JPH02264757A - ニトロインドール類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、医薬、農薬、電子材料等の分野においてその
原料や原体として有用なニトロインドール類の製造方法
に関する。

［従来の技術］ ７−ニトロインドール類ヤ４−ニトロインドール類は、
医薬、農薬、電子材料等の原料として重要である。例え
ば１−ニトロインドール類は現在写真薬の発色材の原料
として用いられており、また、４−二トロインドール類
は医薬の原料として用いられている。そして、これらの
化合物のＨａ六方法しては、例えば、７−ニトロインド
ールの場合には、■２−ニトロアニリンから合成された
２−二トロフェニルヒドラジンを原料にフィッシャー（
ＦｉＳＣｈｅｒ）反応によりインドール環を形成し、次
いで脱炭酸反応を行う方法（Ｊ、　Ａｍ、　Ｃｈｅｍ、
　Ｓｏｃ、、　８０．４２６１（１９５８））や、■５
−ニトローβ−ナフトールを出発原料に、開環、転位を
経てインドール環を形成させる方法（Ｔｒ、　）ｌｏｓ
ｋ、　Ｔｅｋｈｒｉｏｌ、　Ｉｎ５ｔ、、　１９７３．
７４）や、■インドールを出発原料とし、インドリンス
ルホン酸塩を経てニトロ化を行うことにより製造する方
法（Ｃｈｅｍ、　Ｂｅｒ、　９５．２２０５（ｔ９６２
））が知られている。

また、４−ニトロインドールの場合には、■２，６−シ
ニトロトルエンを原料として三工程で製造する方法（Ｃ
ｈｅｍ、　Ｐｈａｒｍ、　Ｂｕｌｌ、、　２９．３１４
５（１９８１）。

Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ、　６５．１４６
（ｔ９８７））が知られている。

ざらに、先に我々が提案した■７−又は４−位に−ＴＩ
（ＯＣＯＣＦ３）　２基を有するインドール化合物を原
料に、硝酸銅・三水和物の存在下にＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド−無水酢酸系混合溶媒で各々対応するニトロ
化合物を製造する方法がある（特願昭６３−２４２　、
３４２号出願）。

しかしながら、これら従来の方法においては原料及び反
応収率において欠点が挙げられている。

すなわち、７−二トロインドールの！！造方法である■
の方法では出発原料及び副原料のコストが高く、フィッ
シャー反応の開環収率が低いことが問題であり、■の方
法では出発原料を合成することが難しく、開環反応及び
転位反応の収率が低いことが問題であり、また、■の方
法ではインドールスルホン塩のニトロ化反応の際に５−
位にニトロ基が導入されるものがその主生成物であり、
７−位のニトロ化の選択性が低いことが問題である。さ
らに、４−ニトロインドールの製造方法である■では出
発原料及び副原料のコストが高く、反応の再現性が難し
いことが問題である。

以上の■〜■の方法の問題点を解決すべく、我々が提案
した■の方法は、一応上記■〜■の問題点を解決し・、
その反応収率もこれら■〜■の方法よりも高いが、それ
でも４０〜５０％程度であり、充分に満足できる結果で
はない。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明者らは、上記の問題点を解決すべく研究を重ねた
結果、７−位又は４−位に−Ｔｌ（ＯＣＯＣＦ３　＞　
２基を有するインドール化合物を原料に、１工程で高収
率に、しかも、位置選択的に７−位又は４−位にニトロ
基を有するインドールを製造することができる改良方法
を見い出し、本発明に到達した。

従って、本発明の目的は、収率良く、しかも、短い製造
工程で７−位又は４−位にニトロ基を有するインドール
類を位置選択的に製造することができる方法を提供する
ことにある。

［課題を解決するための手段］ すなわら、本発明は、下記一般式［２ａ１又は［２ｂ１
Ｆ３ＣＯＣＯ＼１０ＣＯＣＦ３ 丁１ Ｈ［２ｂ　］ （但し、式中Ｒは１価の基を示し、Ｒ２は置換基であり
、ｎはＯ又は１〜５の整数を示す）で表される化合物を
中間体として、下記一般式［１ａｌ。

【１ｂ１又は［１Ｃ１ Ｈ（１ｃｌ （但し、式中Ｒ３ハ水素又バーＣ０Ｒ１テＩ）　Ｖ）、
Ｒ１、Ｒ２及びｎは前記と同じである〉で表される化合
物を得るニトロインドール化合物類のＴＩＡ造方法でお
る。

本発明方法において、一般式［２ａ１及び［２ｂｌで示
される化合物は、−ＣＯＲ１で示されるカルボニル基を
有するインドール誘導体であり、このＲ１としては水素
、低級アルキル基、アリール基、アルコキシ基、水酸基
又はアミン基等の１価の基であって、好ましくは炭素数
１〜３のアルキル基が置換したアリール基、炭素数１〜
３のアルコキシ基又はアミノ基が挙げられる。また、置
換基Ｒ２は、好ましくは低級アルキル基又はアリール基
であり、ｎはＯ又は１〜５の整数である。

一般式［２ａ１の化合物から得られる一般式［１ａ］又
は［１ｂ１で示されるニトロインドール類及び一般式［
２ｂ１の化合物から得られる一般式［１ｃ］で示される
ニトロインドール類は、４−位にニトロ基を有する化合
物であり、Ｒ３は水素又は−ＣＯＲ１である。そして、
Ｒ１、Ｒ２及びｎは前記と同様のものを示す。

さらに、本発明方法において、中間体である一般式［２
ａｌ及び［２ｂ１の化合物の合成は、例えばＣｈｅｍ、
　Ｐｈａｒｍ、　　Ｂｕｌｌ、、　３５．３１４６（１
９８７）の記載の方法で行うことができる。

そして、本発明方法において、ニトロインドール類を製
造する場合には、中間体である一般式［２ａｌ又は［２
ｂ１の化合物に対して、硫酸銅１〜１゜当量、好ましく
は１〜３当間及び亜硝酸ナトリウム４〜１２当母、好ま
しくは６〜１０当量と、反応溶媒としてのＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド５〜４０中４部、好ましくは１０〜２
０重量部とを使用し、反応温度は８０〜１４０’Ｃ１好
ましくは１００〜１２０″Ｃ程度で行うのがよい。

反応終了後は、溶媒を留去してハロゲン系有機溶媒で抽
出した後、不溶性の無機物を濾過して飽和食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで脱水乾燥させ、次いで溶媒を留去
した後、得られた粗生成物を再結晶やカラムクロマトグ
ラフィー等の手段により精製する。

なお、一般式［２ａ１の化合物から上記方法により製造
される一般式［１ａ１の化合物は、常法に従って酸化脱
水素することにより容易に対応する一般式［１ｂ］の化
合物に変換することができる。

［作　用］ 本発明における反応は、銅塩の■価の鋼とベンゼン環と
がπ錯体を形成し、このπ銘体内でニトロソ化が先ず進
行し、次いで生成したニトロソ体が税離し、■価のタリ
ウムによる酸化によりニトロ体が生成し、目的物が１ｑ
られると考えられる。

［実施例］ 以下、実施例に基づいて、本発明方法を具体的に説明す
る。

なお、当量とあるのは、主原料のはを１当Ｗとしたどき
の値である。

実施例１ ＣＯ３Ｏ４−５８２０７６６，１Ｒｇ（９，１当Ｍ）を
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド９ｄに溶解した液にＮａ
ＮＯ２５６７，５ｆｆｉｇ（２４当量）を加え、室温下
に１５分間攪拌した。得られた溶液中に一般式［２ａ］
においてＲ，＝ＣＨ３、ｎ＝０の（１−アセチル−２，
３−ジヒドロインドール−７−イル）タリウムビス（ト
リフルオロアセテート＞２００．３１ｒＩｇ（１当量）
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｄに溶かした溶液を
加え、攪拌下に１００℃で２４時間反応させた。

反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に
メタノール−酢酸エチルエステル（５：９５゜Ｖ／Ｖ）
混合溶媒を加え、不溶性の固形物を濾別し除去した。濾
液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下に溶媒を留去した。

このようにして得られた結晶性の残留物を、塩化メチレ
ン−メタノール（９９：１．Ｖ／Ｖ）混合溶媒を展開溶
媒とするシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーニヨリ
精製し、Ｒｆ　（Ｉａｏ、４２〜０．２７（７）バンド
より得られた結晶をメタノール−水混合溶媒で再結晶し
、融点１１４．５〜１１５℃である無色針状晶の１−ア
セチル−２，３−ジヒドロ−７−二トロインドール５９
．９ｍｃＪ（収率８６％）を得た。

実施例２ １−アセチル−２，３−ジヒドロインドールを原料とし
、Ｃｈｅｍ　Ｐｈａｒｍ、　Ｂｕｌｌ、、　３５．３１
４６（１９８７）の方法に従って（１−アセチル−２，
３−ジヒドロインドール７−イル）タリウムピストリフ
ルオロアセテートを合成し、次いで得られた生成物を単
離精製することなく、上記実施例１と同様にして１−ア
セチル−２，３−ジヒドロインドールから１工程で目的
物を合成した。

すなわち、１−アセチル−２，３−ジヒドロインドール
８４．０ｍＦＪをトリフルオロ酢酸１ｍｌに溶解した１
麦、この溶液中に０．８８モル濃度のタリウムトリスト
リフルオロ酢酸溶液０．８９ｄ（１，５当量）を加え、
室温下に６０時間攪拌して反応させた。

反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、ｊｑられた残留物
をＮ、Ｎ〜ジメチルボルムアミド５．０ｍｌに溶解した
。得られた溶液中に、ＣｕＳＯ４５ｔ１２０１　、１８
３．７ｍｇ（ｇ当量）及びＮａＮＯ２１、８１０，３ｍ
ｙ（５０当母）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１５ｍ
に溶解して得られた溶液を加え、攪拌下に１００’Ｃで
２４時間反応させた。

反応終了後、減圧下に溶媒を留去して得られた残留物を
実施例１と同様に処理し、１−アセチル−２，３−ジヒ
ドロ−７−二トロインドール６１．８＃ｌび（５７，５
％）を得た。

実施例３ ＣｕＳ０４５Ｈ２０７８７、１ｍｆｆ（９，０当量）を
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド９ｄに溶解し、得られた
溶液にＮａＮＯ２５８０，２ｍＦＪ　（２４当量）ヲ加
え７１５分間撹拌した。得られた溶液中に、一般式［２
旧においてＲ１＝Ｈ５ｎ＝ｏの（３−ホルミルインドー
ル−４−イル）タリウムビス（トリフルオロアセテート
＞２０１．５７７７ｙをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
２ｍｌに溶解して得られた溶液を加え、攪拌下に９５〜
１００’Ｃで２４時間反応させた。

反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に
メタノール−酢酸エチルエステル（５：９５゜ν／Ｖ）
混合溶媒及び飽和食塩水を加え、良く攪拌した後、不溶
性の固形物を濾過して除去し、得られた濾液を分液して
有機層を得、この有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、溶媒を留去して残留物を得た。

このようにして得られた残留物を、メタノール−塩化メ
チレン（５：　９５．　Ｖ／Ｖ）混合溶媒を展開溶媒と
するシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーにより精製
し、融点２０６〜２０７℃の４−二トロインドール１．
２ＩＩｔｇ（収率２．１％）、３−ホルミルインドール
２．４η（収率４．７％）及び融点１９６〜１９８℃の
４−ニトロ−３−ホルミルインドール４８．２ｍ！ｊ（
収率７２．３％）を得た。

実施例４〜１３ 反応条件を第１表に示すように変化させたほかは、上記
実施例３と同様にして４−ニトロ−３−ホルミルインド
ールを合成した。そのときの反応条（！１及び収率を第
１表に示す。

実施例１４ ３−ホルミルインドールを原料とし、Ｃｈｃｍ、　Ｐｈ
ａｒｍ、　Ｂｕｌｌ、、　３５．３１４６（ｔ９８７）
の方法を利用して（３−ホルミルインドール−４−イル
）タリウムビス（１〜リフルオロアセテート）を合成し
、次いで得られた生成物を単離精製することなく、上記
実施例３と同様にして、３−ホルミルインドールから１
工程で目的物を合成した。

すなわち、３−ホルミルインドール１４５．８ｍｇをト
ルフルオロ酢酸１ｄに溶解し、得られた溶液中に０．８
８モル濃度のタリウムトリストリフルオロ酢酸溶液１．
３６ｍ（１，２当量）を加え、室温下に２４時間攪拌し
て反応させた。

反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、ｊｑられた残留物
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド６ｄに溶解し、コｈｋ
−ＣｕＳ’０４５Ｈ２０２，２８０，６ｍｆｆ（ｇ尚早
〉及びＮａＮＯ２１、６９４，６ｍｇ（２４当但）のＮ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド２６ｍ溶液を加え、攪拌下
に１ｏｏ’ｃで２４時間反応させた。

反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、（７られた残留物
を実施例３と同様に処理し、４−ニトロ−３−ポルミル
インドール１２５．０ｍｇ（収率６５．４％）を１９だ
。

［発明の効果］ 本発明方法によれば、入手困難である７−位又は４−位
にニトロ基を有するインドール類を短い工程で、しかも
、位置選択的に収率良く製造することができ、これによ
ってその工業的な製造が可能になり、その製造コストの
大幅な低減を図ることができる。

特許出願人　　　新日鐵化学株式会社

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記一般式［２ａ］又は［２ｂ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［２ａ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［２ｂ］ （但し、式中Ｒ＿１は１価の基を示し、Ｒ＿２は置換基
   であり、ｎは０又は１〜５の整数を示す）で表される化
   合物を中間体とし、下記一般式［１ａ］、［１ｂ］又は
   ［１ｃ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［１ａ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［１ｂ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［１ｃ］ （但し、式中Ｒ＿３は水素又は−ＣＯＲ＿１であり、Ｒ
   ＿１、Ｒ＿２及びｎは前記と同じである）で表される化
   合物を得ることを特徴とするニトロインドール類の製造
   方法。
2. （２）反応は硫酸銅及び亜硝酸ナトリウムの存在下にＮ
   ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを溶媒として行う請求項１
   記載のニトロインドール類の製造方法。