JPH0226082A - フォトダイオード - Google Patents

フォトダイオード

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Publication number
JPH0226082A
JPH0226082A JP63176352A JP17635288A JPH0226082A JP H0226082 A JPH0226082 A JP H0226082A JP 63176352 A JP63176352 A JP 63176352A JP 17635288 A JP17635288 A JP 17635288A JP H0226082 A JPH0226082 A JP H0226082A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
light
conductive type
type ohmic
photodiode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63176352A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuo Morita
哲郎 森田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP63176352A priority Critical patent/JPH0226082A/ja
Publication of JPH0226082A publication Critical patent/JPH0226082A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 こ、の発明は、裏面に形成された第1電極と上面に形成
された第2電極を備えるフォトダイオードに関するもの
である。
〔従来の技術〕
フォトダイオードは、受光面に入射した光により電子・
ホール対が発生する。この発生されたキャリアを逆方向
にバイアスされた接合の電界により振り分け、電流とし
て取り出す。フォトダイオードは比較的高速応答性を持
ち、効率もよく、低電圧で動作するので多くの用途に使
用されている。
その中でもpinフォトダイオードは、i層の存在によ
り容量を小さくすることができ、かつ高電圧を印加して
キャリアの空乏層走行時間を短くできる為、高速動作に
優れている。
第3図は、従来のpinフォトダイオードの構造を示す
ものである。同図(a)は光の入射方向と直交する方向
からみた断面図であり、同図(b)は光の入射方向から
みた平面図である。第1導電型(例えばn形)のInP
等の基板1上には、i形のInGaAsの光吸収層2が
形成されている。
この光吸収層2上には第2導電型(例えばp型)のGa
InAsで形成された結晶成長層3Aが形成されている
。さらに、この結晶成長層3A上にはリング状の第2導
電型オーミツク電極3が形成されており、第2導電型オ
ーミツク電極3の内側には受光面Aが形成されている(
同図(b)参照)。さらに、基板1の下部には、第1導
電型オーミツク電極4か形成されている。このフォトダ
イオードの受光面Aに光が入射することによって、ホー
ルと電子が光吸収層2で発生し、受光素子として動作す
る。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、従来技術に係るフォトダイオードは、電
圧が印加される第2導電型オーミツク電t33の面積が
大きいことから容量が大きくなり、高速性が悪いという
欠点があった。
なお、容量は受光面積によって決まるので、受光面積を
小さくすることにより当該容量を小さくすることができ
る。しかし、フォトダイオード自体の受光感度も同時に
低下してしまうので、高速性及び受光感度が良いフォト
ダイオードを構成することは困難であった。
そこで、この発明は感度を下げることなく、高速性に優
れたフォトダイオードを提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記課題を達成するため、この発明は裏面に形成された
第1導電型の第1電極と受光面(上面)に形成された第
2導電型の第2電極を備えるフォトダイオードにおいて
、アース接続された第2導電型の第3電極を第2電極の
周りに形成することを特徴とする。
この第3電極としては、上記第2電極の形成位置を中心
とするリング状の第2導電型の電極を使用することがで
きる。
〔作用〕
この発明は、以上のように構成されているので、第2電
極の周囲に設けられた第3電極の作用により、フォトダ
イオードにおける容量を低減することができる。また、
受光面における第2電極の面積比率は極めて低いので、
実質的に受光面積が減少することがない。
〔実施例〕
以下、この発明に係るフォトダイオードの一実施例を添
付図面に基づき説明する。なお、説明において同一要素
には同一符号を用い、重複する説明は省略する。
第1図は、この発明に係るフォトダイオードの一実施例
を示すものである。同図(a)は光の入射方向と直交す
る方向からみた断面図であり、同図(b)は光の入射方
向からみた平面図である。
従来技術との差異は、従来技術におけるリング状の第2
導電型オーミツク電極3を受光面における面積比率が小
さくなるように構成し、その周囲にアース接続された第
2導電型の第3電極を例えばリング状に形成している点
である。
第1導電型(例えばn形)のInP等の基板1上には、
i形のI nGaAs等の光吸収層2が形成されている
。この光吸収層2上には第2導電型オーミツク電極(第
2電極)5が受光面Aに対して小さく形成されており(
例えば、受光径80μmに対して1μm程度)、この第
2導電型オーミツク電極5の周囲には第2導電型(もし
くは第1導電型)の第3電極6がリング状に形成されて
いる。また、基板1の下部にはAuZn等の第1導電型
オーミツク電極(第1電極)4が形成されている。第1
導電型オーミツク電極4と第3電極6はアースに接続さ
れており、第2導電型オーミツク電極5には所定の電圧
が印加されている。受光面Aに入射した光により発生す
るキャリアは、逆方向にバイアスされた電界により、第
2導電型オーミツク電極5と第3電極6、及び第2導電
型オーミツク電極5と第1導電型オーミツク電極4によ
って振り分けられる。この場合、容量は第2導電型オー
ミツク電極5と第3電極6及び第1導電型オーミツク電
極4との間で存在するが、第2導電型オーミツク電極5
を受光面Aにおける面積比率が小さくなるように構成し
ているので、受光感度をほぼ維持しながら容量を小さく
することができる。この場合、第1導電型オーミツク電
極4と第3電極6は同電位で構成されているので容量は
発生しない。
なお、第3電極の大きさ、形状、数、位置等は上記実施
例のものに限定されるものではない。重要なことは、裏
面に形成された第1電極と同電位で構成された第3電極
で受光面を形成し、その内部に第2電極を小さく形成し
ている点である。
さらに、第2導電型オーミツク電極5を例えばp形に構
成し、光吸収層2をi型に構成する場合、上記第2導電
型オーミツク電極5と光吸収層2との間にp形のGa 
InAsからなる結晶成長層を形成してもよい。この場
合、電極はp形結晶成長層上に形成されることから、接
触抵抗を低くすることができる。
第2図は、この発明に係るフォトダイオードの変形例を
示す平面図(光の入射方向からみた図)である。同図(
a)は、リング状に形成した第3電極6の内部に、中心
(第2電極5)に向かって伸びた腕6 a s 6 b
 、・・・ 61を設けたものである。この腕6as6
bs・・・ 61は、できるだけ細く構成されているの
で受光感度は低下しない。
同図(b)は、第3電極6を矩形状に形成し、その中心
部に第2電極5を形成したものである。同図(C)は、
第3電極6を櫛歯状に形成し、第2電極5を挾んで両側
に配置したものである。なお、受光面Aに延びた歯の部
分は細く形成されており、受光感度の低下を防止してい
る。同図(d)は、2本の第2’21!極5a、5bを
並置し、これらの間に第3電極68% 6 b % 6
 cを配置している。なお、第3電極6bの中央部分は
細く形成されており、受光感度が低下しないようになっ
ている。同図(e)は、第2電極5を細長く形成し、こ
の第2電極5を囲むように、その両側にコ字形の第3電
極6a、6bを配置したものである。同図(f)は、第
1図に示されるフォトダイオードの第2電極5を偏心さ
せたものである。このフォトダイオードによれば、光の
強度が最も高い中心部を受光面として利用できるので、
入射光の有効利用が図れる。
なお、上記実施例における第2電極と第3電極間の距離
は、第1電極と第2電極間の距離と比較して大きくなる
ように構成されている。その為、第2電極と第3電極間
の容量は第1電極と第2電極間の容量よりかなり小さく
なり無視することができる。
次に、従来技術と本発明を比較した実験結果を示す。こ
の実験は、従来技術に係るフォトダイオードと本発明に
係るフォトダイオード(第1図参照)の容量及び感度を
比較したものである。それぞれの受光径は80μmであ
り、本発明に係るフォトダイオードの第2電極5の外径
は1μmであった。従来技術に係るフォトダイオードの
容量は2pFであったが、本発明に係るフォトダイオー
ドの容量は0.05pFであり、著しく容量を低減する
ことができた。この場合、従来技術に係るフォトダイオ
ードの感度は0.75A/W、本発明に係るフォトダイ
オードの感度は0.7A/Wであり、感度の低下はわず
かであった。
〔発明の効果〕
この発明は、以上説明したように構成されているので、
感度をほとんど低下させることなく容量を低くすること
ができる。従って、感度及び高速性の良いフォトダイオ
ードを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明に係るフォトダイオードの一実施例
を示す図、第2図は、この発明に係るフォトダイオード
の変形例を示す平面図、第3図は、従来技術に係るフォ
トダイオードを示す図である。 1・・・基板 2・・・光吸収層 3.5・・・第2導電型オーミツク電極4・・・第1導
電型オーミツク電極 6・・・第3電極 特許出願人  住友電気工業株式会社 代理人弁理士   長谷用  芳  樹間      
    山    1)   行フォトダイオード 第1図 ゛−−−−)−m−′ 変形例 第2図(2) 変 形 例 第 図 従来技術 第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、裏面に形成された第1導電型の第1電極と、受光面
    (上面)に形成された第2導電型の第2電極を備えるフ
    ォトダイオードにおいて、前記第1電極と同電位で構成
    された第2導電型の第3電極を、前記第2電極の周りに
    形成することを特徴とするフォトダイオード。 2、前記第3電極が、前記第2電極と前記第3電極間の
    距離を前記第1電極と前記第2電極間の距離より極めて
    大きくなるように配置されていることを特徴とする請求
    項1記載のフォトダイオード。 3、前記第3電極が、前記第2電極を中心とするリング
    状に形成されている請求項1記載のフォトダイオード。
JP63176352A 1988-07-15 1988-07-15 フォトダイオード Pending JPH0226082A (ja)

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JP63176352A JPH0226082A (ja) 1988-07-15 1988-07-15 フォトダイオード

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003318435A (ja) * 2002-04-23 2003-11-07 Taiyo Yuden Co Ltd Pn接合フォトダイオード
JP2005044967A (ja) * 2003-07-28 2005-02-17 Hitachi Cable Ltd 光素子付き電気回路素子
JP2010177286A (ja) * 2009-01-27 2010-08-12 Nec Corp 半導体受光素子およびその製造方法

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