JPH02265802A - ストッカ装置 - Google Patents

ストッカ装置

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Publication number
JPH02265802A
JPH02265802A JP8763189A JP8763189A JPH02265802A JP H02265802 A JPH02265802 A JP H02265802A JP 8763189 A JP8763189 A JP 8763189A JP 8763189 A JP8763189 A JP 8763189A JP H02265802 A JPH02265802 A JP H02265802A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
rack
section
masks
air
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8763189A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroichi Sawai
沢井 博一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP8763189A priority Critical patent/JPH02265802A/ja
Publication of JPH02265802A publication Critical patent/JPH02265802A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体製造装置に使用する複数個のレティクル
あるいはマスク(以下マスクと称する)を保管するスト
ッカ装置に関するものである。
従来の技術 従来、マスクの保管方法は空調のみ施したストッカ装置
を利用していたが、ストッカ装置へのマスクの投入及び
取出しの判断と作業は人手を要していた。
発明が解決しようとする課題 マスクの投入及び取出しを人手で行なうことは、以下の
ような課題が生じる。
第1に、人が発生させる塵がマスクに付着し、半導体装
置の品質を低下さぜる。
第2に、ストッカ装置内に在庫しているマスク群の中か
ら、半導体製造装置にて製造に必要な特定のマスクを検
索する作業に手間を有する。
本発明は、まず、上記諸課題を解決するために、ストッ
カ装置内でのマスクは自動搬送させ、ストッカ装置内マ
スク在庫管理を容易にするストッカ装置を提供すること
を目的とする。
課題を解決するための手段 上記の目的を達成するために、本発明のストッカ装置は
、マスクの自動搬送を行なう垂直座標糸ロボットを自身
の内部に備え、また、ストッカ装置内のマスク在庫管理
を行なう制御部を備えるものである。
作用 この構成によって、ストッカ装置内部でのマスりの搬送
が、人手を離れることによりマスクへの塵による汚染を
少なくし、棚部にて保管中のマスクにおいては、横方向
の気流により、塵の汚染から保護されるようになる。
ストッカ装置内にて存在しているマスクについて、どの
マスクがどこの棚に保管されているという情報をストッ
カ装置が管理し、その管理情報を人に対し通知する機能
を持つ事で、人によるマスクを使用する工程の運用の補
助となる。
また、マスクを自動搬送を行なう搬送部とストッカ在庫
管理を行なう制御部を組合せることで、人によるストッ
カ装置へのマスク投入及び取出し作業が容易になる。
実施例 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図はストッカ装置の構造を示す斜視図である。
第1図において、1はマスク、2は搬送部の一部で人と
ストッカ装置との間でマスクの受渡しを行なう受渡し部
、3はマスクを保管する棚部、4は受渡し部2と棚部3
との間でマスクを搬送する搬送ロボットである。
以上のように構成されたストッカ装置について説明する
と、まずマスク1をストッカ装置に入庫する場合、マス
クlを受渡し82に設置する。ストッカ装置マスク1に
示されたマスク認識番号を認識した後、棚部3での空き
番地を探しだし、搬送ロボット4を使用して、上記空き
番地にマスク1を格納する。
次にマスク1をストッカ装置から出庫する場合、作業者
によりストッカ装置に対し、出庫したいマスク1を指定
された後、ストッカ装置は該当マスク1を棚部3より搬
送ロボット4を使用して受渡し部2に搬送する。その後
作業者が受渡し部2よりマスク1を取出す。
なお、作業者の操作を、ホストコンビコータ管理による
搬送システムに置き換えてもよい。
第2図は空調関係について説明したストッカ装置の断面
図である。
空調関係について第2図に基づいて説明する。
5は一次空気の取入れ口で、−次空気はクリーンルーム
内の空:J!設備より供給されるものとする。
6は空気循環用のポンプ、7はフィルタ、8は棚部、9
は排気口である。
空気取入れ口5から、空気循環用ポンプ6によりストッ
カ装置内へ導かれた空気は、フィルタ7により塵が取り
除かれた後、棚部8を通る。この時点で棚部8はサイド
フローの気流となる。棚部8を通った空気は下方へ流れ
、一部は排気口9より外部へ排気され、残りの空気は再
度循環ポンプ6によりストッカ装置内を循環する。
発明の効果 本発明のストッカ装置は、マスクを極力人の手から遠ざ
けたことにより、人が発生させる塵がマスクを汚染する
ことを防ぎ、半導体装置の品質を向上させる。
また、マスクを使用する工程の作業効率を向上させる効
果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例におけるストッカ装置の構造
を示す斜視断面図、第2図はストッカ装置内の空調説明
のための断面図である。 1・・・・・・マスク、2・・・・・・受渡し部、3・
・・・・・棚部、4・・・・・・搬送ロボット、5・・
・・・・空気取入れ口、6・・・・・・空気循環用ポン
プ、7・・・・・・フィルター、8・・・・・・棚部、
9・・・・・・排気口。 代理人の氏名・弁理・士 粟野重孝 ほかl“名! −
m− マスク 少渡し 憫 部 搬送口 一一− 空気取入口 空気v11環用ポンプ フィルター 棚部 捧気口

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数個のレティクルあるいはマスク(以下マスクと称す
    る)を保管する棚部と、前記棚部への前記マスクの投入
    及び取出しを行なう搬送部と前記棚部及び前記搬送部の
    空調を行なう空調部と、在庫管理機能をもった制御部と
    を備えたストッカ装置。
JP8763189A 1989-04-06 1989-04-06 ストッカ装置 Pending JPH02265802A (ja)

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JP8763189A JPH02265802A (ja) 1989-04-06 1989-04-06 ストッカ装置

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JPH02265802A true JPH02265802A (ja) 1990-10-30

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11667456B2 (en) 2015-06-03 2023-06-06 Ocado Innovation Limited Temperature controlled storage system

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61263502A (ja) * 1985-05-16 1986-11-21 Tokyo Electron Ltd 清浄化装置
JPS62217036A (ja) * 1986-03-18 1987-09-24 Mitsubishi Electric Corp ストツカ
JPS6322410A (ja) * 1986-07-11 1988-01-29 Canon Inc 基板収納ラツク

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61263502A (ja) * 1985-05-16 1986-11-21 Tokyo Electron Ltd 清浄化装置
JPS62217036A (ja) * 1986-03-18 1987-09-24 Mitsubishi Electric Corp ストツカ
JPS6322410A (ja) * 1986-07-11 1988-01-29 Canon Inc 基板収納ラツク

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11667456B2 (en) 2015-06-03 2023-06-06 Ocado Innovation Limited Temperature controlled storage system

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