JPH02288301A - Resistor and manufacture thereof and thermal head - Google Patents

Resistor and manufacture thereof and thermal head

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JPH02288301A
JPH02288301A JP1109358A JP10935889A JPH02288301A JP H02288301 A JPH02288301 A JP H02288301A JP 1109358 A JP1109358 A JP 1109358A JP 10935889 A JP10935889 A JP 10935889A JP H02288301 A JPH02288301 A JP H02288301A
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resistor
thermal head
organometallic compound
organic compound
film
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Application number
JP1109358A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Yoshiike
信幸 吉池
Atsushi Nishino
敦 西野
Akihiko Yoshida
昭彦 吉田
Yoshihiro Watanabe
善博 渡辺
Akiyoshi Hattori
章良 服部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は電子部品材料である抵抗体およびその製造方法
に関するものであり、特には印字品質の優れたサーマル
ヘッドに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a resistor, which is an electronic component material, and a method for manufacturing the same, and particularly relates to a thermal head with excellent printing quality.

従来の技術 従来の電子部品材料である抵抗体は蒸着、スパッタリン
グのような真空薄膜形成プロセスにより得たTa−5l
のような薄膜型と呼ばれるものと、ガラスフリットと酸
化ルテニウム粉体から成る印刷焼成膜の厚膜型との2種
類がある。薄膜型は一般に均一であるが耐久性(耐パル
ス性)に欠点があり、厚膜型は耐久性に優れるが均一性
に欠ける。
2. Prior Art A resistor, which is a conventional electronic component material, is made of Ta-5L, which is obtained by a vacuum thin film forming process such as vapor deposition or sputtering.
There are two types: the so-called thin-film type, and the thick-film type, which is a printed and fired film made of glass frit and ruthenium oxide powder. The thin film type is generally uniform but has a drawback in durability (pulse resistance), and the thick film type has excellent durability but lacks uniformity.

ここで、熱転写、感熱印字方式プリンタなどの印字装置
に用いられるサーマルヘッドに用いられる抵抗体を例に
より詳しく説明する。第1図にはサーマルヘッドの一般
的な構成断面図を示す。グレーズ層2を設けたアルミナ
基板1の上に、発熱用抵抗体5と該発熱抵抗体5に通電
するための共通電極3と個別電極4とを設け、発熱抵抗
体5を覆うように耐摩耗層6を設けて構成される。
Here, a resistor used in a thermal head used in a printing device such as a thermal transfer printer or a thermal printing printer will be explained in detail by way of example. FIG. 1 shows a sectional view of a general configuration of a thermal head. On the alumina substrate 1 provided with the glaze layer 2, a heat generating resistor 5, a common electrode 3 and individual electrodes 4 for energizing the heat generating resistor 5 are provided, and a wear-resistant material is provided to cover the heat generating resistor 5. It is configured by providing a layer 6.

薄膜型は一般に、蒸着、スパッタリングのような真空薄
膜形成プロセスにより得た電極(0r−Cu等)3.4
、抵抗体(Ta−51等)5、耐摩耗層(SIC等)6
を用い、厚膜型は電極(Au等)3.4、抵抗体(Ru
02等)5、耐磨耗層(h’ 5ス等)6をそれぞれペ
ーストの印刷焼成により形成する。
The thin film type is generally an electrode (0r-Cu, etc.) obtained by a vacuum thin film forming process such as vapor deposition or sputtering.
, resistor (Ta-51 etc.) 5, wear-resistant layer (SIC etc.) 6
For thick film type, electrode (Au etc.) 3.4, resistor (Ru
02, etc.) 5, and a wear-resistant layer (h' 5, etc.) 6 are formed by printing and baking pastes.

上に述べた二つの種類のサーマルヘッドはそれぞれ長所
と短所を有する。すなわち、薄膜型サーマルヘッドは抵
抗体形状(面積、厚さなど)が各ド、ト間で均一であり
その熱容量が均一であることから印字の時の紙への熱の
伝達が均一に行われる。また各抵抗体の抵抗値もあるレ
ベルまでは均一なものが得られ、総合的に見て印字品質
の優れたサーマルヘッドである。さらに抵抗体層の厚さ
が薄(1000−5000Aであることから熱容量が小
さく、パルス印加オン、オフ時の抵抗体温度の立ち上が
り、立ち下がり時定数は優れたものになり印字発熱効率
も高い。
The two types of thermal heads mentioned above each have advantages and disadvantages. In other words, in a thin-film thermal head, the resistor shape (area, thickness, etc.) is uniform between each card and the heat capacity is uniform, so heat is evenly transferred to the paper during printing. . Furthermore, the resistance values of each resistor are uniform up to a certain level, and overall, the thermal head has excellent printing quality. Furthermore, since the thickness of the resistor layer is thin (1000-5000 A), the heat capacity is small, and the time constants for the rise and fall of the resistor temperature when pulse application is on and off are excellent, and the printing heat generation efficiency is high.

しかしながら薄膜プロセスのための設備コスト、バッチ
生産など生産性、低コスト化の点から解決するべき問題
点が多い。また、耐久性(耐パルス特性)も改善する余
地が有る。
However, there are many problems that need to be solved in terms of productivity and cost reduction, such as equipment costs for thin film processes and batch production. There is also room for improvement in durability (pulse resistance).

一方、厚膜型サーマルヘッドは印刷焼成法を用いること
から設備コストが低いこと、連続生産が容易なこと、耐
久性(耐パルス特性)に優れているなど利点が多いが、
抵抗体層が酸化ルテニウム粉末などの金属酸化物粉末と
ガラスフリットとの混合物から成るペーストを印刷焼成
して形成したものであることから抵抗体層中の金属酸化
物層の均一分散が得られ難く、ドツト間の抵抗値ばらつ
きを少なくすることが困難である。厚膜型サーマルヘッ
ドでは過負荷トリミング法によってこの抵抗値ばらつき
を±1%以下にすることが可能である。
On the other hand, thick-film thermal heads have many advantages, such as low equipment costs because they use a printing and firing method, easy continuous production, and excellent durability (pulse resistance).
Since the resistor layer is formed by printing and firing a paste consisting of a mixture of metal oxide powder such as ruthenium oxide powder and glass frit, it is difficult to obtain uniform dispersion of the metal oxide layer in the resistor layer. , it is difficult to reduce variations in resistance values between dots. In a thick-film thermal head, it is possible to reduce this variation in resistance value to ±1% or less by using an overload trimming method.

しかしながら一つのドツトの中のミクロな電流パスに注
目するとトリミングの不均一性などが要改善点として残
されている。これらの短所は、厚膜抵抗体層の大きな熱
容量に起因するところ大であり、発熱印字の時の時定数
が大きいこと、印字熱効率が悪いこと、印字品質が悪い
ことなど、の結果に至っている。
However, when focusing on the microscopic current path within a single dot, non-uniformity of trimming remains as an issue that needs improvement. These disadvantages are largely due to the large heat capacity of the thick film resistor layer, resulting in a large time constant during heat-generating printing, poor printing thermal efficiency, and poor printing quality. .

発明が解決しようとする課題 本発明は電子部品として使用される抵抗体の均一性と耐
久性(耐パルス特性)の改善を目的とするもので、さら
には、前記抵抗体を用いたサーマルヘッドの印字品質の
改善に関するものである。
Problems to be Solved by the Invention The present invention aims to improve the uniformity and durability (pulse resistance characteristics) of a resistor used as an electronic component, and furthermore, it aims to improve the uniformity and durability (pulse resistance characteristics) of a resistor used as an electronic component. This relates to improving print quality.

課題を解決するための手段 抵抗体として金属の有機化合物を出発原料とし、これの
分解によって得られた金属珪化物層を用いたことにある
A means for solving the problem consists in using a metal organic compound as a starting material and a metal silicide layer obtained by decomposing it as a resistor.

作   用 本発明によれば、ペーストの印刷分解焼成法によって基
板との密着性がよく、かつ、耐久性(耐パルス特性)に
優れた抵抗体層を得ることができる。
Effects According to the present invention, a resistor layer having good adhesion to a substrate and excellent durability (pulse resistance) can be obtained by a paste printing decomposition firing method.

また、これを発熱体として用いたサーマルヘッドは、印
字オン、オフ時定数、印字品質の優れたものとなる。
Further, a thermal head using this as a heating element has excellent printing on/off time constants and printing quality.

実施例 以下に図面に従って本発明の具体的な実施例を示す。Example Specific embodiments of the present invention will be shown below according to the drawings.

(実施例−1) 第1図に示す様に、厚さ0.8mmのグレーズアルミナ
基板1の上に金の有機化合物ペーストの印刷焼成を行い
、ホトリソエツチングによって共通電極3、個別電極4
を形成した後、抵抗体の主成分であるタンタルの脂肪酸
塩(炭素数7で液体)、シリコンの脂肪酸塩(Ta: 
5i=1:  1.2の比)、および成膜助剤を均一分
散してなるインキを印刷し、不活性雰囲気中で焼成する
ことにより厚さ約0゜3μmの発熱抵抗体5を形成し、
ホトエツチング技術によってパターン化した。この上に
最後にSiCの耐磨耗層(約5μm)8を形成した。焼
成した抵抗体膜は電子線回折パターンよりタンタルシリ
サイドを含有することを確認した。
(Example-1) As shown in Fig. 1, a gold organic compound paste was printed and fired on a glazed alumina substrate 1 with a thickness of 0.8 mm, and a common electrode 3 and individual electrodes 4 were formed by photolithography.
After forming, tantalum fatty acid salt (liquid with 7 carbon atoms), which is the main component of the resistor, and silicon fatty acid salt (Ta:
5i=1:1.2 ratio) and a film-forming aid uniformly dispersed in the ink and baked in an inert atmosphere to form a heating resistor 5 with a thickness of about 0°3 μm. ,
Patterned using photoetching technology. Finally, a wear-resistant layer (approximately 5 μm) 8 of SiC was formed on this. It was confirmed from the electron beam diffraction pattern that the fired resistor film contained tantalum silicide.

前記成膜助剤としてはロジウム(0,l−5%)、ビス
マス(0,05−1%)、バナジウム(0,05−2%
)の脂肪酸塩を添加し、酢酸ブチルの有機溶剤に溶解さ
せ、ビイクルと共に均一に混合させた。成膜助剤を添加
することにより焼成後の抵抗体層はクツラフの発生も少
なく均一な膜で、かつ、基板1に対して付着力の高いも
のであった。
The film-forming aids include rhodium (0.1-5%), bismuth (0.05-1%), vanadium (0.05-2%).
) was added, dissolved in an organic solvent of butyl acetate, and mixed uniformly with the vehicle. By adding the film-forming aid, the resistor layer after firing was a uniform film with little occurrence of cut-off, and had high adhesion to the substrate 1.

成膜助剤としては、前記化合物の他に、硼素、鉛、アン
チモンの有機化合物も同様の効果が確認された。また、
単体の添加よりは、2.3種類の混合物が好ましかった
。この成膜助剤の効果としては、焼成時における抵抗材
料のグレイン成長を抑制し、かつ、基板1との結合力を
向上させるものと思われる。
In addition to the above-mentioned compounds, organic compounds of boron, lead, and antimony were also used as film-forming aids, and similar effects were confirmed. Also,
A mixture of 2.3 types was preferable to addition of a single substance. The effect of this film-forming aid is thought to be to suppress the grain growth of the resistive material during firing and to improve the bonding strength with the substrate 1.

(実施例−2) 実施例1と同様に、厚さ0.8+nmのグレーズアルミ
ナ基板1の上に金の有機化合物ペーストの印刷焼成、ホ
トリソエツチングによって電極層3.4を形成した後、
抵抗体の主成分であるチタンの脂肪酸塩(炭素数7で液
体)、シリコンの脂肪酸塩(Ti:5i=1:  1.
2の比)、および成膜助剤を含有してなるインキを印刷
し、不活性雰囲気中で焼成することにより厚さ約0. 
3μmの発熱抵抗体5層を形成し、ホトエツチング技術
によってパターン化した。この上に最後にSiCの耐磨
耗層(約5μm)8を形成した。
(Example 2) In the same manner as in Example 1, an electrode layer 3.4 was formed on the 0.8+ nm thick glazed alumina substrate 1 by printing and firing a gold organic compound paste and photolithography.
The main components of the resistor are titanium fatty acid salt (liquid with 7 carbon atoms) and silicon fatty acid salt (Ti:5i=1:1.
2) and a film-forming aid is printed and baked in an inert atmosphere to a thickness of approximately 0.2 mm.
Five layers of heating resistors with a thickness of 3 μm were formed and patterned using photoetching technology. Finally, a wear-resistant layer (approximately 5 μm) 8 of SiC was formed on this.

次表に実施例−1,2によるサーマルヘッドの特性を示
す。表中の比較例−1は代表的な従来の厚膜型ヘッドで
あり、抵抗体に酸化ルテニウム粉末と硼珪酸ガラスフリ
ットの印刷焼成厚膜(10μm)を用いたもので、その
他の構成および材料は実施例−1と同じである。比較例
−2は、抵抗体に薄膜プロセスにより作製したTa5I
膜(0,1μm)を用いたサーマルヘッドである。
The following table shows the characteristics of the thermal heads according to Examples 1 and 2. Comparative Example 1 in the table is a typical conventional thick film type head, which uses a printed and fired thick film (10 μm) of ruthenium oxide powder and borosilicate glass frit for the resistor, and other configurations and materials. is the same as Example-1. Comparative Example 2 is a Ta5I resistor fabricated by a thin film process.
This is a thermal head using a film (0.1 μm).

また、表中の抵抗値ばらつきは各ドツト抵抗値の標準偏
差を平均抵抗値で割った値を示す。耐久性は、0.5W
/dot 、 1/4duty 、32m5/cyc 
leの駆動条件で通電した際の抵抗値変化が±5%まで
のパルス数を示す。
Further, the resistance value dispersion in the table shows the value obtained by dividing the standard deviation of each dot resistance value by the average resistance value. Durability is 0.5W
/dot, 1/4 duty, 32m5/cyc
The number of pulses in which the resistance value changes up to ±5% when energized under the driving conditions of le is shown.

表 表に示すごと(、実施例−1,2のヘッドは従来の様な
ガラスフリットをバインダを用いたヘッド(比較例−り
より非常に薄い抵抗体層を得ることができ、かつ、抵抗
値ばらつきも小さく、均一な抵抗体になることが分かっ
た。さらに、従来の薄膜型ヘッド(比較例−2)より、
耐久性に優れていることが明かとなった。
As shown in the table, the heads of Examples 1 and 2 can obtain a much thinner resistor layer than the conventional head using glass frit with a binder (comparative example), and have a resistance value of It was found that the resistance was uniform with little variation.Furthermore, compared to the conventional thin film head (Comparative Example-2),
It was found that it has excellent durability.

(実施例−3) 実施例1と同様に、抵抗体の主成分としてタングステン
、モリブデン、ニオブの脂肪酸塩(炭素数7で液体)と
シリコンの脂肪酸塩、および成膜助剤を含有してなるイ
ンキを印刷し、不活性雰囲気中で焼成した抵抗体を用い
た場合においても同様の効果を確認した。
(Example-3) Similar to Example 1, the main components of the resistor are tungsten, molybdenum, niobium fatty acid salts (liquid with 7 carbon atoms), silicon fatty acid salts, and film-forming aids. A similar effect was confirmed when using a resistor printed with ink and fired in an inert atmosphere.

抵抗体成分の組み合せとしては、タンタル、チタン、タ
ングステン、モリブデン、ニオブ及びシリコンの3成分
系、もしくは4成分系においても均一でかつ、耐久性に
優れた抵抗体が得られた。
As for the combination of resistor components, a uniform and highly durable resistor was obtained even when using a three-component system or a four-component system of tantalum, titanium, tungsten, molybdenum, niobium, and silicon.

(実施例−4) 実施例−1〜3で使用した有機金属化合物は主に炭素数
が20までの低級脂肪酸塩であったが、そのほかの化合
物として、アルコキシド、メルカプチド、多環式有機金
属化合物、その他のレジネート、ロジネート、の単体も
しくはいずれかの混合物を出発原料としても、はぼ同様
の抵抗体膜が得られた。
(Example 4) The organometallic compounds used in Examples 1 to 3 were mainly lower fatty acid salts having up to 20 carbon atoms, but other compounds include alkoxides, mercaptides, and polycyclic organometallic compounds. , other resinates, and rosinates alone or in mixtures thereof as starting materials, similar resistor films were obtained.

焼成時の雰囲気としては、酸素濃度が高いと、抵抗体膜
の焼成中に金属そのものも酸化され、所望の抵抗が得ら
れない。また、酸素濃度を完全にゼロにした雰囲気中に
おいては、焼成時に於て、分解した有機化合物が完全に
ガス化せずに炭素として電極中に残存し、やはり、所望
の抵抗体が得らなかった。そこで、酸素濃度をコントロ
ールした不活性チッソガス雰囲気を用いて焼成を行なっ
た結果、酸素濃度として11000pp以下、 10p
I)m以上の条件が好ましかった。
If the atmosphere during firing has a high oxygen concentration, the metal itself will be oxidized during firing of the resistor film, making it impossible to obtain the desired resistance. Furthermore, in an atmosphere where the oxygen concentration is completely reduced to zero, during firing, the decomposed organic compounds do not completely gasify and remain in the electrode as carbon, making it impossible to obtain the desired resistor. Ta. Therefore, as a result of firing using an inert nitrogen gas atmosphere with controlled oxygen concentration, the oxygen concentration was 11,000 pp or less, 10 pp.
I) Conditions of m or higher were preferred.

なお、基板上へのインキの塗布は、スクリーン印刷法の
他に、ロールコータ法、スピナー法、オフセット印刷法
が考えられるが、特に限定されるものではない。また、
耐摩耗層についても上記実施例のほかに厚膜技術で形成
してもよい。
In addition to the screen printing method, a roll coater method, a spinner method, and an offset printing method may be used to apply the ink onto the substrate, but the method is not particularly limited. Also,
The wear-resistant layer may also be formed using a thick film technique in addition to the embodiments described above.

また実施例1〜4においては、専らサーマルヘッドを例
に抵抗体について述べてきたが、本発明はサーマルヘッ
ドに限定されるものではなく、広く回路基板、電子部品
等の抵抗体としても同様の効果を発揮するものである。
In addition, in Examples 1 to 4, the resistor has been described using a thermal head as an example, but the present invention is not limited to a thermal head, and can be used as a resistor in a wide range of circuit boards, electronic components, etc. It is effective.

発明の効果 以上記載のように、本発明によれば従来の様なガラスフ
リットをバインダに用いないためにその厚さの非常に薄
い均一で、かつ、耐久性に優れた抵抗体層を印刷焼成法
で得ることができる。このため高品質出高信頓性の抵抗
体を低コストで連続的に生産できる。
Effects of the Invention As described above, according to the present invention, since glass frit is not used as a binder as in the conventional case, a resistor layer having a very thin and uniform thickness and excellent durability can be printed and fired. can be obtained by law. Therefore, high-quality resistors with high reliability can be continuously produced at low cost.

特に、サーマルヘッドの抵抗体として利用した場合、抵
抗体層の熱容量が薄膜プロセスによるものと同等になる
ため印字の時のON、OFF時定数、印字品質いずれの
点でも優れた特性を膏するサーマルヘッドが得られる。
In particular, when used as a resistor in a thermal head, the heat capacity of the resistor layer is equivalent to that produced by a thin film process, so the thermal head exhibits excellent characteristics in terms of ON/OFF time constants and print quality during printing. You will get the head.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図はサーマルヘッドの代表的な構成断面図を示す。 191.アルミナ基板、333.共通電極、4.、、個
別電極、5.、、発熱抵抗体、8.、、耐摩耗層。
The figure shows a cross-sectional view of a typical configuration of a thermal head. 191. Alumina substrate, 333. common electrode, 4. ,,individual electrode,5. , , heating resistor, 8. ,, wear-resistant layer.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)金属の有機化合物を出発原料として、これの分解
反応によって得られた金属珪化物を含有することを特徴
とする抵抗体。
(1) A resistor characterized by containing a metal silicide obtained by a decomposition reaction using an organic compound of a metal as a starting material.
(2)金属の有機化合物がタンタル、チタン、タングス
テン、モリブデン、ニオブの少なくとも1種の有機金属
化合物とシリコンの有機金属化合物とから主に成ること
を特徴とする請求項1記載の抵抗体。
(2) The resistor according to claim 1, wherein the metal organic compound mainly consists of at least one organometallic compound of tantalum, titanium, tungsten, molybdenum, and niobium and an organometallic compound of silicon.
(3)金属の有機化合物に、ロジウム、硼素、ビスマス
、バナジウム、鉛、アンチモンの少なくとも1種の有機
化合物を成膜助剤として添加したこと特徴とする請求項
1記載の抵抗体。
3. The resistor according to claim 1, wherein at least one organic compound selected from the group consisting of rhodium, boron, bismuth, vanadium, lead, and antimony is added as a film-forming aid to the metal organic compound.
(4)有機金属化合物が炭素数が20までの低級脂肪酸
の塩、アルコキシド、メルカプチド、多環式有機金属化
合物、その他のレジネート、ロジネート、の単体もしく
はいずれかの混合物であることを特徴とする請求項2ま
たは3記載の抵抗体。
(4) A claim characterized in that the organometallic compound is a single substance or a mixture of a salt of a lower fatty acid having up to 20 carbon atoms, an alkoxide, a mercaptide, a polycyclic organometallic compound, and other resinates and rhosinates. The resistor according to item 2 or 3.
(5)基板上に有機金属化合物を含有してなるインキを
塗布した後、酸素濃度1000ppm以下、10ppm
以上の不活性雰囲気で焼成することを特徴とする請求項
1記載の抵抗体の製造法
(5) After coating the ink containing an organometallic compound on the substrate, the oxygen concentration is 1000 ppm or less, 10 ppm
The method for manufacturing a resistor according to claim 1, characterized in that the firing is performed in the above inert atmosphere.
(6)基板上に発熱抵抗体と該抵抗体に通電するための
電極群とを設け、前記抵抗体および電極群の一部を覆う
ように耐摩耗層を形成した厚膜型のサーマルヘッドにお
いて、前記発熱抵抗体として請求項1記載の抵抗体を用
いたことを特徴とするサーマルヘッド。
(6) In a thick film type thermal head in which a heating resistor and a group of electrodes for energizing the resistor are provided on a substrate, and a wear-resistant layer is formed to partially cover the resistor and the electrode group. . A thermal head characterized in that the resistor according to claim 1 is used as the heating resistor.
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