JPH02277010A - 光半導体チップと光ファイバの光学的結合方法 - Google Patents
光半導体チップと光ファイバの光学的結合方法Info
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- JPH02277010A JPH02277010A JP9749689A JP9749689A JPH02277010A JP H02277010 A JPH02277010 A JP H02277010A JP 9749689 A JP9749689 A JP 9749689A JP 9749689 A JP9749689 A JP 9749689A JP H02277010 A JPH02277010 A JP H02277010A
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- Japan
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- optical fiber
- optical
- chip
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
概要
光半導体チップと光ファイバの光学的結合方法に関し、
作業性が良好で、高い光結合効率を長期間安定に維持す
るのに適した光学的結合方法の提供を目的とし、 光ファイバを被固定物上に密着固定した後、この光ファ
イバに強力なレーザ光を導き、光ファイバから出射した
レーザ光の上記被固定物への照射部分を溶融させて貫通
孔を形成し、上記被固定物の貫通孔形成部分に光半導体
チップを取り付けるようにして構成する。
るのに適した光学的結合方法の提供を目的とし、 光ファイバを被固定物上に密着固定した後、この光ファ
イバに強力なレーザ光を導き、光ファイバから出射した
レーザ光の上記被固定物への照射部分を溶融させて貫通
孔を形成し、上記被固定物の貫通孔形成部分に光半導体
チップを取り付けるようにして構成する。
産業上の利用分野
本発明は光半導体チップと光ファイバの光学的結合方法
に関する。
に関する。
一般的な光通信システムにおいては、送信側で伝送情報
に基づき半導体レーザ(LD)及び発光ダイオード(L
ED)等の発光系光半導体の出射光の強度等を変調し、
変調された光を光ファイバからなる光伝送路により受信
側に伝送し、受信側でフォトダイオード(PD)等の受
光系光半導体により光−電気変換することによって、伝
送情報を再生するようにしている。光信号の効率的な送
信及び受信を行うためには、これら発光系及び受光系光
半導体と光ファイバとが高い光結合効率で光学的に結合
されていることが必要であり、高い光結合効率を長期間
安定に維持することが出来る光半導体チップと光ファイ
バの光学的結合方法が要望されている。
に基づき半導体レーザ(LD)及び発光ダイオード(L
ED)等の発光系光半導体の出射光の強度等を変調し、
変調された光を光ファイバからなる光伝送路により受信
側に伝送し、受信側でフォトダイオード(PD)等の受
光系光半導体により光−電気変換することによって、伝
送情報を再生するようにしている。光信号の効率的な送
信及び受信を行うためには、これら発光系及び受光系光
半導体と光ファイバとが高い光結合効率で光学的に結合
されていることが必要であり、高い光結合効率を長期間
安定に維持することが出来る光半導体チップと光ファイ
バの光学的結合方法が要望されている。
従来の技術
光半導体チップと光ファイバの従来の光学的結合方法を
第8図により説明する。まず、基板51上に固定された
キャリア52にPDチップ等の光半導体チップ53を固
定しておき、テーパ先球光ファイバ54のテーパ先球部
54aから出射した光が高い光結合効率で光半導体チッ
プ53に入射するようにテーパ先球光ファイバ54の位
置調整を行った後、溶融・凝固させた半田55によりテ
ーパ先球光フアイバ54を基板51上に固定するもので
ある。光半導体チップ53が受光系のものである場合に
は、上述のようにテーパ先球光ファイバ54から出射し
た光の光−電気変換効率をモニタリングしなからテーパ
先球光ファイバ54の位置調整を行うが、光半導体チッ
プ53が発光系のものである場合には、チップ駆動電力
とテーパ先球光ファイバ54に入射した光との電気−光
変換効率をモニタリングしながらテーパ先球光ファイバ
54の位置調整を行う。尚、従来技術において、光半導
体チップ53を固定した後にテーパ先球光ファイバ54
の位置調整を行うようにしているのは、この方がテーパ
先球光フアイバ54を基板51に固定した後に光半導体
チップ53の位置調整を行うよりも容易だからである。
第8図により説明する。まず、基板51上に固定された
キャリア52にPDチップ等の光半導体チップ53を固
定しておき、テーパ先球光ファイバ54のテーパ先球部
54aから出射した光が高い光結合効率で光半導体チッ
プ53に入射するようにテーパ先球光ファイバ54の位
置調整を行った後、溶融・凝固させた半田55によりテ
ーパ先球光フアイバ54を基板51上に固定するもので
ある。光半導体チップ53が受光系のものである場合に
は、上述のようにテーパ先球光ファイバ54から出射し
た光の光−電気変換効率をモニタリングしなからテーパ
先球光ファイバ54の位置調整を行うが、光半導体チッ
プ53が発光系のものである場合には、チップ駆動電力
とテーパ先球光ファイバ54に入射した光との電気−光
変換効率をモニタリングしながらテーパ先球光ファイバ
54の位置調整を行う。尚、従来技術において、光半導
体チップ53を固定した後にテーパ先球光ファイバ54
の位置調整を行うようにしているのは、この方がテーパ
先球光フアイバ54を基板51に固定した後に光半導体
チップ53の位置調整を行うよりも容易だからである。
発明が解決しようとする課題
上記従来方法は、光ファイバと光半導体チップとの光結
合効率をモニタリングしながら光ファイバの位置調整を
行うことを要するから、作業性が良好でない。又、光フ
ァイバと基板との開に光ファイバの位置調整範囲分の厚
みで半田が介在しているので、光ファイバに定常的な外
力が加わっていると、その力が小さいものであっても、
半田にクリープが生じて光ファイバと光半導体チップと
の相対的な位置関係が変化し、光ファイバと光半導体チ
ップとの光結合効率が経時的に変化する。
合効率をモニタリングしながら光ファイバの位置調整を
行うことを要するから、作業性が良好でない。又、光フ
ァイバと基板との開に光ファイバの位置調整範囲分の厚
みで半田が介在しているので、光ファイバに定常的な外
力が加わっていると、その力が小さいものであっても、
半田にクリープが生じて光ファイバと光半導体チップと
の相対的な位置関係が変化し、光ファイバと光半導体チ
ップとの光結合効率が経時的に変化する。
従って、従来方法は、高い光結合効率を長期間安定に維
持するのに適していない。
持するのに適していない。
本発明はこのような事情に温みて創作°されたもので、
作業性が良好で、高い光結合効率を長期間安定に維持す
るのに適した光半導体チップと光ファイバの光学的結合
方法の提供を目的としている。
作業性が良好で、高い光結合効率を長期間安定に維持す
るのに適した光半導体チップと光ファイバの光学的結合
方法の提供を目的としている。
課題を解決するための手段
第1図は本発明の原理説明図であり、この図により本発
明方法を説明する。
明方法を説明する。
まず、同図(a)に示すように、光ファイバ1を被固定
物2上に密着固定した後、この光ファイバlに強力なレ
ーザ光を導き、光ファイバlから出射したレーザ光の被
固定物2への照射部分を溶融させて貫通孔3を形成する
。
物2上に密着固定した後、この光ファイバlに強力なレ
ーザ光を導き、光ファイバlから出射したレーザ光の被
固定物2への照射部分を溶融させて貫通孔3を形成する
。
そして、同図(b)に示すように、被固定物2の貫通孔
3形成部分に光半導体チップ4を取り付ける。
3形成部分に光半導体チップ4を取り付ける。
作 用
本発明の構成によれば1.光半導体チップと光学的に結
合すべき光ファイバに被固定物を溶融させるのに十分な
パワーのレーザ光を導き、この強力なレーザ光の光路上
に貫通孔を形成するようにしているので、この貫通孔の
位置を目安に光半導体チップを被固定物に固定すること
が出来、光結合効率をモニタリングしながらの光ファイ
バ又は光半導体チップの位置調整が不要になる。その結
果、光半導体チップと光ファイバとを光学的に結合する
に際しての作業性が良好になる。
合すべき光ファイバに被固定物を溶融させるのに十分な
パワーのレーザ光を導き、この強力なレーザ光の光路上
に貫通孔を形成するようにしているので、この貫通孔の
位置を目安に光半導体チップを被固定物に固定すること
が出来、光結合効率をモニタリングしながらの光ファイ
バ又は光半導体チップの位置調整が不要になる。その結
果、光半導体チップと光ファイバとを光学的に結合する
に際しての作業性が良好になる。
又、光ファイバを位置調整することなく先に被固定物上
に密着固定するようにしているので、光ファイバと被固
定物間の介在物のクリープ等による光ファイバと光半導
体チップの相対的位置関係の経時的な変動が防止され、
当初の高い光結合効率を長期間安定に維持することが出
来るようになる。
に密着固定するようにしているので、光ファイバと被固
定物間の介在物のクリープ等による光ファイバと光半導
体チップの相対的位置関係の経時的な変動が防止され、
当初の高い光結合効率を長期間安定に維持することが出
来るようになる。
実 施 例
以下本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第2図により、本発明方法の実施例における手順を説明
する。まず、同図(a)、 (b)にそれぞれ側面図及
び正面図を示すように、金属、セラミックス等の材質か
らなる基板11にU字溝11aを形成しておく。次に、
同図(C)に示すように、端面を斜めに研磨して全反射
面12aとした光ファイバ12を基板のU字溝11aに
固定する。この固定は、光ファイバ12の側面及びU字
溝11aをメタライズ処理しておき、溶融・凝固させた
半田13により行うことが出来る。この場合、光ファイ
バの全反射面12aにおける反射光軸が基板11に対し
て垂直になるようにし、又、半田13にクリープが生じ
ないように、光ファイバ12を基板のU字溝11aに十
分密着させておく。そして、同図(d)に示すように、
光ファイバ12の光軸OA +に沿って、基板11を溶
融させるのに十分なパワーを持ったYAGレーザ(波長
は1.06μm又は1.15μm)等のレーず光を光フ
ァイ/<12に導き入れる。こうすると、レーザ光は光
ファイバの全反射面12aで全反射して側面から光ファ
イバの中心軸に例えば垂直な方向に出射されるから、そ
の光路上にある基板11にレーザ光が照射されて加熱部
分が溶融・蒸発し、貫通孔11bが形成される。この場
合、光ファイバ12の側面等にゴミが付着していると、
ゴミが燃焼してファイバ側面に焼き付き、出射レーザ光
のパワーが低下したり、或いは、最悪の場合光ファイバ
が加熱されて破損したりするので、基板11に貫通孔1
1bを形成するに際しては、真空中或いはN2等の不活
性ガス中で作業を行うのが望ましい。最後に、同図(e
)に示すように、この例では光半導体チップとしてPD
(フォトダイオード)チップ14をその受光面の中心が
貫通孔11bの中心と一致するように貫通孔11b形成
部分に取り付ける。一般に貫通孔ttbを形成するのに
使用したレーザ光の光路とFDチップ14に入射させる
べき光の光路とは一致するから、上述のように貫通孔1
1bの位置を目安にPDチップ14を取り付けることに
よって、光結合効率のモニタリングを行いながらの位置
調整をすることなしに、光ファイバ12とFDチップ1
4との光学的な結合をなすことが出来る。
する。まず、同図(a)、 (b)にそれぞれ側面図及
び正面図を示すように、金属、セラミックス等の材質か
らなる基板11にU字溝11aを形成しておく。次に、
同図(C)に示すように、端面を斜めに研磨して全反射
面12aとした光ファイバ12を基板のU字溝11aに
固定する。この固定は、光ファイバ12の側面及びU字
溝11aをメタライズ処理しておき、溶融・凝固させた
半田13により行うことが出来る。この場合、光ファイ
バの全反射面12aにおける反射光軸が基板11に対し
て垂直になるようにし、又、半田13にクリープが生じ
ないように、光ファイバ12を基板のU字溝11aに十
分密着させておく。そして、同図(d)に示すように、
光ファイバ12の光軸OA +に沿って、基板11を溶
融させるのに十分なパワーを持ったYAGレーザ(波長
は1.06μm又は1.15μm)等のレーず光を光フ
ァイ/<12に導き入れる。こうすると、レーザ光は光
ファイバの全反射面12aで全反射して側面から光ファ
イバの中心軸に例えば垂直な方向に出射されるから、そ
の光路上にある基板11にレーザ光が照射されて加熱部
分が溶融・蒸発し、貫通孔11bが形成される。この場
合、光ファイバ12の側面等にゴミが付着していると、
ゴミが燃焼してファイバ側面に焼き付き、出射レーザ光
のパワーが低下したり、或いは、最悪の場合光ファイバ
が加熱されて破損したりするので、基板11に貫通孔1
1bを形成するに際しては、真空中或いはN2等の不活
性ガス中で作業を行うのが望ましい。最後に、同図(e
)に示すように、この例では光半導体チップとしてPD
(フォトダイオード)チップ14をその受光面の中心が
貫通孔11bの中心と一致するように貫通孔11b形成
部分に取り付ける。一般に貫通孔ttbを形成するのに
使用したレーザ光の光路とFDチップ14に入射させる
べき光の光路とは一致するから、上述のように貫通孔1
1bの位置を目安にPDチップ14を取り付けることに
よって、光結合効率のモニタリングを行いながらの位置
調整をすることなしに、光ファイバ12とFDチップ1
4との光学的な結合をなすことが出来る。
第3図は本発明の実施例において使用することが出来る
PDチップの斜視図である。どのPDチップ14は、光
−電気変換機能を有する受光部21と、受光部21の外
周に沿って設けられた概略円環状の電極22と、電極2
2の反対側に設けられた接地電極23とを具備して構成
されている。
PDチップの斜視図である。どのPDチップ14は、光
−電気変換機能を有する受光部21と、受光部21の外
周に沿って設けられた概略円環状の電極22と、電極2
2の反対側に設けられた接地電極23とを具備して構成
されている。
24は電極22と図示しない電子回路とを電気的に接続
するためのボンディングワイヤである。この実施例で特
徴的なことは、電極22の上面に電極22と同心円状に
円環状の突起22aを形成している点である。円環状の
突起22aは、例えば、電極22を厚めに形成しておき
、これをエツチングにより部分的に除去することによっ
て、電極22と一体に成形することが出来る。この円環
状の突起22aを設けておくことにより、以下のような
効果が生じる。
するためのボンディングワイヤである。この実施例で特
徴的なことは、電極22の上面に電極22と同心円状に
円環状の突起22aを形成している点である。円環状の
突起22aは、例えば、電極22を厚めに形成しておき
、これをエツチングにより部分的に除去することによっ
て、電極22と一体に成形することが出来る。この円環
状の突起22aを設けておくことにより、以下のような
効果が生じる。
第4図は本発明の実施例におけるPDチップ14取り付
は部の断面構成図である。本実施例ではPDチップの電
極22に円環状の突起22aを形成しているので、PD
チップ14を容易に基板11に固定することが出来る。
は部の断面構成図である。本実施例ではPDチップの電
極22に円環状の突起22aを形成しているので、PD
チップ14を容易に基板11に固定することが出来る。
即ち、円環状の突起22aの外径と基板の貫通孔itb
におけるFDチップ取り付は訊の内径とをほぼ一致させ
ておくことにより、円環状の突・起22aを貫通孔11
bにはめこむだけで容易にPDチップ14の基板11に
対する位置の確定をなすことが出来、この状態で例えば
ダイボンディングによりPDチップ14を基板11に対
して固定することが出来る。
におけるFDチップ取り付は訊の内径とをほぼ一致させ
ておくことにより、円環状の突・起22aを貫通孔11
bにはめこむだけで容易にPDチップ14の基板11に
対する位置の確定をなすことが出来、この状態で例えば
ダイボンディングによりPDチップ14を基板11に対
して固定することが出来る。
このように、本実施例によれば、光ファイバ12とPD
チップ14との光結合効率をモニタリングしながらの位
置調整を全く要せずに、光ファイバ12の導波光を高い
光結合効率でPDチップ14に入射させることが出来る
ので、作業性が向上する。又、光ファイバ12と基板の
U字溝11aとの距離についての調整しるが不要である
から、光ファイバ12をU字溝11aに密着させて、ク
リープ等に起因する光結合効率の変動を防止することが
出来、当初の光結合効率を長期間安定に維持することが
出来る。
チップ14との光結合効率をモニタリングしながらの位
置調整を全く要せずに、光ファイバ12の導波光を高い
光結合効率でPDチップ14に入射させることが出来る
ので、作業性が向上する。又、光ファイバ12と基板の
U字溝11aとの距離についての調整しるが不要である
から、光ファイバ12をU字溝11aに密着させて、ク
リープ等に起因する光結合効率の変動を防止することが
出来、当初の光結合効率を長期間安定に維持することが
出来る。
第5図により本発明方法の他の実施例における手順を説
明する。この実施例は、光ファイバとLD(半導体レー
ザ)チップとを光学的に結合するものである。まず、同
図(a)に示すように、厚肉部31aと薄肉部31bと
の間に突起部31cが形成されている基板31に、テー
パ先球部32aが形成されている光ファイバ32を、テ
ーパ先球部32aが基板の突起部31cに対向するよう
に、前実施例と同様にして固定する。次に、同図ら)に
示すように、光ファイバ32の光軸OA、に沿って強力
なレーザ光を導き入れ、その出射光路上に位置する基板
の突起部31cに貫通孔31dを形成する。この場合、
テーパ先球R32aの集光作用により、光ファイバ32
から出射したレーザ光を数μm−10数μmのビーム系
に絞ることが出来るので、レーザ光照射部分の光パワー
密度を高めることが出来、比較的にパワーが小さなレー
ザ光により貫通孔31dを形成することが出来る。
明する。この実施例は、光ファイバとLD(半導体レー
ザ)チップとを光学的に結合するものである。まず、同
図(a)に示すように、厚肉部31aと薄肉部31bと
の間に突起部31cが形成されている基板31に、テー
パ先球部32aが形成されている光ファイバ32を、テ
ーパ先球部32aが基板の突起部31cに対向するよう
に、前実施例と同様にして固定する。次に、同図ら)に
示すように、光ファイバ32の光軸OA、に沿って強力
なレーザ光を導き入れ、その出射光路上に位置する基板
の突起部31cに貫通孔31dを形成する。この場合、
テーパ先球R32aの集光作用により、光ファイバ32
から出射したレーザ光を数μm−10数μmのビーム系
に絞ることが出来るので、レーザ光照射部分の光パワー
密度を高めることが出来、比較的にパワーが小さなレー
ザ光により貫通孔31dを形成することが出来る。
そして、同図(C)に示すように、基板の貫通孔31d
形成部分にLDチップアセンブリ33を取り付ける。
形成部分にLDチップアセンブリ33を取り付ける。
第6図は第5図に示す実施例において使用することが出
来るLDチップアセンブリ33の斜視図、第7図はLD
チップアセンブリ33取り付は部の断面構成図である。
来るLDチップアセンブリ33の斜視図、第7図はLD
チップアセンブリ33取り付は部の断面構成図である。
LDチップアセンブリ33は、その端部に板状突起41
を有するヒートシンク42と、ヒートシンク42上にダ
イボンディングにより固定されたLDチップ43とを具
備して構成されており、ヒートシンクの板状突起41に
は、LDチップの活性層43aの端面が対向する位置に
光通過孔41aが形成されている。又、光通過孔41a
の周囲には、LDチップ43の出射光軸を中心として円
環状の突起41bが形成されている。尚、光通過孔41
a及び円環状の突起41bは、金属材からなるヒートシ
ンクの板状突起41をエツチングして形成することが出
来る。
を有するヒートシンク42と、ヒートシンク42上にダ
イボンディングにより固定されたLDチップ43とを具
備して構成されており、ヒートシンクの板状突起41に
は、LDチップの活性層43aの端面が対向する位置に
光通過孔41aが形成されている。又、光通過孔41a
の周囲には、LDチップ43の出射光軸を中心として円
環状の突起41bが形成されている。尚、光通過孔41
a及び円環状の突起41bは、金属材からなるヒートシ
ンクの板状突起41をエツチングして形成することが出
来る。
このように、LDチップアセンブリに円環状の突起41
bを形成しておくことにより、前実施例と同様、円環状
の突起41bを基板31の貫通孔31dにはめこむだけ
で、容易にLDチップ43の位置の確定をなすことがで
きる。
bを形成しておくことにより、前実施例と同様、円環状
の突起41bを基板31の貫通孔31dにはめこむだけ
で、容易にLDチップ43の位置の確定をなすことがで
きる。
発明の詳細
な説明したように、本発明によれば、作業性が良好で、
高い光結合効率を長期間安定に維持するのに適した光半
導体チップと光ファイバの光学的結合方法の提供が可能
になるという効果を奏する。
高い光結合効率を長期間安定に維持するのに適した光半
導体チップと光ファイバの光学的結合方法の提供が可能
になるという効果を奏する。
尚、第2図に示す実施例のように、光フアイバ端面を斜
めに研磨して光ファイバを基板に対して平行に固定する
ようにすれば、光ファイバを実装するのに要する体積が
減少し、装置の小型化が可能になるという効果もある。
めに研磨して光ファイバを基板に対して平行に固定する
ようにすれば、光ファイバを実装するのに要する体積が
減少し、装置の小型化が可能になるという効果もある。
第1図は本発明の原理説明図、
第2図は本発明の実施例における手順を示す図、第3図
は本発明の実施例において使用することが出来るPDチ
ップの斜視図、 第4図は本発明の実施例におけるPDチップ取り付は部
の断面構成図、 第5図は本発明の他の実施例における手順を示す図、 第6図は本発明の他の実施例において使用することが出
来るLDチップアセンブリの斜視図、第7図は本発明の
他の実施例におけるLDチップアセンブリ取り付は部の
断面構成図、第8図は従来技術の説明図である。 1.12.32・・・光ファイバ、 2・・・被固定物、 3、llb、31d・・・貫通孔、 4・・・光半導体チップ、 11.31・・・基板、 ・・・PD (フォトダイオード) チップ、 3・・・LD (半導体レーザ) 3・・・LDチップ。 チップアセンブリ、
は本発明の実施例において使用することが出来るPDチ
ップの斜視図、 第4図は本発明の実施例におけるPDチップ取り付は部
の断面構成図、 第5図は本発明の他の実施例における手順を示す図、 第6図は本発明の他の実施例において使用することが出
来るLDチップアセンブリの斜視図、第7図は本発明の
他の実施例におけるLDチップアセンブリ取り付は部の
断面構成図、第8図は従来技術の説明図である。 1.12.32・・・光ファイバ、 2・・・被固定物、 3、llb、31d・・・貫通孔、 4・・・光半導体チップ、 11.31・・・基板、 ・・・PD (フォトダイオード) チップ、 3・・・LD (半導体レーザ) 3・・・LDチップ。 チップアセンブリ、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光ファイバ(1)を被固定物(2)上に密着固定した後
、 この光ファイバ(1)に強力なレーザ光を導き、光ファ
イバ(1)から出射したレーザ光の上記被固定物(2)
への照射部分を溶融させて貫通孔(3)を形成し、 上記被固定物(2)の貫通孔(3)形成部分に光半導体
チップ(4)を取り付けるようにしたことを特徴とする
光半導体チップと光ファイバの光学的結合方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9749689A JP2690354B2 (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | 光半導体チップと光ファイバの光学的結合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9749689A JP2690354B2 (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | 光半導体チップと光ファイバの光学的結合方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02277010A true JPH02277010A (ja) | 1990-11-13 |
| JP2690354B2 JP2690354B2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=14193875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9749689A Expired - Lifetime JP2690354B2 (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | 光半導体チップと光ファイバの光学的結合方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2690354B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004505293A (ja) * | 2000-07-25 | 2004-02-19 | オプテイカル・エア・データ・システムズ,エルピー | 光学ファイバ・システム |
| JP2006019614A (ja) * | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Ngk Insulators Ltd | 光出力監視装置 |
| US7376312B2 (en) | 2002-11-05 | 2008-05-20 | Rohm Co., Ltd. | Optical module and method for manufacturing the same |
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1989
- 1989-04-19 JP JP9749689A patent/JP2690354B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JP2690354B2 (ja) | 1997-12-10 |
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