JPH02285517A - 磁気デイスク用基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、磁気記録用ガラスディスク基板の表面に凹凸
を形成する方法に関し、特に磁気ディスクとして使用し
た際に機械特性、磁気特性等の劣化が長期にわたって防
止できるガラス基板表面の加工方法に関する。

【従来の技術】

磁気ディスク用基板と、その上にスパッタ、メツキ、蒸
着等のプロセスにより形成した磁性膜及び保護膜からな
る構成体は、磁気記録媒体（以下、メディアと称する）
と呼ばれる。 磁気記憶装置は、このメディアと記録再生用の磁気ヘッ
ド（以下、ヘッドと称する）を主構成部とし、操作開始
時にはヘッドとメディアは接触状態である。操作として
は前記のメディアに所要の回転を与えることにより、前
記ヘッドとメディア面との間に空気層骨の空間を作り、
この状態で記録再生動作を行なうことになる。操作終了
時にはメディアの回転が止まり、この時ヘッドとメディ
アは操作開始時と同様に接触状態に戻る。 このように、装置の起動時及び停止時にはヘッドとメデ
ィアの間に接触摩擦力を生じ、ヘッドおよびメディアが
摩耗して機械特性及び磁気特性の劣化原因となる（この
方式をコンタクト・スタート・ストップＣ８Ｓと通称し
ている）。 又、多湿雰囲気中でメディアを放置してメディア表面に
水分が吸着している状態では、ヘッドとメディアの間に
水が入り込み、凝着現象を引き起こす。したがって、こ
の状態で起動すると、ヘッドおよびメディアに大きな抵
抗力を生じ、へ・７ドの損傷やメディアの破壊を招くこ
とがある（これをスティックジョンと通称している）。 一般にガラスは表面の平滑性に優れ、硬く、変形抵抗が
大きく、かつ表面欠陥が少ない等の理由から高密度化に
適した磁気ディスク用基板として注目されている（特開
昭４９−１２２７０７、特開昭５２１８００２　　）　
　。 しかしながら、上述した耐Ｃ８Ｓ性および耐ヘツドステ
インク性に対しては、ガラスは鏡面性が優れているが故
に接触面積が増加し、ガラス基板を用いたメディアは、
他の平滑性の劣る基板を用いたメディアに比べ、摩擦抵
抗の増加や蒸着力の増大から問題があった。 このような欠点を解消するために、基板表面に機械的手
段により微小な凹凸を形成させることにより、ヘッドと
メディアの間に生ずる摩擦力および蒸着力を低減させる
方法が知られている。（例えば特開昭５３−１２３９０
６＞。 又、化学エツチングによりガラス基板表面に凹凸を形成
させる方法が知られている。（例えば特開昭６Ｏ−１３
６０３５）。 又、両者を組合せた方法も知られている。（例えば特開
昭６３−１６００１０） 又ガラス基板上に設ける前記微細な凹凸としては、０．
１〜数μｍのピンチで数十ｎｍ深さまでの形状のものが
好適な摩擦特性を得るために好ましいとされている。

【発明が解決しようとする課題】

本発明は磁気ディスク用ガラス基板のもつ上記した耐Ｃ
８Ｓ特性および耐ヘツドステインク性といった問題点を
解決せんとするものである。 従来の機械的方法により凹凸を形成する方法ではガラス
のような脆性材料を基板とする場合には、ガラス表面に
クラックが発生することがあり平坦性を損なうおそれや
ガラス基板表面の強度低下を惹き起こすおそれなど該ク
ラックによる問題を否定できなかった。 又、鋭い凹部及びクラック等で発生したすき間部は洗浄
乾燥等が不充分となり、汚れ等の残渣が残り、そのため
磁気特性の経時的劣化等を惹き起こす原因になった。又
Ｃ８Ｓ時の磁気ヘッドの衝突時にガラスの凸部が欠は落
ちヘンドクラソシュを惹き起こすこともあった。更に、
これら問題の発生をできるだけ少なくするように、粒径
の小さい砥粒でソフトに筋をつける方法の場合には筋材
は作業時間を長くする必要があり、テープ材料や砥粒を
多量に使う結果にもなった。又、粒径の小さな砥粒では
所望の凹凸を形成することはできなかった。 又、上記化学的方法ではガラス基板上にあらかじめ金属
層を形成し、かつ熱処理する必要があった。 更に上記機械的方法と化学的方法を組合せた方法では、
工程数が増加し、エツチングに使用するフン酸の濃度管
理に有効な手段がないため工程管理を行ないに＜＜、実
用性に欠ける問題点があった。

【課題を解決するための手段】

本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
って、ガラス基板の表面をエツチングして表面に微細な
凹凸を形成する磁気ディスク用基板の製造方法において
、亜硝酸塩を含む溶融塩を用いて該エツチングを行なっ
ている。 該エツチングは、例えば４００〜５５０℃に加熱されて
溶融状態となった溶融塩にガラス基板を浸漬することに
よって実施することができる。 本発明に使用する亜硝酸塩としては、Ｍ、Ｎｏ□（Ｍ、
はＬｉ、　Ｎａ、　　Ｋ、　Ｃｓ、　Ｐｂ、　　Ｔｌ１
等）で示される１価の陽イオンの亜硝酸塩、Ｍ＋＋（Ｎ
ｏ□）ｚ（ＭｚはＭｇ、　Ｃａ、　Ｓｒ、　Ｂａ、　Ｃ
ｕ、　Ｐｂ等）で示される２価の陽イオンの亜硝酸塩等
が例示できる。 該亜硝酸塩を含む溶融塩としては、上記亜硝酸塩の単独
溶融塩、亜硝酸塩の混合溶融塩、１種又は２種以上の亜
硝酸塩と他の塩との混合溶融塩等が例示できる。 上記亜硝酸塩と他の塩との混合溶融塩を用いる場合には
、混合溶融塩中の亜硝酸イオンをＮＯ３ＮＯ□−、Ｓ０
３”−等のアニオンの合計量に対する百分率で示して５
アニオン％以上とすることが好ましく、ｌＯアニオン％
以上とすることがさらに望ましい。該亜硝酸イオンが５
アニオン％より少ないと、エツチングのスピードが遅く
なり、生産性が低下しやすい。 亜硝酸塩は任意の他の塩の１種又は２種以上と混合塩と
することができるが、ＭＩ　ＮＯ３（ＭｌはＬｉ、　Ｎ
ａ、　Ｋ、　Ｃｓ、　Ｐｂ、　　Ｔｊ２等）　、　Ｍｚ
（ＮＯ３）ｚ（ＭｌｌはＭｇ、　Ｃａ、　Ｓｒ、　Ｂａ
、　Ｃｕ、　Ｐｂ等）等で表わされる硝酸塩との組合せ
が溶融塩の性状が類似しており、取扱いにすぐれるので
好ましい。又１価の陽イオンを含む溶融塩の方が２価の
陽イオンを含む溶融塩よりエツチング速度が速いので好
ましい。 該エツチングの処理時間は、ガラス基板の組成、溶融塩
の組成、処理温度等の各条件により調整される。

【作用】

本発明に使用する亜硝酸塩を含む溶融塩がなぜガラス基
板表面を選択的にエツチングし、磁気ディスク用基板の
表面凹凸として適した凹凸を形成するかはさだがではな
い。 しかしながら溶融塩を均一にかくはん、循環する等の簡
単な操作により、大面積のガラス板全面に一度に大量処
理で目的の表面凹凸を形成することができる。

【実施例】

市販のソーダライムガラスを所定の寸法に切断し、周縁
および表面を研磨して表面平滑なガラスディスク基板を
作製した。 該ガラスディスク基板を４６５℃に予熱した後、４６５
℃に加熱保持されたＫＮｏ、１００％の熔融塩中に約２
分間浸漬し、引き上げた後徐冷した。該浸漬中に溶融塩
はかくはん、循環させておく。 徐冷後、洗浄乾燥し、ガラスディスク基板を観察すると
ガラスディスク基板表面にピンチが０．１μｍ〜数μｍ
で深さが数ｎｍ〜数百ｎｍの比較的ゆるやかな斜面を持
った無数の凹凸が全面にわたって均一に形成されている
ことがわかった。 こうして作製したガラスディスク基板に、通常の方法で
金属下地膜、Ｃｏ系磁性膜をスパッタリング法にて形成
し、最後にカーボン保護膜を約３８ｎｍ厚で被覆した磁
気ディスクを作製した。 こうして作製した磁気ディスクを通常のＣ３Ｓテストに
かけて耐久性を測定した。本発明で作製されたガラス基
板を用いた磁気ディスクは３万回以上のＣＳＳテスト後
も磁気出力が９０％を下回らなかった。 上記実施例においては、ＫＮＯ□熔融塩浸漬を単独工程
としているが、例えば通常ＫＮＯ３溶融塩に浸漬するガ
ラス基板の化学強化工程を付加し、化学強化の前又は後
工程として実施してもかまわない。 又該ＫＮＯ□溶融塩をＫＮＯ３−ＫＮＯ□混合塩として
、化学強化とエツチング処理を平行して実施してもかま
わない。 父上記実施例においては、溶融塩に浸漬するガラス基板
を表面平滑な基板としているが、該基板は例えば機械加
工等で表面凹凸を形成した基板であってもかまわない。 父上記実施例においては、ガラス基板として安価で、化
学強化が実施できる市販のソーダライムガラスを使用し
ているが、該ガラス基板は特に限定されず無アルカリガ
ラス、低アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラ
ス等任意のガラスに対して実施できる。

【発明の効果】

本発明によれば、ガラス製磁気ディスク基板に要求され
る理想に近い表面凹凸形状を単一の工程で簡単に作製す
ることができる。又本発明の方法は大量処理が容易であ
り、工程管理もフ・ノ酸濃度管理とくらべ容易であり、
フ・７素を用いていないため大規模な公害処理設備等も
必要としない。 特許出願人　日本板硝子株式会社

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ガラス基板の表面をエッチングして表面に微細な
   凹凸を形成する磁気ディスク用基板の製造方法において
   、亜硝酸塩を含む溶融塩を用いて該エッチングを行なう
   ことを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
2. （２）該溶融塩中の亜硝酸イオン含有量が５〜１００ア
   ニオン％である請求項１記載の磁気ディスク用基板の製
   造方法。