JPH0229040B2 - Reezakonyorumoyosakuseihoho - Google Patents
ReezakonyorumoyosakuseihohoInfo
- Publication number
- JPH0229040B2 JPH0229040B2 JP8314983A JP8314983A JPH0229040B2 JP H0229040 B2 JPH0229040 B2 JP H0229040B2 JP 8314983 A JP8314983 A JP 8314983A JP 8314983 A JP8314983 A JP 8314983A JP H0229040 B2 JPH0229040 B2 JP H0229040B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- workpiece
- shielding plate
- laser beam
- slit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザ光による模様作成方法、詳しく
はレーザ光照射により素材表面に溝状の線模様を
作成する方法に関する。
はレーザ光照射により素材表面に溝状の線模様を
作成する方法に関する。
従来レーザ光による素材の加工は主として接断
等に用いられており、また最近ではレーザ光によ
る素材表面への彫刻も試みられているが、未だ満
足すべき方法が得られていなかつた。
等に用いられており、また最近ではレーザ光によ
る素材表面への彫刻も試みられているが、未だ満
足すべき方法が得られていなかつた。
本発明は素材表面に線状の溝を所望の幅及び深
さで均一に形成して所定の模様を作成することが
できる方法を提供する。
さで均一に形成して所定の模様を作成することが
できる方法を提供する。
実施例について説明する。第1図は数値制御装
置付きのレーザ光照射装置の概略正面図で、第2
図のa〜eは模様作成工程を示す斜視図である。
置付きのレーザ光照射装置の概略正面図で、第2
図のa〜eは模様作成工程を示す斜視図である。
本発明に用いる数値制御装置付きのレーザ光照
射装置は、ベツド1上にXY方向に変位自在のテ
ーブル2が設けられており、このテーブル2の上
方から下方へ向けてレーザ光を照射するレーザ発
光装置4が固定されており、テーブル上の被照射
物に集光させるためのレンズが設けられている。
テーブル2のXY方向の変位とレーザ光のシヤツ
タの開閉制御は数値制御装置3により行われる。
被照射物はテーブル2に固定され、あらかじめ作
られた穿孔テープ又は磁気テープ等の指令情報媒
体5の情報を入力することにより、所定の速度
で、所定の道順で、所定のレーザ光照射タイミン
グで照射口4aから被照射物表面にレーザ光が照
射されてゆく。同一情報を入力することにより同
一条件で何度でも一定の模様を描く如くレーザ光
を被照射物上に照射することができる。
射装置は、ベツド1上にXY方向に変位自在のテ
ーブル2が設けられており、このテーブル2の上
方から下方へ向けてレーザ光を照射するレーザ発
光装置4が固定されており、テーブル上の被照射
物に集光させるためのレンズが設けられている。
テーブル2のXY方向の変位とレーザ光のシヤツ
タの開閉制御は数値制御装置3により行われる。
被照射物はテーブル2に固定され、あらかじめ作
られた穿孔テープ又は磁気テープ等の指令情報媒
体5の情報を入力することにより、所定の速度
で、所定の道順で、所定のレーザ光照射タイミン
グで照射口4aから被照射物表面にレーザ光が照
射されてゆく。同一情報を入力することにより同
一条件で何度でも一定の模様を描く如くレーザ光
を被照射物上に照射することができる。
このような数値制御装置付きのレーザ光照射装
置を用いた素材への模様作成方法についてさらに
説明する。まず、レーザ光に対する切断抵抗が被
加工板10に比べて大きい材料を遮蔽板20とし
て用いる。たとえば、被加工物10をアクリル樹
脂とし、これに対して遮蔽板20として銅板を採
用する。この遮蔽板20を前記テーブル2に固定
し、指令情報媒体5からの所定の入力情報によ
り、遮蔽板20表面にレーザ光を照射して(第2
図a)、被加工物10の表面に形成されるべき所
定の線模様に対応するスリツト状模様21を表裏
に貫通して形成する(第2図b)。次に被加工物
10をテーブル2に固定し、その被加工物10の
上面に遮蔽板20を重ねて固定する(第2図c)。
次にレーザ光の強度を弱めると共に、それ以外の
点で同じ条件の制御情報を再入力し、これにより
レーザ光を遮蔽板20の前記スリツト状模様21
に沿つて再度移動照射する(第2図c)。これに
より被加工物表面に溝状の所定の線模様11が形
成される(第2図d)。レーザ光のビーム幅はレ
ーザ発光装置4のレンズの調節、またはレンズア
タツチメントを付加することにより制御すること
ができる。この場合照射面積は広がるが、スリツ
ト以外の部分に照射されるレーザ光は遮蔽板20
で遮蔽されるので問題はない。模様11の幅の調
節は遮蔽板20のスリツト模様21のスリツト幅
を予め大きく又は小さく形成することにより調節
できるが、遮蔽板20を被加工物10表面から上
方へ離して配置することにより表面に密着して配
置する場合よりも広幅の模様11を形成すること
もできる。また模様11を形成する溝の深さはレ
ーザ光の強さとレーザ光の移動速度を調節するこ
とにより適当な深さを選択することができる。
置を用いた素材への模様作成方法についてさらに
説明する。まず、レーザ光に対する切断抵抗が被
加工板10に比べて大きい材料を遮蔽板20とし
て用いる。たとえば、被加工物10をアクリル樹
脂とし、これに対して遮蔽板20として銅板を採
用する。この遮蔽板20を前記テーブル2に固定
し、指令情報媒体5からの所定の入力情報によ
り、遮蔽板20表面にレーザ光を照射して(第2
図a)、被加工物10の表面に形成されるべき所
定の線模様に対応するスリツト状模様21を表裏
に貫通して形成する(第2図b)。次に被加工物
10をテーブル2に固定し、その被加工物10の
上面に遮蔽板20を重ねて固定する(第2図c)。
次にレーザ光の強度を弱めると共に、それ以外の
点で同じ条件の制御情報を再入力し、これにより
レーザ光を遮蔽板20の前記スリツト状模様21
に沿つて再度移動照射する(第2図c)。これに
より被加工物表面に溝状の所定の線模様11が形
成される(第2図d)。レーザ光のビーム幅はレ
ーザ発光装置4のレンズの調節、またはレンズア
タツチメントを付加することにより制御すること
ができる。この場合照射面積は広がるが、スリツ
ト以外の部分に照射されるレーザ光は遮蔽板20
で遮蔽されるので問題はない。模様11の幅の調
節は遮蔽板20のスリツト模様21のスリツト幅
を予め大きく又は小さく形成することにより調節
できるが、遮蔽板20を被加工物10表面から上
方へ離して配置することにより表面に密着して配
置する場合よりも広幅の模様11を形成すること
もできる。また模様11を形成する溝の深さはレ
ーザ光の強さとレーザ光の移動速度を調節するこ
とにより適当な深さを選択することができる。
被加工物10上に模様11を形成した後、遮蔽
板20を取除き、さらに、ビームを絞つて強度を
強めたレーザ光により所定の外形形状12に切断
すれば、板状の被加工物10から所望の製品を作
り出すことができる(第2図e)。勿論板状の被
加工物10に模様11だけを形成してもよい。
板20を取除き、さらに、ビームを絞つて強度を
強めたレーザ光により所定の外形形状12に切断
すれば、板状の被加工物10から所望の製品を作
り出すことができる(第2図e)。勿論板状の被
加工物10に模様11だけを形成してもよい。
第3図、第4図に上述した方法で作つた装飾品
の例を示す。すなわち第3図アクリル樹脂の透明
厚肉板に、まず図面上の細線で示す部分に溝状の
模様11を形成し、次にハート型の輪郭を切断形
成すると共に中央部を図面上の太線12に沿つて
分割することによつて、表面に男女の絵が描かれ
た一対の装飾品を形成した例である。この例の場
合は模様11の深さを非常に浅く形成している。
の例を示す。すなわち第3図アクリル樹脂の透明
厚肉板に、まず図面上の細線で示す部分に溝状の
模様11を形成し、次にハート型の輪郭を切断形
成すると共に中央部を図面上の太線12に沿つて
分割することによつて、表面に男女の絵が描かれ
た一対の装飾品を形成した例である。この例の場
合は模様11の深さを非常に浅く形成している。
第4図はライオンの顔を模様11で形成すると
共にライオンの輪郭を切断形成し、且つ一部を親
ライオンに嵌り込む小ライオンとして分割形成し
た例を示す。この例では透明のアクリル樹脂を被
加工物10とし、比較的深い模様11を形成して
いる。この場合透明材料に溝を彫つているので、
溝の内壁面13が光の反射によつて視覚に映ずる
ことになる。したがつて、溝の深さに不均一があ
れば、それがそのまま製品に現れることになるの
で好ましくない。この点については、本発明では
レーザ光を遮蔽板20のスリツトに沿つて移動さ
せるので二重照射による重複もなく均一な深さを
得ることができる。レーザ光を被加工物上に置か
れた遮蔽板20に対してスリツトとは無関係に全
面に走査させる方法では、スリツトを通して被加
工物10に照射されるレーザ光の照射領域が一部
重複することとなり、該重複部にそれ以外の部分
よりも深い溝が形成されて凹凸の原因となり装飾
上、好ましくない。
共にライオンの輪郭を切断形成し、且つ一部を親
ライオンに嵌り込む小ライオンとして分割形成し
た例を示す。この例では透明のアクリル樹脂を被
加工物10とし、比較的深い模様11を形成して
いる。この場合透明材料に溝を彫つているので、
溝の内壁面13が光の反射によつて視覚に映ずる
ことになる。したがつて、溝の深さに不均一があ
れば、それがそのまま製品に現れることになるの
で好ましくない。この点については、本発明では
レーザ光を遮蔽板20のスリツトに沿つて移動さ
せるので二重照射による重複もなく均一な深さを
得ることができる。レーザ光を被加工物上に置か
れた遮蔽板20に対してスリツトとは無関係に全
面に走査させる方法では、スリツトを通して被加
工物10に照射されるレーザ光の照射領域が一部
重複することとなり、該重複部にそれ以外の部分
よりも深い溝が形成されて凹凸の原因となり装飾
上、好ましくない。
なお、本発明において被加工物としては透明材
の他不透明材を用いてもよいし、また合成樹脂の
他木やその他の材料を用いることができる。
の他不透明材を用いてもよいし、また合成樹脂の
他木やその他の材料を用いることができる。
以上の構成よりなる本発明によれば、被加工物
の表面にレーザ光による所定深さ、所定幅の溝状
の線模様を形成することができる。特に一定の深
さに揃えることができるので、アクリル樹脂等の
透明体への模様付けが非常に良好に行える。
の表面にレーザ光による所定深さ、所定幅の溝状
の線模様を形成することができる。特に一定の深
さに揃えることができるので、アクリル樹脂等の
透明体への模様付けが非常に良好に行える。
第1図は本発明の方法に用いる数値制御付レー
ザ光照射装置の概略正面図、第2図a〜eは本発
明の各実施工程を示す斜視図、第3図、第4図は
各々本発明の方法により作成された装飾品の例を
示す斜視図である。 10……被加工物、11……線模様、20……
遮蔽板、21……スリツト模様。
ザ光照射装置の概略正面図、第2図a〜eは本発
明の各実施工程を示す斜視図、第3図、第4図は
各々本発明の方法により作成された装飾品の例を
示す斜視図である。 10……被加工物、11……線模様、20……
遮蔽板、21……スリツト模様。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 レーザ光に対する切断抵抗が被加工物に比べ
て大きい材料を遮蔽板として用い、まず数値制御
付きのレーザ光照射装置により被加工物の表面に
形成されるべき所定の線模様に対応するスリツト
状模様を前記遮蔽板に形成し、次にこのスリツト
状模様を形成した遮蔽板を前記被加工物の上に配
置した後、レーザ光の強度を弱めて再度前記遮蔽
板の上から前記スリツト状模様に沿つて照射する
ことにより被加工物表面に溝状の線模様を形成す
ることを特徴とするレーザ光による模様作成方
法。 2 被加工物表面に遮蔽板を密着して配置する特
許請求の範囲第1項記載のレーザ光による模様作
成方法。 3 被加工物表面との間に空隙を設けて遮蔽板を
配設する特許請求の範囲第1項記載のレーザ光に
よる模様作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8314983A JPH0229040B2 (ja) | 1983-05-11 | 1983-05-11 | Reezakonyorumoyosakuseihoho |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8314983A JPH0229040B2 (ja) | 1983-05-11 | 1983-05-11 | Reezakonyorumoyosakuseihoho |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60115500A JPS60115500A (ja) | 1985-06-21 |
| JPH0229040B2 true JPH0229040B2 (ja) | 1990-06-27 |
Family
ID=13794165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8314983A Expired - Lifetime JPH0229040B2 (ja) | 1983-05-11 | 1983-05-11 | Reezakonyorumoyosakuseihoho |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0229040B2 (ja) |
-
1983
- 1983-05-11 JP JP8314983A patent/JPH0229040B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60115500A (ja) | 1985-06-21 |
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