JPH02278610A - 絶縁材被覆導電体およびその製造方法 - Google Patents
絶縁材被覆導電体およびその製造方法Info
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- JPH02278610A JPH02278610A JP9742689A JP9742689A JPH02278610A JP H02278610 A JPH02278610 A JP H02278610A JP 9742689 A JP9742689 A JP 9742689A JP 9742689 A JP9742689 A JP 9742689A JP H02278610 A JPH02278610 A JP H02278610A
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- layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は電気機器に使用される絶縁月被W1導電体およ
びその製造方法に係り、特に導電体どなる母材と、絶縁
材との密着強度を高めて、絶縁材の剥離の発生を防止し
、耐久性を向上させた絶縁材被覆導電体およびその製造
方法に関する。
びその製造方法に係り、特に導電体どなる母材と、絶縁
材との密着強度を高めて、絶縁材の剥離の発生を防止し
、耐久性を向上させた絶縁材被覆導電体およびその製造
方法に関する。
(従来の技術)
電気機器内には導電体として多くの絶縁材被覆導電体が
配設されている。従来の絶縁材被覆導電体としては、導
電性に優れた純銅または銅合金等の母材の外表面に、絶
縁性を有するビニール樹脂やアルミナを積層して形成さ
れる。
配設されている。従来の絶縁材被覆導電体としては、導
電性に優れた純銅または銅合金等の母材の外表面に、絶
縁性を有するビニール樹脂やアルミナを積層して形成さ
れる。
特に高電圧が作用する配線用導電体としては母材の外表
面に、耐熱t!Iにも優れたアルミナの溶射層を形成し
たものが使用される。導電体となる母材はアルミナ溶射
層によって電気的に絶縁される。
面に、耐熱t!Iにも優れたアルミナの溶射層を形成し
たものが使用される。導電体となる母材はアルミナ溶射
層によって電気的に絶縁される。
ところで電気機器内に配設された導電体は、機器の作動
時において、高電流によって発生するジュール熱にJ、
って大きな熱応ノjを受りたり、周波数に起因する振動
応力を受りる。また機器が停止した場合には室温まで冷
却される。したがって導電体の外表面に一体的に形成し
た絶縁材も同様に熱応力および振動応力を受りる結果、
疲労によって損傷し易くなる。
時において、高電流によって発生するジュール熱にJ、
って大きな熱応ノjを受りたり、周波数に起因する振動
応力を受りる。また機器が停止した場合には室温まで冷
却される。したがって導電体の外表面に一体的に形成し
た絶縁材も同様に熱応力および振動応力を受りる結果、
疲労によって損傷し易くなる。
特に絶縁材としてのアルミナは絶縁性および耐熱性は優
れるが、母材として使用される純銅または銅合金と昆較
して熱膨張係数が著しく小さいため相互の熱膨張差によ
る影響を受り易い欠点がある。
れるが、母材として使用される純銅または銅合金と昆較
して熱膨張係数が著しく小さいため相互の熱膨張差によ
る影響を受り易い欠点がある。
すなわら、熱応力や振動応力を長期間にわたって繰り返
して受ける結果、ffHJの外表面に形成したアルミナ
溶射層に亀裂や剥離が発生し、絶縁破壊に至る場合が多
く、耐久性が未だ低い実情であつ 1こ 。
して受ける結果、ffHJの外表面に形成したアルミナ
溶射層に亀裂や剥離が発生し、絶縁破壊に至る場合が多
く、耐久性が未だ低い実情であつ 1こ 。
また用材としての純銅または銅合金は酸化性ガスを含む
雰囲気や100℃を超える湿度の雰囲気において、酸化
され易く、製造工程および使用時において表面に脆弱な
酸化物層を形成し易いため、母材と絶縁材との密着性が
低下し易い問題点もある。
雰囲気や100℃を超える湿度の雰囲気において、酸化
され易く、製造工程および使用時において表面に脆弱な
酸化物層を形成し易いため、母材と絶縁材との密着性が
低下し易い問題点もある。
そこで母材ど絶縁材との熱膨張差および母材の酸化膜の
生成に起因するアルミナ溶射層の剥離を防止する対策と
して、母材とアルミナ溶射層との間に、中間層を形成す
る構造も採用されている。
生成に起因するアルミナ溶射層の剥離を防止する対策と
して、母材とアルミナ溶射層との間に、中間層を形成す
る構造も採用されている。
すなわちこの中間層は、例えばNi−Cr合金やN 1
−Cr−Δ1−Y合金などの熱膨張係数が母材とアルミ
ナ溶射層どの中間値を有し、かつ耐食性が良好な金属で
形成される。そしてこの中間層の外表面にアルミナを溶
射して絶縁材被ffl導電体が構成される。
−Cr−Δ1−Y合金などの熱膨張係数が母材とアルミ
ナ溶射層どの中間値を有し、かつ耐食性が良好な金属で
形成される。そしてこの中間層の外表面にアルミナを溶
射して絶縁材被ffl導電体が構成される。
この中間層の介在ににり母材と絶縁材との間の熱膨張に
よる相対変位量が緩和され、作用する熱応力す低減され
る結果、絶縁材の剥離もある程麿は減少さ「ることか可
能となった。
よる相対変位量が緩和され、作用する熱応力す低減され
る結果、絶縁材の剥離もある程麿は減少さ「ることか可
能となった。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら上記のような中間層を形成した絶縁材被覆
導電体においては、母材となる純銅または銅合金と中間
層との結合力が低いため、また母材の酸化を完全に防止
し得ないため、未だ充分に絶縁材の剥離を防止すること
は困難であった。
導電体においては、母材となる純銅または銅合金と中間
層との結合力が低いため、また母材の酸化を完全に防止
し得ないため、未だ充分に絶縁材の剥離を防止すること
は困難であった。
寸なわら母材となる純銅あるいは銅合金は非常に酸化さ
れ易く、中間層となる金属を溶射する際にその熱作用に
よって母材表面の酸化が急速に進行してしまう結果、充
分な結合力が19られないという問題点があった。
れ易く、中間層となる金属を溶射する際にその熱作用に
よって母材表面の酸化が急速に進行してしまう結果、充
分な結合力が19られないという問題点があった。
したがって母材と絶縁材との結合力が強く、より一層、
寿命を長期化し得る絶縁材被覆導電体およびその製造方
法の開発が切望されている。
寿命を長期化し得る絶縁材被覆導電体およびその製造方
法の開発が切望されている。
本発明は以上の事情を背景にその課題を解決りるために
なされたものであり、母材の電気伝導度などの電気的特
性を劣化ざけることなく、耐酸化性を改善し、母材と中
間層との結合力を強化し熱応力や振動応力を受けた場合
においても剥離を発生することが少なく、アルミナ溶射
層の亀裂の発生を可及的に抑制し、これにJ、って従来
よりも格段に耐久性を高めたアルミナ溶射層を有する絶
縁材被覆導電体およびその製造方法を提供J−ることを
目的とする。
なされたものであり、母材の電気伝導度などの電気的特
性を劣化ざけることなく、耐酸化性を改善し、母材と中
間層との結合力を強化し熱応力や振動応力を受けた場合
においても剥離を発生することが少なく、アルミナ溶射
層の亀裂の発生を可及的に抑制し、これにJ、って従来
よりも格段に耐久性を高めたアルミナ溶射層を有する絶
縁材被覆導電体およびその製造方法を提供J−ることを
目的とする。
(発明の構成)
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するため本発明に係る絶縁材被N導電体
は純銅または銅合金から成る母材と、ニッケルまたはニ
ッケル合金から成り上記母材の外表面に形成されたニッ
ケル被膜層と、このニッケル被膜層の外表面に形成され
たニッケルアルミニウム合金被覆層と、このニッケルア
ルミニウム合金被覆層の外表面に形成されたアルミナ層
とから成ることを特徴とする。
は純銅または銅合金から成る母材と、ニッケルまたはニ
ッケル合金から成り上記母材の外表面に形成されたニッ
ケル被膜層と、このニッケル被膜層の外表面に形成され
たニッケルアルミニウム合金被覆層と、このニッケルア
ルミニウム合金被覆層の外表面に形成されたアルミナ層
とから成ることを特徴とする。
また、この絶縁材被覆導電体の製造方法は、純銅または
銅合金から成る母材の外表面にニッケル3にたはニッケ
ル合金から成るニッケル被膜層を形成し、次にこのニッ
ケル被膜層の外表面にニッケルアルミニウム合金被覆層
を溶射法により形成し、しかる後にこのニッケルアルミ
ニウム合金被覆層の外表面にアルミナ層を溶用法によっ
て形成することを特徴とづ゛る。
銅合金から成る母材の外表面にニッケル3にたはニッケ
ル合金から成るニッケル被膜層を形成し、次にこのニッ
ケル被膜層の外表面にニッケルアルミニウム合金被覆層
を溶射法により形成し、しかる後にこのニッケルアルミ
ニウム合金被覆層の外表面にアルミナ層を溶用法によっ
て形成することを特徴とづ゛る。
またニッケル被膜層は、イオンブレーティング法、ニッ
ケルめっき法、スパッタリング法、蒸着ン人のいずれか
ににって形成される。
ケルめっき法、スパッタリング法、蒸着ン人のいずれか
ににって形成される。
ざらにニッケル被膜層は、非酸化性雰囲気C形成力ると
よい。またニッケル被膜層を形成する前に用材の外表面
を粗面化しておくとよい。
よい。またニッケル被膜層を形成する前に用材の外表面
を粗面化しておくとよい。
(作用)
上記構成に係る絶縁材被覆導電体おJ:びその製造方法
によれば、母材とニッケル被膜層との結合強度が高く、
かつニッケル被膜層が母材の外表面を保護し、酸化物層
が形成されることが少ない。
によれば、母材とニッケル被膜層との結合強度が高く、
かつニッケル被膜層が母材の外表面を保護し、酸化物層
が形成されることが少ない。
またニッケル被膜層とニラグアルミニウム合金被覆層と
の結合強度おJ:びニッケルアルミニウム合金被覆層と
アルミナ層との結合強度がいずれb高いため、絶縁材被
覆導電体全体どして母材と各絶縁材層、金属層とが熱応
力や振動応力ににって剥離することが少なく、耐久性が
大幅に改善される。
の結合強度おJ:びニッケルアルミニウム合金被覆層と
アルミナ層との結合強度がいずれb高いため、絶縁材被
覆導電体全体どして母材と各絶縁材層、金属層とが熱応
力や振動応力ににって剥離することが少なく、耐久性が
大幅に改善される。
特にニッケル被膜層をイオンプレーディング法、ニッケ
ルめっぎ法、スパッタリング法等により形成すると、通
常の溶射法により形成したものと比較してむらのない緻
密な被膜層が形成され、母材の酸化を効果的に抑制する
ことができる。また上記の方法によれば溶用法J:り低
い処理温度にて被膜層を形成することができ、母材の酸
化による劣化を防止することができる。
ルめっぎ法、スパッタリング法等により形成すると、通
常の溶射法により形成したものと比較してむらのない緻
密な被膜層が形成され、母材の酸化を効果的に抑制する
ことができる。また上記の方法によれば溶用法J:り低
い処理温度にて被膜層を形成することができ、母材の酸
化による劣化を防止することができる。
またニッケル被膜層を非酸化性雰囲気内において形成す
ることにJ、す、製造■稈にお(プるff1材の酸化を
防止することがでさる。
ることにJ、す、製造■稈にお(プるff1材の酸化を
防止することがでさる。
またニッケル被膜層を形成する前に、予め母材の外表面
を粗面化することにより、ニッケル被膜層と母材どの結
合強度をより増加さμることが可能となる。
を粗面化することにより、ニッケル被膜層と母材どの結
合強度をより増加さμることが可能となる。
(実施例)
次に本発明の一実施例について添付図面を参照して説明
する。第1図は本発明に係る絶縁材被覆導電体の一実施
例を示す部分断面図である。
する。第1図は本発明に係る絶縁材被覆導電体の一実施
例を示す部分断面図である。
すなわち本実施例に係る絶縁材被覆導電体は、純銅また
は銅合金から成る母材1と、□ニッケル;したはニッケ
ル合金から成り上記母材1の外表面に形成されたニッケ
ル被膜層2と、このニッケル被膜層2の外表面に形成さ
れたニッケルアルミニウム合金被覆層3と、このニッケ
ルアルミニウム合金被Fr1層3の外表面に形成された
アルミノ−層4とから構成される。そして上記ニッケル
被膜層2とッケルアルミニウム合金被覆層3とアルミナ
層4とから成る一体の二1−ディング層5にJン)−(
J /’jllrA 1を電気的に絶縁し、腐食から保
護している。
は銅合金から成る母材1と、□ニッケル;したはニッケ
ル合金から成り上記母材1の外表面に形成されたニッケ
ル被膜層2と、このニッケル被膜層2の外表面に形成さ
れたニッケルアルミニウム合金被覆層3と、このニッケ
ルアルミニウム合金被Fr1層3の外表面に形成された
アルミノ−層4とから構成される。そして上記ニッケル
被膜層2とッケルアルミニウム合金被覆層3とアルミナ
層4とから成る一体の二1−ディング層5にJン)−(
J /’jllrA 1を電気的に絶縁し、腐食から保
護している。
上記絶縁材被覆導電体は、まず純銅または銅合金から成
る母材1の外表面にニッケルまたはニッケル合金から成
るニッケル被膜層2を形成し、次にこのニッケル被膜層
2の外表面にニッケルアルミニウム合金被覆層3を溶射
法により形成し、しかる後にこのニッケルアルミニウム
合金被覆層3の外表面にアルミナ層4を溶用法によって
形成り”ることにより製造される。
る母材1の外表面にニッケルまたはニッケル合金から成
るニッケル被膜層2を形成し、次にこのニッケル被膜層
2の外表面にニッケルアルミニウム合金被覆層3を溶射
法により形成し、しかる後にこのニッケルアルミニウム
合金被覆層3の外表面にアルミナ層4を溶用法によって
形成り”ることにより製造される。
ニッケルまたはニッケル合金から成るニッケル被膜層2
は母材1の表面に緻密な結合層を形成して母材1を被覆
し、母材1の酸化を防止するとともに、ニッケルアルミ
ニウム合金被覆層3との結合力を高める機能を右する。
は母材1の表面に緻密な結合層を形成して母材1を被覆
し、母材1の酸化を防止するとともに、ニッケルアルミ
ニウム合金被覆層3との結合力を高める機能を右する。
ここでニッケル被膜層2を形成刃る際の雰囲気および処
理温度は、母材1に対する結合強度に大きく影響する要
素であり、母材1の酸化を防止できる値に設定すべきで
ある。71なわら、母材1どしての銅金属が酸化しない
ようにアルゴンや水素などの非酸化性雰囲気において、
ニッケル被膜層の形成処理を行なうか、または高温度に
加熱−リ−ることを要しない被膜形成方法を採用するこ
とか必要である。
理温度は、母材1に対する結合強度に大きく影響する要
素であり、母材1の酸化を防止できる値に設定すべきで
ある。71なわら、母材1どしての銅金属が酸化しない
ようにアルゴンや水素などの非酸化性雰囲気において、
ニッケル被膜層の形成処理を行なうか、または高温度に
加熱−リ−ることを要しない被膜形成方法を採用するこ
とか必要である。
高温度に加熱−リ゛ることを要l゛ザ、酸化物層を形成
づることか少ない100 ’C以下の比較的低温度にお
いてむらのない均一なニッケル被膜層2を形成できる方
法としては、イオンブレーティング法、無電解ニッケル
めつぎ法、電解ニッケルめっき法、スパッタリング法や
蒸着法がある。上記方法によれば従来の溶射法とは異<
Zす、緻密で均一な被膜層が形成され、その結合力も極
めて高い。また処理温度が低いため母材の酸化による劣
化も少ない。
づることか少ない100 ’C以下の比較的低温度にお
いてむらのない均一なニッケル被膜層2を形成できる方
法としては、イオンブレーティング法、無電解ニッケル
めつぎ法、電解ニッケルめっき法、スパッタリング法や
蒸着法がある。上記方法によれば従来の溶射法とは異<
Zす、緻密で均一な被膜層が形成され、その結合力も極
めて高い。また処理温度が低いため母材の酸化による劣
化も少ない。
ニッケルアルミニウム合金被覆層3は、所定粒径のニッ
ケル粉末とアルミニウム粉末との混合物を溶04月判と
し、ニッケル被膜層2の表面にfl+!! 73μしめ
−C形成づる。溶射時において混合物はニッケルアルミ
ニウム合金となり、その金属開化合物を1成する反応熱
によって融盾界面が高温度に加熱される結果、ニッケル
被膜層2との結合力が大幅に増加する。
ケル粉末とアルミニウム粉末との混合物を溶04月判と
し、ニッケル被膜層2の表面にfl+!! 73μしめ
−C形成づる。溶射時において混合物はニッケルアルミ
ニウム合金となり、その金属開化合物を1成する反応熱
によって融盾界面が高温度に加熱される結果、ニッケル
被膜層2との結合力が大幅に増加する。
このように本実施例に係る絶縁材被覆導電体によれば、
緻密でむらのないニッケル被膜層2の空気遮断効果によ
って、その外周側に金属層や絶縁層を溶11)1づる際
の母材の酸化が防止される1、さらにニッケル被膜層2
とニッケルアルミニウl\含金被覆Ii′?i3との結
合力が、ニッケル粉末とアルミラム粉末とが合金化−り
る際に発生する熱によつ(−高められる。
緻密でむらのないニッケル被膜層2の空気遮断効果によ
って、その外周側に金属層や絶縁層を溶11)1づる際
の母材の酸化が防止される1、さらにニッケル被膜層2
とニッケルアルミニウl\含金被覆Ii′?i3との結
合力が、ニッケル粉末とアルミラム粉末とが合金化−り
る際に発生する熱によつ(−高められる。
その結果、絶縁材被覆導電体の製造時にお【)る母材の
酸化および使用時にお(プる加熱冷却の繰返しによって
生じる熱応力や振動応力に起因して接合界面に生じる応
力に充分耐えることが可能となる。そのため絶縁材の亀
裂や剥離によって発A−する絶縁破壊が効果的に防止さ
れ、耐久性の優れた絶縁材被覆導電体を提供することが
できる。
酸化および使用時にお(プる加熱冷却の繰返しによって
生じる熱応力や振動応力に起因して接合界面に生じる応
力に充分耐えることが可能となる。そのため絶縁材の亀
裂や剥離によって発A−する絶縁破壊が効果的に防止さ
れ、耐久性の優れた絶縁材被覆導電体を提供することが
できる。
なお、ニッケル被膜層2を形成する前に、予め母材1の
外表面をショットプラス1〜等によっ−C目荒しし、粗
面化することにより、1(1,IJIとニッケル被膜層
2との接合強度がより高まり、ニッケル被膜層2の外方
に形成したアルミナ層4の亀裂や剥離をより確実に防止
することができる。
外表面をショットプラス1〜等によっ−C目荒しし、粗
面化することにより、1(1,IJIとニッケル被膜層
2との接合強度がより高まり、ニッケル被膜層2の外方
に形成したアルミナ層4の亀裂や剥離をより確実に防止
することができる。
次に本発明のより具体的な実施例を比較例と共に説明し
、効果を確認する。
、効果を確認する。
割亀五1
第2図に示すように直径10mmの円柱状純銅製のBI
材1の端面を脱脂処理した後に、下記第1表に示す成分
を含有する市販のN1−P無電解ニッケルめっき液を満
しためつぎ浴中に上記母材1を浸漬した。
材1の端面を脱脂処理した後に、下記第1表に示す成分
を含有する市販のN1−P無電解ニッケルめっき液を満
しためつぎ浴中に上記母材1を浸漬した。
めっき液の温度は95℃、浸漬時間は60分間とした結
果、リンを含む厚さ20μmのニッケル被膜層2が形成
された。
果、リンを含む厚さ20μmのニッケル被膜層2が形成
された。
次に粒子径10〜4/ll1mのニッケル粉末と粒子径
45〜90μ’Inのアルミニウム粉末とを重量比で9
0:10の割合で混合した溶射用粉末を用い、通常のプ
ラズマ溶射装置を使用し、第2表に示す溶Q=J条件に
従って溶射を行なった結果、ニッケル被膜層2の上面に
厚さ100μmのニッケルアルミニウム合金被覆層3を
形成した。
45〜90μ’Inのアルミニウム粉末とを重量比で9
0:10の割合で混合した溶射用粉末を用い、通常のプ
ラズマ溶射装置を使用し、第2表に示す溶Q=J条件に
従って溶射を行なった結果、ニッケル被膜層2の上面に
厚さ100μmのニッケルアルミニウム合金被覆層3を
形成した。
第2表
さらに上記ニッケルアルミニウム合金被覆層3の上面に
粒子径5〜25μ汎のアルミナ粒子を溶射した。溶射条
件は溶射電圧を68Vに設定した以外は第2表の条件と
同一・である。
粒子径5〜25μ汎のアルミナ粒子を溶射した。溶射条
件は溶射電圧を68Vに設定した以外は第2表の条件と
同一・である。
この溶射処理ににり厚さ200μmのアルミナ層4が形
成されていることが顕微鏡観察によつ−(確認された。
成されていることが顕微鏡観察によつ−(確認された。
このように3層から成るコーティング層5を形成した母
材1の端面に、第3図に示すような母材1と同一外径を
右する純銅製の母材6の端面を接着剤7を介して接合し
、引張試験118を調製した。
材1の端面に、第3図に示すような母材1と同一外径を
右する純銅製の母材6の端面を接着剤7を介して接合し
、引張試験118を調製した。
次に得られた引張試験片8を試験機にかけて弓張荷重「
を作用ヒしめ、コーティング層5の溶射界面または接合
界面が破断−リ−るときの引張荷重Fmaxを測定し、
コーデイング層5の結合力の評価値どした。実施例1の
引張試験片8においては、680 Kg/ tyriの
結合力が得られICQ実施例2 第2図に示?j母材1と同様な直径10mmの円柱状リ
ン脱酸銅製の?n材の端面に通゛常のイオンプレーディ
ング法により厚さ10μmのニッケル被膜層を形成た後
に、実施例1の場合と同一条件で厚さ100μmのニッ
ケルアルミニウム合金被覆層を形成し、ざらに実施例1
と同様に厚さ200μmのアルミナ層を形成し、結合力
を測定した結果、630 Kg / ciであった。
を作用ヒしめ、コーティング層5の溶射界面または接合
界面が破断−リ−るときの引張荷重Fmaxを測定し、
コーデイング層5の結合力の評価値どした。実施例1の
引張試験片8においては、680 Kg/ tyriの
結合力が得られICQ実施例2 第2図に示?j母材1と同様な直径10mmの円柱状リ
ン脱酸銅製の?n材の端面に通゛常のイオンプレーディ
ング法により厚さ10μmのニッケル被膜層を形成た後
に、実施例1の場合と同一条件で厚さ100μmのニッ
ケルアルミニウム合金被覆層を形成し、ざらに実施例1
と同様に厚さ200μmのアルミナ層を形成し、結合力
を測定した結果、630 Kg / ciであった。
1(1胤1
第2図に示す母材と同一形状の純銅製母材の端面を脱脂
後、下記第3表に示す条件にて母材端面にショツ1〜プ
ラス1〜処理を行ない用材端面を粗面化した。
後、下記第3表に示す条件にて母材端面にショツ1〜プ
ラス1〜処理を行ない用材端面を粗面化した。
第3表
次に粗面化した端面を充分に除肋した後に、ニッケル粉
末とアルミニウム粉末とを重量比で90:10の割合で
混合した溶射!11”lを使用し、実施例1と同一条件
で溶射処理を行ない、厚さ10071而のニッケルアル
ミニウム合金被覆層を形成し、しかる後に実施例1と同
一条件でざらに厚さ200μmのアルミノ−層を形成し
た。
末とアルミニウム粉末とを重量比で90:10の割合で
混合した溶射!11”lを使用し、実施例1と同一条件
で溶射処理を行ない、厚さ10071而のニッケルアル
ミニウム合金被覆層を形成し、しかる後に実施例1と同
一条件でざらに厚さ200μmのアルミノ−層を形成し
た。
得られた試験片を同様に引張試験に供した結果、120
Kg/ciの結合力しか得られなかった。
Kg/ciの結合力しか得られなかった。
この比較例1ではニッケル被膜層が形成されていないた
め、溶射による母材の酸化が著しく、また母材とニック
−ルアルミニウム合金被覆層どの密着f1が低いために
結合力が減少したしのと占えられる。
め、溶射による母材の酸化が著しく、また母材とニック
−ルアルミニウム合金被覆層どの密着f1が低いために
結合力が減少したしのと占えられる。
比較例2
比較例1と同様に直径10朧の純銅製母材の端面を粗面
化し、充分に除塵を行なった後に、重量比でニッケル8
0%とクロム20%とから成る合金粉末を、下記第4表
に示す溶射条件でプラズマ溶射しtvさ100 (lp
nのニッケルク[]60合金被覆を形成し/j 。
化し、充分に除塵を行なった後に、重量比でニッケル8
0%とクロム20%とから成る合金粉末を、下記第4表
に示す溶射条件でプラズマ溶射しtvさ100 (lp
nのニッケルク[]60合金被覆を形成し/j 。
第4表
次に実施例1と同=−の溶射条件で溶射処理を行ない、
厚さ200 tlmのアルミナ層を形成し、同様に引張
試験に供した結果、95 K9 / ciの結合力しか
得られなかった。
厚さ200 tlmのアルミナ層を形成し、同様に引張
試験に供した結果、95 K9 / ciの結合力しか
得られなかった。
この場合も溶射時におりる高温度によって母材表面がと
しく酸化されている状態が顕微鏡により観察された。
しく酸化されている状態が顕微鏡により観察された。
このように実施例1〜2示す絶縁材被覆導電体のコーテ
ィング層の結合力は、比較例1〜2で7bJ従来のもの
より約5倍以上高くなり、結合強度が飛躍的に増大し、
耐酸化性す改善される。
ィング層の結合力は、比較例1〜2で7bJ従来のもの
より約5倍以上高くなり、結合強度が飛躍的に増大し、
耐酸化性す改善される。
したがって製造時および使用時にd3いて加熱による酸
化作用や加熱冷却の繰返しJ3よび振動等が作用しても
、絶縁材が亀裂を4じたり、母材から剥離することが効
果的に抑制され、111久1(1が141めで優れた長
寿命の絶縁材被覆導電体が得られる。
化作用や加熱冷却の繰返しJ3よび振動等が作用しても
、絶縁材が亀裂を4じたり、母材から剥離することが効
果的に抑制され、111久1(1が141めで優れた長
寿命の絶縁材被覆導電体が得られる。
以上説明の通り本発明に係る絶縁材被覆導電体およびそ
の製造方法によれば、母材どニッケル被膜層との結合強
度が高く、かつニッケル被膜層が母材の外表面を保護し
、酸化物層が形成されることが少ない。
の製造方法によれば、母材どニッケル被膜層との結合強
度が高く、かつニッケル被膜層が母材の外表面を保護し
、酸化物層が形成されることが少ない。
またニッケル被膜層とニックアルミニウム合金被覆層と
の結合強度およびニッケルアルミニウム合金被覆層とア
ルミナ層どの結合強度がいずれも高いため、絶縁材被覆
導電体金体としては材と各絶縁材層、金属層とが熱応力
や振動応力によって剥離づることが少なく、耐久性が大
幅に改善される。
の結合強度およびニッケルアルミニウム合金被覆層とア
ルミナ層どの結合強度がいずれも高いため、絶縁材被覆
導電体金体としては材と各絶縁材層、金属層とが熱応力
や振動応力によって剥離づることが少なく、耐久性が大
幅に改善される。
特にニッケル被膜層をイAンブレーティング法、ラウル
めっぎ法、スパッタリング法等により形成すると、通常
の溶射法により形成したものと比較してむらのない緻密
な被膜層が形成され、同口りには材の酸化を効果的に抑
制り゛ることができる。
めっぎ法、スパッタリング法等により形成すると、通常
の溶射法により形成したものと比較してむらのない緻密
な被膜層が形成され、同口りには材の酸化を効果的に抑
制り゛ることができる。
また上記の方法によれば溶射法より低い処理温石にて被
膜層を形成することができ、用材の酸化による劣化を防
止することができる。
膜層を形成することができ、用材の酸化による劣化を防
止することができる。
またニッケル被膜層を非酸化性雰囲気内において形成す
ることにより、製造]工程における母材の酸化を防止す
ることができる。
ることにより、製造]工程における母材の酸化を防止す
ることができる。
またニッケル被膜層を形成する前に、予め用材の外表面
を粗面化することにより、ニッケル被膜層と用材との結
合強度をより増加させることが可能となる。
を粗面化することにより、ニッケル被膜層と用材との結
合強度をより増加させることが可能となる。
断面図、第3図は引張試験片の形状を示り一部分断面図
である。
である。
1・・・母材、2・・・ニッケル被膜層、3・・・ニッ
ケルアルミニウム合金被覆層、4・・・アルミナ層、5
)・・・コーティング層、6・・・母材、7・・・接着
剤、8・・・引張試験片、に・・・引張荷重、1
ケルアルミニウム合金被覆層、4・・・アルミナ層、5
)・・・コーティング層、6・・・母材、7・・・接着
剤、8・・・引張試験片、に・・・引張荷重、1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、純銅または銅合金から成る用材と、ニッケルまたは
ニッケル合金から成り上記母材の外表面に形成されたニ
ッケル被膜層と、このニッケル被膜層の外表面に形成さ
れたニッケルアルミニウム合金被覆層と、このニッケル
アルミニウム合金被覆層の外表面に形成されたアルミナ
層とから成ることを特徴とする絶縁材被覆導電体。 2、純銅または銅合金から成る母材の外表面にニッケル
またはニッケル合金から成るニッケル被膜層を形成し、
次にこのニッケル被膜層の外表面にニッケルアルミニウ
ム合金被覆層を溶射法により形成し、しかる後にこのニ
ッケルアルミニウム合金被覆層の外表面にアルミナ層を
溶射法によつて形成することを特徴とする絶縁材被覆導
電体の製造方法。 3、ニッケルまたはニッケル合金から成るニッケル被膜
層は、イオンプレーティング法、無電解ニッケルめっき
法、電解ニッケルめっき法、スパッタリング法および蒸
着法のいずれかの方法によって形成することを特徴とす
る請求項2記載の絶縁材被覆導電体の製造方法。 4、ニッケルまたはニッケル合金から成るニッケル被膜
層は、非酸化性雰囲気内において形成することを特徴と
する請求項2記載の絶縁材被覆導電体の製造方法。 5、母材外表面をショットブラストにより粗面化した後
に、ニッケルまたはニッケル合金から成るニッケル被膜
層を形成することを特徴とする請求項2記載の絶縁材被
覆導電体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9742689A JPH02278610A (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | 絶縁材被覆導電体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9742689A JPH02278610A (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | 絶縁材被覆導電体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02278610A true JPH02278610A (ja) | 1990-11-14 |
Family
ID=14192093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9742689A Pending JPH02278610A (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | 絶縁材被覆導電体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02278610A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008127611A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Ulvac Japan Ltd | イオンビーム源及びこれを備えた成膜装置 |
-
1989
- 1989-04-19 JP JP9742689A patent/JPH02278610A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008127611A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Ulvac Japan Ltd | イオンビーム源及びこれを備えた成膜装置 |
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