JPH02267487A - 真空誘導炉 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は金属溶融炉に係り、特に真空誘導炉に関する。

本発明は高融点及び化学的に活性な金属を溶解するため
に用いてもよい。本発明はガス及び非金属介在物を除い
て金属インゴットを精錬するために再溶解したり、高融
点及び化学的に活性な金属の特殊合金、高合金の溶解に
も用いられる。

現代の冶金学における最も重要な問題の１つは向上した
技術特性（強度、耐摩耗性、耐食性、耐火性等）を示す
金属材料の製造である。

そのような材料を製造する方法の１つは真空誘導炉にあ
ける冷却された溶解金属ポット内での金属溶解である。

その溶解の利点は溶解物がライニング材で汚染されず、
溶解用の３０００　ｋ迄の高温が誘導子の電磁界によっ
て溶解物の強力な攪拌で達成され、それによって全イン
ゴットに垂直に沿って均一な化学成分が得られ、多成分
合金が融点、密度及び蒸気圧が実質的に異なる高成分量
（５０重量％迄）で製造される。径の異なる溶解ポット
は上記合金の製造プロセスを開発するために必要とされ
そのプロセスは処理後に径を小さくしたインゴットを再
利用したり、合金の高価な稀少成分を節約するための必
要性により、また得られたインゴット　次の加工条件で
説明される。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕絶縁ス
ペーサで分離された垂直に伸びる冷却された金属部材で
形成された外周部を有する密閉された画室と、冷却され
たベースと該密閉された画室を囲む誘導子とを含む真空
誘導炉が当業界で知られている（Ｌ、　Ｌ、　Ｔｉｒ、
＾、Ｐ、Ｇｕｂｃｈｅｎｋｏ、　ＩｎｄｕｃｔｉｏｎＳ
ｍｅｌｔｉｎｇ　Ｆｕｒｎａｃｅｓ　ｆｏｒ　Ｃａｒｒ
ｙｉｎｇ　ｏｕｔ　Ｈｉｇｈ＾ｃｃｕｒａｃｙ　ａｎｄ
　Ｐｕｒｉｔｙ　Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ（ソ連）、１９８
８年、Ｅｎｅｒｇｏａｔｏｍｉｚｄａｔ、　　％Ｘり７
７６．７７ペ一ジＦｉｇ、４５）。

しかしながら先行技術の真空誘導画室はインゴットの直
径が非常に限定された範囲の製造を可能にする。もしも
そのような炉で異なった径のインゴットを得ることが必
要であるならば冷却された溶解ポットを中に有する密閉
された画室を適当な大きさの他の画室で蓋き換えるか金
金属又はｐｅｒｃｉｏｕｓ金属を再溶解する場合、特に
好ましくない再溶解材の余分な量を消費する必要がある
。

本発明は冷却された溶解金属ポットが、１つのそして同
じ溶解ポットで異なった径のインゴットを製造するよう
に構成される真空誘導炉を提供する問題に基づく。

〔課題を解決するための手段〕

その問題は絶縁スペーサで分離された垂直に伸びる冷却
された金属部材によって形成された円周部を有する冷却
された溶解ポットを具備する密閉された画室と、該溶解
ポットに対して垂直の往復運動を行なうための機構に接
続された冷却ベースと該密閉された画室を囲む誘導子を
含む真空誘導炉において、前記溶解ポットの内部が該ベ
ースの方向に減少する直径を有する段差形状を有して形
成されてなることを特徴とする真空誘導炉によって解決
される。

〔実施例〕

真空誘導炉は冷却された溶解ポット２を具備する密閉画
室１と、底カバープレート４で支持された、冷却された
ベース３とを有する。その冷却されたベース３は垂直方
向の往復運動のための機構のロッドに接続される。密閉
された画室１は誘導子７で囲まれている。密閉された画
室１はカバープレート８によって密閉されている。

溶解ポット２の内部はベース３の方向に減少する直径の
段差形状となっている。

溶解ポット２（第２図）の円周は垂直に伸びる冷却され
た金属部材１０によって形成される。その部材は絶縁ス
ペーサ１１で分離される。この装置は溶解方法を実施し
制御するために上カバープレート８上に設けられる。計
量装置に、検知手段１３、その他プラズモトロン、サー
モカップル（図示せず）のようなものである。

本発明に係る真空誘導炉は以下のように作動する。必要
な直径のインゴットを溶解する場合、そのインゴットを
溶解するのに必要な溶解ポット２の直径に対応する直径
を有するベース３を垂直往復運動機構（第１１図）のロ
ッド５に取付ける。

次に装入材料をベース３上に置き、ベース３をロッド５
によって溶解ポット２のそれぞれの段差に導びく。次に
密閉した画室ｌを真空シール９上に設けたカバープレー
ト８で開放する。次に密閉した画室１を排気し、使用し
た溶解ポット２の段差に対応する誘導子７のコイルを加
熱し、装入物溶解のためスイッチオンする。装入材料と
合金成分を計量装置１２（第２図）を通して添加し、そ
して鋳造を実施しそして制御するための全ての必要なプ
ロセス動作をカバープレート８上に設けられたプロセス
装置を用いながら行なう。

鋳造を終えて誘導子７のコイルの通電を止め得られたイ
ンゴットを結晶化する。そのインゴットを予めセットし
た温度にして炉の密閉を解き、カバープレート８を開け
そして得られたインゴットを機構６によって最上の位置
に移し次の処理のため取りはずす。

次に同じベース３を用いるかあるいは異なった直径の新
しいベース３を配備しインゴット溶解プロセスを繰り返
す。

〔発明の効果〕

溶解ポット２の内部に段差を設けることにより炉の生産
能力を拡大し、金属と材料用途を変え炉の応用分野の拡
大を可能にする。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る真空誘導炉の概略縦断面図であり
、 第２図は本発明に係る真空誘導炉の部分断面を含む平面
図である。 １・・・密閉された画室、 ２・・・冷却された溶解金属ポット、 ３・・・冷却されたベース、 ４・・・底カバープレート、 訃・・ロッド、 ６・・・ベース３の垂直往復運動機構、７・・・誘導子
、　　　　　８・・・上カバープレート、９・・・真空
シール、 １０・・・溶解ポット２の冷却された金属部材、１１・
・・絶縁スペーサ、　　１２・・・計量装置、１３・・
・検知手段。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、絶縁スペーサ（１１）で分離された垂直に伸びる冷
   却された金属部材（１０）によって形成された円周部を
   有する冷却された溶解ポット（２）を具備する密閉され
   た画室（１）と、該溶解ポット（２）に対して垂直の往
   復運動を行なうための機構に接続された冷却ベース（３
   ）と該密閉された画室（１）を囲む誘導子（７）を含む
   真空誘導炉において、 前記溶解ポット（２）の内部が該ベース（３）の方向に
   減少する直径を有する段差形状を有して形成されてなる
   ことを特徴とする真空誘導炉。