JPH022703A - High voltage detection circuit for semiconductor memory - Google Patents
High voltage detection circuit for semiconductor memoryInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、イオン注入により情報の書込みを行う半導体
メモリ等に用いられ、入力される電圧が高電圧であるか
否かを検出する半導体メモリの高電圧検出回路に関する
ものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is applied to a semiconductor memory, etc., in which information is written by ion implantation, and which detects whether an input voltage is a high voltage. The present invention relates to a high voltage detection circuit.
従来の半導体メモリの高電圧検出回路11を構成するN
型MOSトランジスタTr、は、例えば第3図に示すよ
うに、ドレインD、およびゲートGが互いに接続されて
入力端子INとされる一方、サブストレートUが接地さ
れている。上記N型MOSトランジスタTr1のソース
Sには、P型Mos+−ランジスタTr2のソースSお
よびサブストレートUが接続されている。N constituting the high voltage detection circuit 11 of a conventional semiconductor memory
For example, as shown in FIG. 3, the drain D and gate G of the type MOS transistor Tr are connected to each other to serve as an input terminal IN, while the substrate U is grounded. The source S of the P-type Mos+- transistor Tr2 and the substrate U are connected to the source S of the N-type MOS transistor Tr1.
上記P型MOSトランジスタTrzのドレインDは、出
力端子OUTとされるとともに、N型MOSトランジス
タ’l’r=のドレインDに接続されている。また、P
型MOS)ランジスタTr2のゲートGは、電位Vcc
の電源に接続されるとともに、N型MOSトランジスタ
Tr3のゲートGに接続されている。The drain D of the P-type MOS transistor Trz is used as an output terminal OUT, and is also connected to the drain D of the N-type MOS transistor 'l'r=. Also, P
The gate G of the transistor Tr2 (type MOS) is at the potential Vcc.
It is connected to the power source of , and also connected to the gate G of the N-type MOS transistor Tr3.
N型MOSトランジスタTr3のソースS、およびサブ
ストレートUは、共に接地されている。The source S and substrate U of the N-type MOS transistor Tr3 are both grounded.
このような半導体メモリの高電圧検出回路では、N型M
OSトランジスタTr3は、常時ON状態になっており
、入力端子INの電位Vinが高電位でない場合、N型
MOSトランジスタTr。In such a semiconductor memory high voltage detection circuit, N type M
The OS transistor Tr3 is always in an ON state, and becomes an N-type MOS transistor Tr when the potential Vin of the input terminal IN is not at a high potential.
、およびP型M’OSトランジスタTr2はOFF状態
になる。それゆえ、出力端子OUTの電位Voutはロ
ーレベルになる。, and the P-type M'OS transistor Tr2 are turned off. Therefore, the potential Vout of the output terminal OUT becomes low level.
一方、入力端子INの電位Vinが上昇すると、入力端
子INとN型MO3hランジスタTr。On the other hand, when the potential Vin of the input terminal IN increases, the input terminal IN and the N-type MO3h transistor Tr.
のソースSとの間の電位差が大きくなる。The potential difference between the source S and the source S increases.
ここで、N型MOSl−ランジスクTr1 ・Tr。Here, N-type MOS l-randisk Tr1.Tr.
のスレッショルド電圧、およびソースSの電位によるバ
ンクゲート効果電圧を、それぞれvthN、およびvt
hN “とすると、上記入力端子INとN型MOSトラ
ンジスタTr、のソースSとの間の電位差がvth、4
+vth、’以上になったときに、N型MOSトランジ
スタTr、はON状態になる。and the bank gate effect voltage due to the source S potential are vthN and vt, respectively.
hN'', the potential difference between the input terminal IN and the source S of the N-type MOS transistor Tr is vth, 4
+vth,' or more, the N-type MOS transistor Tr is turned on.
このN型MOSトランジスタTr、のON状態に伴って
、P型MOSトランジスタTr2のソースSの電位が上
昇する。そこで、P型MOSトランジスタTr、のスレ
ッショルド電圧をV t hpとすると、P型MOSト
ランジスタTr2のソースSの電位がVcc+1Vth
、1以上になると、こんどは、P型MOSトランジスタ
Tr、もON状態になり、出力端子OUTの電位Vou
tはハイレベルになる。As the N-type MOS transistor Tr is turned on, the potential of the source S of the P-type MOS transistor Tr2 increases. Therefore, if the threshold voltage of the P-type MOS transistor Tr is V th hp, the potential of the source S of the P-type MOS transistor Tr2 is Vcc+1Vth.
, 1 or more, the P-type MOS transistor Tr also turns on, and the potential Vou of the output terminal OUT increases.
t becomes high level.
すなわち、入力端子INの電位Vinが、Vcc+VL
hN+VthN ’+1vth、lのときに、出力端子
OUTにおける電位Voutのレベルが反転することに
より、入力端子INの電位■inが高電位であるか否か
が検出されるようになっていた。That is, the potential Vin of the input terminal IN is Vcc+VL
When hN+VthN'+1vth,l, the level of the potential Vout at the output terminal OUT is inverted, thereby detecting whether the potential ■in at the input terminal IN is a high potential.
ところが、上記従来の半導体メモリの高電圧検出回路で
は、出力端子OUTにおける電位Voutのレベルを反
転させるための入力端子INの電位Vinは、電源の電
位Vccの変動に応じて変化する。それゆえ、例えば第
4図に示すように、入力端子INの電位Vinが一定で
も、電源の電位Vccが変動すると出力端子OUTの電
位V。However, in the conventional semiconductor memory high voltage detection circuit described above, the potential Vin of the input terminal IN for inverting the level of the potential Vout at the output terminal OUT changes in accordance with fluctuations in the power supply potential Vcc. Therefore, as shown in FIG. 4, for example, even if the potential Vin of the input terminal IN is constant, when the potential Vcc of the power supply changes, the potential V of the output terminal OUT changes.
utは、一定のレベルに定まらず、不安定になるという
問題点を有していた。ut had a problem in that it was not fixed at a certain level and became unstable.
本発明に係る半導体メモリの高電圧検出回路は、上記の
課題を解決するために、入力される電圧が高電圧である
か否かを検出する半導体メモリの高電圧検出回路におい
て、ゲートを入力端子とする一方、ドレインを出力端子
とし、サブストレートが接地されて、入力バノファを構
成する高スレッショルド電圧のN型MOSトランジスタ
と、上記N型MOSトランジスタのドレインにドレイン
が接続され、ソースおよびサブストレートが共に電源に
接続される一方、ゲートが接地されるP型MOSトラン
ジスタと、前記N型MOSトランジスタのソースにドレ
インおよびゲートが接続される一方、サブストレートお
よびソースが接地されるN型MOSトランジスタとから
成ることを特徴としている。In order to solve the above problems, a high voltage detection circuit for a semiconductor memory according to the present invention detects whether an input voltage is a high voltage. On the other hand, the drain is used as an output terminal, the substrate is grounded, and the drain is connected to the high threshold voltage N-type MOS transistor constituting the input vanofer, and the drain is connected to the drain of the above-mentioned N-type MOS transistor, and the source and substrate are connected to each other. A P-type MOS transistor whose gate is grounded while both are connected to a power supply, and an N-type MOS transistor whose drain and gate are connected to the source of the N-type MOS transistor and whose substrate and source are grounded. It is characterized by becoming.
上記の構成により、出力端子における電位のレベルを反
転させるための入力端子の電位は、電源の電位の変動に
は直接影響されないようにすることができるので、安定
した出力を得ることができる。With the above configuration, the potential of the input terminal for inverting the level of the potential at the output terminal can be made not to be directly affected by fluctuations in the potential of the power supply, so that a stable output can be obtained.
また、入力インピーダンスが高くなるので、高電圧検出
回路の入力端子に対して出力をする回路におよぼす影響
を小さくすることもできる。Furthermore, since the input impedance is increased, the influence on the circuit that outputs the input terminal of the high voltage detection circuit can be reduced.
本発明の一実施例を第1図および第2図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。An embodiment of the present invention will be described below based on FIGS. 1 and 2.
半導体メモリの高電圧検出回路21を構成する高スレッ
シシルト電圧のN型MOSトランジスタTr、、は、例
えば第1図に示すように、ゲートGが入力端子INとさ
れ、ドレインDが出力端子OUTとされるとともに、サ
ブストレートUが接地されて入力バッファ22を構成し
ている。この高スレッショルド電圧のN型MOSトラン
ジスタTr12としては、例えば製造工程においてイオ
ン注入を行うことにより、スレッショルド電圧を高くし
たものが用いられる。For example, as shown in FIG. 1, the high threshold voltage N-type MOS transistor Tr constituting the high voltage detection circuit 21 of the semiconductor memory has a gate G as an input terminal IN and a drain D as an output terminal OUT. At the same time, the substrate U is grounded to form an input buffer 22. As this high threshold voltage N-type MOS transistor Tr12, one whose threshold voltage is increased by, for example, performing ion implantation in the manufacturing process is used.
上記N型MOSトランジスタ’rr+zのドレインDに
は、P型MOSトランジスタTr、のドレインDが接続
されている。このP型MOSトランジスタTrllのソ
ースS1およびサブストレートUは、共に電位Vccの
電源に接続される一方、ゲートGは接地されている。The drain D of the N-type MOS transistor 'rr+z is connected to the drain D of the P-type MOS transistor Tr. The source S1 and substrate U of this P-type MOS transistor Trll are both connected to a power source of potential Vcc, while the gate G is grounded.
また、前記N型MOSトランジスタT「、2のソースS
には、N型MOSトランジスタTr、、のドレインD、
およびゲートGが接続されている。このN型MOSトラ
ンジスタT「、3のサブストレートU、およびソースS
は接地されている。In addition, the sources S of the N-type MOS transistors T'', 2
are the drains D of the N-type MOS transistors Tr, ,
and gate G are connected. This N-type MOS transistor T', 3 substrate U, and source S
is grounded.
上記の構成において、P型MOSトランジスタTr、、
は、ゲートGが接地されているので、常時ON状態にな
っている。また、N型MOSトランジスタ’rr+zは
、入力端子INの電位Vin、すなわちゲートGが高電
位でない場合にはOFF状態になり、これに伴ってN型
MO3)乞ンジスタTr13もOFF状態になる。In the above configuration, the P-type MOS transistors Tr,
Since the gate G is grounded, it is always on. Further, the N-type MOS transistor 'rr+z is turned off when the potential Vin of the input terminal IN, that is, the gate G is not at a high potential, and accordingly, the N-type MO3 transistor Tr13 is also turned off.
それゆえ、出力端子0tJTの電位Voutはハイレベ
ルになる。Therefore, the potential Vout of the output terminal 0tJT becomes high level.
一方、入力端子INの電位Vinが上昇した場合には、
N型MOSトランジスタTr、、のゲートGの電位が高
くなる。On the other hand, when the potential Vin of the input terminal IN increases,
The potential of the gate G of the N-type MOS transistors Tr, , becomes high.
ここで、高スレッショルド電圧のN型MOSトランジス
タ’rrtzにおけるスレ7シヨルド電圧、およびソー
スSの電位によるバックゲート効果電圧を、それぞれV
thrp、およびVthrp”とし、また、N型MOS
トランジスタTr、、のスレッショルド電圧をvthN
とすると、上記入力端子INの電位VinがVthrp
+Vthrp’+vth、以上になったときに、N型M
OSトランジスタTr、□はON状態になる。Here, the threshold voltage of the N-type MOS transistor 'rrtz with a high threshold voltage and the back gate effect voltage due to the potential of the source S are respectively expressed as V
thrp, and Vthrp”, and N-type MOS
Let the threshold voltage of the transistor Tr, , be vthN
Then, the potential Vin of the input terminal IN is Vthrp
+Vthrp'+vth, when it is above, N type M
The OS transistors Tr and □ are turned on.
このN型MOSトランジスタTr、、のON状態に伴っ
て、N型MOSトランジスタT r 11のゲートの電
位が上昇するので、N型MOSトランジスタTr、、も
ON状態になる。それゆえ、出力端子OUTの電位Vo
utはローレベルになる。As the N-type MOS transistor Tr, . is turned on, the potential of the gate of the N-type MOS transistor Tr11 increases, so that the N-type MOS transistor Tr, , is also turned on. Therefore, the potential Vo of the output terminal OUT
ut becomes low level.
すなわち、入力端子INの電位Vinが、Vthrp+
Vthrp ’+vthNのときに、出力端子OUTに
おける電位Voutのレベルが反転するので、入力端子
INの電位Vinが高電位であるか否かが検出される。That is, the potential Vin of the input terminal IN is Vthrp+
Since the level of the potential Vout at the output terminal OUT is inverted when Vthrp'+vthN, it is detected whether the potential Vin at the input terminal IN is a high potential.
ところで、上記のように出力端子OUTにおける電位V
outのレベルを反転させるための入力端子INの電位
Vinを示す式における第1項、および第3項は、電源
の電位Vccには影響されない。また、第2項は、電源
の電位Vccに多少は影響されるが、P型MOSトラン
ジスタTr。By the way, as mentioned above, the potential V at the output terminal OUT
The first and third terms in the equation representing the potential Vin of the input terminal IN for inverting the level of out are not affected by the power supply potential Vcc. Further, the second term is influenced to some extent by the power supply potential Vcc, but the P-type MOS transistor Tr.
、およびN型MOSトランジスタTr、□・Tr、。, and N-type MOS transistors Tr, □·Tr,.
の特性を適当に設定することにより、容易に電源の電位
Vccに対する依存性を小さくすることができる。By appropriately setting the characteristics of , the dependence on the power supply potential Vcc can be easily reduced.
したがって、例えば第2図に示すように、電源の電位V
ccが多少変動しても、出力端子OUTにおける電位V
outのレベルを反転させるための入力端子INの電位
Vinは、あまり変化しないので、出力端子OUTにお
ける電位Voutのレベルを容易に安定させるとかでき
る。Therefore, for example, as shown in FIG.
Even if cc fluctuates somewhat, the potential V at the output terminal OUT
Since the potential Vin of the input terminal IN for inverting the level of out does not change much, the level of the potential Vout at the output terminal OUT can be easily stabilized.
また、上記のように、高スレッショルド電圧のN型MO
SトランジスタT r +□を用いて入力バッファ22
を構成することにより、入力インピーダンスが高くなる
ので、高電圧検出回路21の入力端子INに対して出力
をする回路におよぼす影響は小さくなる。Also, as mentioned above, high threshold voltage N-type MO
Input buffer 22 using S transistor T r +□
By configuring , the input impedance becomes high, so that the influence on the circuit that outputs to the input terminal IN of the high voltage detection circuit 21 becomes small.
なお、上記高スレッショルド電圧のN型MOSトランジ
スタTr、□としては、本実施例のように、製造工程に
おいてイオン注入を行うものに限らないが、このように
イオン注入によってスレッショルド電圧を高くしたもの
を用いる場合には、イオン注入量を制御することにより
、反転レベルを所望のレベルに設定することも容易にで
きる。さらに、高電圧検出°回路21の用いられる半導
体メモリが、イオン注入マスクにより特定のMOSトラ
ンジスタのスレッショルド電圧を高くすることによって
情報の書込みを行う半導体メモリの場合には、情報の書
込み工程で、上記高スレッショルド電圧のN型MOSト
ランジスタ’rr+gを同時に形成することができるの
で、特に工程を増やす必要がない。The high threshold voltage N-type MOS transistor Tr,□ is not limited to one in which ions are implanted in the manufacturing process as in this embodiment, but it may be one in which the threshold voltage is increased by ion implantation in this way. When used, the inversion level can be easily set to a desired level by controlling the amount of ion implantation. Furthermore, if the semiconductor memory used in the high voltage detection circuit 21 is a semiconductor memory in which information is written by increasing the threshold voltage of a specific MOS transistor using an ion implantation mask, the above-mentioned Since the high threshold voltage N-type MOS transistor 'rr+g can be formed at the same time, there is no need to increase the number of steps.
本発明に係る半導体メモリの高電圧検出回路は、以上の
ように、入力される電圧が高電圧であるか否かを検出す
る半導体メモリの高電圧検出回路において、ゲートを入
力端子とする一方、ドレインを出力端子とし、サブスト
レートが接地されて、入カバソファを構成する高スレッ
ショルド電圧のN型MOSトランジスタと、上記N型M
OSトランジスタのドレインにドレインが接続され、ソ
ースおよびサブストレートが共に電源に接続される一方
、ゲートが接地されるP型MO5)ランジスタと、前記
N型MOSトランジスタのソースにドレインおよびゲー
トが接続される一方、サブストレートおよびソースが接
地されるN型MOSトランジスタとから成る構成である
。As described above, the high voltage detection circuit for a semiconductor memory according to the present invention uses a gate as an input terminal, and A high threshold voltage N-type MOS transistor with a drain as an output terminal and a substrate grounded to form an input cover sofa;
The drain is connected to the drain of the OS transistor, and the source and substrate are both connected to a power supply, while the gate is grounded, and the drain and gate are connected to the source of the P-type MO5) transistor and the N-type MOS transistor. On the other hand, it has a structure consisting of a substrate and an N-type MOS transistor whose source is grounded.
これにより、出力端子における電位のレベルを反転させ
るための入力端子の電位は、電源の電位に対する依存性
が少なくなるようにすることができるので、安定した出
力を得ることができる。そのうえ、人力インピーダンス
が高くなるので、高電圧検出回路の入力端子に対して出
力をする回路におよぼす影響を小さくすることができる
という効果を奏する。As a result, the potential of the input terminal for inverting the level of the potential at the output terminal can be made less dependent on the potential of the power supply, so that a stable output can be obtained. Moreover, since the human power impedance becomes high, it is possible to reduce the effect on the circuit that outputs the input terminal of the high voltage detection circuit.
第1図および第2図は本発明の一実施例を示すものであ
って、第1図は高電圧検出回路の構成を示す回路図、第
2図は入力端子の電位Vinと出力端子の電位Vout
との関係を示すグラフである。
第3図および第4図は従来例を示すものであって、第3
図は従来の高電圧検出回路の構成を示す回路図、第4図
は従来の高電圧検出回路における入力端子の電位Vin
と出力端子の電位Voutとの関係を示すグラフである
。
21は高電圧検出回路、22は入力バッファ、Tr、、
はP型MOSトランジスタ、Tr、、は高スレッショル
ド電圧のN型MOSトランジスタ、Tr13はN型MO
Sトランジスタである。1 and 2 show an embodiment of the present invention, in which FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a high voltage detection circuit, and FIG. 2 shows the potential Vin of the input terminal and the potential of the output terminal. Vout
It is a graph showing the relationship between 3 and 4 show conventional examples.
The figure is a circuit diagram showing the configuration of a conventional high voltage detection circuit, and FIG. 4 shows the potential Vin of the input terminal in the conventional high voltage detection circuit.
3 is a graph showing the relationship between Vout and the potential Vout of the output terminal. 21 is a high voltage detection circuit, 22 is an input buffer, Tr,
is a P-type MOS transistor, Tr, , is a high threshold voltage N-type MOS transistor, and Tr13 is an N-type MOS transistor.
It is an S transistor.
Claims (1)
導体メモリの高電圧検出回路において、ゲートを入力端
子とする一方、ドレインを出力端子とし、サブストレー
トが接地されて、入力バツファを構成する高スレッショ
ルド電圧のN型MOSトランジスタと、上記N型MOS
トランジスタのドレインにドレインが接続され、ソース
およびサブストレートが共に電源に接続される一方、ゲ
ートが接地されるP型MOSトランジスタと、前記N型
MOSトランジスタのソースにドレインおよびゲートが
接続される一方、サブストレートおよびソースが接地さ
れるN型MOSトランジスタとから成ることを特徴とす
る半導体メモリの高電圧検出回路。1. In a semiconductor memory high voltage detection circuit that detects whether an input voltage is a high voltage, the gate is used as an input terminal, the drain is used as an output terminal, and the substrate is grounded to connect the input buffer. The constituent high threshold voltage N-type MOS transistors and the above-mentioned N-type MOS
A P-type MOS transistor whose drain is connected to the drain of the transistor, whose source and substrate are both connected to a power supply, and whose gate is grounded, and whose drain and gate are connected to the source of the N-type MOS transistor, A high voltage detection circuit for a semiconductor memory, comprising a substrate and an N-type MOS transistor whose source is grounded.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15063788A JP2711856B2 (en) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | High voltage detection circuit for semiconductor memory and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15063788A JP2711856B2 (en) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | High voltage detection circuit for semiconductor memory and method of manufacturing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH022703A true JPH022703A (en) | 1990-01-08 |
| JP2711856B2 JP2711856B2 (en) | 1998-02-10 |
Family
ID=15501200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15063788A Expired - Lifetime JP2711856B2 (en) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | High voltage detection circuit for semiconductor memory and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2711856B2 (en) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5180753A (en) * | 1975-01-10 | 1976-07-14 | Hitachi Ltd | HAKEISEIKEIKAIRO |
| JPS58179019A (en) * | 1982-04-15 | 1983-10-20 | Sony Corp | Hysteresis circuit |
-
1988
- 1988-06-17 JP JP15063788A patent/JP2711856B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5180753A (en) * | 1975-01-10 | 1976-07-14 | Hitachi Ltd | HAKEISEIKEIKAIRO |
| JPS58179019A (en) * | 1982-04-15 | 1983-10-20 | Sony Corp | Hysteresis circuit |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2711856B2 (en) | 1998-02-10 |
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