JPH02265633A - グラフト膜の透水速度の改善方法 - Google Patents
グラフト膜の透水速度の改善方法Info
- Publication number
- JPH02265633A JPH02265633A JP8403889A JP8403889A JPH02265633A JP H02265633 A JPH02265633 A JP H02265633A JP 8403889 A JP8403889 A JP 8403889A JP 8403889 A JP8403889 A JP 8403889A JP H02265633 A JPH02265633 A JP H02265633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- membrane
- graft
- film
- water permeation
- monomer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、水性混合物から微粒子と、必要ならばイオン
を同時に除去し得る選択濾過膜のが過特性を改善する方
法に関する。
を同時に除去し得る選択濾過膜のが過特性を改善する方
法に関する。
さらに詳しくは、一般産業用水中の微粒子と、必要なら
ばイオンを同時に除去する事の出来る濾過膜の透水速度
を改善する方法に関する。
ばイオンを同時に除去する事の出来る濾過膜の透水速度
を改善する方法に関する。
水性混合物から、微粒子と必要ならばイオンを同時に除
去する濾過膜は、例えば特開昭６１２２０７０５号公報
や特開昭６２−１７９５４０号公報に記載されている。
去する濾過膜は、例えば特開昭６１２２０７０５号公報
や特開昭６２−１７９５４０号公報に記載されている。
これらの膜はすぐれた機能を存しているが、アニオン基
、カチオン基、又は中性水酸基を膜にグラフトさせると
、基材膜に比して炉液流出量（フラックス）が低下する
傾向があった。
、カチオン基、又は中性水酸基を膜にグラフトさせると
、基材膜に比して炉液流出量（フラックス）が低下する
傾向があった。
このため基材膜の選択が重要となるが、往々にして基材
膜を設計したのち得られるグラフト膜のフラックスが、
期待通りにならない場合がある。
膜を設計したのち得られるグラフト膜のフラックスが、
期待通りにならない場合がある。
グラフト膜のフラックス改善方法として、グラフト重合
を行ったのち、さらに膜に電子線を照射する方法もある
が、膜の機械的物性の点から最善の方法とはいえない。
を行ったのち、さらに膜に電子線を照射する方法もある
が、膜の機械的物性の点から最善の方法とはいえない。
また、２コ以上の反応基を有する共重合体モノマーを共
存させてグラフト重合を行い、フラックスの高い膜を得
る方法も提案されている（特開昭６２−２５８７１１号
公報）が、これも最善の方法とはいいがたい。
存させてグラフト重合を行い、フラックスの高い膜を得
る方法も提案されている（特開昭６２−２５８７１１号
公報）が、これも最善の方法とはいいがたい。
本発明の目的は、透水速度の改善されたグラフト膜を提
供することにある。
供することにある。
本発明は、
ポリオレフィン、オレフィンとハロゲン化オレフィンの
共重合体、ポリフッ化ビニリデンまたはポリスルホンか
らなる基材膜に、アニオン基、カチオン基または中性水
酸基を含有するモノマーをグラフト重合させたのち、２
コ以上の反応基を有するモノマーを膜に含浸させ、架橋
化処理することを特徴とする平均孔径０．００１〜５μ
、空孔率２０〜８０％のグラフト膜の透水速度の改善方
法に関する。
共重合体、ポリフッ化ビニリデンまたはポリスルホンか
らなる基材膜に、アニオン基、カチオン基または中性水
酸基を含有するモノマーをグラフト重合させたのち、２
コ以上の反応基を有するモノマーを膜に含浸させ、架橋
化処理することを特徴とする平均孔径０．００１〜５μ
、空孔率２０〜８０％のグラフト膜の透水速度の改善方
法に関する。
好ましい態様としては、
（１）２コ以上の反応基を有する七ツマ−が、ジビニル
ベンゼン、ポリアルキレンオキサイドのジメタクリル酸
またはアクリル酸のエステル、トリアリフレイソシアヌ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレートま
たはアクリレートから選ばれる上記のグラフト膜の透水
速度の改善方法 （２）架橋化処理の手段が、電子線またはγ線照射であ
る上記のグラフト膜の透水速度の改善方法（３）架橋化
処理の程度が、架橋化される前のグラフト膜の透水率（
Ｆｂ）と、架橋化された後の透水率（Ｆａ）の間に の関係が成立する上記のグラフト膜の透水速度の改善方
法 があげられる。
ベンゼン、ポリアルキレンオキサイドのジメタクリル酸
またはアクリル酸のエステル、トリアリフレイソシアヌ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレートま
たはアクリレートから選ばれる上記のグラフト膜の透水
速度の改善方法 （２）架橋化処理の手段が、電子線またはγ線照射であ
る上記のグラフト膜の透水速度の改善方法（３）架橋化
処理の程度が、架橋化される前のグラフト膜の透水率（
Ｆｂ）と、架橋化された後の透水率（Ｆａ）の間に の関係が成立する上記のグラフト膜の透水速度の改善方
法 があげられる。
以下、本発明について更に具体的に説明する。
本発明に用いられる基材膜は、ポリオレフィン、オレフ
ィンとハロゲン化オレフィンの共重合体、ポリフッ化ビ
ニリデン、ポリスルホン等の疎水性多孔膜である事が、
基材膜として必要な機械的性質の保持のために必要であ
る。
ィンとハロゲン化オレフィンの共重合体、ポリフッ化ビ
ニリデン、ポリスルホン等の疎水性多孔膜である事が、
基材膜として必要な機械的性質の保持のために必要であ
る。
ポリオレフィン、オレフィンとハロゲン化オレフィンの
共重合体の具体例としては、たとえばポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリブチレン又は前記の２種以上の混合
物、又はエチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセンと、
テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン
からそれぞれ選ばれるモノマーよりなる共重合体等があ
げられる。
共重合体の具体例としては、たとえばポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリブチレン又は前記の２種以上の混合
物、又はエチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセンと、
テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン
からそれぞれ選ばれるモノマーよりなる共重合体等があ
げられる。
次に、基材膜からグラフト膜を製造する方法について述
べる。基材膜にグラフトされるアニオン基の例としては
、スルホン酸基、カルボキシル基（多価カルボン酸を含
む）が好ましく、たとえばスチレン′を電子線照射でグ
ラフトしたのちスルホン化処理する、または直接アクリ
ル酸、メタクリル酸をグラフトすることにより形成され
る。
べる。基材膜にグラフトされるアニオン基の例としては
、スルホン酸基、カルボキシル基（多価カルボン酸を含
む）が好ましく、たとえばスチレン′を電子線照射でグ
ラフトしたのちスルホン化処理する、または直接アクリ
ル酸、メタクリル酸をグラフトすることにより形成され
る。
基材膜にグラフトされるカチオン基の例としては、第４
級アミン、第３級アミン、ピリジン基等が好ましく、た
とえばスチレンを電子線照射でグラフトしたのち、クロ
ロメチル化させて有機アミンを反応させることにより形
成される。
級アミン、第３級アミン、ピリジン基等が好ましく、た
とえばスチレンを電子線照射でグラフトしたのち、クロ
ロメチル化させて有機アミンを反応させることにより形
成される。
基材膜にグラフトされる中性水酸基を含むモノマーの例
としては、アリルアルコールがあげられる。また、例え
ば、酢酸ビニール七ツマ−をグラフトさせたのちけん化
させて中性水酸基を得てもよい。このようにグラフト膜
は適宜製造する事が出来るが、−船釣には各種の放射線
（コバルトガンマ−線、電子Ｍ）等で基材膜を照射し、
照射時にモノマーを存在させるか又はあとで七ツマ−に
浸漬してグラフトさせる事が出来る。グラフト後、未反
応モノマーは洗浄除去される。
としては、アリルアルコールがあげられる。また、例え
ば、酢酸ビニール七ツマ−をグラフトさせたのちけん化
させて中性水酸基を得てもよい。このようにグラフト膜
は適宜製造する事が出来るが、−船釣には各種の放射線
（コバルトガンマ−線、電子Ｍ）等で基材膜を照射し、
照射時にモノマーを存在させるか又はあとで七ツマ−に
浸漬してグラフトさせる事が出来る。グラフト後、未反
応モノマーは洗浄除去される。
架橋化処理に用いる２コ以上の反応基を有する七ツマ−
としては、ジビニルベンゼン；エチレングリコールジメ
タクリレート等のポリアルキレンオキサイドのジメタク
リル酸またはアクリル酸エステル；トリアリルイソシア
ヌレート；トリメチロールプロパントリメタクリレート
またはアクリレートなどがあげられる。
としては、ジビニルベンゼン；エチレングリコールジメ
タクリレート等のポリアルキレンオキサイドのジメタク
リル酸またはアクリル酸エステル；トリアリルイソシア
ヌレート；トリメチロールプロパントリメタクリレート
またはアクリレートなどがあげられる。
架橋化させる手段としては、加熱、紫外線照射等の方法
もとりうるが、γ線または電子線照射が効率の点で好ま
しい。
もとりうるが、γ線または電子線照射が効率の点で好ま
しい。
架橋化の程度は、架橋させる前のグラフト膜の透水率（
Ｆｂ）と、架橋化処理されたのちの膜の透水率（Ｆａ）
がＦａ／Ｆｂ−≧−１０であるのが好ましい。
Ｆｂ）と、架橋化処理されたのちの膜の透水率（Ｆａ）
がＦａ／Ｆｂ−≧−１０であるのが好ましい。
本発明のグラフト膜は、平均孔径ｏ、ｏｏｉ〜５μ、好
ましくは０．０１μないしは１μの範囲にある事が、好
ましい、ここで平均孔径とは、平均孔径０．０１μ以上
ではＡＳＴＭＦ３１６〜７０に記載されている方法で得
られた値を指しており、通常エアーフロー法と呼ばれ、
空気圧を変えて乾燥膜と湿潤膜の空気透過流束を測定し
、その比から求めるものである。 ０．０１μ以下は、
電顕法、分画分子量測定法等で決定される。
ましくは０．０１μないしは１μの範囲にある事が、好
ましい、ここで平均孔径とは、平均孔径０．０１μ以上
ではＡＳＴＭＦ３１６〜７０に記載されている方法で得
られた値を指しており、通常エアーフロー法と呼ばれ、
空気圧を変えて乾燥膜と湿潤膜の空気透過流束を測定し
、その比から求めるものである。 ０．０１μ以下は、
電顕法、分画分子量測定法等で決定される。
本発明における平均孔径の範囲は、実用性能上から設定
されたものであり、これ以外の範囲では、透過速度もし
くは除黴粒子効果等の点で不適当である。
されたものであり、これ以外の範囲では、透過速度もし
くは除黴粒子効果等の点で不適当である。
本発明によって得られる膜の空孔率は、２０ないし８０
％の範囲にある事が好ましい。ここで空孔率とは、あら
かじめ膜を水等の液体に浸漬し、そののち乾燥させて、
その前後の重量変化から測定したものである。
％の範囲にある事が好ましい。ここで空孔率とは、あら
かじめ膜を水等の液体に浸漬し、そののち乾燥させて、
その前後の重量変化から測定したものである。
空孔率が本発明の範囲以外においては、それぞれ透過速
度、機械的性質等の点で好ましくない。
度、機械的性質等の点で好ましくない。
本発明で得られる膜のベースとなる基材膜の孔構造は、
種々な成型加工によって得る事が出来る。
種々な成型加工によって得る事が出来る。
具体的には、いわゆる延伸法や、電子線照射後化学処理
で作られたエツチング法等も適用可能であるが、孔構造
としては延伸法やエツチング法などにより得られた直孔
貫通型の空孔構造よりも、たとえば特公昭５９−３７２
９２号公報、特公昭４０−９５７号公報および特公昭４
７−１７４６０号公報に示されたミクロ相分離法や混合
抽出法などにより形成される３次元網目構造を有するも
のが好ましい、特に、特開昭５５−１３１０２８号公報
に示された構造を有する膜が好ましい。
で作られたエツチング法等も適用可能であるが、孔構造
としては延伸法やエツチング法などにより得られた直孔
貫通型の空孔構造よりも、たとえば特公昭５９−３７２
９２号公報、特公昭４０−９５７号公報および特公昭４
７−１７４６０号公報に示されたミクロ相分離法や混合
抽出法などにより形成される３次元網目構造を有するも
のが好ましい、特に、特開昭５５−１３１０２８号公報
に示された構造を有する膜が好ましい。
膜の形状は、平膜状、チューブ状、中空糸膜状のいずれ
も適用可能であるが、本発明の目的には、内径０．１な
いし１０ミリ、厚み０．０５ないし５ミリの形状を有す
る中空糸タイプのものが好ましい。
も適用可能であるが、本発明の目的には、内径０．１な
いし１０ミリ、厚み０．０５ないし５ミリの形状を有す
る中空糸タイプのものが好ましい。
次に、本発明の効果を実施例で具体的に示すが、本発明
の実施例は発明を限定するものではない。
の実施例は発明を限定するものではない。
実施例１及び比較例１
微粉硅酸にプシルＶＮ３ＬＰ）２２．１重量部、ジオク
チルフタレート（ＤＯＰ）５５．０重量部、ポリエチレ
ン凪脂粉末〔旭化成Ｓ−３６０グレード〕２３．０重量
部の組成物を予備混合した後、３０ミリ２軸押出機で内
径０．７ｍ＋ａ、厚み０．２５ｍｍの中空糸状に押出し
た後、１，１．１− ）リクロルエタン〔クロロセンＶ
Ｃ（商品名）〕中に６０分間浸漬し、ＤＯＰを抽出した
。更に温度６０″Ｃの苛性ソーダ４０潟水溶液中に約２
０分浸漬して微粉珪酸を抽出したあと、水洗、乾燥した
。
チルフタレート（ＤＯＰ）５５．０重量部、ポリエチレ
ン凪脂粉末〔旭化成Ｓ−３６０グレード〕２３．０重量
部の組成物を予備混合した後、３０ミリ２軸押出機で内
径０．７ｍ＋ａ、厚み０．２５ｍｍの中空糸状に押出し
た後、１，１．１− ）リクロルエタン〔クロロセンＶ
Ｃ（商品名）〕中に６０分間浸漬し、ＤＯＰを抽出した
。更に温度６０″Ｃの苛性ソーダ４０潟水溶液中に約２
０分浸漬して微粉珪酸を抽出したあと、水洗、乾燥した
。
得られた多孔膜に電子加速器（加圧電圧１．５ＭｅＶ、
電子線電流１ｍＡ）を用いて窒素雰囲気下１００ＫＧｙ
で電子線を照射したのち、あらかじめ溶存酸素を０．１
ｐｐｍ＋以下にしたスチレンに浸漬し、グラフトさせ
て洗浄乾燥後、エチレンジクロライド溶媒中で無水、硫
酸を反応させてスルホン化し、平均孔径０．１５μ、空
孔率６２％、スルホン酸基１．５ミリ当量／１グラム膜
の膜（比較例膜（Ａ））を得た。
電子線電流１ｍＡ）を用いて窒素雰囲気下１００ＫＧｙ
で電子線を照射したのち、あらかじめ溶存酸素を０．１
ｐｐｍ＋以下にしたスチレンに浸漬し、グラフトさせ
て洗浄乾燥後、エチレンジクロライド溶媒中で無水、硫
酸を反応させてスルホン化し、平均孔径０．１５μ、空
孔率６２％、スルホン酸基１．５ミリ当量／１グラム膜
の膜（比較例膜（Ａ））を得た。
一方、前記のスチレンをグラフトした膜に、トリクロロ
エチレンを溶媒としてトリアリルイソシアヌレート（Ｔ
ＡＩＣ）を含浸させて膜１グラム当り０．０２グラム付
着させたのち、Ｃｏガンマ線で５メガラドの照射量を与
えて実施例膜（八）を得た。
エチレンを溶媒としてトリアリルイソシアヌレート（Ｔ
ＡＩＣ）を含浸させて膜１グラム当り０．０２グラム付
着させたのち、Ｃｏガンマ線で５メガラドの照射量を与
えて実施例膜（八）を得た。
ここで実施例膜のスルホン基の定量は以下によった。
スルホン化膜をＩＮＨＣｆａｑ、に浸漬し、Ｈ型とした
後、水洗し、次にＩ Ｎ ＣａＣｌ！、、 ａｑ、へ浸
漬し、遊離したＨＣｌを０．ＩＮ ＮａＯＨａｑ、を用
い、フェノールフタレインを指示薬として滴定した。
後、水洗し、次にＩ Ｎ ＣａＣｌ！、、 ａｑ、へ浸
漬し、遊離したＨＣｌを０．ＩＮ ＮａＯＨａｑ、を用
い、フェノールフタレインを指示薬として滴定した。
次に、限外濾過膜で処理された清澄水で濾過テストを行
ったところ、第１表に示される結果を得た。
ったところ、第１表に示される結果を得た。
第１表
実施例膜 比較例膜
（Ａ） （Ａ）
初期透過速度” ８００ ５（ｊ！／
ｈｒ、ｒｄ、ａｔｍ） １） ２５℃での値 上表から明らかなように、本発明実施例膜（Ａ）は、初
期透過速度が比較例膜（＾）に比してすぐれた結果を示
している。
ｈｒ、ｒｄ、ａｔｍ） １） ２５℃での値 上表から明らかなように、本発明実施例膜（Ａ）は、初
期透過速度が比較例膜（＾）に比してすぐれた結果を示
している。
実施例２及び比較例２
エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（商品名ア
フロンＣＯＰ ） ２５．０重量部、クロロトリフルオ
ロエチレンオリゴマー（商品名グイフロイル＃ ２０
） ５３．６ｉｉ量部、シリコーンオイル）商品名ＫＦ
−９６）６．２重量部、微粉シリカ１５．１重量部を予
備混合後３０ミリニ軸押出機で内径０．７順、厚み０．
２５［１１１１１の中空糸状に押出した後、１，１．１
−トリクロルエタン〔フロロセン■Ｇ（商品名）〕中に
６０分間浸漬し可塑剤を抽出した後、更に温度６０°Ｃ
の苛性ソーダ４０％水溶液中に約２０分浸漬して微粉珪
酸を抽出したあと、水洗、乾燥した。
フロンＣＯＰ ） ２５．０重量部、クロロトリフルオ
ロエチレンオリゴマー（商品名グイフロイル＃ ２０
） ５３．６ｉｉ量部、シリコーンオイル）商品名ＫＦ
−９６）６．２重量部、微粉シリカ１５．１重量部を予
備混合後３０ミリニ軸押出機で内径０．７順、厚み０．
２５［１１１１１の中空糸状に押出した後、１，１．１
−トリクロルエタン〔フロロセン■Ｇ（商品名）〕中に
６０分間浸漬し可塑剤を抽出した後、更に温度６０°Ｃ
の苛性ソーダ４０％水溶液中に約２０分浸漬して微粉珪
酸を抽出したあと、水洗、乾燥した。
かくして得られた多孔膜に、電子加速器（加圧電圧１．
５ ＭｅＶ、電子線電流１ｍＡ）を用いて窒素雰囲気下
１００ ＫＧＹで照射した後、あらかじめ溶存酸素を
０．１ ｐｐｍ以下にしたアクリル酸に当ててグラフト
させ、７．１ミリ当量／１グラム膜の比較例膜（Ｂ）（
平均孔径０，１６μ、空孔率６０％）を得た。
５ ＭｅＶ、電子線電流１ｍＡ）を用いて窒素雰囲気下
１００ ＫＧＹで照射した後、あらかじめ溶存酸素を
０．１ ｐｐｍ以下にしたアクリル酸に当ててグラフト
させ、７．１ミリ当量／１グラム膜の比較例膜（Ｂ）（
平均孔径０，１６μ、空孔率６０％）を得た。
更に前記比較例膜（Ｂ）をトリクロロエチレンを溶媒と
するテトラエチレングリコールのジメタリフレートエス
テルに浸漬し、膜に対して２．５％になるように付着さ
せたのち、１０ナガラドの電子線による照射を行なって
実施例膜（Ｂ）（平均孔径０．１５μ、空孔率６４％）
を得た。
するテトラエチレングリコールのジメタリフレートエス
テルに浸漬し、膜に対して２．５％になるように付着さ
せたのち、１０ナガラドの電子線による照射を行なって
実施例膜（Ｂ）（平均孔径０．１５μ、空孔率６４％）
を得た。
なお、ここで実施例膜及び比較例膜にグラフトされたア
クリル酸の定量は重量法によった。
クリル酸の定量は重量法によった。
前記二つの膜の濾過性能は第２表の如くであった。
第２表
■）２５℃における値
２）タウ社ユニフォームラテックス０．０１％液での光
線透過率からの捕捉効率 〔発明の効果〕 本発明によれば、半導体工業用、一般産業用、原子力廃
水処理用、製薬工業等に広く使用し得る高機能性膜を、
その透水性能が改善された状態で製造することが可能と
なり、その効果は大きい。
線透過率からの捕捉効率 〔発明の効果〕 本発明によれば、半導体工業用、一般産業用、原子力廃
水処理用、製薬工業等に広く使用し得る高機能性膜を、
その透水性能が改善された状態で製造することが可能と
なり、その効果は大きい。
特許出願人 旭化成工業株式会社
Claims (1)
- ポリオレフィン、オレフィンとハロゲン化オレフィンの
共重合体、ポリフッ化ビニリデンまたはポリスルホンか
らなる基材膜に、アニオン基、カチオン基または中性水
酸基を含有するモノマーをグラフト重合させたのち、２
コ以上の反応基を有するモノマーを膜に含浸させ、架橋
化処理することを特徴とする平均孔径０．００１〜５μ
、空孔率２０〜８０％のグラフト膜の透水速度の改善方
法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8403889A JPH02265633A (ja) | 1989-04-04 | 1989-04-04 | グラフト膜の透水速度の改善方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8403889A JPH02265633A (ja) | 1989-04-04 | 1989-04-04 | グラフト膜の透水速度の改善方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02265633A true JPH02265633A (ja) | 1990-10-30 |
Family
ID=13819349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8403889A Pending JPH02265633A (ja) | 1989-04-04 | 1989-04-04 | グラフト膜の透水速度の改善方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02265633A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6659751B1 (en) | 1998-08-12 | 2003-12-09 | Ebara Corporation | Apparatus for radiation-induced graft polymerization treatment of fabric webs |
-
1989
- 1989-04-04 JP JP8403889A patent/JPH02265633A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6659751B1 (en) | 1998-08-12 | 2003-12-09 | Ebara Corporation | Apparatus for radiation-induced graft polymerization treatment of fabric webs |
| US6773654B2 (en) | 1998-08-12 | 2004-08-10 | Ebara Coporation | Polymer substrates for radiation-induced graft polymerization and filter stock |
| US6818038B2 (en) | 1998-08-12 | 2004-11-16 | Ebara Corporation | Polymer substrates for radiation-induced graft polymerization and filter stock |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06104753B2 (ja) | 非吸着性親水性中空糸状多孔膜 | |
| JP3312634B2 (ja) | キレート型イオン吸着膜および製造方法 | |
| US5087372A (en) | Method for removing heavy metal ions from contaminated water and a porous membrane usable therefor | |
| JP4699207B2 (ja) | 親水性微多孔膜 | |
| US6225368B1 (en) | Water based grafting | |
| EP0186758B2 (en) | Porous membrane having hydrophilic surface and process of its manufacture | |
| US5648400A (en) | Process for producing polymeric electrolyte complex and ion-exchange resin | |
| JPH0829234B2 (ja) | 親水性微多孔膜 | |
| JP2686949B2 (ja) | 選択吸着機能性ミクロフィルターとその製造方法 | |
| JPS62258711A (ja) | グラフト膜の製造方法 | |
| JPH01224009A (ja) | ブラフト膜の処理方法 | |
| JP2504885B2 (ja) | イオン交換体の製造方法 | |
| JPH02265633A (ja) | グラフト膜の透水速度の改善方法 | |
| JPH02119937A (ja) | アフィニティ分離膜用基材膜とその製造方法 | |
| JP2003268152A (ja) | 親水性微多孔膜 | |
| JPS63240902A (ja) | 処理方法 | |
| JPS62298405A (ja) | グラフト微多孔膜 | |
| JP2004035582A (ja) | 表面改質高分子微多孔膜の製造方法 | |
| JPS62201604A (ja) | コバルトイオンの除去方法 | |
| JPH03195745A (ja) | 高分子構造物表面の改質方法 | |
| JP2023121738A (ja) | 血液成分吸着材料 | |
| JP3560430B2 (ja) | 微多孔性荷電膜およびその製造方法 | |
| JPS62210005A (ja) | 新規複合機能膜 | |
| JPS63310602A (ja) | 新規な復水の浄化方法 | |
| JP2004154613A (ja) | 機能性多孔膜の製造方法 |