JPH02263742A - 金属被覆光ファイバの製造方法 - Google Patents
金属被覆光ファイバの製造方法Info
- Publication number
- JPH02263742A JPH02263742A JP1085127A JP8512789A JPH02263742A JP H02263742 A JPH02263742 A JP H02263742A JP 1085127 A JP1085127 A JP 1085127A JP 8512789 A JP8512789 A JP 8512789A JP H02263742 A JPH02263742 A JP H02263742A
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- JP
- Japan
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- optical fiber
- coating layer
- metal
- coated optical
- carbon
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
- C03C25/1061—Inorganic coatings
- C03C25/1063—Metals
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、金属被覆光ファイバの製造方法に関するもの
である。
である。
例えば、原子カプラントや化学プラントのように、高温
となる箇所で光ファイバにより情報通信を行う場合、使
用する光ファイバとしては通常の石英ガラス製の光ファ
イバ上に金属被覆を施して耐熱性の向上を図ったものが
適用されることが多い。
となる箇所で光ファイバにより情報通信を行う場合、使
用する光ファイバとしては通常の石英ガラス製の光ファ
イバ上に金属被覆を施して耐熱性の向上を図ったものが
適用されることが多い。
この種の金属被覆光ファイバの一つに光ファイバ上に例
えばアルミニウムからなる金属被覆層を設けたものが知
られている(昭和59年度電子通信学会総合全国大会4
−207参照)。
えばアルミニウムからなる金属被覆層を設けたものが知
られている(昭和59年度電子通信学会総合全国大会4
−207参照)。
ところで前述したアルミニウム被覆光ファイバの製造方
法を例にとると、線引後の光ファイバを溶融アルミニウ
ム浴槽内を通過せしめ、いわゆるデインピング法と呼ば
れる方法でアルミニウム被覆層を形成している。
法を例にとると、線引後の光ファイバを溶融アルミニウ
ム浴槽内を通過せしめ、いわゆるデインピング法と呼ば
れる方法でアルミニウム被覆層を形成している。
ところがこのディッピング法により形成したアルミニウ
ム被覆層は、光ファイバとの密着力が弱いため、光ファ
イバを小さな曲げ半径で曲げたりすると光ファイバから
簡単に剥離してしまう。
ム被覆層は、光ファイバとの密着力が弱いため、光ファ
イバを小さな曲げ半径で曲げたりすると光ファイバから
簡単に剥離してしまう。
加えて溶融アルミニウムを被覆後、これを冷却固化する
と、石英ガラス製の光ファイバの線膨張係数が0.4
Xl0−’/’Cであるのに対してアルミニウムのそれ
は29XIO−6/’Cと、光ファイバの約70倍もの
値を持っているため、アルミニウム被NNの収縮により
内部の光ファイバがマイクロベンドを受け、初期の伝送
損失(以下初期ロスという)が増加するという問題もあ
った。尚、この問題はアルミニウム被覆層の場合に限ら
ず、ディッピング法により金属被覆層を形成した場合は
大なり小なり存在する。
と、石英ガラス製の光ファイバの線膨張係数が0.4
Xl0−’/’Cであるのに対してアルミニウムのそれ
は29XIO−6/’Cと、光ファイバの約70倍もの
値を持っているため、アルミニウム被NNの収縮により
内部の光ファイバがマイクロベンドを受け、初期の伝送
損失(以下初期ロスという)が増加するという問題もあ
った。尚、この問題はアルミニウム被覆層の場合に限ら
ず、ディッピング法により金属被覆層を形成した場合は
大なり小なり存在する。
前記問題に鑑み本発明の目的は、金属被覆層が光ファイ
バから剥離し難く、しかも初期ロスの小さい金属被覆光
ファイバを得るための方法を提供することにある。
バから剥離し難く、しかも初期ロスの小さい金属被覆光
ファイバを得るための方法を提供することにある。
前記目的を達成すべく本発明は、最外層にカーボン被覆
層を有する石英ガラス製の光ファイバ上に、電気メッキ
法により金属被覆層を形成することを特徴とするもので
ある。
層を有する石英ガラス製の光ファイバ上に、電気メッキ
法により金属被覆層を形成することを特徴とするもので
ある。
以下に本発明の実施例を図を参照して詳細に説明する。
第1図、第2図は本発明の方法の一実施例を示すもので
ある。これらの図が示すように、本発明にあっては、ま
ず光ファイバ母材1を通常の方法により線引炉2に導い
て、例えば線引張力20g、線速300m 7分で線引
し、コア10及びクラッド11からなる光ファイバと成
し、続いて前記線引炉2の直後に設けた反応炉3にこれ
を導き、その表面に約500人程度の非晶質のカーボン
被覆層12を形成し、外径125μ閣のカーボン被覆層
付き光ファイバ4を得た。尚、このカーボン被覆層の抵
抗を測定したら、約10に07cmであった。
ある。これらの図が示すように、本発明にあっては、ま
ず光ファイバ母材1を通常の方法により線引炉2に導い
て、例えば線引張力20g、線速300m 7分で線引
し、コア10及びクラッド11からなる光ファイバと成
し、続いて前記線引炉2の直後に設けた反応炉3にこれ
を導き、その表面に約500人程度の非晶質のカーボン
被覆層12を形成し、外径125μ閣のカーボン被覆層
付き光ファイバ4を得た。尚、このカーボン被覆層の抵
抗を測定したら、約10に07cmであった。
ここで前記カーボン被覆層12を光ファイバ上に形成す
るに当たっては、前記反応炉3内に不活性ガス、例えば
Heと共に炭化水素ガス、例えばC,ll□を流し、こ
れを反応炉3内で数百“Cに加熱せしめることによって
形成できる。もちろんこれ以外の方法で形成してもなん
ら差し支えない。
るに当たっては、前記反応炉3内に不活性ガス、例えば
Heと共に炭化水素ガス、例えばC,ll□を流し、こ
れを反応炉3内で数百“Cに加熱せしめることによって
形成できる。もちろんこれ以外の方法で形成してもなん
ら差し支えない。
このようにカーボン被覆層12を形成したら、度図示し
ていないボビン等にこのカーボン被覆層付き光ファイバ
4を巻き取る。
ていないボビン等にこのカーボン被覆層付き光ファイバ
4を巻き取る。
次にこのボビンを第2図に示すように供給装置5に掛け
、これよりカーボン被覆層付き光ファイバ4を例えば1
0m/分で供給しつつ、これをガイドロール6等で案内
して電解液、例えば10%の硫酸銅水溶液7を満たした
電解槽8内を潜らせ、バッテリー16により前記カーボ
ン被覆層12(この場合負極)と電解槽8の下部に配置
せしめた白金電極9(この場合正極)との間に4.5v
の直流電圧をかけ、いわゆる電気メッキ法により約30
μl厚の銅製の金属被覆層13を光ファイバ4上に形成
した。
、これよりカーボン被覆層付き光ファイバ4を例えば1
0m/分で供給しつつ、これをガイドロール6等で案内
して電解液、例えば10%の硫酸銅水溶液7を満たした
電解槽8内を潜らせ、バッテリー16により前記カーボ
ン被覆層12(この場合負極)と電解槽8の下部に配置
せしめた白金電極9(この場合正極)との間に4.5v
の直流電圧をかけ、いわゆる電気メッキ法により約30
μl厚の銅製の金属被覆層13を光ファイバ4上に形成
した。
第3図はこのようにして得られた金属被覆光ファイバ2
0の一実施例を示す横断面図である。
0の一実施例を示す横断面図である。
このようにして得られた金属被覆光ファイバ20では、
光ファイバとの密着力が高いカーボン被覆層12を介し
て、金属被覆層13がクーロン力によってカーボン被覆
層12と強く密着しており、その結果この金属被覆光フ
ァイバ20を直径15鵬−のマンドレルに沿って曲げて
も、前記金属被覆層13が剥離することは全く見られな
かった。
光ファイバとの密着力が高いカーボン被覆層12を介し
て、金属被覆層13がクーロン力によってカーボン被覆
層12と強く密着しており、その結果この金属被覆光フ
ァイバ20を直径15鵬−のマンドレルに沿って曲げて
も、前記金属被覆層13が剥離することは全く見られな
かった。
またこの金属被覆光ファイバ20を700°CX24h
rの耐熱試験に供したところ、目視により前記金属被覆
層13に酸化が認められたものの、光伝送特性上はなん
ら問題はなかった。
rの耐熱試験に供したところ、目視により前記金属被覆
層13に酸化が認められたものの、光伝送特性上はなん
ら問題はなかった。
加えてこの金属被覆光ファイバ20の初期ロスについて
も調査したところ、通常の光ファイバと比較してほとん
ど差がなかった。
も調査したところ、通常の光ファイバと比較してほとん
ど差がなかった。
ところで前記実施例においては、金属被覆層13として
銅膜の場合についてのみ述べているか、それ以外にアル
ミニウム、クロム、銀、金、亜鉛、錫等電気メッキ法に
てカーボン被覆層12上に膜を形成できるものであれば
よく、なにを形成するかはその金属被覆光ファイバ20
の用途に応じて使いわければよい、また必要に応じて異
種金属からなる多層の金属被覆層13を形成してもよい
、この場合光ファイバ側の電極としては前記カーボン被
覆層12か下層金属被覆層13を使用する。
銅膜の場合についてのみ述べているか、それ以外にアル
ミニウム、クロム、銀、金、亜鉛、錫等電気メッキ法に
てカーボン被覆層12上に膜を形成できるものであれば
よく、なにを形成するかはその金属被覆光ファイバ20
の用途に応じて使いわければよい、また必要に応じて異
種金属からなる多層の金属被覆層13を形成してもよい
、この場合光ファイバ側の電極としては前記カーボン被
覆層12か下層金属被覆層13を使用する。
また前記実施例においては光ファイバにカーボン被覆層
12を形成する工程と該カーボン被覆N12上に金属被
覆層13を形成する工程とを別工程にて、行っているが
、当然のことながらタンデムにて行ってもよい。
12を形成する工程と該カーボン被覆N12上に金属被
覆層13を形成する工程とを別工程にて、行っているが
、当然のことながらタンデムにて行ってもよい。
[発明の効果〕
前述の如く本発明の方法によれば、剥離し難く、しかも
初期ロスの少ない金属被覆光ファイバを得ることができ
る。
初期ロスの少ない金属被覆光ファイバを得ることができ
る。
第1図、第2図は本発明の金属被覆光ファイバの製造方
法の一実施例を示す概略図、第3図は本発明の方法によ
り得られた金属被覆光ファイバの一例を示す横断面図で
ある。 1〜光ファイバ母材 3〜反応炉 4〜カーボン被覆層
付き光ファイバ 7〜硫酸銅水溶液 8〜電解槽 12
〜力−ボン被覆層 13〜金属被覆層20〜金属被覆光
ファイバ
法の一実施例を示す概略図、第3図は本発明の方法によ
り得られた金属被覆光ファイバの一例を示す横断面図で
ある。 1〜光ファイバ母材 3〜反応炉 4〜カーボン被覆層
付き光ファイバ 7〜硫酸銅水溶液 8〜電解槽 12
〜力−ボン被覆層 13〜金属被覆層20〜金属被覆光
ファイバ
Claims (1)
- 最外層にカーボン被覆層を有する石英ガラス製の光フ
ァイバ上に、電気メッキ法により金属被覆層を形成する
ことを特徴とする金属被覆光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1085127A JPH02263742A (ja) | 1989-04-04 | 1989-04-04 | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1085127A JPH02263742A (ja) | 1989-04-04 | 1989-04-04 | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02263742A true JPH02263742A (ja) | 1990-10-26 |
Family
ID=13849982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1085127A Pending JPH02263742A (ja) | 1989-04-04 | 1989-04-04 | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02263742A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02278214A (ja) * | 1989-04-20 | 1990-11-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 気密被覆光ファイバ及びその製造方法 |
| JPH03107907A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ |
-
1989
- 1989-04-04 JP JP1085127A patent/JPH02263742A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02278214A (ja) * | 1989-04-20 | 1990-11-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 気密被覆光ファイバ及びその製造方法 |
| JPH03107907A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ |
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