・・コリメ
ータレンズ、7・・・・・被測定物、10・・・・・C
CD素子、11・・・・・チルトステージ、12.13
14・・・・・ステージ、15・・・・・ピエゾ素子
実施するシーケンスを示すフローチャート図、第3図は
測定領域の分割例を示す図、第4図は点計測の従来例の
図、第5図はヌルテストの従来例の図である。 1・・・・・レーザ、3・・・・・偏光ビームスプリッ
タ、5・・・・・参照平面ミラー、6・・・・・コリメ
ータレンズ、7・・・・・被測定物、10・・・・・C
CD素子、11・・・・・チルトステージ、12.13
14・・・・・ステージ、15・・・・・ピエゾ素子
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、被測定物をいくつかの部分領域に分割し、光波干渉
法を用いて3次元形状等を測定する方法に於て、予め知
られた被測定物の設計データ又は別途行なわれた粗測定
によって得たデータを基に、干渉光波受光手段の隣接す
る画素間で、分割領域の基準参照波面からのずれ量が位
相差で所定値を越えない事を条件にして、当該分割領域
を決定することを特徴とする面形状等測定方法。 2、上記所定値がπである請求項1記載の測定方法。 3、前記分割領域が測定域に来るように被測定物の干渉
光学系に対する相対位置を変化させ、前記干渉光波受光
手段上に干渉縞を発生せしめてその位相差を測定し、該
受光手段の隣接する画素間で上記位相差が所定値を越え
ているときは分割領域を小さくして測定を繰り返す請求
項1記載の測定方法。 4、前記分割領域が測定域に来るように被測定物の干渉
光学系に対する相対位置を変化させるとき、前記干渉光
波受光手段上の干渉縞が最も粗く現われるように上記相
対位置を制御する請求項3記載の測定方法。 5、前記分割領域を測定する際に、参照波面形状を各分
割領域で測定する請求項1記載の測定方法。 6、前記分割領域が被測定物内で同心輪帯状である請求
項1記載の測定方法。 7、前記分割領域が被測定物内で非同心円ないし方形状
である請求項1記載の測定方法。 8、被測定物をいくつかの部分領域に分割し、干渉光学
系を用いて3次元形状等を測定する干渉測定装置におい
て、干渉縞より部分領域の基準参照波面からのずれ量を
検出する為の干渉光波受光手段と、該受光手段より出力
される干渉縞信号を処理して各分割領域の参照波面から
のずれ量の、該受光手段の隣接する画素間での差を演算
する信号演算処理手段と、該演算処理手段からの信号に
基づき上記画素間での差が所定値を越えない様に被測定
物の干渉光学系に対する相対位置を最適位置にもたらす
為の制御手段を有することを特徴とする干渉測定装置。 9、上記所定値が位相差でπである請求項8記載の干渉
測定装置。 10、干渉光学系を用いて3次元形状等を測定する干渉
測定装置において、被測定部に形状測定用波面を与える
手段と、該測定用波面と参照用の波面より被測定部の3
次元形状等測定用干渉縞を発生する手段と、被測定部を
その形状に応じて測定に適正な波面が与えられるように
位置合わせする手段とを有することを特徴とする干渉測
定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8234689A JPH02259510A (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 面形状等測定方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8234689A JPH02259510A (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 面形状等測定方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02259510A true JPH02259510A (ja) | 1990-10-22 |
Family
ID=13772008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8234689A Pending JPH02259510A (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 面形状等測定方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02259510A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004534245A (ja) * | 2001-07-09 | 2004-11-11 | ミヒャエル キュッヘル, | 非球面および波面用の走査干渉計 |
| JP2008510146A (ja) * | 2004-08-13 | 2008-04-03 | ザイゴ コーポレイション | 大きなアスペクト比を有するコンポーネントの干渉計測定のための方法および装置 |
| JP2008532010A (ja) * | 2005-02-24 | 2008-08-14 | ザイゴ コーポレイション | 非球面および波面のための走査干渉計 |
| JP2009509150A (ja) * | 2005-09-22 | 2009-03-05 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 干渉測定装置 |
| JP2010122206A (ja) * | 2008-10-20 | 2010-06-03 | Fujinon Corp | 光波干渉測定装置 |
| JP2010539458A (ja) * | 2007-09-14 | 2010-12-16 | ライカ ジオシステムズ アクチエンゲゼルシャフト | 表面の測定方法および測定装置 |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP8234689A patent/JPH02259510A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004534245A (ja) * | 2001-07-09 | 2004-11-11 | ミヒャエル キュッヘル, | 非球面および波面用の走査干渉計 |
| JP2008510146A (ja) * | 2004-08-13 | 2008-04-03 | ザイゴ コーポレイション | 大きなアスペクト比を有するコンポーネントの干渉計測定のための方法および装置 |
| JP2008532010A (ja) * | 2005-02-24 | 2008-08-14 | ザイゴ コーポレイション | 非球面および波面のための走査干渉計 |
| JP4771487B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2011-09-14 | ザイゴ コーポレイション | 非球面および波面のための走査干渉計 |
| JP2009509150A (ja) * | 2005-09-22 | 2009-03-05 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 干渉測定装置 |
| JP2010539458A (ja) * | 2007-09-14 | 2010-12-16 | ライカ ジオシステムズ アクチエンゲゼルシャフト | 表面の測定方法および測定装置 |
| US9127929B2 (en) | 2007-09-14 | 2015-09-08 | Leica Geosystems Ag | Method and measuring device for gauging surfaces |
| JP2010122206A (ja) * | 2008-10-20 | 2010-06-03 | Fujinon Corp | 光波干渉測定装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4302512B2 (ja) | 非球面表面および波面に対する干渉計スキャニング | |
| US4869593A (en) | Interferometric surface profiler | |
| JP3162355B2 (ja) | 面形状等測定方法及び装置 | |
| US5581347A (en) | Optimization method and device for direct measurement of an optical component | |
| CN109975820B (zh) | 基于Linnik型干涉显微镜的同步偏振相移检焦系统 | |
| US4743117A (en) | Device for optically measuring aspheric surface | |
| US4948253A (en) | Interferometric surface profiler for spherical surfaces | |
| JP3237309B2 (ja) | システムエラー測定方法及びそれを用いた形状測定装置 | |
| US20050238237A1 (en) | Method and apparatus for determining the shape and the local surface normals of specular surfaces | |
| US5218424A (en) | Flying height and topography measuring interferometer | |
| US5187539A (en) | Mirror surface characteristic testing | |
| JP2004534245A (ja) | 非球面および波面用の走査干渉計 | |
| US20130044332A1 (en) | Surface profile measurement apparatus and alignment method thereof and an improved sub-aperture measurement data acquisition method | |
| CN110702036B (zh) | 一种复光束角度传感器及小型非球面形貌检测方法 | |
| CN119197655B (zh) | 一种高精度同步实时测量温度场和变形场的系统及方法 | |
| US5033855A (en) | Fizeau interference measuring method and apparatus therefor | |
| US7042578B2 (en) | Method and apparatus for absolute figure metrology | |
| CN110160443B (zh) | 一种用于瞬态三坐标测量的光纤点衍射干涉装置及方法 | |
| JP2831428B2 (ja) | 非球面形状測定機 | |
| RU2263279C2 (ru) | Способ интерферометрического измерения отклонения формы оптических поверхностей и система для его осуществления | |
| JPH03167404A (ja) | 大型対象物の寸法計測方法 | |
| JPH06313707A (ja) | 形状測定方法及び装置 | |
| JPH10281720A (ja) | ステージ装置およびそれを用いた波面収差測定装置 | |
| JP2000097669A (ja) | 光波干渉計装置、及び該装置におけるデータ処理方法 | |
| CN110455420B (zh) | 波前测量设备 |