JPH02279542A - 気密被覆光ファイバの製造方法 - Google Patents
気密被覆光ファイバの製造方法Info
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- JPH02279542A JPH02279542A JP1098787A JP9878789A JPH02279542A JP H02279542 A JPH02279542 A JP H02279542A JP 1098787 A JP1098787 A JP 1098787A JP 9878789 A JP9878789 A JP 9878789A JP H02279542 A JPH02279542 A JP H02279542A
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- JP
- Japan
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- optical fiber
- reactor
- coated optical
- coating layer
- airtight
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/12—General methods of coating; Devices therefor
- C03C25/22—Deposition from the vapour phase
- C03C25/223—Deposition from the vapour phase by chemical vapour deposition or pyrolysis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
- C03C25/1061—Inorganic coatings
- C03C25/1062—Carbon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Inorganic Chemistry (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光ファイバの表面に気密被覆層を設ける気密
被覆光ファイバの製造方法に関するものである。
被覆光ファイバの製造方法に関するものである。
［従来技術］
光ファイバは、水素を吸収して伝送損失が増える。これ
を防ぐために、光ファイバの表面に緻密な気密被覆層を
設ける気密被覆光ファイバが提案されている。従来、こ
のような気密被覆光ファイバの製造は、加熱炉で紡糸さ
れた光ファイバをリアクタに通し、該リアクタに反応性
ガスを流し、該リアクタ内をその外周に設けたヒータで
加熱して光ファイバの表面にアモルファスカーボン等の
気密被覆層を成膜させることにより行っていた。
を防ぐために、光ファイバの表面に緻密な気密被覆層を
設ける気密被覆光ファイバが提案されている。従来、こ
のような気密被覆光ファイバの製造は、加熱炉で紡糸さ
れた光ファイバをリアクタに通し、該リアクタに反応性
ガスを流し、該リアクタ内をその外周に設けたヒータで
加熱して光ファイバの表面にアモルファスカーボン等の
気密被覆層を成膜させることにより行っていた。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、このような製造方法では、光フアイバ上
の温度を安定させることが難しく、またリアクタ内の全
体の空間中でも熱ＣＶＤ反応が生じ、成長したアモルフ
ァスカーボン等が光ファイバに付着することがあり、光
フアイバ上にその長手方向に均一に気密被覆層を設ける
ことが難しい問題点があった。
の温度を安定させることが難しく、またリアクタ内の全
体の空間中でも熱ＣＶＤ反応が生じ、成長したアモルフ
ァスカーボン等が光ファイバに付着することがあり、光
フアイバ上にその長手方向に均一に気密被覆層を設ける
ことが難しい問題点があった。
本発明の目的は、光フアイバ上にその長手方向に均一に
気密被覆層を設けることができる気密被覆光ファイバの
製造方法を提供することにある。
気密被覆層を設けることができる気密被覆光ファイバの
製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
上記の目的を達成するための本発明の詳細な説明すると
、本発明に係る気密被覆光ファイバの製造方法は、光フ
ァイバをレーザによって加熱し、前記光ファイバの周囲
に反応性ガスを流して該光ファイバの表面に気密被覆層
を設けることを特徴とする特 ［作用コ このように光ファイバをレーザによって加熱すると、光
ファイバだけを効率よく所望の温度に加熱できるので、
光ファイバの温度が安定する。従って、気相成長反応も
光フアイバ上でのみ起こる。
、本発明に係る気密被覆光ファイバの製造方法は、光フ
ァイバをレーザによって加熱し、前記光ファイバの周囲
に反応性ガスを流して該光ファイバの表面に気密被覆層
を設けることを特徴とする特 ［作用コ このように光ファイバをレーザによって加熱すると、光
ファイバだけを効率よく所望の温度に加熱できるので、
光ファイバの温度が安定する。従って、気相成長反応も
光フアイバ上でのみ起こる。
その結果、気密被覆層の膜圧が均一となり、耐水素特性
の優れた気密被覆光ファイバを安定して製造できる。
の優れた気密被覆光ファイバを安定して製造できる。
［実施例］
以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する
。
。
第１図は、本発明の第１実施例を示したものである。本
実施例では、光フアイバ母材１を加熱炉２で加熱溶融さ
せ、溶融した該光フアイバ母材１から紡糸して光ファイ
バ３を得る。該光ファイバ３をリアクタ４の上部の加熱
室５に通し、該光フアイバ３上にＣＯ２レーザ６のレー
ザ光７をレンズ８によって焦点を結ばせて加熱する。光
ファイバ３の温度は温度測定器９で計測する。次に、加
熱された光ファイバ３をリアクタ４内に導く。リアクタ
４では、ガス人口１０からＣ３Ｈ８，Ｃ２Ｈ２等の炭化
水素ガスをＨｅ等のキャリアガス又は稀釈ガスと共に供
給する。該リアクタ４では、光ファイバ３のみ高温に加
熱されているので、光フアイバ３上でのみ熱ＣＶＤ反応
が進行し、光フアイバ３上に第２図に示すようにアモル
ファスカーボンよりなる気密被覆層１１が成膜され、気
密被覆光ファイバ１２が得られる。光ファイバ３に付着
しなかった反応生成物及び未反応ガスは、ガス出口１３
からリアクタ４の外に排出される。得られた気密被覆光
ファイバ１２は、次に被覆ダイス１４に通し、気密被覆
層１１の表面の樹脂１５を被覆する。 この時の製造条
件の一例を示すと下記の通りである。
実施例では、光フアイバ母材１を加熱炉２で加熱溶融さ
せ、溶融した該光フアイバ母材１から紡糸して光ファイ
バ３を得る。該光ファイバ３をリアクタ４の上部の加熱
室５に通し、該光フアイバ３上にＣＯ２レーザ６のレー
ザ光７をレンズ８によって焦点を結ばせて加熱する。光
ファイバ３の温度は温度測定器９で計測する。次に、加
熱された光ファイバ３をリアクタ４内に導く。リアクタ
４では、ガス人口１０からＣ３Ｈ８，Ｃ２Ｈ２等の炭化
水素ガスをＨｅ等のキャリアガス又は稀釈ガスと共に供
給する。該リアクタ４では、光ファイバ３のみ高温に加
熱されているので、光フアイバ３上でのみ熱ＣＶＤ反応
が進行し、光フアイバ３上に第２図に示すようにアモル
ファスカーボンよりなる気密被覆層１１が成膜され、気
密被覆光ファイバ１２が得られる。光ファイバ３に付着
しなかった反応生成物及び未反応ガスは、ガス出口１３
からリアクタ４の外に排出される。得られた気密被覆光
ファイバ１２は、次に被覆ダイス１４に通し、気密被覆
層１１の表面の樹脂１５を被覆する。 この時の製造条
件の一例を示すと下記の通りである。
光ファイバ３の線速 ： ２００ｍ／分ＣＯ□レー
ザ ： ３０ＫＷ光フアイバ３の加熱温度
＝８００〜９００°Ｃ気密被覆層１１の膜圧 ：４００
〜６００人第３図は９本発明の第２実施例を示したもの
である。本実施例では、リアクタ４にレンズ８を直接設
け、該リアクタ４内で光ファイバ３を加熱し、該リアク
タ４内に材料ガスを流して光フアイバ３上で反応を行わ
せる。レーザとしては、連続レーザがよい。
ザ ： ３０ＫＷ光フアイバ３の加熱温度
＝８００〜９００°Ｃ気密被覆層１１の膜圧 ：４００
〜６００人第３図は９本発明の第２実施例を示したもの
である。本実施例では、リアクタ４にレンズ８を直接設
け、該リアクタ４内で光ファイバ３を加熱し、該リアク
タ４内に材料ガスを流して光フアイバ３上で反応を行わ
せる。レーザとしては、連続レーザがよい。
［発明の効果コ
以上説明したように本発明では、光ファイバをレーザで
加熱するので、光ファイバだけを効率よく所望の温度に
安定して加熱できる。従って、熱ＣＶＤ反応が光フアイ
バ上でのみ起こり、気密被覆層の膜圧が均一になり、耐
水素特性を保証できる気密被覆光ファイバを長手方向に
安定して製造することができる。
加熱するので、光ファイバだけを効率よく所望の温度に
安定して加熱できる。従って、熱ＣＶＤ反応が光フアイ
バ上でのみ起こり、気密被覆層の膜圧が均一になり、耐
水素特性を保証できる気密被覆光ファイバを長手方向に
安定して製造することができる。
第１図は本発明に係る気密被覆光ファイバの製造方法を
実施する装置の第１実施例の縦断面図、第２図は本発明
の方法で製造された気密被覆光ファイバの一例を示す横
断面図、第３図は本発明に係る気密被覆光ファイバの製
造方法を実施する装置の第２実施例の縦断面図である。 １・・・光フアイバ母材、２・・・加熱炉、３・・・光
ファイバ、４・・・リアクタ、 一ザ、７・・・レーザ光、 器、１０・・・ガス入口、 気密被覆光ファイバ、 ５・・・加熱室、６・・・ＣＯ２し ８・・・レンズ、９・・・温度測定 １１・・・気密被覆層、１２・・・ １３・・・ガス出口、１４・・・被
実施する装置の第１実施例の縦断面図、第２図は本発明
の方法で製造された気密被覆光ファイバの一例を示す横
断面図、第３図は本発明に係る気密被覆光ファイバの製
造方法を実施する装置の第２実施例の縦断面図である。 １・・・光フアイバ母材、２・・・加熱炉、３・・・光
ファイバ、４・・・リアクタ、 一ザ、７・・・レーザ光、 器、１０・・・ガス入口、 気密被覆光ファイバ、 ５・・・加熱室、６・・・ＣＯ２し ８・・・レンズ、９・・・温度測定 １１・・・気密被覆層、１２・・・ １３・・・ガス出口、１４・・・被
Claims (1)
- 光ファイバをレーザによって加熱し、前記光ファイバの
周囲に反応性ガスを流して該光ファイバの表面に気密被
覆層を設けることを特徴とする気密被覆光ファイバの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1098787A JPH02279542A (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 気密被覆光ファイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1098787A JPH02279542A (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 気密被覆光ファイバの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02279542A true JPH02279542A (ja) | 1990-11-15 |
Family
ID=14229084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1098787A Pending JPH02279542A (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 気密被覆光ファイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02279542A (ja) |
-
1989
- 1989-04-20 JP JP1098787A patent/JPH02279542A/ja active Pending
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