JPH02280811A - 気体分離装置 - Google Patents
気体分離装置Info
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- JPH02280811A JPH02280811A JP1101451A JP10145189A JPH02280811A JP H02280811 A JPH02280811 A JP H02280811A JP 1101451 A JP1101451 A JP 1101451A JP 10145189 A JP10145189 A JP 10145189A JP H02280811 A JPH02280811 A JP H02280811A
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- JP
- Japan
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- gas
- tank
- nitrogen
- valve
- adsorption tank
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は気体分離装置に係り、特にPSA式(Pres
sure Swing Adsorption)の気体
分離装置に同し、例えば窒素発生H置又は酸素発生装置
として用いて好適な気体分離装置に関する。
sure Swing Adsorption)の気体
分離装置に同し、例えば窒素発生H置又は酸素発生装置
として用いて好適な気体分離装置に関する。
従来の技術
一般に、PSA式気体分離装置は、分子ふるいカーボン
からなる吸着剤を用いて、空気を窒素と酸素に分離し、
いずれか一方を製品ガスとして取出し、使用するもので
ある。
からなる吸着剤を用いて、空気を窒素と酸素に分離し、
いずれか一方を製品ガスとして取出し、使用するもので
ある。
このため、例えばPSA式の窒素発生装置にあっては、
@着剤を充填した吸!!槽に圧縮空気を導入して昇圧す
る吸着工程と、吸着槽内を大気開放し又は真空ポンプた
減圧する脱着工程とを繰返し、吸着工程では吸着槽内の
吸着剤にM素分子を吸着させて、窒素を外部に取出し、
一方11!2着工程では@着された酸素を脱着し、次の
吸着工程に備えるようになっている。そして、製品ガス
である窒素は吸着槽内を昇任状態にして取出すものであ
るため、発生する窒素ガスはwIR的で圧力変化も大き
い。このため、窒素ガスを一定圧力で、かつ連続的に使
用する場合には取出側に製品タンクを設け、製品タンク
内に窒素ガスを貯えるように構成されている。
@着剤を充填した吸!!槽に圧縮空気を導入して昇圧す
る吸着工程と、吸着槽内を大気開放し又は真空ポンプた
減圧する脱着工程とを繰返し、吸着工程では吸着槽内の
吸着剤にM素分子を吸着させて、窒素を外部に取出し、
一方11!2着工程では@着された酸素を脱着し、次の
吸着工程に備えるようになっている。そして、製品ガス
である窒素は吸着槽内を昇任状態にして取出すものであ
るため、発生する窒素ガスはwIR的で圧力変化も大き
い。このため、窒素ガスを一定圧力で、かつ連続的に使
用する場合には取出側に製品タンクを設け、製品タンク
内に窒素ガスを貯えるように構成されている。
そして、従来の装置では、装置を停止さぜる際その場で
即停止したり、脱着゛r程俊吸am内の残存ガスを大気
中に排出し、吸着槽内を大気圧に減圧した排気工程で停
止していた。
即停止したり、脱着゛r程俊吸am内の残存ガスを大気
中に排出し、吸着槽内を大気圧に減圧した排気工程で停
止していた。
発明が解決しようとする課題
ところが、従来の装置においては、再起動する際、吸着
槽内が排気工程の状態から運転が開始されることになり
、即ち、吸着槽内には製品ガス(窒素ガス)の純度を低
下させるガス(例えば酸素)が多量に残留しているため
、前述の吸着工程l12着工程等を繰返さなければなら
ず、規定純度の窒素ガスが生成されるまでかなりの時間
を要するといった課題がある。
槽内が排気工程の状態から運転が開始されることになり
、即ち、吸着槽内には製品ガス(窒素ガス)の純度を低
下させるガス(例えば酸素)が多量に残留しているため
、前述の吸着工程l12着工程等を繰返さなければなら
ず、規定純度の窒素ガスが生成されるまでかなりの時間
を要するといった課題がある。
そこで、本発明は上記課題を解決した気体分離装置を提
供することを目的とする。
供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は上記気体分離装置において、運転停止信号が入
力すると製品ガスの吐出を止め、その後昇圧状態にある
吸着槽の取出しが完了すると吸着槽内の気体を排出した
後、製品タンク内の高純度ガスを吸着槽に還流し吸着槽
内を高純度ガスによって掃気させる手段を具備してなる
。
力すると製品ガスの吐出を止め、その後昇圧状態にある
吸着槽の取出しが完了すると吸着槽内の気体を排出した
後、製品タンク内の高純度ガスを吸着槽に還流し吸着槽
内を高純度ガスによって掃気させる手段を具備してなる
。
作用
運転停止時機lI槽内に製品ガスを運流し、再起113
118着槽内に高純度の製品ガスが貯溜された状態で運
転スタートできるので、再起動開始から短時清で高純度
の製品ガスの生成が可能となる。
118着槽内に高純度の製品ガスが貯溜された状態で運
転スタートできるので、再起動開始から短時清で高純度
の製品ガスの生成が可能となる。
実施例
第1図に本発明になる気体分離装置の・一実施例を示す
。
。
am中、1.2は第1、第2の吸着槽で、各吸着槽1.
2内にはそれぞれ分子ふるいカーボンIA、2Aが充填
されている。
2内にはそれぞれ分子ふるいカーボンIA、2Aが充填
されている。
3は圧縮空気供給源となるコンプレッサで、コンプレッ
サ3からの圧縮空気はドライヤ4、供給流急調整弁5、
配管6.7を介して@薯槽1,2にそれぞれ交互に供給
されるようになっており、このため該配管6.7の途中
にはそれぞれN4a弁からなる空気供給用弁8.9が設
けられている。
サ3からの圧縮空気はドライヤ4、供給流急調整弁5、
配管6.7を介して@薯槽1,2にそれぞれ交互に供給
されるようになっており、このため該配管6.7の途中
にはそれぞれN4a弁からなる空気供給用弁8.9が設
けられている。
10.11は脱着時に吸着槽1,2からの気体を排出す
る配管で、共通排出配管12に接続されており、排出配
管12は脱薯排ガスを排出するようになっている。そし
て、前記配管10.11の途中にはそれぞれ吸着槽1.
2内の1!211排ガスを半すイクル毎に交互に排出す
る電磁弁からなる気体排出用弁13.14が設けられて
いる。
る配管で、共通排出配管12に接続されており、排出配
管12は脱薯排ガスを排出するようになっている。そし
て、前記配管10.11の途中にはそれぞれ吸着槽1.
2内の1!211排ガスを半すイクル毎に交互に排出す
る電磁弁からなる気体排出用弁13.14が設けられて
いる。
15.16は吸着e11.2からの窒素をそれぞれ取出
す取出弁配管、17は各配管15.16と連結した取出
配管で、配管15.16の途中には半サイクルの闇だけ
後述の1lJtl)の下に交互に開弁する電磁弁からな
る取出用弁18.19がそれぞれ設けられている。また
前記取出配管17は製品タンクと6での窒素タンク20
と接続されている。
す取出弁配管、17は各配管15.16と連結した取出
配管で、配管15.16の途中には半サイクルの闇だけ
後述の1lJtl)の下に交互に開弁する電磁弁からな
る取出用弁18.19がそれぞれ設けられている。また
前記取出配管17は製品タンクと6での窒素タンク20
と接続されている。
又、取出排管17の途中には電磁弁からなる取出用rj
ar11弁21ζ、窒素タンク20へ供給される窒素ガ
スの流量を調整する取出流Ill整弁22とが設けられ
ている。尚、取出用tti111弁21は窒素ガスを取
出すm開弁しているが、後述するように取出用弁18.
19を同時に開弁し第1、第2の@着槽1,2間の均圧
操作を行なう際には開弁される。
ar11弁21ζ、窒素タンク20へ供給される窒素ガ
スの流量を調整する取出流Ill整弁22とが設けられ
ている。尚、取出用tti111弁21は窒素ガスを取
出すm開弁しているが、後述するように取出用弁18.
19を同時に開弁し第1、第2の@着槽1,2間の均圧
操作を行なう際には開弁される。
23は圧力スイッチで、窒素タンク20内の圧力が所定
圧力に達したことを検出する。′24は窒素タンク20
に接続された取出配管で、その途中には電磁弁からなる
取出用弁25が設けられると共に、取出流ff1W整弁
26が設けられている。
圧力に達したことを検出する。′24は窒素タンク20
に接続された取出配管で、その途中には電磁弁からなる
取出用弁25が設けられると共に、取出流ff1W整弁
26が設けられている。
27は酸素センサで、電磁弁からなる開閉弁28を介し
て取出配f!24内を流れる気体を供給され、窒素タン
ク20より取出された気体の酸素純度を検出する。又、
酸素セン+J27からの酸素純度検出信号は後述する!
11111回路29に入力される。
て取出配f!24内を流れる気体を供給され、窒素タン
ク20より取出された気体の酸素純度を検出する。又、
酸素セン+J27からの酸素純度検出信号は後述する!
11111回路29に入力される。
なお、酸素センサ27としては酸素分子の常磁性を利用
した磁気式[センサ、酸素が711′IA膜を介して電
解液に入ると電極で酸化還元反応が起き1!流が流れる
のを利用した電磁式MKセンサ、ジルコニア磁器の内外
面に電極を設け、S!素線純度よって起電力が発生する
のを利用したジルコニア式図素センサ等が用いられる。
した磁気式[センサ、酸素が711′IA膜を介して電
解液に入ると電極で酸化還元反応が起き1!流が流れる
のを利用した電磁式MKセンサ、ジルコニア磁器の内外
面に電極を設け、S!素線純度よって起電力が発生する
のを利用したジルコニア式図素センサ等が用いられる。
30は取出配管24から取出される窒素純度、即ら酸*
、a度を設定する純度設定スイッチで、窒素タンク20
から取出すべき窒素ガス純度に応じて適宜に設定される
ものである。
、a度を設定する純度設定スイッチで、窒素タンク20
から取出すべき窒素ガス純度に応じて適宜に設定される
ものである。
また、υfi11回路29は例えばマイクロコンビl−
夕等によって構成される弁制御1段で、入力側には酸素
センサ27、純度設定スイッチ30.圧力スイッチ23
6接続され、出力側は前述した供給流量調整弁5と接続
されている。このI制御回路29の記憶回路には窒素ガ
スを生成する通常運転モードにより8弁を開閉するプロ
グラムAと、運転を停止させる際8弁を開閉するプログ
ラムBと。
夕等によって構成される弁制御1段で、入力側には酸素
センサ27、純度設定スイッチ30.圧力スイッチ23
6接続され、出力側は前述した供給流量調整弁5と接続
されている。このI制御回路29の記憶回路には窒素ガ
スを生成する通常運転モードにより8弁を開閉するプロ
グラムAと、運転を停止させる際8弁を開閉するプログ
ラムBと。
取出される窒素純度を純度設定スイッチ3oによる設定
値に維持するように、供給流量調整弁5の弁開度を61
1111するプログラムCとが格納されている。
値に維持するように、供給流量調整弁5の弁開度を61
1111するプログラムCとが格納されている。
さらに、31はシーケンサで、$13111回路29の
プログラムに基づいて、空気供給用弁8,9、気体排出
用弁13.14、取出用弁18.19、取出用開閉弁2
1、取出用弁25、開閉弁28を開rWltsmする。
プログラムに基づいて、空気供給用弁8,9、気体排出
用弁13.14、取出用弁18.19、取出用開閉弁2
1、取出用弁25、開閉弁28を開rWltsmする。
尚、上記シーケンサ31によりItn rfl &11
mされる各電磁弁は、量弁信号の供給により励磁され
たとき開弁し、励磁されないときにはバネ力で閉弁する
ようになっている。
mされる各電磁弁は、量弁信号の供給により励磁され
たとき開弁し、励磁されないときにはバネ力で閉弁する
ようになっている。
次に、上記のように構成された窒素発生i置の動作につ
き説明する。尚、制御回路29は第2図に示す処理を実
行する。
き説明する。尚、制御回路29は第2図に示す処理を実
行する。
まず、窒素発生装置としての基本動作について、第3図
、第4図を参照しながら述べる。
、第4図を参照しながら述べる。
まず、制御四路29は第2図中ステップS1において起
動スイッチがオンにされると、ステップS2に移り通常
運転のプログラムAを実行する。
動スイッチがオンにされると、ステップS2に移り通常
運転のプログラムAを実行する。
即ち、窒素発生装置を起動すると、lIIm回路29(
図示せず)の制御の下に、シーケンサ31が作動し、通
常運転による窒素発生が行われる。
図示せず)の制御の下に、シーケンサ31が作動し、通
常運転による窒素発生が行われる。
まず、第4図に示すように■、■、■の動性が実行され
る。第3図中の■は、空気供給用弁9と気体排出用弁1
3が開弁し、第2の吸着m2に原料気体としての圧縮空
気が供給されて第2の吸着槽2は昇任状態にあり、分子
ふるいカーボン2AにS県が吸着され、一方第1の@看
槽1は減圧状態にあり、吸着していた酸素が脱着して排
出されている状態を丞している、。
る。第3図中の■は、空気供給用弁9と気体排出用弁1
3が開弁し、第2の吸着m2に原料気体としての圧縮空
気が供給されて第2の吸着槽2は昇任状態にあり、分子
ふるいカーボン2AにS県が吸着され、一方第1の@看
槽1は減圧状態にあり、吸着していた酸素が脱着して排
出されている状態を丞している、。
次に、第3図中の■は空気供給用弁9と気体排出用弁1
3の他に、新たに取出用弁19及び取出用開閉弁21を
開弁し、第2の吸着槽2内の窒素ガスを取出している状
態を示している。このとき、第1の吸着W41は減圧状
態のままである。
3の他に、新たに取出用弁19及び取出用開閉弁21を
開弁し、第2の吸着槽2内の窒素ガスを取出している状
態を示している。このとき、第1の吸着W41は減圧状
態のままである。
次に、第3図中の■は均圧操負で、各取出用弁18.1
9を開弁すると共に、取出用開閉弁21及び空気供給用
弁9、気体排出用弁13を閉弁する。これにより、第2
の吸着槽2内に残存する窒素富化ガスは第1の吸着槽1
に回収され、各吸着槽1,2は均圧となる。なお、前記
均圧操作は通常1〜10秒である。
9を開弁すると共に、取出用開閉弁21及び空気供給用
弁9、気体排出用弁13を閉弁する。これにより、第2
の吸着槽2内に残存する窒素富化ガスは第1の吸着槽1
に回収され、各吸着槽1,2は均圧となる。なお、前記
均圧操作は通常1〜10秒である。
これにより、1サイクルのうちの館寧の半サイクルが終
了したことになり、空気供給用弁8、気体排出用弁14
を開弁することによって、第4図(B)に示すように第
3図中の■〜■に示す後半の半サイクルを繰返す。かく
して、1サイクルを120秒とすると、吸着槽1,2か
らは各半サイクルの後半で窒素ガスを取出し、窒素タン
ク20に供給することができる。そして、起動後しばら
くすると、発生する窒素ガスの純度は安定する。
了したことになり、空気供給用弁8、気体排出用弁14
を開弁することによって、第4図(B)に示すように第
3図中の■〜■に示す後半の半サイクルを繰返す。かく
して、1サイクルを120秒とすると、吸着槽1,2か
らは各半サイクルの後半で窒素ガスを取出し、窒素タン
ク20に供給することができる。そして、起動後しばら
くすると、発生する窒素ガスの純度は安定する。
ここで、第2図中、ステップS3において停止スイッチ
(図示せず)がオンにされると、制御回路29ではプロ
グラムBの処理が実行される。即ら、停止スイッチのオ
ンにより、まず取出用弁25を閉弁させる(ステップ3
4)。次のス゛1ツブS5では、前述の通常運転(ステ
ップS2と同じ窒素ガス生成動作)が行なわれる。この
とき、窒素タンク20の取出用弁25は閉弁しているの
で、吸1ffi1.2で窒素が生成され、第3図及び第
4図に示す1サイクルを数回繰り返すと、窒素タンク2
0内は高純度の窒素ガスがさらに貯溜されるとともによ
り圧力が上背する。
(図示せず)がオンにされると、制御回路29ではプロ
グラムBの処理が実行される。即ら、停止スイッチのオ
ンにより、まず取出用弁25を閉弁させる(ステップ3
4)。次のス゛1ツブS5では、前述の通常運転(ステ
ップS2と同じ窒素ガス生成動作)が行なわれる。この
とき、窒素タンク20の取出用弁25は閉弁しているの
で、吸1ffi1.2で窒素が生成され、第3図及び第
4図に示す1サイクルを数回繰り返すと、窒素タンク2
0内は高純度の窒素ガスがさらに貯溜されるとともによ
り圧力が上背する。
次のステップS6で停止信号入力時に昇任状態の吸11
fiの取出しが完了すると(シーケンサ31の内部では
所定のタイマーのタイマーアップ等の時間管理をしてい
る手段によって検知する)窒素タンク20内の圧力が所
定圧力以上に昇圧したことが検知されてステップS5の
通常運転は停止する。続いて、全ての電磁弁が閉弁され
る(ステップ87)。
fiの取出しが完了すると(シーケンサ31の内部では
所定のタイマーのタイマーアップ等の時間管理をしてい
る手段によって検知する)窒素タンク20内の圧力が所
定圧力以上に昇圧したことが検知されてステップS5の
通常運転は停止する。続いて、全ての電磁弁が閉弁され
る(ステップ87)。
次に、気体排出用弁13.14を1…時に開弁し、(ス
テップS8)、この状態を時M t Iの間保持する〈
ステップ89)。この間に吸着槽1.2内の残存ガスは
大気中に排気され、@肴槽1,2内は大気圧に減圧され
る。
テップS8)、この状態を時M t Iの間保持する〈
ステップ89)。この間に吸着槽1.2内の残存ガスは
大気中に排気され、@肴槽1,2内は大気圧に減圧され
る。
次のステップ810では取出用弁18.19を同時に開
弁する。これにより、窒素タンク20に蓄圧された高純
度の窒素ガスが取出用弁18゜19を介して吸it槽1
,2に還流する。そのため、@着槽1,2に残存する低
純度の窒素ガス及び酸素は、窒素タンク20からの窒素
ガスの圧力により気体排出用弁13.14を介して損気
され、吸着槽1.2内は高純度の窒素ガスにより節気さ
れる。ステップ811において、上記@看槽1,2内に
窒素ガスの還流が時1jfl j 2継続されると、吸
着111.2内は残存ガスが排気されるとともに高純度
の窒素ガスで満される。次に、上記損気、還流工程で開
弁させた気体排出用弁13.14及び取出用弁18.1
9を閉弁する(ステップ512)。
弁する。これにより、窒素タンク20に蓄圧された高純
度の窒素ガスが取出用弁18゜19を介して吸it槽1
,2に還流する。そのため、@着槽1,2に残存する低
純度の窒素ガス及び酸素は、窒素タンク20からの窒素
ガスの圧力により気体排出用弁13.14を介して損気
され、吸着槽1.2内は高純度の窒素ガスにより節気さ
れる。ステップ811において、上記@看槽1,2内に
窒素ガスの還流が時1jfl j 2継続されると、吸
着111.2内は残存ガスが排気されるとともに高純度
の窒素ガスで満される。次に、上記損気、還流工程で開
弁させた気体排出用弁13.14及び取出用弁18.1
9を閉弁する(ステップ512)。
そして、シーケンサ31及びt、1)il11回路29
は装置全体を停止モードとする(ステップ513)。
は装置全体を停止モードとする(ステップ513)。
このように、停止スイッチを操作した時点で、上記ステ
ップ83〜313の処理が実行されるため、装置が停止
したときは、吸着槽1.2内は窒素タンク20内に蓄圧
された高純度の窒素ガスで満されている。従って、再起
動しようとして起動スイッチをオンにしたとぎには、従
来の装置の如く吸着槽1.2内が大気開放のままやその
ままで停止0だ場合よりも、ぎわめで短い時間で高純度
の窒素ガスを吸着槽1,2より取出すことが可能となる
。
ップ83〜313の処理が実行されるため、装置が停止
したときは、吸着槽1.2内は窒素タンク20内に蓄圧
された高純度の窒素ガスで満されている。従って、再起
動しようとして起動スイッチをオンにしたとぎには、従
来の装置の如く吸着槽1.2内が大気開放のままやその
ままで停止0だ場合よりも、ぎわめで短い時間で高純度
の窒素ガスを吸着槽1,2より取出すことが可能となる
。
よって、例えば前日の終業時に装置を停止させても、翌
朝起動スイッチをオンにした後の準備運転時間(持ち時
間)が短くて済み、作業者が起動してから所定の純度の
窒素ガスが得られるまで長v1問待つことが無くなり、
作業の能率が高められる。
朝起動スイッチをオンにした後の準備運転時間(持ち時
間)が短くて済み、作業者が起動してから所定の純度の
窒素ガスが得られるまで長v1問待つことが無くなり、
作業の能率が高められる。
尚、上記実施例ではステップ812において気体排出用
弁13.14と取出用弁18.19とを同時に開弁させ
たが、気体排出用弁13.14を開弁してしばらく時間
をおいてから取出用弁18゜19を開弁するようにして
も良い。
弁13.14と取出用弁18.19とを同時に開弁させ
たが、気体排出用弁13.14を開弁してしばらく時間
をおいてから取出用弁18゜19を開弁するようにして
も良い。
又、上記停止スイッチがオンにされて実行される取出工
程、吸着槽1,2の排気及び連流r程は、停止作業時に
行なわれる工程であり、通常運転時、即ち第4図に示す
昇圧、取出、均圧、減圧の各[稈とは切り離して実行さ
れるよう設定されている。
程、吸着槽1,2の排気及び連流r程は、停止作業時に
行なわれる工程であり、通常運転時、即ち第4図に示す
昇圧、取出、均圧、減圧の各[稈とは切り離して実行さ
れるよう設定されている。
尚、上記実施例以外にも例えば停止信号入力により均圧
1稈を行ないその後製品タンク内の製品ガスを@着槽へ
還流させることも考えられるが、この場合均圧工程後吸
着槽内の圧力が取出し時よりも減圧されてから吸着槽内
の残留ガスを排気することになり、吸着槽内の残留ガス
を充分に損気することができない。即ち、均[E][程
後に製品ガスを還流させる場合、吸着槽内に残留ガスが
残つている状態でt4111!度のガスを還流させるこ
とになり、還流後の吸着槽内のガスのKI団が低下する
。
1稈を行ないその後製品タンク内の製品ガスを@着槽へ
還流させることも考えられるが、この場合均圧工程後吸
着槽内の圧力が取出し時よりも減圧されてから吸着槽内
の残留ガスを排気することになり、吸着槽内の残留ガス
を充分に損気することができない。即ち、均[E][程
後に製品ガスを還流させる場合、吸着槽内に残留ガスが
残つている状態でt4111!度のガスを還流させるこ
とになり、還流後の吸着槽内のガスのKI団が低下する
。
発明の効果
上述の如く、本発明になる気体分離装置は、運転停止操
作によりvti?¥が停止する直前に、吸着槽内の残存
ガスを排気しその後製品タンク内の高純度の製品ガスを
吸着槽内に還流させて吸着槽を掃気して停止させるため
、再起動させるときは吸着槽内に高純度の製品ガスが満
された状態で運転をスタートできることになり、排気゛
[程のまま停止する従来の装置よりも極めて短い時間で
規定純度の製品ガスを取り出すことが可能となり、起動
時の持ち時間を短縮することができる雪の特長を有する
。
作によりvti?¥が停止する直前に、吸着槽内の残存
ガスを排気しその後製品タンク内の高純度の製品ガスを
吸着槽内に還流させて吸着槽を掃気して停止させるため
、再起動させるときは吸着槽内に高純度の製品ガスが満
された状態で運転をスタートできることになり、排気゛
[程のまま停止する従来の装置よりも極めて短い時間で
規定純度の製品ガスを取り出すことが可能となり、起動
時の持ち時間を短縮することができる雪の特長を有する
。
第1図は本発明になる気体分l1lll装置の一実施例
の概略構成図、第2図は1Ill 6!1回路が実行す
る処理のノロ−チャート、第3図及び第4図は気体分離
装置の通常運転の動・作を説明するための工程図である
。 1・・・第1の吸着槽、2・・・第2の@肴槽、3・・
・コンプレッサ、5・・・供給流囚調整弁、8.9・・
・空気供給用弁、13.14・・・気体排出用弁、18
゜19・・・取出用弁、20・・・窒素タンク、21・
・・取出用開閉弁、27・・・酸素センリ、29・・・
制御回路、30・・・純度設定スイッチ、31・・・シ
ーケンサ。 特許出願人 ト キ コ 株式会社 第2図 第3図 第4図
の概略構成図、第2図は1Ill 6!1回路が実行す
る処理のノロ−チャート、第3図及び第4図は気体分離
装置の通常運転の動・作を説明するための工程図である
。 1・・・第1の吸着槽、2・・・第2の@肴槽、3・・
・コンプレッサ、5・・・供給流囚調整弁、8.9・・
・空気供給用弁、13.14・・・気体排出用弁、18
゜19・・・取出用弁、20・・・窒素タンク、21・
・・取出用開閉弁、27・・・酸素センリ、29・・・
制御回路、30・・・純度設定スイッチ、31・・・シ
ーケンサ。 特許出願人 ト キ コ 株式会社 第2図 第3図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 内部に吸着剤が充填された吸着槽に、圧縮した原料気体
を供給し、前記吸着槽が昇圧状態にある間に取出用弁を
開弁させて該吸着剤により生成された製品ガスを製品タ
ンクに貯溜する気体分離装置において、 運転停止信号が入力すると製品ガスの吐出を止め、その
後昇圧状態にある吸着槽の取出しが完了すると前記吸着
槽内の気体を排出した後、前記製品タンク内の高純度ガ
スを前記吸着槽に還流し吸着槽内を高純度ガスによつて
掃気させる手段を具備してなる気体分離装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1101451A JPH02280811A (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 気体分離装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1101451A JPH02280811A (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 気体分離装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02280811A true JPH02280811A (ja) | 1990-11-16 |
Family
ID=14301059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1101451A Pending JPH02280811A (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 気体分離装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02280811A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001342013A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-12-11 | Nippon Sanso Corp | 窒素ガス発生方法 |
| JP2006008464A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 酸素濃縮器 |
| US7326276B2 (en) | 2004-02-09 | 2008-02-05 | Honda Motor Co., Ltd. | Method of shutting off fuel gas manufacturing apparatus |
| JP2018051447A (ja) * | 2016-09-27 | 2018-04-05 | 株式会社クラレ | ガス分離装置の運転方法および、制御装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS598605A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-17 | Osaka Oxgen Ind Ltd | 窒素濃縮方法 |
| JPS61187916A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-21 | Toyo Sanso Kk | 酸素濃縮装置における開閉弁の制御方法 |
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-
1989
- 1989-04-20 JP JP1101451A patent/JPH02280811A/ja active Pending
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