JPH02265943A - 重合体分散物及び重合体分散物の製造方法 - Google Patents
重合体分散物及び重合体分散物の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0071—Process features in the making of dyestuff preparations; Dehydrating agents; Dispersing agents; Dustfree compositions
- C09B67/0084—Dispersions of dyes
- C09B67/0085—Non common dispersing agents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、四級アンモニウム塩を有する重合体の水分散
物と7ニオン性基を有する重合体を共存させた重合体分
散物及び重合体分散物の製造方法に関し、染料の媒染剤
、特に写真用分野におけるイラジェーション防止、ある
いはハレーション防止の丸めの染料を固定する媒染剤、
拡散転写法写真における染料を固定するための媒染剤、
及び導電材料(たとえば、5olid 5tate
Ionics/J 24iLJ(/Yl@)に記載
されている類のもの、及び、帯電防止剤、特に写真用分
野における帯電防止剤)等に有用な重合体分散物及び重
合体分散物及び重合体分散物の製造方法に関する。
物と7ニオン性基を有する重合体を共存させた重合体分
散物及び重合体分散物の製造方法に関し、染料の媒染剤
、特に写真用分野におけるイラジェーション防止、ある
いはハレーション防止の丸めの染料を固定する媒染剤、
拡散転写法写真における染料を固定するための媒染剤、
及び導電材料(たとえば、5olid 5tate
Ionics/J 24iLJ(/Yl@)に記載
されている類のもの、及び、帯電防止剤、特に写真用分
野における帯電防止剤)等に有用な重合体分散物及び重
合体分散物及び重合体分散物の製造方法に関する。
(従来の技術)
従来、四級アンモニウム塩構造を有する架橋重合体分散
物(ラテックス)の製造は、例えば、米国特許3.りs
r、タタj号、特開昭!J−303J1号、同jターλ
/り7≠!号、同tλ−30,2≠2号、同6コー3≠
/jり号公報等に記載されている様に、エチレン性不飽
和基を少くとも2個含有する共重合可能なモノマー、エ
チレン性不飽和モノマ−1及び四級アンモニウム塩構造
を有するビニル七ツマ−を界面活性剤を用いて水中に乳
濁させ、重合開始剤を用いて乳化重合する方法か、ま九
はエチレン性不飽和基を少くとも2個含有する共重合可
能な七ツマ−、エチレン性不飽和モノマ−1および第三
級アミンと反応して四級アンモニウム塩を生成するよう
な基を分子内に有するモノマー(たとえば、ビニルベン
ジルクロリド)を、界面活性剤を用いて乳濁させ、重合
開始剤を用いて乳化重合した後、高分子反応によシ(場
合によっては補助溶媒を併用して)、第三級アばンを反
応させて架橋分散物重合体とする方法などが知られてい
る。
物(ラテックス)の製造は、例えば、米国特許3.りs
r、タタj号、特開昭!J−303J1号、同jターλ
/り7≠!号、同tλ−30,2≠2号、同6コー3≠
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和基を少くとも2個含有する共重合可能なモノマー、エ
チレン性不飽和モノマ−1及び四級アンモニウム塩構造
を有するビニル七ツマ−を界面活性剤を用いて水中に乳
濁させ、重合開始剤を用いて乳化重合する方法か、ま九
はエチレン性不飽和基を少くとも2個含有する共重合可
能な七ツマ−、エチレン性不飽和モノマ−1および第三
級アミンと反応して四級アンモニウム塩を生成するよう
な基を分子内に有するモノマー(たとえば、ビニルベン
ジルクロリド)を、界面活性剤を用いて乳濁させ、重合
開始剤を用いて乳化重合した後、高分子反応によシ(場
合によっては補助溶媒を併用して)、第三級アばンを反
応させて架橋分散物重合体とする方法などが知られてい
る。
また、非架橋の重合体分散物についても、同様の方法を
用いることにより合成することが可能である。
用いることにより合成することが可能である。
これらの方法によシ、良好な分散安定性を有する重合体
分散物を得ることかで糎る。しかしながら、これらの重
合体分散物に対しアニオン性有能基金有する重合体を添
加して共存させた分散液を調製することは極めて困難で
あった。
分散物を得ることかで糎る。しかしながら、これらの重
合体分散物に対しアニオン性有能基金有する重合体を添
加して共存させた分散液を調製することは極めて困難で
あった。
すなわち、カチオン性基である四級アンモニウム塩を有
する重合体水分散物液に対し、アニオン性官能基を有す
る重合体t−添加すると、カチオン性基、アニオン性基
同志の強い相互作用による凝集が起こシ、生成した凝集
物を再分散することは極めて難しく、%に、アニオン性
官能基を有する重合体が部分的あるいは全面的に塩構造
(例えばC00N a 、 C00K 、 S O
3N a 。
する重合体水分散物液に対し、アニオン性官能基を有す
る重合体t−添加すると、カチオン性基、アニオン性基
同志の強い相互作用による凝集が起こシ、生成した凝集
物を再分散することは極めて難しく、%に、アニオン性
官能基を有する重合体が部分的あるいは全面的に塩構造
(例えばC00N a 、 C00K 、 S O
3N a 。
−8O□K)をとっている場合には不可能であった。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は、四級アンモニウム塩を有する重合体分
散物と、アニオン性官能基を有する重合体を共存させた
重合体分散物及び重合体分散物を前記のように、凝集物
の生成を伴なうことなく、安定に製造する方法を提供す
ることにある。
散物と、アニオン性官能基を有する重合体を共存させた
重合体分散物及び重合体分散物を前記のように、凝集物
の生成を伴なうことなく、安定に製造する方法を提供す
ることにある。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは鋭意検討の結果、(1)構成成分として少
なくとも1種の四級アンモニウム塩を有する重合体分散
物と、アニオン性官能基を有する重合体を共存させた水
系重合体分散物。(2)少なくとも1種の四級アンモニ
ウム塩を有する繰夛返し単位を含有する重合体分散物に
対し、少なくとも1種のアニオン性官能基を有する少な
くとも/釉のエチレン性不飽和モノマーを添加した後、
重合反応を行うことにより得る水系重合体分散物の製造
方法によって上記目的を達成できることを見出した。
なくとも1種の四級アンモニウム塩を有する重合体分散
物と、アニオン性官能基を有する重合体を共存させた水
系重合体分散物。(2)少なくとも1種の四級アンモニ
ウム塩を有する繰夛返し単位を含有する重合体分散物に
対し、少なくとも1種のアニオン性官能基を有する少な
くとも/釉のエチレン性不飽和モノマーを添加した後、
重合反応を行うことにより得る水系重合体分散物の製造
方法によって上記目的を達成できることを見出した。
なお、本願において四級アンモニウム塩を有する重合体
分散物(A)とアニオン性官能基を有する重合体(B)
が共存するとは、(A)と(B)の分子同士が混合状態
にあるもの%(A)と(B)の分子の一部が混合状態に
あるもの、(A)と(B)の分子が別々に存在すること
、あるいはそれらが混在することなどの状態を指す。
分散物(A)とアニオン性官能基を有する重合体(B)
が共存するとは、(A)と(B)の分子同士が混合状態
にあるもの%(A)と(B)の分子の一部が混合状態に
あるもの、(A)と(B)の分子が別々に存在すること
、あるいはそれらが混在することなどの状態を指す。
本発明によって得られる重合体分散物について以下に詳
細に説明する。
細に説明する。
まず、本発明における少なくとも7棟の四級アンモニウ
ム塩を有する重合体分散物は、例えば下記一般式[13
で表される。
ム塩を有する重合体分散物は、例えば下記一般式[13
で表される。
一般式〔I〕
式中、Aは共重合可能なエチレン性不飽和基を少なくと
も一つ有し、その少なくともl−′)を側鎖に含むよう
な共重合可能なモノマーを共重合したモノマー単位を表
す。Bは共重合可能なエチレン性不飽和モノマーを共重
合したモノマー単位を表わす。R1は水素原子、低級ア
ルキル基又はアラルキル基、を表わす。Lは、7〜20
個の炭素原子を有する二価の連結基を表す。R,R,R
’は同じであっても異なっていてもよく、それぞれ、7
〜20個の炭素原子を有するアルキル基、置換アルキル
基、屯しくけ6〜20個の炭素原子を有するアリール基
、置換アリール基を表す。
も一つ有し、その少なくともl−′)を側鎖に含むよう
な共重合可能なモノマーを共重合したモノマー単位を表
す。Bは共重合可能なエチレン性不飽和モノマーを共重
合したモノマー単位を表わす。R1は水素原子、低級ア
ルキル基又はアラルキル基、を表わす。Lは、7〜20
個の炭素原子を有する二価の連結基を表す。R,R,R
’は同じであっても異なっていてもよく、それぞれ、7
〜20個の炭素原子を有するアルキル基、置換アルキル
基、屯しくけ6〜20個の炭素原子を有するアリール基
、置換アリール基を表す。
R2、R、R%Lのうち、任意のλつ以上の基は、相互
に連結して、輩素原子とともに環状構造を形成してもよ
い。
に連結して、輩素原子とともに環状構造を形成してもよ
い。
Xθは隙イオンを表す。mはQまたは/を表す。
X%Ys”は各成分のモル百分率を表し、XはOないし
ぶo”1で、yはOないしり!、2はjないし100ま
での値を表す。
ぶo”1で、yはOないしり!、2はjないし100ま
での値を表す。
上記一般式(N)を烙らに詳細に説明すると、Aにおけ
るモノマーの例は、ジビニルベンゼン、エチレングリコ
ールジメタクリレ−1・、ジエチレングリコールジメタ
クリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート
、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート%’l’−ヘキナンジオールジア
クリレート、ネオにンチルグリコールジメタクリレート
、テトラメチしノンジメタクリレート等であり、このP
) チシヒニルベンーy/、エチレングリコールジメタ
クリレートが特に好ましい。
るモノマーの例は、ジビニルベンゼン、エチレングリコ
ールジメタクリレ−1・、ジエチレングリコールジメタ
クリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート
、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート%’l’−ヘキナンジオールジア
クリレート、ネオにンチルグリコールジメタクリレート
、テトラメチしノンジメタクリレート等であり、このP
) チシヒニルベンーy/、エチレングリコールジメタ
クリレートが特に好ましい。
Bにおけるエチレン性不飽和七ツマ−の例は、エチレン
、プロピレン、i−ブテン、インブテン、スチレン、α
−メチルスチレン、ビニルクトン。
、プロピレン、i−ブテン、インブテン、スチレン、α
−メチルスチレン、ビニルクトン。
脂肪族酸のモノエチレン性不飽和エステル(例えば酢酸
ビニル、酢酸アリル)、エチレン性不飽和のモノカルボ
ン酸もしくはジカルボ′/酸のエステルもしくはアミド
(例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート
、n−ブチルメタクリレート、n−へキシルメタクリレ
ート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタク
リレート、n−ブチルアクリレート、 1)−へキシ
ルアクリレート%コーエチルへキシルアクリL/−ト、
アクリルアばド、N−メチルアクリル゛アミド)、モノ
エチレン性不飽和化合物(例えばアクリロニトリル)ま
たはジエン類(例えばブタジェン、イソプレン)等であ
り、このつちスチレン、1)−ブチルメタクリレート、
メチルメタクリレートなどが特に好ましい。Bは上記の
七ツマー単位を二種以上含んでいてもよい。
ビニル、酢酸アリル)、エチレン性不飽和のモノカルボ
ン酸もしくはジカルボ′/酸のエステルもしくはアミド
(例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート
、n−ブチルメタクリレート、n−へキシルメタクリレ
ート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタク
リレート、n−ブチルアクリレート、 1)−へキシ
ルアクリレート%コーエチルへキシルアクリL/−ト、
アクリルアばド、N−メチルアクリル゛アミド)、モノ
エチレン性不飽和化合物(例えばアクリロニトリル)ま
たはジエン類(例えばブタジェン、イソプレン)等であ
り、このつちスチレン、1)−ブチルメタクリレート、
メチルメタクリレートなどが特に好ましい。Bは上記の
七ツマー単位を二種以上含んでいてもよい。
また、Bとしては、第三級アミンと反応して四級アンモ
ニウム塩を生成するような基を分子内に有するモノマー
(たとえば、ビニルベンジルクロリド)や、その加水分
解物(たとえば、ヒドロキシメチルスチレン)等が、含
まれる。これらは。
ニウム塩を生成するような基を分子内に有するモノマー
(たとえば、ビニルベンジルクロリド)や、その加水分
解物(たとえば、ヒドロキシメチルスチレン)等が、含
まれる。これらは。
第三級アミンとの高分子反応を行う際の、未反応物ある
いは副生成物である。
いは副生成物である。
Rは水素原子あるいは炭素数/〜を個の低級アルキル基
(例えはメチル、エチル、n−プロピル、n−、ブチル
、n−アばル、n−へキシル)アラルキル基(例、tF
iべ/ジル)が好ましく、このうち水素原子あるいはメ
チル基が特に好ましい。
(例えはメチル、エチル、n−プロピル、n−、ブチル
、n−アばル、n−へキシル)アラルキル基(例、tF
iべ/ジル)が好ましく、このうち水素原子あるいはメ
チル基が特に好ましい。
Lは、l〜約コQ個の炭素原子を有する二価の連結基金
表し、具体的には、 fX”+ (−J”−X2+匂2−X”−1)+J3−
X”)−e、J’3−。
表し、具体的には、 fX”+ (−J”−X2+匂2−X”−1)+J3−
X”)−e、J’3−。
p q r
sで表される。X %X %X 、X
は同じでも異なっていてもよく、−COO−−OCO−
l −CON−(Rは水素原子、炭素数/−jのアルキル基
、または炭素数/〜乙の置換アルキル基を表す。)、−
co−−so□ は上記と同義、 R6は炭素数7〜約弘のアルキレ 同義、RFi水素原子、アルキル基(炭素数l〜t)、
置換アルキル基(炭素数(7〜6)を表す)、てもよく
、アル中しン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置
換アリーレン基、アラルキレン基、meアラルキレン基
を表す。
sで表される。X %X %X 、X
は同じでも異なっていてもよく、−COO−−OCO−
l −CON−(Rは水素原子、炭素数/−jのアルキル基
、または炭素数/〜乙の置換アルキル基を表す。)、−
co−−so□ は上記と同義、 R6は炭素数7〜約弘のアルキレ 同義、RFi水素原子、アルキル基(炭素数l〜t)、
置換アルキル基(炭素数(7〜6)を表す)、てもよく
、アル中しン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置
換アリーレン基、アラルキレン基、meアラルキレン基
を表す。
p%q% 1% S、およびtはOまたは/を表す。
これらが同時にOとなることはない。
上記りにさらに置換されていてもよい置換基の例として
は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアン基、アルキル基、
置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、−
NHCORで衣わされる基(R8はアルキル基、置換ア
ルキル基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキル基
、置換アラルキル基を表わす)、−NH8O2R(Rは
上記と同義)、−8OR(Rは上記と同義)、−8O,
!R(Rは上記と同り、−COR8(以上R、Rは上記
と同義、)などを挙げることができる。
は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアン基、アルキル基、
置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、−
NHCORで衣わされる基(R8はアルキル基、置換ア
ルキル基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキル基
、置換アラルキル基を表わす)、−NH8O2R(Rは
上記と同義)、−8OR(Rは上記と同義)、−8O,
!R(Rは上記と同り、−COR8(以上R、Rは上記
と同義、)などを挙げることができる。
Jl、J 、J 、J は同じでも異なっていれ
る基(R9、RIGは互いに同じでも異なっていてもよ
く、水素原子、アルキル基、置換アルキル17x二#i
、R換フェニル基、アラルキル基、(R9、RIOは上
記と同義)、アミン基(アルキル基で置換されていても
よい)、水酸基や加水分解して水酸基と形成する基が挙
げられる。
る基(R9、RIGは互いに同じでも異なっていてもよ
く、水素原子、アルキル基、置換アルキル17x二#i
、R換フェニル基、アラルキル基、(R9、RIOは上
記と同義)、アミン基(アルキル基で置換されていても
よい)、水酸基や加水分解して水酸基と形成する基が挙
げられる。
Lで表される連結基のうち%に好ましいのはアルキレ/
基(例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、
ヘキサメチレン基など)、フェニレン基(例えば0−フ
ェニレン&、p−フェニレン基、m−フェニレン基など
)、アリーレンアルなど。但しRは炭素数l〜約/コの
アルキレン基を表わす。)、−Co□−−Co2−R1
2−(但しRはアルキレ/基、フェニレン基、アリーレ
ンアルキレン基を表わす。)、−CONH−R12−(
但LRは上記と同じものを表わす、)、−CON−R1
2−(但しR、Rは上記と同じ−CONH−−CO−C
I(2−CH2−CO2−CH2CH2CH2−−CO
NHCH□−CONHCHCH−−CONHCI(2C
H2CH2などが特に好ましい。R、TL 、Rは、
7〜20個の炭素原子を有するアルキル基もしくは6〜
コQ個の炭素原子を有するアリール基もしくは7〜20
個の炭素原子を有するアラルキル基が好ましく、それぞ
れ同じであっても異なっていてもよい。このアルキル基
アリール基およびアラルキル基には、置換アルキル基、
置換アリール基、および置換アラルキル基が含有される
。
基(例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、
ヘキサメチレン基など)、フェニレン基(例えば0−フ
ェニレン&、p−フェニレン基、m−フェニレン基など
)、アリーレンアルなど。但しRは炭素数l〜約/コの
アルキレン基を表わす。)、−Co□−−Co2−R1
2−(但しRはアルキレ/基、フェニレン基、アリーレ
ンアルキレン基を表わす。)、−CONH−R12−(
但LRは上記と同じものを表わす、)、−CON−R1
2−(但しR、Rは上記と同じ−CONH−−CO−C
I(2−CH2−CO2−CH2CH2CH2−−CO
NHCH□−CONHCHCH−−CONHCI(2C
H2CH2などが特に好ましい。R、TL 、Rは、
7〜20個の炭素原子を有するアルキル基もしくは6〜
コQ個の炭素原子を有するアリール基もしくは7〜20
個の炭素原子を有するアラルキル基が好ましく、それぞ
れ同じであっても異なっていてもよい。このアルキル基
アリール基およびアラルキル基には、置換アルキル基、
置換アリール基、および置換アラルキル基が含有される
。
アルキル基としては無置換アルキル基(例えばメチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、1−ブチル、n−アミル、イソアミル、n−
一=キシル、シクロヘキシル、n−ヘプチル、n−オク
チル、−一エチルヘキシル、n−ノニル、n−デシル、
n−ドデシル);アルキル基の炭素原子は好ましくは/
−/、2個でおる。更に好ましくは炭素原子が1〜10
個である。置換アルキル基としては、例えばアルコキシ
アルキル基(例えばメトキシメチル、メトキシエチル、
メトキシブチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、
メトキシブチル、ブトキシエチル、ブトキシプロピル、
ブトキシブチル、ビニロ會ジエチル)、シアノアルキル
基(例えは、λ−シアンエチル、3−シアラブルビル、
≠−シアノブチル)、ハロゲン化アルキル基(例えばコ
ーフルオロエチル、コークロロエチル、3−フルオロプ
ロピル)、アルコキシカルボニルアルキル基(例えばエ
トキシカルボニルメチル)、アリル基%コープテニル基
、プロパルギル基などがあげられる。
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、1−ブチル、n−アミル、イソアミル、n−
一=キシル、シクロヘキシル、n−ヘプチル、n−オク
チル、−一エチルヘキシル、n−ノニル、n−デシル、
n−ドデシル);アルキル基の炭素原子は好ましくは/
−/、2個でおる。更に好ましくは炭素原子が1〜10
個である。置換アルキル基としては、例えばアルコキシ
アルキル基(例えばメトキシメチル、メトキシエチル、
メトキシブチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、
メトキシブチル、ブトキシエチル、ブトキシプロピル、
ブトキシブチル、ビニロ會ジエチル)、シアノアルキル
基(例えは、λ−シアンエチル、3−シアラブルビル、
≠−シアノブチル)、ハロゲン化アルキル基(例えばコ
ーフルオロエチル、コークロロエチル、3−フルオロプ
ロピル)、アルコキシカルボニルアルキル基(例えばエ
トキシカルボニルメチル)、アリル基%コープテニル基
、プロパルギル基などがあげられる。
アリール基としては無置換アリール基(例えばフェニル
、ナフチル)、置換アリール基としては例えば、アルキ
ルアリール基(例えばコーメチルフェニル、3−メチル
フェニル、弘−メチルフェニル、≠−エチルフェニル、
F−インプロピルフェニル、≠−term−ブチルフェ
ニル)、アルコキシアリール基(例えば≠−メトキシフ
ェニル、3−メトキシ7エール、弘−エトキシフェニル
)、アリーロキシアリール基(例えば参−フェノキシフ
ェニル)などがめげられる。アリール基の炭素原子は好
ましくは6〜l弘個であシ、更に好ましくは6〜70個
である。特に好ましくはフェニル基である。
、ナフチル)、置換アリール基としては例えば、アルキ
ルアリール基(例えばコーメチルフェニル、3−メチル
フェニル、弘−メチルフェニル、≠−エチルフェニル、
F−インプロピルフェニル、≠−term−ブチルフェ
ニル)、アルコキシアリール基(例えば≠−メトキシフ
ェニル、3−メトキシ7エール、弘−エトキシフェニル
)、アリーロキシアリール基(例えば参−フェノキシフ
ェニル)などがめげられる。アリール基の炭素原子は好
ましくは6〜l弘個であシ、更に好ましくは6〜70個
である。特に好ましくはフェニル基である。
アラルキル基としては、無置換のアラルキル基、(例え
ばベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、ナフチル
メチル);置換アラルキル基、例えばアルキルアラルキ
ル基、(例えばV−メチルベンジル、コ、j−ジメチル
ベンジル、≠−インプロピルベンジル)Sアルコキシア
ラルキル基、(例エバ4=−メトキシベンジル、参−工
)−+シベ/ジル)、シアノアラルキル基、(例えば弘
−77/ベンジル)、パー70ロアルコキシアラルキA
4、(例、tif4’−−?メタフルオロプロポキンベ
ンジル基、弘−ウンデカフルオロヘキシロキシペンジル
基など)、ノ・ロゲン化アラルキル基、(例エバ、≠−
クロロベ/ジル基、弘−ブロモベンジル基、3−クロロ
ベンジル基など)があげられる。
ばベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、ナフチル
メチル);置換アラルキル基、例えばアルキルアラルキ
ル基、(例えばV−メチルベンジル、コ、j−ジメチル
ベンジル、≠−インプロピルベンジル)Sアルコキシア
ラルキル基、(例エバ4=−メトキシベンジル、参−工
)−+シベ/ジル)、シアノアラルキル基、(例えば弘
−77/ベンジル)、パー70ロアルコキシアラルキA
4、(例、tif4’−−?メタフルオロプロポキンベ
ンジル基、弘−ウンデカフルオロヘキシロキシペンジル
基など)、ノ・ロゲン化アラルキル基、(例エバ、≠−
クロロベ/ジル基、弘−ブロモベンジル基、3−クロロ
ベンジル基など)があげられる。
アラルキル基の炭素数は好ましくは7〜/J個であり、
好ましくは7〜ii個である。このうちベンジル基、7
エネチル基が特に好ましい。
好ましくは7〜ii個である。このうちベンジル基、7
エネチル基が特に好ましい。
xeF!、sイオンを表わし、例えば・・ロゲンイオン
(例えば塩素イオン、臭素イオン)、アルキルあるいは
アリールスルホン酸イオン(例えばメタ/スルホン酸、
エタンスルホ/酸、ベンゼンスルホ’Ms p −トル
エンスルホン酸)、酢酸イオン、硫酸イオン、硝酸イオ
/などがあり、塩素イオン。
(例えば塩素イオン、臭素イオン)、アルキルあるいは
アリールスルホン酸イオン(例えばメタ/スルホン酸、
エタンスルホ/酸、ベンゼンスルホ’Ms p −トル
エンスルホン酸)、酢酸イオン、硫酸イオン、硝酸イオ
/などがあり、塩素イオン。
酢酸イオン、硫酸イオンが特に好ましい。
又、L、R2,R3、R4の任意の2個以上の基が相互
に結合して、窒素原子とともに、環状構造を形成するこ
とも好ましい。形成される環状構造としてはピロリジン
類、ピペリジン環1モルホリン環、ピリジン環、イばダ
ゾール環、キヌクリジン環等が好ましい。特に好ましい
のはビC1リジン環1モルホリン環、ピペリジン環、イ
ミダゾール環、ピリジン環である。
に結合して、窒素原子とともに、環状構造を形成するこ
とも好ましい。形成される環状構造としてはピロリジン
類、ピペリジン環1モルホリン環、ピリジン環、イばダ
ゾール環、キヌクリジン環等が好ましい。特に好ましい
のはビC1リジン環1モルホリン環、ピペリジン環、イ
ミダゾール環、ピリジン環である。
mは、0または/′ft、表し、好ましくはlである。
Xは0ないしぶQモルチまでであシ、好ましくはQない
し4coモルチであり、更に好ましくはQないし3Qモ
ルチである。
し4coモルチであり、更に好ましくはQないし3Qモ
ルチである。
yはOないしyzモル%まででめυ、好ましくは0ない
しtoモルチ、更に好ましくはOないし4/−Oモルチ
である。
しtoモルチ、更に好ましくはOないし4/−Oモルチ
である。
2は、!ないしiooモルチでめシ、好ましくは10な
いしiooモル%、更に好ましくは、≠Oないし100
モルチである。
いしiooモル%、更に好ましくは、≠Oないし100
モルチである。
次に本発明で用いられる少なくとも一種のアニオン性官
能基を有するエチレン性不飽和モノマーについて以下に
説明する。
能基を有するエチレン性不飽和モノマーについて以下に
説明する。
アニオン性官能基としては、−COOH基、一8o
H基、−8o2H基、−opま0H)2基(またはその
モノアルキルエステル基)、−0803H基、などが挙
げられる。これらのアニオン性基はそれぞれの塩、例え
ばアルカリ金属塩(たとえばNa、に塩)、アンモニウ
ム塩(たとえば、アンモニア、メチルアミン、ジメチル
アミン等との塩)の形をとっていてもよい。
H基、−8o2H基、−opま0H)2基(またはその
モノアルキルエステル基)、−0803H基、などが挙
げられる。これらのアニオン性基はそれぞれの塩、例え
ばアルカリ金属塩(たとえばNa、に塩)、アンモニウ
ム塩(たとえば、アンモニア、メチルアミン、ジメチル
アミン等との塩)の形をとっていてもよい。
仁のよりなアニオン性官能基を有するエチレン性不飽和
モノマーの例を非解離形で以下に示すがこれに限定され
るものではない。
モノマーの例を非解離形で以下に示すがこれに限定され
るものではない。
HOCOCHりCHCOOH。
酌述した様に、これらのモノマーはそれぞれ、塩構造の
形で使用してもよい。
形で使用してもよい。
本発明において、重合体分散物に対し加えられる、少な
くとも/徨のアニオン性基を有するエチレン性不飽和モ
ノマーは2is類以上用いても良い。
くとも/徨のアニオン性基を有するエチレン性不飽和モ
ノマーは2is類以上用いても良い。
また、その際に、アニオン性基を持たないエチレン性不
飽和モノマーを、併用しても構わない。
飽和モノマーを、併用しても構わない。
併用してもよいエチレン性不飽和モノマーとしては、前
記したような、Bで表されるエチレン性不飽和モノマー
と同じ群から選ばれる化合物が挙げられる。
記したような、Bで表されるエチレン性不飽和モノマー
と同じ群から選ばれる化合物が挙げられる。
本発明において、添加するアニオン性官能基を有するエ
チレン性不飽和モノマーの添加量は、重合体分散物中の
四級アンモニウム塩の量に対し必要に応じて、変化させ
ることができるが好ましくは/ないし100モルチであ
り、特に好ましくは!ないし100モルチである。
チレン性不飽和モノマーの添加量は、重合体分散物中の
四級アンモニウム塩の量に対し必要に応じて、変化させ
ることができるが好ましくは/ないし100モルチであ
り、特に好ましくは!ないし100モルチである。
但し、アニオン性基を有するモノマーを塩構造の形で使
用する場合は、重合体分散物中の四級アンモニウム塩に
対し、その添加量は好ましくは/なイシ?!モルチ、特
に好ましくは3ないし70モルチである。
用する場合は、重合体分散物中の四級アンモニウム塩に
対し、その添加量は好ましくは/なイシ?!モルチ、特
に好ましくは3ないし70モルチである。
また、併用されるアニオン性基を持たないエチレン性不
飽和モノマーは必要に応じて任意の量だけ添加すること
ができるが、アニオン性基を有するモノマーに対し、O
ないし、、200モルチ程度の添加量が好ましく、特に
好ましくは、Oないし、iooモルチである。
飽和モノマーは必要に応じて任意の量だけ添加すること
ができるが、アニオン性基を有するモノマーに対し、O
ないし、、200モルチ程度の添加量が好ましく、特に
好ましくは、Oないし、iooモルチである。
以下に、本発明において用いられる重合体分散物につい
て四級アンモニウム塩を有する重合体(a)、及びアニ
オン性基を有するエチレン性不飽和モノマーを少なくと
も/a!含むモノマーから重合することにより得られる
重合体(b)の順に、具体的に例示するが、本発明がこ
れに限定されるものではない。((a)と(b)の比率
は、四級アンモニウム塩の量とアニオン性官能基を有す
るモノマー中のアニオン性基のモル百分車比を表す。)
本発明による重合体分散物の合成法を以下に詳細に記す
。
て四級アンモニウム塩を有する重合体(a)、及びアニ
オン性基を有するエチレン性不飽和モノマーを少なくと
も/a!含むモノマーから重合することにより得られる
重合体(b)の順に、具体的に例示するが、本発明がこ
れに限定されるものではない。((a)と(b)の比率
は、四級アンモニウム塩の量とアニオン性官能基を有す
るモノマー中のアニオン性基のモル百分車比を表す。)
本発明による重合体分散物の合成法を以下に詳細に記す
。
まず、一般式[1)で表される少なくとも1種の四級ア
ンモニウム塩を有する1合体分散物は、例えば特開昭j
ター、1)97≠j号に記載されているような公知の方
法で合成することができる。
ンモニウム塩を有する1合体分散物は、例えば特開昭j
ター、1)97≠j号に記載されているような公知の方
法で合成することができる。
本発明の一般式〔1〕で表わされる重合体は。
一般に上記のエチレン性不飽和基を少くとも4個含有す
る共重合可能なモノマー、エチレン性不飽和モノマー、
および一般式 造を有する三級アミン(例えばトリメチルアミン、トリ
エチルアばン、トリーローブチルアミン、N iN−ジ
メチルベンジルアミン、N−メチルピペリジン、N−メ
チルモルホリン、ピリジン、弘−メチルピリジンなど)
により四級化する事によって得る事が出来る。
る共重合可能なモノマー、エチレン性不飽和モノマー、
および一般式 造を有する三級アミン(例えばトリメチルアミン、トリ
エチルアばン、トリーローブチルアミン、N iN−ジ
メチルベンジルアミン、N−メチルピペリジン、N−メ
チルモルホリン、ピリジン、弘−メチルピリジンなど)
により四級化する事によって得る事が出来る。
また本発明の一般式CI)で表わされる重合体は、上記
のエチレン性不飽和基を少くとも一個含有する共重合可
能なモノマー、エチレン性不飽和モノマー及び下記一般
式 (但しB、 i%L、m%Xは上記に示されたものに同
じ) で表される不飽和モノマー(例えば、クロロメチルスデ
レン、N(コークロロエチル)メタクリル(但し、R1
、R2、R3、L、mは上記に示され九ものに同じ)で
表わされを不飽和上ツマ−(例えばN、N−ジメチルア
iノエチル、メタクリ−)、N、N−ジエチルアばノエ
チルメタクリ−)、N、N−ジメチルアミノエチルアク
リレ−4、N、N−ジエチルアミノエチルアクリレート
、N−(N、N−ジメチルアミノプロビル)アクリルア
ミド、N−(N、N−ジヘキシルアミノメテル)アクリ
ルアミド、3−(≠−ピリジル)プロピルアクリレート
、N−エチルアミノメチルスチレン%N、N−ジメチル
アミノメチルスチレン、N、N−ジエチルアミノメチル
スチレン% N IN−ジプロピルアミノメチルスチレ
ン、N−ビ二ルベ/ジルモルホリ/、N−ビニルベンジ
ルピペリジン、コービニルピリジン、まタハ参−ビニル
ピリジy、N−ビニルイミダゾールなど)とで重合した
後、R’−Xの構造を有する化合物(式中、R’、Xは
上記に示したものに同じ)(例えば、p−)ルエンスル
ホ/酸メチル、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、エチルブ
ロマイド、n−プロピルブロマイド、アリルクロライド
、n−ブチルブロマイド、クロロ−λ−ブテン、エチル
クロルアセf−ト、n−ヘキシルブロマイド%n−オク
チルブロマイド;アラルキル化剤、例えばベンジルクロ
ライド、ベンジルブロマイド、p−ニトロベンジルクロ
ライド、p−クロロベンジルクロライド、p−メチルベ
ンジルクロライド、p−イソプロピルベンジルクロライ
ド、ジメデルベンジルクロライド、p−メトキシベンジ
ルクロライド、p−−’</タフルオロプロペニルオキ
シペンジルクロライド、ナフチルクロライド、またはジ
フェニルメチルクロライドなど、好ましくはN p
)ルエンスルホン酸メチル、ジメチル硫酸、ジエチル硫
酸、ベンジルクロ2イド)によって四級化する事によっ
て得る事も出来る。
のエチレン性不飽和基を少くとも一個含有する共重合可
能なモノマー、エチレン性不飽和モノマー及び下記一般
式 (但しB、 i%L、m%Xは上記に示されたものに同
じ) で表される不飽和モノマー(例えば、クロロメチルスデ
レン、N(コークロロエチル)メタクリル(但し、R1
、R2、R3、L、mは上記に示され九ものに同じ)で
表わされを不飽和上ツマ−(例えばN、N−ジメチルア
iノエチル、メタクリ−)、N、N−ジエチルアばノエ
チルメタクリ−)、N、N−ジメチルアミノエチルアク
リレ−4、N、N−ジエチルアミノエチルアクリレート
、N−(N、N−ジメチルアミノプロビル)アクリルア
ミド、N−(N、N−ジヘキシルアミノメテル)アクリ
ルアミド、3−(≠−ピリジル)プロピルアクリレート
、N−エチルアミノメチルスチレン%N、N−ジメチル
アミノメチルスチレン、N、N−ジエチルアミノメチル
スチレン% N IN−ジプロピルアミノメチルスチレ
ン、N−ビ二ルベ/ジルモルホリ/、N−ビニルベンジ
ルピペリジン、コービニルピリジン、まタハ参−ビニル
ピリジy、N−ビニルイミダゾールなど)とで重合した
後、R’−Xの構造を有する化合物(式中、R’、Xは
上記に示したものに同じ)(例えば、p−)ルエンスル
ホ/酸メチル、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、エチルブ
ロマイド、n−プロピルブロマイド、アリルクロライド
、n−ブチルブロマイド、クロロ−λ−ブテン、エチル
クロルアセf−ト、n−ヘキシルブロマイド%n−オク
チルブロマイド;アラルキル化剤、例えばベンジルクロ
ライド、ベンジルブロマイド、p−ニトロベンジルクロ
ライド、p−クロロベンジルクロライド、p−メチルベ
ンジルクロライド、p−イソプロピルベンジルクロライ
ド、ジメデルベンジルクロライド、p−メトキシベンジ
ルクロライド、p−−’</タフルオロプロペニルオキ
シペンジルクロライド、ナフチルクロライド、またはジ
フェニルメチルクロライドなど、好ましくはN p
)ルエンスルホン酸メチル、ジメチル硫酸、ジエチル硫
酸、ベンジルクロ2イド)によって四級化する事によっ
て得る事も出来る。
また、本発明の一般式(I)で表される重合体は特開昭
42−Jul!2号に記載されている方法、あるいは特
開昭6フ一コタ6JjJ号に記載されている方法に準じ
た方法を用いて合成することができる。
42−Jul!2号に記載されている方法、あるいは特
開昭6フ一コタ6JjJ号に記載されている方法に準じ
た方法を用いて合成することができる。
この場合、一般式(1)で表わされる重合体は、上記の
エチレン性不飽和基を少くともλ個有する共重合可能な
モノマー、エチレン性不飽和モノマー、および一般式 %式% は上記に示されたものに同じ)で表わされる不飽和モノ
マー(例、ttj:、 N−ヒニルベンジルーN。
エチレン性不飽和基を少くともλ個有する共重合可能な
モノマー、エチレン性不飽和モノマー、および一般式 %式% は上記に示されたものに同じ)で表わされる不飽和モノ
マー(例、ttj:、 N−ヒニルベンジルーN。
N、N−1JメチルアンモニウムクロIJ)”、N−ビ
ニルベ/ジル−N、N、N−17工fk77モニウムク
ロリド%N−ビニルベ/ジル−N、N。
ニルベ/ジル−N、N、N−17工fk77モニウムク
ロリド%N−ビニルベ/ジル−N、N。
N−トリブチルアンモニウムクロリド、N−ビニルベン
ジル−N、N、N−ト’Jヘキシルアンモニウムクロリ
ド、N−ビニルベン°ジルーN−ドデシルヒイリジニウ
ムクロリド、N−ビニルベ/ジル−N−メチルモルホリ
ニクムクロリド、N’ −ビニルベンジル−N−ベンジ
ルイミp’yv’:yムクロ17 ト、&−ビニルーN
−ヘキシルピリジニウムプロミド、N(λ−アクリロイ
ルオキシエチル)−N、N、N−)リエテルア/モニウ
ムクロリド、N+3−アクリルアミドプロピル)−N、
N、N−トリエチルアンモニウムクロリド%Nそ3−ア
クリルアミドプロピル)−N、N、N−)リブチルアン
モニウムプロミドなど)とで重合することによっても得
ることができる。
ジル−N、N、N−ト’Jヘキシルアンモニウムクロリ
ド、N−ビニルベン°ジルーN−ドデシルヒイリジニウ
ムクロリド、N−ビニルベ/ジル−N−メチルモルホリ
ニクムクロリド、N’ −ビニルベンジル−N−ベンジ
ルイミp’yv’:yムクロ17 ト、&−ビニルーN
−ヘキシルピリジニウムプロミド、N(λ−アクリロイ
ルオキシエチル)−N、N、N−)リエテルア/モニウ
ムクロリド、N+3−アクリルアミドプロピル)−N、
N、N−トリエチルアンモニウムクロリド%Nそ3−ア
クリルアミドプロピル)−N、N、N−)リブチルアン
モニウムプロミドなど)とで重合することによっても得
ることができる。
上記の重合反応は、一般に知られている乳化重合法を用
いて行われる。
いて行われる。
乳化重合は少なくとも一種の乳化剤を用いて水あるいは
水と水に混和しうる有機溶媒(7’tとえばメタノール
、エタノール、アセトン等)の混合溶媒中で七ツマ−を
乳化させラジカル重合開始剤を用いて一般にJOoCな
いし約100’C,好ましくは+o 0cないし約りo
’Cの温度で行なわれる。水に混和しうる有機溶媒の
量紘水に対して体積比でQ〜ioo%、好ましくは0〜
jO%である。
水と水に混和しうる有機溶媒(7’tとえばメタノール
、エタノール、アセトン等)の混合溶媒中で七ツマ−を
乳化させラジカル重合開始剤を用いて一般にJOoCな
いし約100’C,好ましくは+o 0cないし約りo
’Cの温度で行なわれる。水に混和しうる有機溶媒の
量紘水に対して体積比でQ〜ioo%、好ましくは0〜
jO%である。
重合反応は、通常重合すべき単量体にたいし0゜0!−
j、lji%のラジカル重合開始剤と必要に応じて0.
7〜IQ重量係の乳化剤を用いて行なわれる。重合開始
剤としては、アゾビス化合物、パ−オキサイド、ハイド
ロ/R−オキサイド、レドックス触媒など、たとえば過
硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、tert−ブチル
パーオクトエート、ベンゾイルノーオキサイド、イソプ
ロピルパーカーホネート、、2.≠−ジクロロベンゾイ
ルパーオ=Wtイド、メチルエチルケトンパーオキサイ
ド、クメンハイドロノ髪−オキサイド、ジクミルパーオ
キサイド、アゾビスイソブチロニトリル、J−J’−ア
ゾビス(コーアミジノプロパン)ハイドロクロライドな
どがある。
j、lji%のラジカル重合開始剤と必要に応じて0.
7〜IQ重量係の乳化剤を用いて行なわれる。重合開始
剤としては、アゾビス化合物、パ−オキサイド、ハイド
ロ/R−オキサイド、レドックス触媒など、たとえば過
硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、tert−ブチル
パーオクトエート、ベンゾイルノーオキサイド、イソプ
ロピルパーカーホネート、、2.≠−ジクロロベンゾイ
ルパーオ=Wtイド、メチルエチルケトンパーオキサイ
ド、クメンハイドロノ髪−オキサイド、ジクミルパーオ
キサイド、アゾビスイソブチロニトリル、J−J’−ア
ゾビス(コーアミジノプロパン)ハイドロクロライドな
どがある。
乳化剤としてはアニオン性、カチオン性、両性。
ノニオン性の界面活性剤の他、水溶性ポリマーなどがあ
る。九とえばラウリ/#!ソーダ、ドデシル硫酸ナトリ
ウム、l−オクトキシカルボニルメチル−7−オクトキ
シカルボニルメタ/スルホン酸ナトリウム、ラウリルナ
フタレンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベン+!!/
スルホン酸ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、セ
チルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリ
メチルアンモニウムクロライド、N−2−エチルへキシ
ルピリジニウムクロライド、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンラウ
リルエステル、ポリビニルアルコール、特公昭!J−A
/り0号に記載の乳化剤、水溶性ポリマーなどがある。
る。九とえばラウリ/#!ソーダ、ドデシル硫酸ナトリ
ウム、l−オクトキシカルボニルメチル−7−オクトキ
シカルボニルメタ/スルホン酸ナトリウム、ラウリルナ
フタレンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベン+!!/
スルホン酸ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、セ
チルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリ
メチルアンモニウムクロライド、N−2−エチルへキシ
ルピリジニウムクロライド、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンラウ
リルエステル、ポリビニルアルコール、特公昭!J−A
/り0号に記載の乳化剤、水溶性ポリマーなどがある。
乳化重合においては、その目的に応じて、重合開始剤、
濃度%重合温度、反応時間などを幅広く、かつ、容易に
変更できることはいうまでもない。
濃度%重合温度、反応時間などを幅広く、かつ、容易に
変更できることはいうまでもない。
上記の四級アンモニウム塩とする反応は一般に約j0C
ないし約りo ’Cの温度で行なわれるが、特+CJ
o ’C−r o c′Cカ好1 Lイ。
ないし約りo ’Cの温度で行なわれるが、特+CJ
o ’C−r o c′Cカ好1 Lイ。
次に本発明におけるアニオン柱上ツマ−を含んだエチレ
ン性不飽和モノマーの重合について説明する。
ン性不飽和モノマーの重合について説明する。
まず、前記の四級アンモニウム塩を有する重合体分散物
に対して、少なくとも/mのアニオン性官能基を有する
エチレン性不飽和モノマーを含有するエチレン性不飽和
モノマーを添加する。添加は、瞬時に全量を行ってもよ
いが、数分ないし1時間程度かけて滴下してもよい。モ
ノマー添加時の温度は特に制約はないが、好ましくはj
ecないしtOoCの範囲である。また、添加の際には
重合体分散物を攪拌しておくのが好ましい。エチレン性
不飽和モノマーの添加は、モノマー自身をそのまま添加
してもよいし、必要に応じて補助溶媒(たとえば、水ま
たは、メタノール、エタノール、プロノ耐ノール、アセ
ト/、酢酸エチル、アセトニトリルなどの有機溶媒また
はこれらの混合溶媒)で希釈、溶解させて行ってもよい
。
に対して、少なくとも/mのアニオン性官能基を有する
エチレン性不飽和モノマーを含有するエチレン性不飽和
モノマーを添加する。添加は、瞬時に全量を行ってもよ
いが、数分ないし1時間程度かけて滴下してもよい。モ
ノマー添加時の温度は特に制約はないが、好ましくはj
ecないしtOoCの範囲である。また、添加の際には
重合体分散物を攪拌しておくのが好ましい。エチレン性
不飽和モノマーの添加は、モノマー自身をそのまま添加
してもよいし、必要に応じて補助溶媒(たとえば、水ま
たは、メタノール、エタノール、プロノ耐ノール、アセ
ト/、酢酸エチル、アセトニトリルなどの有機溶媒また
はこれらの混合溶媒)で希釈、溶解させて行ってもよい
。
これらの、後添加したエチレン性不飽和モノマーの重合
は1通常の溶液重合反応と同様の手法を用いて行うこと
ができる。
は1通常の溶液重合反応と同様の手法を用いて行うこと
ができる。
重合反応は一般に約JO0Cないしtoooc。
好ましくは約4Ao’cないし約り0°Cの温度で行な
われる。
われる。
また、重合反応は、重合すべきエチレン性不飽和モノマ
ーに対し、0.0!−j重合チのラジカル開始剤を用い
て行なうことができる。用いうるラジカル開始剤は、前
記のものと同じ群から選ばれたものを使用することがで
きる。このラジカル開始剤はエチレン性不飽和モノマー
の添加完了後に投入してもよいし、エチレン性不飽和モ
ノマーと同時、あるいは、添加前に投入しても構わない
。
ーに対し、0.0!−j重合チのラジカル開始剤を用い
て行なうことができる。用いうるラジカル開始剤は、前
記のものと同じ群から選ばれたものを使用することがで
きる。このラジカル開始剤はエチレン性不飽和モノマー
の添加完了後に投入してもよいし、エチレン性不飽和モ
ノマーと同時、あるいは、添加前に投入しても構わない
。
ま九、重合反応においては必要に応じて前記の乳化剤を
さらに添加しても構わない。
さらに添加しても構わない。
本発明のエチレン性不飽和モノマーの重合反応において
は、重合開始剤、濃度、重合温度、反応時間などを幅広
くかつ容易に変更できることは言うまでもない。
は、重合開始剤、濃度、重合温度、反応時間などを幅広
くかつ容易に変更できることは言うまでもない。
本発明のエチレン性不飽和モノマーの添加を行う際の重
合体分散物の重合率は、高い方が好ましく、好ましくは
、to%〜10oa16%に好ましくはり!〜ioo%
である。
合体分散物の重合率は、高い方が好ましく、好ましくは
、to%〜10oa16%に好ましくはり!〜ioo%
である。
前述したように、本発明において、添加するアニオン性
官能基を有するエチレン性不飽和モノマーの添加量は、
重合体分散物中の四級アンモニウム塩のamに対し必要
に応じて、変化させることができるが好ましくは1ない
し100モルチであり、特に好ましくは!ないし、20
0モルチである。
官能基を有するエチレン性不飽和モノマーの添加量は、
重合体分散物中の四級アンモニウム塩のamに対し必要
に応じて、変化させることができるが好ましくは1ない
し100モルチであり、特に好ましくは!ないし、20
0モルチである。
但し、アニオン性基を有するモノマーを塩構造の形で使
用する場合は、重合体分散物中の四級アンモニウム塩に
対し、その添加量は好ましくは/ないしり!そルチ、特
に好ましくは3ないし70モルチである。
用する場合は、重合体分散物中の四級アンモニウム塩に
対し、その添加量は好ましくは/ないしり!そルチ、特
に好ましくは3ないし70モルチである。
また、併用されるアニオン性基を持九ないエチレン性不
飽和モノマーは必要に応じて任意の量だけ添加すること
ができるがアニオン性基を有するモノマーに対しOない
しコQQモル俤程度の添加量が好ましく、特に好ましく
はQないしiooモルチである。
飽和モノマーは必要に応じて任意の量だけ添加すること
ができるがアニオン性基を有するモノマーに対しOない
しコQQモル俤程度の添加量が好ましく、特に好ましく
はQないしiooモルチである。
本発明の製造法は、アニオン性重合体を共存させるため
に、カチオン性重合体分散物に対しアニオン性の単量体
をまず添加し、その後に重合を行うことに特徴がある。
に、カチオン性重合体分散物に対しアニオン性の単量体
をまず添加し、その後に重合を行うことに特徴がある。
このことによってアニオン性重合体を共存させても、安
定な重合体分散物を得ることができる。
定な重合体分散物を得ることができる。
ここで言う1安定″とは、重合体分散物の製造時に凝集
等による粗大粒子化(数ミクロン以上の大きさとなるこ
と)や、粒子の沈降現象がなく、また、生成した重合体
分散物の粒子径が経時により変化しにくく、かつ、沈澱
を生じないことを指す。
等による粗大粒子化(数ミクロン以上の大きさとなるこ
と)や、粒子の沈降現象がなく、また、生成した重合体
分散物の粒子径が経時により変化しにくく、かつ、沈澱
を生じないことを指す。
ま九、本発明の重合体分散物は、全製造工程が一個の容
器内で行なう仁とが出来、きわめて容易に製造され、多
量の溶媒を用いる必要もない。
器内で行なう仁とが出来、きわめて容易に製造され、多
量の溶媒を用いる必要もない。
本発明によって得られる重合体分散物は写真分野におい
て媒染剤あるいは帯電防止剤として有用に用いられる。
て媒染剤あるいは帯電防止剤として有用に用いられる。
本発明を以下の実施例によシ更に具体的に説明するが本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
実施例1(例示化合物lの合成)
O重合体分散物(/−a)の合成
反応容器に/7jOdの蒸留水を入れ、窒素ガスで脱気
し、ニラサントラックスH−μj(Jθチ水溶液)lh
Oxl、クロロメチルスチレンλり06oy(i、2モ
ル)、ジビニルベンゼア/j、0p(o、iモル)を加
え、to 0cに加熱した。
し、ニラサントラックスH−μj(Jθチ水溶液)lh
Oxl、クロロメチルスチレンλり06oy(i、2モ
ル)、ジビニルベンゼア/j、0p(o、iモル)を加
え、to 0cに加熱した。
窒素ガスにより脱気された蒸留水700ydに過硫酸カ
リウムコ、Ifを加えたものおよび脱気された蒸留水コ
jdに亜硫酸水素ナトリウム0.2!jIを加えたもの
を同時に加え、2時間加熱攪拌を轢けた。ざらに、上記
と全く同じ量の過硫酸カリウムと亜硫酸ナトリウムの混
合液を加え、700Cに昇温して3時間加熱攪拌を続は
九。
リウムコ、Ifを加えたものおよび脱気された蒸留水コ
jdに亜硫酸水素ナトリウム0.2!jIを加えたもの
を同時に加え、2時間加熱攪拌を轢けた。ざらに、上記
と全く同じ量の過硫酸カリウムと亜硫酸ナトリウムの混
合液を加え、700Cに昇温して3時間加熱攪拌を続は
九。
得られたラテックスを室温まで冷却し、蒸留水100x
lを加え、N−メチルモルホリン1737(7,7モル
)を添加した。その後7o 0Cにゆっくりと昇温し、
2時間加熱攪拌した。室温まで冷却後濾過し、さらに限
外濾過によって残存する無機塩、N−メチルモルホリン
を除いて重合体分散物媒染剤(例示化合物/−a)を得
た。
lを加え、N−メチルモルホリン1737(7,7モル
)を添加した。その後7o 0Cにゆっくりと昇温し、
2時間加熱攪拌した。室温まで冷却後濾過し、さらに限
外濾過によって残存する無機塩、N−メチルモルホリン
を除いて重合体分散物媒染剤(例示化合物/−a)を得
た。
得られた重合体は、固型分濃度t、y重量%、カチオン
化された窒素原子金蓋は、滴定により、コ、73×10
(モル/lPラテックス)であった。また、ラテ
ックスの平均粒子径は127n m (コールタ−サブ
ミクロン粒子アナライザー日科機■によす測定)であっ
た。
化された窒素原子金蓋は、滴定により、コ、73×10
(モル/lPラテックス)であった。また、ラテ
ックスの平均粒子径は127n m (コールタ−サブ
ミクロン粒子アナライザー日科機■によす測定)であっ
た。
Q重合体分散物(/−a)中でのアクリル酸の重合
合成した重合体分散物(/−a)JOOPを反応容器に
入れ窒素気流下室温で攪拌しながら、アクリル酸弘、J
’ Yl! (−COOH/′総窒素原子含童= ’/
4cとなる蓋)を蒸留水tjyにとかしたものを2分間
にわた夛滴下した。滴下終了後、70°Cに加熱し、2
.−′−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロク
ロライド(y−toの名称で和光紬薬■より市販)o、
arpを蒸留水10ゴにとかした溶液を1時間ごとに計
λ回加え、さらに、ro 0cに昇温して3時間攪拌を
続けた。
入れ窒素気流下室温で攪拌しながら、アクリル酸弘、J
’ Yl! (−COOH/′総窒素原子含童= ’/
4cとなる蓋)を蒸留水tjyにとかしたものを2分間
にわた夛滴下した。滴下終了後、70°Cに加熱し、2
.−′−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロク
ロライド(y−toの名称で和光紬薬■より市販)o、
arpを蒸留水10ゴにとかした溶液を1時間ごとに計
λ回加え、さらに、ro 0cに昇温して3時間攪拌を
続けた。
冷却後、濾過して、固型分濃度r、i重量重量平均粒子
径ii弘nm (前記と同じ方法で測定)の重合体分散
物を得た。
径ii弘nm (前記と同じ方法で測定)の重合体分散
物を得た。
本実験において、フラスコ壁及び攪拌羽には、粒子の凝
集等による付着物は全く認められず、また、得られた分
散物は低粘でかつ/ケ月経時しても極めて安定であった
。
集等による付着物は全く認められず、また、得られた分
散物は低粘でかつ/ケ月経時しても極めて安定であった
。
実施例λ〜弘
実施列lと同じ重合体(/−a)を用い添加するアクリ
ル酸量を変えた以外は全く同じ方法で合成を行った。添
加したアクリル酸の量及び重合結朱を下表1にまとめて
示す。
ル酸量を変えた以外は全く同じ方法で合成を行った。添
加したアクリル酸の量及び重合結朱を下表1にまとめて
示す。
本実験においても、フラスコ壁及び攪拌用には。
粒子の凝集等による付着物は全く認められず、また、得
られた一連の分散物は低粘でかつ7ケ月経時しても極め
て安定であった。
られた一連の分散物は低粘でかつ7ケ月経時しても極め
て安定であった。
実施例J〜7
実施例1の、重合体分散物(/−a)λoopを反応容
器に入れ、iii素気流下室温で攪拌しながら、′s々
の量の、スチレンスルフィン酸カリウム(表−に記載)
を蒸留水、2Q1にとかしたものを2分間にわた)滴下
した。fI!4下終了後、700CK加熱し、コ、λ′
−アゾビス(コーアミジノプロパ/)ハイドロクロライ
ド(、V−tOの名称で和光紬薬■より市販)o、01
ft−蒸留水j−にとかした溶液を7時間ごとに計コ回
加え、さらに、100(:に昇温して3時間攪拌を続け
た。冷却後、F遇して、目的の重合体分散物を得た。ス
チレンスルフィン酸カリウム添加量の異なる一連の合成
結果(実施例!、6,7)を表コに示す。
器に入れ、iii素気流下室温で攪拌しながら、′s々
の量の、スチレンスルフィン酸カリウム(表−に記載)
を蒸留水、2Q1にとかしたものを2分間にわた)滴下
した。fI!4下終了後、700CK加熱し、コ、λ′
−アゾビス(コーアミジノプロパ/)ハイドロクロライ
ド(、V−tOの名称で和光紬薬■より市販)o、01
ft−蒸留水j−にとかした溶液を7時間ごとに計コ回
加え、さらに、100(:に昇温して3時間攪拌を続け
た。冷却後、F遇して、目的の重合体分散物を得た。ス
チレンスルフィン酸カリウム添加量の異なる一連の合成
結果(実施例!、6,7)を表コに示す。
本実験においても、7.j’スコ壁及び攪拌用には、粒
子の凝集等による付着物は全く紹められず、ま九、得ら
れた分散物は低粘でかっ/ケ月経時しても極めて安定で
めった。
子の凝集等による付着物は全く紹められず、ま九、得ら
れた分散物は低粘でかっ/ケ月経時しても極めて安定で
めった。
実施例r、?
実施例/の重合体分散物(/−a)、Zθo1を反応容
器に入れ、w1本気流下室温で攪拌しながら、アクリル
酸及び、添加したアクリル酸の/10当量の水酸化ナト
リウムを蒸留水≠opにとかしたものを2分間にわたり
滴下した。(アクリル酸の添加量、表λ参照)liii
i下終了後、70°Cに加熱し、、2..2’−アゾビ
ス(,2−7ミジノプロノにン)ハイドロクロライド(
V−j(7の名称で和光紬薬■よシ市販)0.0jpを
蒸留水!−にとかした溶液を1時間ごとに計λ回加え、
さらに、t o 0cに昇温してJ時間攪拌金続は九。
器に入れ、w1本気流下室温で攪拌しながら、アクリル
酸及び、添加したアクリル酸の/10当量の水酸化ナト
リウムを蒸留水≠opにとかしたものを2分間にわたり
滴下した。(アクリル酸の添加量、表λ参照)liii
i下終了後、70°Cに加熱し、、2..2’−アゾビ
ス(,2−7ミジノプロノにン)ハイドロクロライド(
V−j(7の名称で和光紬薬■よシ市販)0.0jpを
蒸留水!−にとかした溶液を1時間ごとに計λ回加え、
さらに、t o 0cに昇温してJ時間攪拌金続は九。
冷却後、濾過して、目的の重合体分散物を得た。アクリ
ル酸の添加量を変えて行った、各合成結果(実施例1)
?)を、表コに示す。
ル酸の添加量を変えて行った、各合成結果(実施例1)
?)を、表コに示す。
本実験において、フラスコ壁及び攪拌用には、粒子の凝
集等による付着物は全く認められず、また、得られた分
散物は低粘でかつlケ月経時しても極めて安定であった
。
集等による付着物は全く認められず、また、得られた分
散物は低粘でかつlケ月経時しても極めて安定であった
。
実施例10〜/J
0重合体分散物(A−a)の合成
反応容器に/ 7 j Odの蒸留水を入れ、窒素ガス
で脱気し、ニラサントラックス)l−41−1(,30
%水fll液) a oty、ジビニルベンゼンis、
oy(0,7モル)%スチレンタ1.りyco、り5モ
ル)、クロロメチルスチレンl弘z、oy(o。
で脱気し、ニラサントラックス)l−41−1(,30
%水fll液) a oty、ジビニルベンゼンis、
oy(0,7モル)%スチレンタ1.りyco、り5モ
ル)、クロロメチルスチレンl弘z、oy(o。
23モル)を加え% AO0Cに加熱したa窒素ガスに
より脱気された蒸留水700dに過硫酸カリウムコ、!
りを加えたものおよび脱気された蒸留水2!−に亜硫酸
水素ナトリウムO,ヂIllを加え九ものを同時に加え
、4時間加熱攪拌を続けた。
より脱気された蒸留水700dに過硫酸カリウムコ、!
りを加えたものおよび脱気された蒸留水2!−に亜硫酸
水素ナトリウムO,ヂIllを加え九ものを同時に加え
、4時間加熱攪拌を続けた。
さらに、上記と全く同じ量の過硫酸カリウムと亜硫酸ナ
トリウムの混合液を加え、70°Cに昇温しで3時間加
熱攪拌を続けた。
トリウムの混合液を加え、70°Cに昇温しで3時間加
熱攪拌を続けた。
得られたラテックスを室温まで冷却し、蒸留水toQ−
を加え、N−メチルピペリジン2v、2pco、り5モ
ル)t−添加した。その後700Cにゆつくシと昇温し
、4時間加熱攪拌した。室温まで冷却後濾過し、さらに
限外−過によって残存する無機塩、N−メチルピペリジ
ンを除いて重合体分散物媒染剤(例示化合物4−a)を
得た。
を加え、N−メチルピペリジン2v、2pco、り5モ
ル)t−添加した。その後700Cにゆつくシと昇温し
、4時間加熱攪拌した。室温まで冷却後濾過し、さらに
限外−過によって残存する無機塩、N−メチルピペリジ
ンを除いて重合体分散物媒染剤(例示化合物4−a)を
得た。
得られ死重合体は固型分濃度2.2重量%、ポリマー中
のカチオン化された窒素原子含量は、滴定によ)1.り
J×10−’(モル/lyラテックス)であった。
のカチオン化された窒素原子含量は、滴定によ)1.り
J×10−’(モル/lyラテックス)であった。
O重合体分散物(、la −a )中でのスチレンスル
フィン酸カリウムの重合 スチレンスルフィン酸カリウム量を変化させ、重合体分
散物として(≦−a)を用いた以外は実施例!と全く同
じにして、目的とする重合体分散物を得た。スチレンス
ルフィン酸カリウム添加蓋の異なる一連の合成結果(実
施例l01l/、/、2)を表3に示す。
フィン酸カリウムの重合 スチレンスルフィン酸カリウム量を変化させ、重合体分
散物として(≦−a)を用いた以外は実施例!と全く同
じにして、目的とする重合体分散物を得た。スチレンス
ルフィン酸カリウム添加蓋の異なる一連の合成結果(実
施例l01l/、/、2)を表3に示す。
本実験においても、フラスコ壁及び攪拌羽には、粒子の
咲集等による付着物は全く認められず、また、得られた
分散物は低粘でかつl夕月経時しても極めて安定であっ
た。
咲集等による付着物は全く認められず、また、得られた
分散物は低粘でかつl夕月経時しても極めて安定であっ
た。
実施例/J(例示化合物tの合成)
O重合体分散物(a)の合成
反応容器にJ!Oxlの蒸留水を入れ、窒素ガスで脱気
しニラサントラックス)(−17(j 0%水溶液)/
Jxl、ジビニルベ/ゼ/コ、6り(o。
しニラサントラックス)(−17(j 0%水溶液)/
Jxl、ジビニルベ/ゼ/コ、6り(o。
0−モル)、スチレンlり、tり(0,フタモル)、ク
ロロメチルスチレンλデ、oy(o、フタモル)を加え
、to’cに加熱した。NXガスによシ脱気された蒸留
水、20mに過硫酸カリウム0.j2を加えたものおよ
び脱気された蒸留水1mlに亜硫酸水素ナトリウムo、
iりtを加えたものを同時に加え、−時間加熱攪拌を続
けた。さらに、上記と全く同じ量の過硫酸カリウムと亜
硫酸ナトリウムの混合液を加え、70°Cに昇温して3
時間加熱攪拌を続けた。
ロロメチルスチレンλデ、oy(o、フタモル)を加え
、to’cに加熱した。NXガスによシ脱気された蒸留
水、20mに過硫酸カリウム0.j2を加えたものおよ
び脱気された蒸留水1mlに亜硫酸水素ナトリウムo、
iりtを加えたものを同時に加え、−時間加熱攪拌を続
けた。さらに、上記と全く同じ量の過硫酸カリウムと亜
硫酸ナトリウムの混合液を加え、70°Cに昇温して3
時間加熱攪拌を続けた。
得られたラテックスを室温まで冷却し、蒸留水/ t
(Ntdを加え、トリエチルアミン/り0.2)(o、
iyモル)を添加し九。その後7c”cにゆつくシと昇
温し、コ時間加熱攪拌した。室温まで冷却後濾過し、さ
らに限外濾過によって残存する無機塩、トリエチルアミ
ンを除いて重合体分散物媒染剤(例示化合物r−a)を
得た。
(Ntdを加え、トリエチルアミン/り0.2)(o、
iyモル)を添加し九。その後7c”cにゆつくシと昇
温し、コ時間加熱攪拌した。室温まで冷却後濾過し、さ
らに限外濾過によって残存する無機塩、トリエチルアミ
ンを除いて重合体分散物媒染剤(例示化合物r−a)を
得た。
得られた重合体は固型分濃度?、j重1t%、ポリマー
中のカチオン化された窒素原子含量は滴定によりλ、0
0X10 (モル//pラテックス)であった。
中のカチオン化された窒素原子含量は滴定によりλ、0
0X10 (モル//pラテックス)であった。
−i合体分散物< r−a >中でのアクリル酸及びア
クリル酸ソーダの重合 合成した重合体分散物(1−a )Jooyを反応容器
に入れ窒素気流下室温で攪拌しながらアクリル酸λ、r
ry(−COOH/a窒素原子含量−′/7となる量)
、水酸化ナトリウム0.32ノを蒸留水コOFにとかし
たものを2分間にわたり滴下し九。滴下終了後700C
に加熱し、コ1,2′−アゾビス(コーアずジノプロパ
ン)ハイドロクロライド(%I’−10の名称で和光紬
薬■より市販)o、otyを蒸留水jdにとかした溶液
を7時間ごとに計λ回加え、さらに、ro 0cに昇温
しで3時間攪拌を続けた。冷却後、戸遇して、固型分濃
度70.3重量%、平均粒子径/θt n m (前記
と同じ方法で測定)の重合体分散物(例示化合物t)を
得た。
クリル酸ソーダの重合 合成した重合体分散物(1−a )Jooyを反応容器
に入れ窒素気流下室温で攪拌しながらアクリル酸λ、r
ry(−COOH/a窒素原子含量−′/7となる量)
、水酸化ナトリウム0.32ノを蒸留水コOFにとかし
たものを2分間にわたり滴下し九。滴下終了後700C
に加熱し、コ1,2′−アゾビス(コーアずジノプロパ
ン)ハイドロクロライド(%I’−10の名称で和光紬
薬■より市販)o、otyを蒸留水jdにとかした溶液
を7時間ごとに計λ回加え、さらに、ro 0cに昇温
しで3時間攪拌を続けた。冷却後、戸遇して、固型分濃
度70.3重量%、平均粒子径/θt n m (前記
と同じ方法で測定)の重合体分散物(例示化合物t)を
得た。
本実験において、フラスコ壁及び攪拌羽には、粒子の凝
集等による付着物は全く認められず、また5得られた分
散物は低粘でかっlケ月経時しても極めて安定で6つ九
。
集等による付着物は全く認められず、また5得られた分
散物は低粘でかっlケ月経時しても極めて安定で6つ九
。
比較例
実施例/〜/jで用いた重合体(a)Jooyに対して
、各酸ポリマーの水溶液を酸含量が実施例と同等となる
ようにして(下表4t)攪拌しながら、室温で70分間
にわたり滴下した。(比較例/〜/3) 酸ポリマーの添加によシ、いずれの重合体分散物におい
ても、粗大な凝集物を生成し粘稠液となった。また、そ
の後加熱あるいは、長時間攪拌(/(7時間)を行って
も、もはや、#1.果物のない安定な分散物−・もどす
ことはできなかった。
、各酸ポリマーの水溶液を酸含量が実施例と同等となる
ようにして(下表4t)攪拌しながら、室温で70分間
にわたり滴下した。(比較例/〜/3) 酸ポリマーの添加によシ、いずれの重合体分散物におい
ても、粗大な凝集物を生成し粘稠液となった。また、そ
の後加熱あるいは、長時間攪拌(/(7時間)を行って
も、もはや、#1.果物のない安定な分散物−・もどす
ことはできなかった。
以上の給米よυ、本発明の合成法が、四級アンモニウム
塩を有する重合体分散物と、アニオン性官能基を有する
重合体を共存させた、安定な重・合/ 体分散物を製造する上で、優れた方法であることが明ら
かである。
塩を有する重合体分散物と、アニオン性官能基を有する
重合体を共存させた、安定な重・合/ 体分散物を製造する上で、優れた方法であることが明ら
かである。
ζ
補正の対象
明細書の「発明の詳細な説明」
の―
&
補正の内容
8A細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下1゜
事件の表示
平成
1年詩願第t7744I号
中の
2゜
発明の名称
重合体分散物及び重合体分散物の
製造方法
[
3゜
補正をする者
を件との関係
Claims (3)
- (1)構成成分として、少なくとも1種の四級アンモニ
ウム塩を有する重合体分散物と、アニオン性官能基を有
する重合体を共存させた水系重合体分散物。 - (2)構成成分として、少なくとも1種の四級アンモニ
ウム塩を有する重合体分散物と、アニオン性官能基を有
する重合体を共存させた、水系重合体分散物を、少なく
とも1種の四級アンモニウム塩を有する繰り返し単位を
含有する重合体分散物に対し、少なくとも1種のアニオ
ン性官能基を有する少なくとも1種のエチレン性不飽和
モノマーを添加した後、重合反応を行うことによつて得
ることを特徴とする水系重合体分散物の製造方法。 - (3)四級アンモニウム塩を有する重合体が下記一般式
〔 I 〕で表わされる重合体であることを特徴とする請
求項(2)記載の水系重合体分散物の製造方法。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Aは共重合可能なエチレン性不飽和基を少なくと
も一つ有し、その少なくとも1つを側鎖に含むような共
重合可能なモノマーを共重合したモノマー単位を表す。 Bは共重合可能なエチレン性不飽和モノマーを共重合し
たモノマー単位を表わす。R^1は水素原子、低級アル
キル基又はアラルキル基、を表わす。Lは、1〜20個
の炭素原子を有する二価の連結基を表す。R^2、R^
3、R^4は同じであつても異なつていてもよく、それ
ぞれ、1〜20個の炭素原子を有するアルキル基、置換
アルキル基、もしくは6〜20個の炭素原子を有するア
リール基、置換アリール基を表す。 R^2、R^3、R^4、Lのうち、任意の2つ以上の
基は、相互に連結して、窒素原子とともに環状構造を形
成してもよい。 X^■は陰イオンを表す。mは0または1を表す。 x、y、zは各感分のモル百分率を表しxは0ないし6
0まで、yは0ないし95、zは5ないし100までの
値を表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1087364A JP2668260B2 (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 重合体分散物及び重合体分散物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1087364A JP2668260B2 (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 重合体分散物及び重合体分散物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02265943A true JPH02265943A (ja) | 1990-10-30 |
| JP2668260B2 JP2668260B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=13912839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1087364A Expired - Fee Related JP2668260B2 (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 重合体分散物及び重合体分散物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2668260B2 (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5187595A (en) * | 1975-01-31 | 1976-07-31 | Fujikura Ltd | Horiionsakutaino seizohoho |
| JPS52155649A (en) * | 1976-06-22 | 1977-12-24 | Mita Industrial Co Ltd | Conductive resin compositions |
| JPS5495636A (en) * | 1977-12-20 | 1979-07-28 | Daicel Chem Ind Ltd | Aqueous coating composition |
| JPS6023974A (ja) * | 1983-07-20 | 1985-02-06 | Kao Corp | 固体電解質電池 |
| JPS60123534A (ja) * | 1983-11-02 | 1985-07-02 | エクソン リサーチ アンド エンヂニアリング コムパニー | ポリマー錯体水溶液 |
-
1989
- 1989-04-06 JP JP1087364A patent/JP2668260B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5187595A (en) * | 1975-01-31 | 1976-07-31 | Fujikura Ltd | Horiionsakutaino seizohoho |
| JPS52155649A (en) * | 1976-06-22 | 1977-12-24 | Mita Industrial Co Ltd | Conductive resin compositions |
| JPS5495636A (en) * | 1977-12-20 | 1979-07-28 | Daicel Chem Ind Ltd | Aqueous coating composition |
| JPS6023974A (ja) * | 1983-07-20 | 1985-02-06 | Kao Corp | 固体電解質電池 |
| JPS60123534A (ja) * | 1983-11-02 | 1985-07-02 | エクソン リサーチ アンド エンヂニアリング コムパニー | ポリマー錯体水溶液 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2668260B2 (ja) | 1997-10-27 |
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