JPH0228593Y2 - - Google Patents

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JPH0228593Y2
JPH0228593Y2 JP1983037687U JP3768783U JPH0228593Y2 JP H0228593 Y2 JPH0228593 Y2 JP H0228593Y2 JP 1983037687 U JP1983037687 U JP 1983037687U JP 3768783 U JP3768783 U JP 3768783U JP H0228593 Y2 JPH0228593 Y2 JP H0228593Y2
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strap ring
vanes
vane
outer strap
lower notches
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Description

【考案の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 本考案はマグネトロンに関し、より具体的には
マグネトロンの陽極構体に係る。
[Detailed description of the invention] (a) Industrial application field The present invention relates to a magnetron, and more specifically to an anode structure of a magnetron.

(ロ) 従来技術 第1図は従来例マグネトロンの陽極構体を示し
ている。1は陽極筒体、2,2…は該陽極筒体の
内側に放射状に配置して鑞付され、作用空間3を
形成するベインで、上下部に第1切欠4及び第2
切欠5を有する。斯るベイン2,2…はプレス加
工等によつて成型されるる。6,7はベイン2,
2…を交互に連結する内側及び外側ストラツプリ
ングである。
(b) Prior Art Figure 1 shows the anode structure of a conventional magnetron. 1 is an anode cylinder; 2, 2... are vanes arranged radially inside the anode cylinder and soldered to form a working space 3;
It has a notch 5. Such vanes 2, 2, . . . are formed by press working or the like. 6 and 7 are Bane 2,
These are inner and outer strap rings that alternately connect two...

第1図Bにおいて、ベイン2上部では、内側及
び外側ストラツプリング6,7は夫々第2切欠5
及び第1切欠4の位置で、各々鑞付状態と非接触
状態となされ、ベイン2下部では、内側及び外側
ストラツプリング6,7は夫々第1切欠4及び第
2切欠5の位置で、各々非接触状態と鑞付状態に
なされている。また上述のベイン2と相隣るベイ
ン2では、第1図Cに示すように逆になつてお
り、ベイン2上部では、内側及び外側ストラツプ
リング6,7は夫々第1切欠4及び第2切欠5の
位置で、各々非接触状態と鑞付状態になされ、ベ
イン2下部では、内側及び外側ストラツプリング
6,7は夫々第2切欠5及び第1切欠4の位置
で、鑞付状態と非接触状態になされている。この
ようにして、両ストラツプリング6,7はベイン
2,2…を交互に連結している。
In FIG. 1B, in the upper part of the vane 2, the inner and outer strap rings 6, 7 are located in the second notch 5, respectively.
At the position of the first notch 4 and the second notch 5, the inner and outer strap rings 6, 7 are in a brazed state and in a non-contact state, respectively, and in the lower part of the vane 2, the inner and outer strap rings 6, 7 are in a non-contact state, respectively, at the position of the first notch 4 and the second notch 5, respectively. It is in contact and brazed condition. In addition, the above-mentioned vane 2 and the adjacent vane 2 are reversed as shown in FIG. 5, the inner and outer strap rings 6, 7 are in the brazed and non-contact states, respectively, at the positions of the second notch 5 and the first notch 4, at the lower part of the vane 2. Being in a state. In this way, both strap rings 6, 7 alternately connect the vanes 2, 2, . . . .

しかし乍ら、斯る構造では、プレス加工された
ベイン2,2…を交互に反転して、陽極筒体1に
配設しなければならず、作業工程が複雑になると
共に、プレス加工時に形成されるベイン2,2…
のR面2a及びバリ面2bは、夫々R面2aどう
し、バリ面2bどうしが対向する結果、ベイン2
2…間の距離が一定とならず、マイクロ波の放射
が不安定になる。
However, in such a structure, the pressed vanes 2, 2, etc. must be alternately reversed and arranged on the anode cylinder 1, which complicates the work process and requires the Bane 2, 2...
As a result of the R surfaces 2a and burr surfaces 2b facing each other, the vane 2
2... The distance between them is not constant, making microwave radiation unstable.

また、2種類のストラツプリング6,7が必要
であり、部品点数の増大を招いている。
Furthermore, two types of strap rings 6 and 7 are required, leading to an increase in the number of parts.

更に、上下の内側ストラツプリング6は電位が
異なつているため、作用空間3の陽極筒体1の軸
方向の電界を乱しマイクロ波放射効率が低下す
る。
Furthermore, since the upper and lower inner strap rings 6 have different potentials, the electric field in the axial direction of the anode cylinder 1 in the working space 3 is disturbed and the microwave radiation efficiency is reduced.

(ハ) 考案の目的 本考案は、斯る点を考慮したもので、部品点数
を削減し、また作業工程を簡略化すると共に、マ
イクロ波の放射を安定し、放射効率を向上させる
ことを目的とする。
(c) Purpose of the invention This invention takes these points into consideration, and aims to reduce the number of parts, simplify the work process, stabilize microwave radiation, and improve radiation efficiency. shall be.

(ニ) 考案の構成 上下の切欠をベインの水平方向の中心線に対し
て対称的に形成し、内側ストラツプリングと外側
ストラツプリングをその周縁部に略L字状の折曲
部を有する同一形状に形成すると共に、折曲部を
上下の切欠に固着して内側ストラツプリングと外
側ストラツプリングをベインの上下に固着したこ
とを特徴とする。
(d) Structure of the device The upper and lower notches are formed symmetrically with respect to the horizontal center line of the vane, and the inner strap ring and outer strap ring have the same shape with a substantially L-shaped bent part at the periphery. In addition, the bending portions are fixed to the upper and lower notches, and the inner strap ring and the outer strap ring are fixed to the upper and lower sides of the vane.

また、折曲部は内側ストラツプリングと外側ス
トラツプリングの外周縁に形成されている。
Further, the bent portions are formed at the outer peripheral edges of the inner strap ring and the outer strap ring.

更に、内側ストラツプリングと外側ストラツプ
リングは上下の切欠に、ベインの水平方向の中心
線に対して対称的に折曲部を固着している。
Further, the inner strap ring and the outer strap ring have bent portions secured to the upper and lower notches symmetrically with respect to the horizontal centerline of the vane.

(ホ) 実施例 第2図及び第3図は本考案の一実施例マグネト
ロンの陽極構体を示しているが、第1図と基本的
構成はほぼ同じであるので、同一部分についての
詳細な説明は省略する。
(E) Embodiment FIGS. 2 and 3 show an anode structure of a magnetron according to an embodiment of the present invention. Since the basic configuration is almost the same as that in FIG. 1, detailed explanations of the same parts will be provided. is omitted.

8,8…はベインで、その上下には、第1切欠
9及び第2切欠10からなる段状切欠11が設け
られている。そして、これら上下の段状切欠11
はベイン8の水平方向中心線に対して対称的であ
る。12,12′は内側及び外側ストラツプリン
グで、第2図に示す如く、外周縁から複数の略L
字状の折曲部13,13′を突設し、両ストラツ
プリング12,12′は同一形状に形成されてい
る。内側及び外側ストラツプリング12,12′
はベイン8,8…の上下の段状切欠11におい
て、互いに上下を反転して対向配置され、夫々の
折曲部13,13′が交互にベイン8,8…の第
1切欠9に鑞付けされている。
8, 8... are vanes, and step-shaped notches 11 consisting of a first notch 9 and a second notch 10 are provided above and below the vanes. And these upper and lower stepped notches 11
is symmetrical about the horizontal centerline of the vane 8. Reference numerals 12 and 12' denote inner and outer strap rings, and as shown in FIG.
Both strap rings 12, 12' are formed in the same shape, with letter-shaped bent portions 13, 13' protruding therefrom. Inner and outer strap rings 12, 12'
are arranged opposite to each other in the upper and lower stepped notches 11 of the vanes 8, 8... with their respective bent parts 13, 13' alternately brazed to the first notches 9 of the vanes 8, 8... has been done.

従つて、斯る構造によれば、内側及び外側スト
ラツプリング12,12′は同一形状であるため、
部品点数の削減がなし得る。またベイン8,8…
の上下に設けられている第1切欠9及び第2切欠
10は対称的であるから、ベイン8,8…を交互
に反転して配設する必要がなく、作業工程を簡略
化することができると共に、ベイン8,8…のR
面8aを一方向に向けることができることによつ
てベイン8,8…の間隔を一定にして安定したマ
イクロ波放射を行なうことができる。
Therefore, according to such a structure, since the inner and outer strap rings 12, 12' have the same shape,
The number of parts can be reduced. Also Bane 8, 8...
Since the first notch 9 and the second notch 10 provided above and below are symmetrical, there is no need to alternately invert and arrange the vanes 8, 8, etc., and the work process can be simplified. Along with the R of Bain 8, 8...
By being able to orient the surface 8a in one direction, the intervals between the vanes 8, 8, . . . can be kept constant and stable microwave radiation can be performed.

上述した第3図の実施例では、ベイン8,8…
の上下において内側ストラツプリング12同士及
び外側ストラツプリング12′同士が逆電位とな
つており、従つて、ベイン8,8…の上下で電位
差が生じ、陽極筒体1の中心に位置するカソード
(図示せず)から放出される電子の分布が作用空
間3内でばらつき、雑音が発生する欠点がある。
In the embodiment of FIG. 3 described above, the vanes 8, 8...
The inner strap rings 12 and the outer strap rings 12' are at opposite potentials above and below the vanes 8, 8, . . . There is a drawback that the distribution of electrons emitted from (not shown) varies within the working space 3, and noise is generated.

第4図はこの欠点を解決するためになされた本
考案の他の実施例で、ベイン8,8…の上下の段
状切欠11に、内側及び外側ストラツプリング1
2,12′の折曲部13,13′を、ベイン8,8
…の水平方向の中心線に対して対称的に固着し、
上下の内側ストラツプリング12同士及び上下の
外側ストラツプリング12′同士が同電位になる
ようにしている。
FIG. 4 shows another embodiment of the present invention which was made to solve this drawback, in which inner and outer strap rings 1 are provided in the upper and lower stepped notches 11 of the vanes 8, 8...
2, 12' bent portions 13, 13' of vanes 8, 8
fixed symmetrically about the horizontal center line of...
The upper and lower inner strap rings 12 and the upper and lower outer strap rings 12' are made to have the same potential.

この構成に依れば、ベイン8,8…の上下の電
位差がなくなり、作用空間3内の電子の分布が均
一となり、雑音の発生が抑制される。
According to this configuration, there is no potential difference between the upper and lower sides of the vanes 8, 8, . . . , the distribution of electrons in the working space 3 becomes uniform, and the generation of noise is suppressed.

更に、第5図に示す如くストラツプリング12
の折曲部13に2つの突起14を設け、斯る突起
14をベイン8に挟装して鑞付を行なうことによ
り、折曲部12が第1切欠9からずれるのを防止
してもよい。
Furthermore, as shown in FIG.
The bent portion 12 may be prevented from shifting from the first notch 9 by providing two protrusions 14 on the bent portion 13 and brazing the two protrusions 14 between the vanes 8. .

なお、上記実施例では折曲部13はストラツプ
リング12の半径方向に外側へ突出して設けた
が、これに限らず、内側に突出させてもよい。
In the above embodiment, the bent portion 13 is provided so as to protrude outward in the radial direction of the strap ring 12, but the bending portion 13 is not limited to this, and may be made to protrude inward.

(ヘ) 考案の効果 本考案によれば、部品点数を削減し、また作業
工程を簡略化できると共に、マイクロ波の放射を
安定したものとなし得、更に、放射効率を向上さ
せることができる。
(f) Effects of the invention According to the invention, the number of parts can be reduced, the work process can be simplified, microwave radiation can be made stable, and radiation efficiency can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来例マグネトロンの陽極構体を示
し、Aは平面図、B及びCは夫々AにおけるA−
A′線及びB−B′線断面図、第2図及び第3図は
本考案の一実施例マグネトロンの陽極構体を示
し、第2図はストラツプリングの斜視図、第3図
Aは陽極構体の平面図、第3図B及びCは夫々第
3図AにおけるC−C′線及びD−D′線断面図、第
4図は本考案の他の実施例マグネトロンの陽極構
体を示す断面図、第5図は本考案の更に他の実施
例マグネトロンの陽極構体のストラツプリングを
示す斜視図である。 8……ベイン、11……段状切欠、12,1
2′……ストラツプリング、13,13′……折曲
部、14……突起。
FIG. 1 shows the anode structure of a conventional magnetron, where A is a plan view, and B and C are A-A at A, respectively.
2 and 3 show the anode structure of a magnetron according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of the strap ring, and FIG. 3A is the anode structure. FIGS. 3B and 3C are sectional views taken along lines C-C' and D-D' in FIG. 5 is a perspective view showing a strap ring of an anode structure of a magnetron according to still another embodiment of the present invention. 8...Bane, 11...Stepped notch, 12,1
2'... Strap ring, 13, 13'... Bent part, 14... Protrusion.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 (1) 陽極筒体と、該陽極筒体の内面から陽極筒体
の中心に向つて配設され、上下に切欠を有する
複数のベインと、前記上下の切欠に夫々固着さ
れ、ベインを交互に連結する内側ストラツプリ
ング及び外側ストラツプリングとを備え、前記
上下の切欠をベインの水平方向の中心線に対し
対称的に形成し、前記内側ストラツプリングと
外側ストラツプリングをその周縁部に略L字状
の折曲部を有する同一形状に形成すると共に、
前記折曲部を上下の切欠に固着して内側ストラ
ツプリングと外側ストラツプリングをベインの
上下に固着したことを特徴とするマグネトロ
ン。 (2) 前記折曲部を内側ストラツプリングと外側ス
トラツプリングの外周縁に形成したことを特徴
とする実用新案登録請求の範囲第1項記載のマ
グネトロン。 (3) 前記内側ストラツプリングと外側ストラツプ
リングは、上下の切欠に、ベインの水平方向の
中心線に対して対称的に折曲部を固着したこと
を特徴とする実用新案登録請求の範囲第1項記
載のマグネトロン。
[Claims for Utility Model Registration] (1) An anode cylindrical body, a plurality of vanes arranged from the inner surface of the anode cylindrical body toward the center of the anode cylindrical body and having upper and lower notches, and a plurality of vanes arranged in the upper and lower notches. An inner strap ring and an outer strap ring are fixed to each other and alternately connect the vanes, the upper and lower notches are formed symmetrically with respect to the horizontal center line of the vane, and the inner strap ring and the outer strap ring are connected to each other. Formed in the same shape with a substantially L-shaped bent part on the peripheral edge,
A magnetron characterized in that the bent portion is fixed to the upper and lower notches, and the inner strap ring and the outer strap ring are fixed to the upper and lower sides of the vane. (2) The magnetron according to claim 1, wherein the bent portions are formed on the outer peripheral edges of the inner strap ring and the outer strap ring. (3) The inner strap ring and the outer strap ring have bent portions fixed to the upper and lower notches symmetrically with respect to the horizontal center line of the vane. Magnetron described in section.
JP3768783U 1983-03-16 1983-03-16 magnetron Granted JPS59144744U (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5250048U (en) * 1975-10-07 1977-04-09

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JPS59144744U (en) 1984-09-27

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