JPH02273677A - 2―フェニルベンゾトリアゾール類の製造法 - Google Patents

2―フェニルベンゾトリアゾール類の製造法

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JPH02273677A
JPH02273677A JP9489189A JP9489189A JPH02273677A JP H02273677 A JPH02273677 A JP H02273677A JP 9489189 A JP9489189 A JP 9489189A JP 9489189 A JP9489189 A JP 9489189A JP H02273677 A JPH02273677 A JP H02273677A
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KEMIPURO KASEI KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、プラスチックス、塗料、油等の紫外線吸収剤
として有用な、下記一般式Iで示される2−フェニルベ
ンゾトリアゾール類を安価かつ工業的に極めて有利に製
造する方法に関する。
量ら (式中R工は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜4の
低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、
カルボキシル基又は、スルホン酸基を表わし、 R2は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜4の低級ア
ルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基を表わし
、 R3は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜12のアル
キル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、シクロア
ルキル基、フェニル基、炭素数1〜8のアルキル基で置
換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分の
炭素数1〜4のフェニルアルキル基を表わし、 R4は、水素原子又は塩素原子、ヒドロキシル基又は炭
素数1〜4のアルコキシル基を表わし、 R9は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基又はアル
キル部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基を表わ
す、) [従来技術] 従来、これらの2−フェニルベンゾトリアゾール類は、
一般式■ +13 (式中R1,R,、R,、R,、R,は一般式■に同じ
) で示される0−ニトロヒドロ、キシアゾベンゼン類を化
学的又は、電解的に還元して製造されている。しかしな
がら夫々一長一短があって充分満足し得る方法ではない
0例えば特公昭37−5934号公報及び米国特許第3
,773,751号では、〇ニトロアゾベンゼン類をア
ルコール性水酸化ナトリウム溶液中、亜鉛末で化学的に
還元して相当する2−フェニルベンゾトリアゾール類を
良好な収率で得られているが、この水酸化ナトリウム−
亜鉛系は、亜鉛スラッジを生じる点で排水汚染の問題や
、廃棄物の処理が容易でないことなどの難点がある。
米国特許第2,362,988号では、硫化アンモノ、
アルカリスルフィド亜鉛−アンモニア系、硫化水素−ナ
トリウム系及び亜鉛−塩酸系を還元剤として使用されて
いるが、この方法は多量の亜硫酸塩、亜鉛塩を生成し、
排水汚染の問題や廃棄物の処理が容易でないことなどの
難点がある。
特公昭52−113974号及び特公昭52−1139
73号では、0−ニトロアゾベンゼン類を水素化触媒及
び塩基性物質の存在下に水素で還元して相当する2−フ
ェニルベンゾトリアゾール類を良好な生成率で得られて
いるが、追試した所、量的に多くはないが多種類の不純
物の生成が見られ、反応物をメタノール洗浄し、エタノ
ール再結では、不純物の除去が出来ない。そのため、こ
の方法は現状で流通している2−フェニルベンゾトリア
ゾール類に対して品質的経済的優位性に問題がある。
[目   的] 本発明の目的は、2−フェニルベンゾトリアゾールの新
しい製法を提供することにある。
本発明のもう一つの目的は、三ハロゲン化リンを用いる
還元により、目的生成物である2−フェニルベンゾトリ
アゾール類を高収量、高品質で得る方法を提供する点に
ある。
[構  成] 本発明は、一般式■で示される2−フェニルベンゾトリ
アゾール−N−オキシド類を三ハロゲン化リンで還元し
て一般式Iで示される2−フェニルベンゾトリアゾール
類を製造する方法に関する。前記還元反応は、三ハロゲ
ン化リンを用いてモノリン酸エステル類を得る工程(工
程1)と、さらにモノリン酸エステル類を加水分解して
一般式1の化合物を得る工程(工程2)の2行程より成
り立つが、工程1の生成物であるモノリン酸エステル類
を単離した後、工程2の反応を行ってもよく、あるいは
、単離せずに、そのまま工程2の反応を行ってもよい。
本発明の一実施概略を説明すれば、出発物質である2−
フェニルベンゾトリアゾール−N−オキシド類を後記の
溶媒に溶解し、三ハロゲン化リンを加えてゆるやかな還
流反応を行う0反応終了後、水を加えて撹拌下に溶媒の
大部分を留去させるとモノリン酸エステルが得られる。
モノリン酸エステルの加水分解は、トルエンあるいは、
1,1,2.2−テトラクロルエタン等の溶媒を用い、
酸性域で容易に加水分解し高収量、高品質の粗1t!2
−ヒドロキシベンゾトリアゾール類を得ることが出来る
。さらに再結晶などによって精製すれば2−フェニルベ
ンゾトリアゾール類の精製品が得られる。
本発明の方法において原料として用いられる一般式■の
化合物の具体例としては下記のものが挙げられる。
ニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オキシド 2− (2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−ブチ
ルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−N−オ
キシド2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−
アミルフェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール−N−オキシド 2− (2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−5′−t−ブチルフェニル)
ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−ブチル
フェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2− (2’−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド2
−(2’、4’−ジヒドロキシフェニル)−5−クロル
ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2’、4’−ジヒドロキシフェニル)ベンゾトリ
アゾール−N−オキシド 2−(2’−ヒドロキシ−4′−メトキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール−N−オキシト ド なおこれらの一般式■のN−オキシド類は一般弐■の。
−ニトロアゾベンゼン類を原料として、公知の種々の還
元方法で作る事が出来る。
本発明において用いる溶媒としては、特に限定ハナいが
、第一工程、第2行程ともクロロホルム、1.2−ジク
ロルエタン、1,1,2.2−テトラクロルエタン、テ
トラクロルエチレン、トリクロルエチレン、クロルベン
ゼン、ジクロルベンゼン、トルエン、キシレン、■、4
−ジオキサン、四塩化炭素、n−ヘキサン、n−へブタ
ン、リグロイン等が挙げられる。この使用量は一般式(
ff)で示される2−フェニルベンゾトリアゾール−N
−オキシド類に対し1〜8倍が適当である。もちろん、
これ以上の量を用いても反応には何んら差しつかえない
本発明で使用する三ハロゲン化リンとしては。
コストの面から三塩化リンが最も好ましく、ついで三臭
化リンであるが、三ふっ化リンでも、三よう化リンでも
同様に反応が生じ目的物が高収率で得られることを確認
している。
本発明によって得られるベンゾトリアゾール類は、一般
式■で示される化合物であり、たとえば。
2−(2’−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メ
チルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール2−(
2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−ブチルフェニ
ル)−5−クロルベンゾトリアゾール 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−アミル
フェニル)ベンゾトリアゾール 2−(2’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール 2−(2’−ヒドロキシ−5′−t−ブチルフェニル)
ベンゾトリアゾール 2−(2’−ヒドロキシ−5′−t−オクチルフェニル
)ペンゾトリアゾール 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−ブチル
フェニル)ベンゾトリアゾール 2−(2’−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール 2−(2’、4’−ジヒドロキシフェニル)ベンゾトリ
アゾール 2−(2’−ヒドロキシ−4′−メトキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール 2−[2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ(α、α−ジ
メチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール2−(
2’−ヒドロキシ−3′−α−メチルベンジル−5′−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール 等である。
[実 施 例] 以下に本発明を実施例により説明するが1本発明はこれ
らの実施例のみに制約されるものではない。
実施例1 z−(z’−ヒドロキシ−3’t−ブチル−5′−メチ
ルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールのモノリ
ン酸エステル1水和物の合成 冷却管上部に塩化カルシウム管をとりつけた200mM
−4つロコルベンに2−(2’−ヒドロキシ−3′−七
−ブチルー5′−メチルフェニル)−5−クロルベンゾ
トリアゾール−N−オキシド13.3g(1/25mo
Q)と、クロロホルム30+++Ωを入れて溶融し、三
塩化リン8.2g(1,5/25moff)を加えて、
ゆるやかな還流下に2時間撹拌反応させた。 TLCで
未反応の消失を確認した後、水を加えてよく撹拌し、ク
ロロホルムを留去し冷却後析出した淡橙黄色固体を吸引
濾過し水で洗浄した。
真空デシケータ−中で24時間乾燥し、淡黄橙色結晶1
6.3g(98,5%)を得た。
上記粗製品を分析すべくクロロホルムで再結晶を行い白
色の結晶を得た。
履、P、  191.5〜192.3℃NMR(アセト
ン−d6.δpp+i):1.1(S、9)1.−Bu
 )、2.2(S、3H,−CH5)、6.8 (S 
、 4H、−OHおよびH□0)7.1〜7.9(m、
5H,ph)、 結晶水の定量は100〜110℃/ 2mmHg、2時
間の乾燥によりLH,Oの減少を認めた。
C17H工、04N、CQP−H,Oとしての元素分析
値は以下のとうりであった。
0%  N%  N% 分析値  49,19 5,24 10.18計算値 
 49,35 5.12 10.16実施例2 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−ブチル
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールのモノリン
酸エステル1水和物の合成 冷却管上部に塩化カルシウム管をとりつけた200+a
l−4つ目コルベンに2−(2’−ヒドロキシ−3′。
5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾト
リアゾール−N−オキシド14.9g(1/25mon
)と、クロロホルム45mmを入れて溶融し、三塩化リ
ン6.6g(1,2/25mo12)を加えて、ゆるや
かな還流下に2時間撹拌し、反応させた。 TLCで未
反応の消失を確認した後、水を加えてよく撹拌し、クロ
ロホルムを留去し冷却後析出した淡黄色結晶を決別し水
洗した。真空デシケータ−中で24時間乾燥した。収量
17.6g(96,6%)。
エタノールで再結晶を行い白色の粒状結晶を得た。この
精製品についての各分析値は以下のとおりである。
n+、p、  214.3〜214.5℃NMR(DM
SO−d、 、δppm):0.9(t、3H,−CH
,)、1.2(S、9H,−But)、1.4(S、9
B、−Bu )、3.5(q、2H,−CH,−)、7
.2〜8.1(m、5H,ph)、8.3(S、3H,
−0)1)、 C,。H!5O4N3CQP−C,H,OHとしての元
素分析値C%  11%  N% 分析値  54.18 6.45 8.48計算値  
54,60 6,46 8.68昇華性を有するため、
結晶水の測定は出来なかった。
実施例3 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジーし一アミル
フェニル)−ベンゾトリアゾールのモノリン酸エステル
水和物の合成 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジー七−アミル
フェニル)−ベンゾトリアゾール−N−オキシド14.
7g(1725脂0Ω)、クロロホルム30■組三塩化
リン6.6g(1,2/25mo幻を用い実施例1同様
にして淡橙黄色結晶18.4g(100%)を得た。ベ
ンゼンで再結晶し白色結晶を得た(85%)。
1m、P、  179〜180℃ NMR(DMSO−d、、δpp鳳):o、7(t、5
Ht−cl。
1.3(S、6H,−C1,)、1.4(S、6H,−
CH,)、1.5〜2.1(厘、4n、−cot−)、
7.0(S、5H,−OHおよびH*O)、 7.3〜
8.2(m、6H,ph)、Cm 2 [3゜O,N、
PI蚤H,Oとしての元素分析値C%  0%   N
% 分析値  57.89 6,99 9.09計算値  
57,63 7,26 9.16昇華性を有する。
実施例4 2−(2’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−ベ
ンゾトリアゾールのモノリン酸エステル水和物の合成 2−(2’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−ベ
ンゾトリアゾール−N−オキシド9.6g(1/25m
oΩ)をクロロホルム30mjlに溶かし、三塩化リン
6.6g(1,2725■on)を用い実施例1同様に
反応処理を行って白色結晶12.2g(100%)を得
た。クロロホルムで再結晶し白色結晶を得た。
閣、P、   153〜154℃ NMR(DMSO−d、 、δppit):2.3(S
、3H,−CH5)、7.2〜8.1(層、9Ht p
hおよび一0H)。
C15Hx*0*NJとしての元素分析値C%  0%
  N% 分析値  50,94 4.10 13.74計算値 
 51,16 3.96 13.77尚表1に実施例1
〜4により生成した各モノリン酸エステルの構造式とN
MRと元素分析の値をまとめた。
(以下余白) 表1 (以下余白) 7.2−8.1(m、58) 8.3(s、3H) 実施例5 2−(2’−ヒドロキシフェニル−3′〜t−ブチル−
5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ルの合成 200+gト4つロコルベンに2−(2’−ヒドロキシ
−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾールモノリン酸エステル水和物16
゜5g(1/25mojl)、  トルエン35mAを
入れ、pH5,1の緩衝液15mjl(0,5N酢酸:
0.5N酢酸ナトリウム水溶液=1:4)を注ぎ還流下
1.5時間撹拌反応させた。
トルエン層を分液し、さらに反応液をトルエン抽出し、
抽出したトルエン層をあわせて、トルエンを留去回収し
淡黄色針状結晶の目的化合物12.4g(98,2%)
を得た。
履、p、   136.5〜138.5℃実施例6 2− (2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−アミ
ルフェニル)ベンゾトリアゾールの合成 2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−アミル
フェニル)ベンゾトリアゾールモノリン酸エステルの水
和物18.3g(1/25moQ)、  トルエン35
鳳Qで実施例5同様に反応処理した。但し緩衝液は0.
5N酢酸二0.5M酢酸ナトリウム水溶液=1:20で
pHは5.8とし1.5時間で反応終了した。目的物の
淡黄色針状結晶13.8g(98,3%)を得た。
m、p、  81.0〜82.0℃ 実施例7 2−(2’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−ベ
ンゾトリアゾールの合成 2−(2’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾールのモノリン酸エステル12.2gを実施
例5同様に行った。但し緩衝液15tQは0.5N酢酸
:0.5M酢酸ナトリウム水溶液=19:1でpHは3
゜2とした。白色〜淡白黄色針状結晶の目的化合物9.
0g(100%)を得た。
m、p、  129.5〜130.5℃実施例8 2− (2’−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−
メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールの合
成300mfl−4つロコルベンに2−(2’−ヒドロ
キシ−3’ −t−フチルー5′−メチルフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール−N−オキシド13.2
g(1/25moff)、クロロホルム30履nを入れ
、三塩化リン6.5g(1,18/25moQ)注ぎゆ
るやかな還流下に2時間撹拌反応させた後、クロロホル
ムを留去した。
水70−〇と、酢酸ナトリウム23gを加え、pHを5
゜5とした。さらに、トルエン130rmQを入れ、還
流下2時間反応させた。トルエンを分液し、更にトルエ
ンで抽出を行い、トルエン層をあつめた後、トルエン回
収を行い淡黄色結晶の目的化合物12.6g(100%
)を得た。 IPA−メタノールで洗浄して淡黄白色結
晶11.6g(92%)を得た。
m、p、  136.5〜138.5℃実施例9 2−(2’−ヒドロキシ−3’ 、5’−ジ−t−ブチ
ルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールの合成上
記該当のN−オキシド14.9g(1/25mog)、
クロロホルム50mA、三塩化リン6.6g(1’、2
/25麿ojl)を用い、実施例8同様に行った。淡褐
色結晶の目的物14.3g(100%)を得た。メタノ
ールで洗浄して淡黄白結晶12.1g(84,6%)を
得た。
園、p、   145〜148℃ 実施例10 2− (2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t−7ミ
ルフエニル)ベンゾトリアゾールの合成 該当するN−オキシド14.7g(1/25moQ)、
CHC,8335m12、三塩化リン6.6g(1,2
/25mon)を用い、実施例8同様に行った。淡黄白
結晶の目的物14.4g(102,6%)を得た。エタ
ノール洗浄をして淡黄白色結晶12.9g(92%)を
得た。
m、p、  80〜81.5℃ 実施例11 2−(2’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾールの合成 該当するN−オキシド9−6g(1/25moQ)、ク
ロロホルム40mfl、三塩化リン6.6g(1,2/
25moQ)を用いて、実施例8同様に行った。但し酢
酸ナトリウム8.5gを加え、PI(3,2とした。淡
黄色結晶の目的物8.8g(97,7%)を得た。エタ
ノールで洗浄して淡白黄色結晶7.5g(83,3%)
を得た。
ra、p、  128.5〜129.5℃[効  果] 本発明は、出発物質として一般式■で示される2−フェ
ニルベンゾトリアゾール−N−オキシド類を三塩化リン
により還元する全く新規な2−フェニルベンゾトリアゾ
ール類の製造法を提供すると同時に、従来法に比較し、
アミノ基の開裂等による副反応が起らず、目的生成物の
分離、精製が極めて筒車であり、その結果高品質。
高収量で目的とするベンゾトリアゾール類を得ることが
できる。
特 許 出 願 人 ケミプロ化成株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式II ▲数式、化学式、表等があります▼II (式中R_1、R_2、R_3、R_4、R_5は一般
    式 I に同じ。) で示される2−フェニルベンゾトリアゾール−N−オキ
    シド類を三ハロゲン化リンを用いて還元することを特徴
    とする 一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ I (式中R_1は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜4
    の低級アルキル基、炭素数1〜 4の低級アルコキシル基、カルボキシル基又は、スルホ
    ン酸基を表わし、 R_2は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜4の低級
    アルキル基、炭素数1〜4の低 級アルコキシル基を表わし、 R_3は、水素原子又は塩素原子、炭素数1〜12のア
    ルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキシル基、シクロ
    アルキル基、フェニル基、炭素数1〜8のアルキル基で
    置換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分
    の炭素数1〜4のフェニルアルキル基を表わし、 R_4は、水素原子又は塩素原子、ヒドロキシル基又は
    炭素数1〜4のアルコキシル基 を表わし、 R_5は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基又はア
    ルキル部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基を表
    わす。) で示される2−フェニルベンゾトリアゾールの製造方法
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