JPH02265193A - Multicolored electroluminescence display element and its manufacture - Google Patents
Multicolored electroluminescence display element and its manufactureInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、電気信号に応答して発光する多色エレクトロ
ルミネッセンス表示素子に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION TECHNICAL FIELD The present invention relates to multicolor electroluminescent display elements that emit light in response to electrical signals.
背景技術
電気信号に応答して多色表示するカラー表示装置として
はブラウン管が広く利用されている。装置の薄型化のた
めに液晶型表示素子も開発されている。更に、完全固体
型として高輝度の発光が得られるエレクトロルミネッセ
ンス(以下ELという)を用いた表示素子も開発されて
いる。BACKGROUND ART Braun tubes are widely used as color display devices that display multiple colors in response to electrical signals. Liquid crystal display elements have also been developed to make devices thinner. Furthermore, display elements using electroluminescence (hereinafter referred to as EL), which are completely solid-state and can emit high-intensity light, have also been developed.
かかるEL表示素子は構造で分類すると、電極とEL層
との間に絶縁層又は誘電層をもたない直流形と、電極と
EL層との間に絶縁層をもつ交流形とに分類され、該交
流形のものはドツトマトリクスEL表示素子として適し
ている。Such EL display elements are classified by structure into DC type, which does not have an insulating layer or dielectric layer between the electrode and the EL layer, and AC type, which has an insulating layer between the electrode and the EL layer. The AC type is suitable as a dot matrix EL display element.
また、EL表示素子を発光するEL層で分類すると、E
L層物質の微粒子をバインダで結合させ塗布形成した分
散形と、EL層物質で蒸着、スパッタ等の薄膜形成方法
で成膜した薄膜形とに分けられる。Furthermore, when classifying EL display elements by the EL layer that emits light, E
There are two types: a dispersed type in which fine particles of the L layer material are bonded with a binder and formed by coating, and a thin film type in which the EL layer material is formed by a thin film forming method such as vapor deposition or sputtering.
第5図に二重絶縁形交流EL表示素子の概略断面を示す
。該EL表示素子は、ガラス透明基板1上に、ITO等
の透明電極2、第1絶縁膜3. EL層5、第2絶縁
膜3、背面電極9を順に積層、形成したものである。E
L層5はZnS、Zn5e、CaS、SrS等のII−
Vll金金属化合物半導体物質を母体物質として数%の
発光中心物質を含む層である。FIG. 5 shows a schematic cross section of a double-insulated AC EL display element. The EL display element includes a glass transparent substrate 1, a transparent electrode 2 such as ITO, a first insulating film 3. An EL layer 5, a second insulating film 3, and a back electrode 9 are laminated and formed in this order. E
The L layer 5 is made of II- such as ZnS, Zn5e, CaS, SrS, etc.
This is a layer containing several percent of a luminescent center material using a Vll gold metal compound semiconductor material as a host material.
かかるEL表示素子の発光機構は、背面電極9と透明電
極2との間に電圧を印加して第1及び第2絶縁膜3を介
してEL層5に電界が印加される。In the light emitting mechanism of such an EL display element, a voltage is applied between the back electrode 9 and the transparent electrode 2, and an electric field is applied to the EL layer 5 via the first and second insulating films 3.
かかる印加電界によりEL層5の母体物質中に自由電子
が発生し、電界での自由電子が加速されて高エネルギー
状態のホットエレクトロンになる。The applied electric field generates free electrons in the host material of the EL layer 5, and the free electrons in the electric field are accelerated to become hot electrons in a high energy state.
このホットエレクトロンがEL層5の発光中心物質を励
起して、励起状態の緩和により所定スペクトル分布を有
する発光をする。発光色はEL層5の母体物質と発光中
心物質の組合せで決定される。These hot electrons excite the luminescent center substance of the EL layer 5, and the excited state is relaxed to emit light having a predetermined spectral distribution. The color of the emitted light is determined by the combination of the host material of the EL layer 5 and the luminescent center material.
例えば、ZnSを母体物質とする場合、発光中心物質が
Smでは赤色発光を呈し、同様にMnでは黄色発光、T
bでは緑色発光、Tmでは青色発光を呈する。For example, when using ZnS as a host material, when the luminescence center substance is Sm, it emits red light, and similarly, when the luminescence center substance is Sm, it emits yellow light, and when it is Mn, it emits yellow light and T
At b, green light is emitted, and at Tm, blue light is emitted.
かかるEL表示素子の多色化する方法としては、複数種
類のEL層を平面基板上に逐次積み重ねて素子を構成す
る方法がある。しかし、この場合、EL表示素子全体の
輝度の不足やEL層に欠陥が発生し易いという問題があ
る。As a method of making such an EL display element multicolored, there is a method of constructing the element by sequentially stacking a plurality of types of EL layers on a flat substrate. However, in this case, there are problems in that the brightness of the entire EL display element is insufficient and defects are likely to occur in the EL layer.
そこで平面基板上にEL層を形成する多色の発光領域を
二次元的に配列してEL表示素子を構成する方法が開発
されている。かかる平面型多色EL表示素子を製造する
方法としては、ガラス基板上にEL層物質を蒸着し、ホ
トリソグラフィ法によってEL層物質の薄膜を所望部分
のみ残しこれ以外を基板からフォトレジスト膜と共に剥
離除去して発光領域を形成する工程を繰り返して、複数
種類のEL層物質の発光領域薄膜を二次元的に隣り合わ
せに作成する方法がある(月刊セミコンダクター・ワー
ルド、1987年、(8)、156〜157頁)。Therefore, a method has been developed in which an EL display element is constructed by two-dimensionally arranging multicolored light emitting regions forming an EL layer on a flat substrate. A method for manufacturing such a flat multicolor EL display element involves depositing an EL layer material on a glass substrate, and using photolithography to leave a thin film of the EL layer material only on a desired portion and peeling off the rest along with a photoresist film from the substrate. There is a method of repeating the process of removing and forming a light emitting region to create light emitting region thin films of multiple types of EL layer materials two-dimensionally adjacent to each other (Monthly Semiconductor World, 1987, (8), 156- 157 pages).
かかる複数種類の発光領域作成方法は第6図に示す工程
を経ておこなわれる。まず、ガラス基板1上に透明電極
2と誘電層3とを順に積層し、その上にフォトレジスト
4を塗布し、ホトリソグラフィ法によって第1の発光領
域を設けるべき部分のフォトレジストを除去する(第6
図a)。続いてこの上に第1の発光領域物質5を蒸着す
る(第6図b)。フォトレジスト4と共に第1の発光領
域物質5を剥離することによって所望部分のみに第1の
発光領域物質5を残す(第6図C)。This method of creating multiple types of light emitting regions is performed through the steps shown in FIG. First, a transparent electrode 2 and a dielectric layer 3 are sequentially laminated on a glass substrate 1, a photoresist 4 is applied thereon, and the photoresist is removed at a portion where a first light emitting region is to be provided by a photolithography method ( 6th
Diagram a). Subsequently, a first light emitting region material 5 is deposited thereon (FIG. 6b). By peeling off the first light-emitting region material 5 together with the photoresist 4, the first light-emitting region material 5 is left only in a desired portion (FIG. 6C).
次に、フォトレジスト4を塗布し、ホトリソグラフィ法
によって第2の発光領域を設けるべき部分のフォトレジ
ストを除去する(第6図d)。続いてこの上に第2の発
光領域物質6を蒸着する(第6図e)。次に、フォトレ
ジスト4と共に第2の発光領域物質6を剥離することに
よって所望部分のみに第2の発光領域物質6を残し、第
1の発光領域物質5と第2の発光領域物質6とを夫々所
望部分に配設した基板が得られる(第6図f)。Next, a photoresist 4 is applied, and the photoresist in the area where the second light emitting region is to be provided is removed by photolithography (FIG. 6d). Subsequently, a second light emitting region material 6 is deposited thereon (FIG. 6e). Next, the second light-emitting region material 6 is peeled off together with the photoresist 4, leaving the second light-emitting region material 6 only in desired areas, and the first light-emitting region material 5 and the second light-emitting region material 6 are separated. A substrate is obtained in which each of the substrates is disposed at a desired portion (FIG. 6f).
次に、以上の工程を第3の発光領域物質7について繰返
して、所定の発光領域すべてを所定部分に配設した基板
体を得る(第6図g)。これを誘電層8で被覆しく第6
図h)、それぞれの発光領域の上に対応する電極9を公
知の工程に従ってそれぞれの位置に設けてEL表示素子
が製造される(第6図i)。Next, the above steps are repeated for the third light-emitting region material 7 to obtain a substrate body in which all the predetermined light-emitting regions are arranged in predetermined portions (FIG. 6g). This is covered with a dielectric layer 8.
6h), an EL display element is manufactured by providing corresponding electrodes 9 on each light emitting region at respective positions according to a known process (FIG. 6i).
上述のような従来の製造方法では、フォトレジスト層に
形成した孔の部分に付着堆積した発光領域層を残してフ
ォトレジスト層上の他の発光領域層をフォトレジスト層
と共に剥離して除去するので、基板の全面にわたってレ
ジスト層のパターン形状を精密に形成する必要がある。In the conventional manufacturing method as described above, the light emitting region layer deposited in the hole formed in the photoresist layer is left behind, and the other light emitting region layers on the photoresist layer are peeled off and removed together with the photoresist layer. , it is necessary to precisely form the pattern shape of the resist layer over the entire surface of the substrate.
また、発光領域層の堆積厚さなどを正確に制御する必要
もある。It is also necessary to accurately control the deposition thickness of the light emitting region layer.
このようなEL素子製造方法においては、パターンの微
細化と共に工程管理の厳密さが要求されるので、発光領
域パターンの高密度化には限度がある。In such an EL element manufacturing method, there is a limit to increasing the density of the light emitting region pattern because it requires finer patterns and stricter process control.
発明の概要
本発明の目的は、工程管理及び発光領域パターンの高密
度化が容易に達成できる多色EL表示素子及びその製造
方法を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a multicolor EL display element and a method for manufacturing the same, which can easily achieve process control and increase the density of a light emitting region pattern.
本発明の多色エレクトロルミネッセンス表示素子は、発
光色の互いに異なる複数の発光領域を含むエレクトロル
ミネッセンス層を有するエレクトロルミネッセンス表示
素子であって、
前記エレクトロルミネッセンス層は母体物質及び少なく
とも1種類の発光中心物質を含む母体層と、前記発光領
域のうちの少なくとも1に対応する所定領域内に混在す
る異なる発光色の発光中心物質とからなることを特徴と
する。The multicolor electroluminescent display element of the present invention is an electroluminescent display element having an electroluminescent layer including a plurality of light emitting regions having different emission colors, the electroluminescent layer comprising a host substance and at least one type of luminescent center substance. and luminescent center substances of different luminescent colors mixed in a predetermined region corresponding to at least one of the luminescent regions.
本発明の多色エレクトロルミネッセンス表示素子の製造
方法は、発光色の互いに異なる発光領域を含むエレクト
ロルミネッセンス層を有するエレクトロルミネッセンス
素子の製造方法であって、母体物質と少なくとも1種類
の発光中心物質とを含む母体層を形成する成膜工程と、
前記少なくとも1種類の発光中心物質の発光色より長波
長の発光色の発光中心物質を前記母体層の前記発光領域
の少なくとも1に対応する所定領域に拡散する拡散工程
とを含むことを特徴とする。The method for manufacturing a multicolor electroluminescent display element of the present invention is a method for manufacturing an electroluminescent element having an electroluminescent layer including light emitting regions of different emission colors, the method comprising: a base substance and at least one type of luminescent center substance; a film-forming step of forming a base layer containing a luminescent center substance having a longer wavelength than the luminescent color of the at least one type of luminescent center substance, and diffusing a luminescent center substance having a longer wavelength than the luminescent color of the at least one type of luminescent center substance into a predetermined region corresponding to at least one of the light emitting regions of the base layer. The method is characterized in that it includes a diffusion step.
実施例 以下、本発明の実施例を、図面を参照しつつ説明する。Example Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
まず、ガラス基板1の面上に透明電極2と第1誘電層3
とを順に積層したものを用意する。次に、第1図(a)
に示すように、この基板面の第1誘電層3上に、母体物
質と予定されるEL層の複数の発光領域の中で最も短波
長の光を主に発光する発光中心物質とを含む母体層10
を、例えば化学蒸着やスパッタリングなどの物理蒸着な
どの方法によって、均一に形成する。First, a transparent electrode 2 and a first dielectric layer 3 are placed on the surface of a glass substrate 1.
Prepare a layered layer in this order. Next, Figure 1(a)
As shown in FIG. 1, a matrix is formed on the first dielectric layer 3 on the substrate surface, which includes a matrix material and a luminescent center substance that mainly emits light with the shortest wavelength among the plurality of luminescent regions of the planned EL layer. layer 10
is uniformly formed, for example, by a method such as chemical vapor deposition or physical vapor deposition such as sputtering.
母体層10は例えば真空蒸着法などの物理蒸着法によっ
て0.3〜1.0μmの膜厚に成膜することが好ましい
。母体層10は、予定されるEL層の複数の発光領域に
共通な母体組成である、例えば硫化亜鉛ZnSなどが選
ばれる。こうした母体層10は良好な発光特性を得るた
めに発達した結晶構造を有するものであることが望まし
い。また、予めZnSの母体層を形成しておいてその上
に短波長の発光中心物質を付着させて熱拡散によって短
波長の発光中心物質を含有する母体層を形成してもよい
。The base layer 10 is preferably formed to a thickness of 0.3 to 1.0 μm by a physical vapor deposition method such as a vacuum deposition method. For the matrix layer 10, a matrix composition common to a plurality of light emitting regions of the planned EL layer, such as zinc sulfide ZnS, is selected. It is desirable that such a base layer 10 has a well-developed crystal structure in order to obtain good light-emitting characteristics. Alternatively, a matrix layer of ZnS may be formed in advance, and a luminescence center substance with a short wavelength may be deposited thereon to form a matrix layer containing the luminescence center substance with a short wavelength by thermal diffusion.
次に、第1図(b)に示すように、母体層10上におい
て発光中心物質11a、12aをそれぞれ異なった発光
領域となるように真空蒸着によって層状に二次元的に成
膜する。この際、母体層10は既に発光をしつる状態に
あるので発光中心物質11a、12aの薄膜によって母
体層10の全表面を覆うことはしない。Next, as shown in FIG. 1(b), the luminescent center substances 11a and 12a are two-dimensionally formed into a layered film by vacuum evaporation so as to form different luminescent regions on the base layer 10. At this time, since the base layer 10 is already in a state of emitting light, the entire surface of the base layer 10 is not covered with the thin film of the luminescent center substances 11a and 12a.
その薄膜付着方法としては、例えば水性塗料として母体
層10上に印刷するなどの方法や、スパッタ蒸着などの
物理蒸着法が利用できる。特に高精密度が要求されない
ときは、通常の印刷方法を利用することが好ましい。微
細なパターンが要求されるときは印刷または蒸着とホト
エツチング工程とを併用することもできる。As a method for attaching the thin film, for example, a method such as printing on the base layer 10 as a water-based paint, or a physical vapor deposition method such as sputter deposition can be used. When particularly high precision is not required, it is preferable to use conventional printing methods. When a fine pattern is required, a combination of printing or vapor deposition and a photoetching process can be used.
次に、発光中心物質11a、12aが薄膜状に付着した
基板1を加熱して、発光中心物質を母体層10中に拡散
させ、第1図(c)に示すように、母体層10中に異な
った発光をなす発光領域11゜12を形成する。かかる
熱拡散の条件は、真空中400〜800℃で、5〜50
時間程度である。Next, the substrate 1 on which the luminescent center substances 11a and 12a are attached in a thin film form is heated to diffuse the luminescent center substances into the base layer 10, as shown in FIG. 1(c). Light emitting regions 11 and 12 that emit different light are formed. The conditions for such thermal diffusion are 400 to 800°C in vacuum and 5 to 50°C.
It takes about an hour.
これらの発光領域11.12においては、母体層10に
予め含まれている短波長の発光中心物質とこれより長波
長の発光中心物質11a、12aが混在している。この
ように第1誘電層3上に、母体層10である短波長発光
領域と、長波長の発光領域11.12とが形成される。In these light-emitting regions 11 and 12, a short-wavelength light-emitting center substance previously included in the base layer 10 and a longer-wavelength light-emitting center substance 11a, 12a coexist. In this way, on the first dielectric layer 3, a short wavelength light emitting region, which is the base layer 10, and a long wavelength light emitting region 11, 12 are formed.
次に、第1図(d)に示すように、短波長及び長波長の
発光領域10,11.12を担持した第1誘電層3上に
、第2誘電層8を蒸着し、次に各色発光領域のそれぞれ
に対応する第2電極層5をその上に重ねて蒸着形成する
ことにより、第1図(e)に示すように、本発明のEL
表示素子が得られる。Next, as shown in FIG. 1(d), a second dielectric layer 8 is deposited on the first dielectric layer 3 carrying short wavelength and long wavelength light emitting regions 10, 11, 12, and then each color By depositing a second electrode layer 5 on top of the second electrode layer 5 corresponding to each of the light emitting regions, the EL of the present invention can be formed as shown in FIG. 1(e).
A display element is obtained.
具体的に本実施例のEL表示素子の発光を調べた。第2
図のグラフは、母体物質ZnSと短波長の発光中心物質
TbF3とからなる母体層に長波長の発光中心物質Mn
が混在した第1図(e)に示す長波長の発光領域11か
ら発する光のスペクトル分布を示す。第3図のグラフは
、母体物質ZnSと短波長の発光中心物質TbF3とか
らなる母体層の第1図(e)に示す短波長の発光領域1
0から発する光のスペクトル分布を示す。Specifically, the light emission of the EL display element of this example was investigated. Second
The graph in the figure shows that a long-wavelength luminescent center substance Mn is added to the base layer consisting of a base material ZnS and a short-wavelength luminescent center substance TbF3.
The spectral distribution of light emitted from the long wavelength light emitting region 11 shown in FIG. The graph in FIG. 3 shows the short wavelength light emitting region 1 shown in FIG.
It shows the spectral distribution of light emitted from zero.
比較例として従来のEL表示素子の発光を調べた。第4
図のグラフは、熱拡散によって形成した母体物質ZnS
と長波長の発光中心物質Mnとからなる従来の母体層の
長波長の発光領域から発する光のスペクトル分布を示す
。As a comparative example, the light emission of a conventional EL display element was investigated. Fourth
The graph in the figure shows the base material ZnS formed by thermal diffusion.
The spectral distribution of light emitted from the long-wavelength light-emitting region of a conventional base layer consisting of a long-wavelength light-emitting center substance Mn and a long-wavelength light-emitting center substance Mn is shown.
尚、成膜条件は以下の表のとおりであり、拡散条件は何
れも550℃、8時間である。The film forming conditions are as shown in the table below, and the diffusion conditions are all 550° C. and 8 hours.
このように、以上の結果から、母体層が短波長(緑)の
発光中心物質とを含むものであっても、母体層が長波長
の発光中心物質によって活性化することにより長波長の
発光中心物質が支配的となり、長波長(黄)の発光する
発光領域に転化することが判る。In this way, from the above results, even if the base layer contains a short wavelength (green) luminescent center substance, the long wavelength luminescent center can be activated by the long wavelength luminescent center substance when the base layer is activated by the long wavelength luminescent center substance. It can be seen that the substance becomes dominant and the region changes to a luminescent region that emits light of a long wavelength (yellow).
なお、ここでは多色化されたEL表示素子として二重絶
縁型の交流電圧印加方式のものを例として説明したが、
誘電層を省略するか又は導電層として直流電圧印加方式
とすることもできる。また、電極を透明電極材料により
形成したうえ多色化発光領域層を重積するなどしてもよ
い。In addition, here, a double insulation type AC voltage application system was explained as an example of a multicolor EL display element.
The dielectric layer may be omitted or a conductive layer may be used to apply a DC voltage. Alternatively, the electrode may be formed of a transparent electrode material and then a multicolor light emitting region layer may be stacked thereon.
発明の効果
本発明のEL表示素子によれば、多色EL層が母体物質
及び少なくとも1種類の発光中心物質を含む母体層と、
発光領域のうちの少なくとも1に対応する所定領域内に
混在する異なる発光色の発光中心物質とからなる故に、
発光中心物質の種類により長波長及び短波長の発光領域
が二元的に入り交じったEL層であっても長波長の光が
優先して発光されるので複数の発光領域やその境界の設
計が容易になる。Effects of the Invention According to the EL display element of the present invention, the multicolor EL layer includes a matrix layer containing a matrix substance and at least one kind of luminescent center substance;
Since it consists of luminescent center substances of different luminescent colors coexisting within a predetermined region corresponding to at least one of the luminescent regions,
Even in an EL layer in which long-wavelength and short-wavelength light-emitting regions are dually mixed depending on the type of luminescent center substance, long-wavelength light is emitted preferentially, so the design of multiple light-emitting regions and their boundaries is difficult. becomes easier.
本発明のEL表示素子の製造方法によれば、各色の発光
領域に共通の母体物質と最も短波長を発光する発光中心
物質とを含む母体層上に、母体を各色発光領域にそれぞ
れ転化させつる長波長発光中心物質の薄層を付着させた
うえ、これを熱処理して各発光中心物質を母体層内に一
挙に拡散させることにより多色EL層を形成するので、
従来の製法にくらべて工程が少なくなる。そして従来、
ホトフォトレジスト上に発光領域層を形成するので高温
条件を採用できず、発光領域の組成や結晶構造等を決定
する成膜条件を自由に選択できなかったのに対し、本発
明においてはそのような制約は一切なく、任意の成膜条
件を選択できる利点がある。According to the method for manufacturing an EL display element of the present invention, on a matrix layer containing a matrix substance common to the luminescent regions of each color and a luminescent center substance that emits the shortest wavelength, a matrix is formed by converting the matrix into the luminescent regions of each color. A multicolor EL layer is formed by depositing a thin layer of long-wavelength emission center substances and then heat-treating this to diffuse each emission center substance into the base layer at once.
There are fewer steps than traditional manufacturing methods. And conventionally,
Since the light-emitting region layer is formed on a photoresist, high-temperature conditions cannot be used, and film-forming conditions that determine the composition, crystal structure, etc. of the light-emitting region cannot be freely selected. There are no restrictions at all, and there is an advantage that any film forming conditions can be selected.
更に、発光中心物質層を母体層上に付着させる方法は精
度と経済性とを満たし得るものを適宜選択でき、特に印
刷工程などが用い得るので量産性をも兼ね備えることが
できる特長がある。Furthermore, the method for depositing the luminescent center substance layer on the base layer can be appropriately selected to satisfy both accuracy and economy, and in particular, a printing process can be used, so it has the advantage of being mass-producible.
第1図は本発明のEL表示素子の製造工程における基板
の概略断面図、第2図及び第3図は本発明のEL表示素
子の長波長及び短波長の発光領域における発光のスペク
トルの分布グラフ、第4図は従来のEL表示素子の長波
長の発光領域における発光のスペクトルの分布グラフ、
第5図は従来のEL表示素子の断面図、第6図は従来の
多色EL表示素子を製造する工程における基板の概略断
面図である。
主要部分の符号の説明FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a substrate in the manufacturing process of the EL display element of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are distribution graphs of emission spectra in the long wavelength and short wavelength emission regions of the EL display element of the present invention. , FIG. 4 is a distribution graph of the emission spectrum in the long wavelength emission region of a conventional EL display element.
FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional EL display element, and FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a substrate in the process of manufacturing a conventional multicolor EL display element. Explanation of symbols of main parts
Claims (8)
レクトロルミネッセンス層を有するエレクトロルミネッ
センス表示素子であって、 前記エレクトロルミネッセンス層は、母体物質及び少な
くとも1種類の発光中心物質を含む母体層と、前記発光
領域のうちの少なくとも1に対応する所定領域内に混在
する異なる発光色の発光中心物質とからなることを特徴
とする多色エレクトロルミネッセンス表示素子。(1) An electroluminescent display element having an electroluminescent layer including a plurality of light emitting regions having different emission colors, the electroluminescent layer comprising a host layer containing a host substance and at least one kind of luminescent center substance, A multicolor electroluminescent display element characterized by comprising luminescent center substances of different luminescent colors coexisting in a predetermined region corresponding to at least one of the luminescent regions.
種類の発光中心物質はTbF_3であり、かつ前記異な
る発光色の発光中心物質はMnであることを特徴とする
請求項1記載の多色エレクトロルミネッセンス表示素子
。(2) The host material is ZnS, and the at least one
2. The multicolor electroluminescent display device according to claim 1, wherein the type of luminescent center substance is TbF_3, and the luminescent center substance of the different luminescent color is Mn.
ルミネッセンス層を有するエレクトロルミネッセンス表
示素子の製造方法であって、 母体物質と少なくとも1種類の発光中心物質とを含む母
体層を形成する成膜工程と、 前記少なくとも1種類の発光中心物質の発光色より長波
長の発光色の発光中心物質を前記母体層の前記発光領域
の少なくとも1に対応する所定領域に拡散する拡散工程
とを含むことを特徴とする多色エレクトロルミネッセン
ス表示素子の製造方法。(3) A method for manufacturing an electroluminescent display element having an electroluminescent layer including light-emitting regions of different emission colors, the method comprising: a film-forming step of forming a host layer containing a host substance and at least one type of luminescent center substance; , comprising a step of diffusing a luminescent center substance having a longer wavelength than the luminescent color of the at least one type of luminescent center substance into a predetermined region corresponding to at least one of the light emitting regions of the base layer. A method for manufacturing a multicolor electroluminescent display element.
種類の発光中心物質はTbF_3であり、かつ前記長波
長の発光色の発光中心物質はMnであることを特徴とす
る請求項3記載の方法。(4) The host material is ZnS, and the at least one
4. The method according to claim 3, wherein the type of luminescent center substance is TbF_3, and the luminescent center substance of the long wavelength emission color is Mn.
により形成することを特徴とする請求項3記載の方法。(5) The method according to claim 3, wherein in the film forming step, the base layer is formed by a physical vapor deposition method.
発光中心物質を前記母体層上に薄膜層として成膜して、
固相・固相直接熱拡散法により前記長波長の発光色の発
光中心物質を前記母体層中に拡散することを特徴とする
請求項3記載の方法。(6) In the diffusion step, the luminescence center substance of the long wavelength luminescent color is formed as a thin film layer on the base layer,
4. The method according to claim 3, wherein the luminescent center substance emitting the long-wavelength luminescent color is diffused into the base layer by solid phase/solid phase direct thermal diffusion method.
徴とする請求項6記載の方法。(7) The method according to claim 6, wherein the thin film layer is formed by physical vapor deposition.
る請求項6記載の方法。(8) The method according to claim 6, wherein the thin film layer is formed by printing.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1084257A JPH02265193A (en) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | Multicolored electroluminescence display element and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1084257A JPH02265193A (en) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | Multicolored electroluminescence display element and its manufacture |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02265193A true JPH02265193A (en) | 1990-10-29 |
Family
ID=13825401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1084257A Pending JPH02265193A (en) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | Multicolored electroluminescence display element and its manufacture |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02265193A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6054809A (en) * | 1996-08-14 | 2000-04-25 | Add-Vision, Inc. | Electroluminescent lamp designs |
-
1989
- 1989-04-03 JP JP1084257A patent/JPH02265193A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6054809A (en) * | 1996-08-14 | 2000-04-25 | Add-Vision, Inc. | Electroluminescent lamp designs |
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