JPH02292721A

JPH02292721A - 磁気デイスク

Info

Publication number: JPH02292721A
Application number: JP1113134A
Authority: JP
Inventors: Yoshinori Kobayashi; 小林　由縁; Kiyosumi Kanazawa; 金沢　潔澄; Akio Nakamura; 中村　暁生
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1989-05-02
Filing date: 1989-05-02
Publication date: 1990-12-04
Also published as: US5061537A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉本発明は、可撓性の基体を有する磁気ディスクに関する
。

く従来の技術〉可撓性の基体を有する磁気ディスクは、通常、フロッピ
ーディスクと呼ばれ、各種コンピュータ、ワードプロセ
ッサ等に広《用いられている。

フロッピーディスクは、板状あるいは長尺の非磁性基体
フィルムの少な《とも一方の面に磁性層を塗布し、乾燥
、硬化およびカレンダ処理を施した後、ディスク状に打
ち抜いて製造され、さらに、内面にクリーニング用のラ
イチを有するジャケットあるいはカートリッジにｉＩｙ
容される。

また、このような塗布型の磁性層の他、Ｃｏ−Ｃｒ等の
合金をスバッタ法等の薄膜形成法により成膜して得られ
る磁性層も提案されている。

フロッピーディスク製造では上記のように打ち抜き工程
を経るため、ディスクにパリやクラックが生じ、ディス
ク回転時に走行不良が発生することがある。

また、磁性層の形成に気相成膜法を用いた場合、成膜時
に基体が加熱されるため、基体に波打ち、うねり等の変
形が生じることがあり，こ・の場合にも走行不良が生じ
る。

ところで、特開昭６１−２４０４９０号公報では、ディ
スクの周縁部をプラスチックフィルムで被覆することが
提案されている。

この提案による磁気ディスクの構造を、第１１図および
第１２図に示す。　この提案では、磁性層としての金属
薄膜１０３を両面に施したディスク状の高分子フィルム
１０２から構成される磁気配録媒体ｌ００の周縁部が、
一対のリング状のブラスヂックフィルム１０４、１０５
で被覆されているものである。

この提案によれば、金属薄膜１０３の鋭利な周縁部が、
ジャケットのライナに引っ掛かることがなくなるという
ものである。

一方、本発明者らは、少なくとも打ち抜きパリおよび／
またはクラックの生じる面に、一定幅の合成樹脂膜を固
着した磁気フロッピーディスクおよびその製造方法を提
案している（実願昭６２−１８３７７０号および特願昭
６２−３０４４３５号）。

これらの提案によれば、ディスク周辺部のパリやクラッ
ク等の影響を避けることができ、また、内部に分散され
た無磯充填剤粉末の作用により合成樹脂膜に潤滑効果や
帯電防止効果、あるいは剛性が付与されて、ディスク回
転の円滑化あるいは磁性層の気相成膜時に生じるうねり
の矯正が実現する。

く発明が解決しようとする課題〉磁気ディスクは、記録密度が高《なるほどディスク基体
の平面性も良好である必要があり、基体の平面性が悪い
と出力変動を生じてしまう。

例えば、Ｃｏ−Ｃｒ系合金のスバッタ膜を班性層として
有する垂直記録型の磁気ディスクなどでは極めて高密度
の記録がなされるため、ディスクの平面性確保が重要で
ある。

しかし、このものは、磁性層の他、通常、磁性層と基体
との間の軟磁性膜、磁性層上の固体保護層なども気相成
膜されるため、ディスクの変形が生じ易い。

上記した各提案のようにプラスチックフィルムを用いた
場合、このようなディスクの変形を防いで再生出力変動
を防止することができるが、必要以上に厚いフィルムを
用いた場合、ディスク全体の剛性が高くなりすぎて磁気
ヘッドとの接触不良が生じ、結果として再生出力変動を
生じてしまう。

本発明は、このような事情からなされたものであり、走
行安定性が高《、再生出力の変動が小さい磁気ディスク
を提供することを目的とする。

く課題を解決するための手段〉このような目的は、下記（１）〜（９）の本発明により
達成される。

（１）可撓性の基体の少なくとも一方の主面上に磁性層
を有する磁気ディスクにおいて、両主面の外周部にリン
グ状プラスチックフィルムが固着されており、このリン
グ状プラスチックフィルムの厚さをｔ＋（＋ｚｍ）とし
、前記基体の厚さをＴ（μｍ）としたとき、Ｔ−２０≦
ｔ１≦Ｔ＋４０かつｔｌ≧１０であることを特徴とする
磁気ディスク。

（２）可撓性の基体の少なくとも一方の主面上に磁性層
を有する磁気ディスクにおいて、一方の主面の外周部に
リング状プラスチックフィルムが固着されており、この
リング状プラスチックフィルムの厚さを１．（μｍ）と
し、前記基体の厚さをＴ（μｍ）としたとき、２Ｔ−４
０≦ｔ２≦２Ｔ＋８０かつｔ２≧２０であることを特徴とする磁気ディスク。

（３）前記基体の厚さが１５〜１１０μｍである上記（
１）または（２）に記載の磁気ディスク。

（４）前記固着が接着剤層により行なわれ、この接着剤
層の厚さが１０〜７５μｍである上記（１）ないし（３
）のいずれかに記載の磁気ディスク。

（５）前記リング状プラスチックフィルムが無機充填剤
粉末を含有している上記（１）ないし（４）のいずれか
に記載の磁気ディスク。

（６）前記磁性層が気相成膜法により形成された垂直磁
化膜である上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の
磁気ディスク。

（７）前記基体と前記磁性層との間に、気相成膜法によ
り形成された軟磁性膜を有する上記（６）に記載の磁気
ディスク。

（８）金属ないし半金属から選択された１種以上の元素
と酸素とを少なくとも含有し、気相成膜法により形成さ
れた固体保護膜を前記磁性層上に有する上記（６）また
は（７）に記載の磁気ディスク。

（９）有機化合物を含有する潤滑膜を前記固体保護層上
に有する上記（６）ないし（８）のいずれかに記載の磁
気ディスク。

く作用〉本発明の磁気ディスクは、少なくとも一方の主面の外周
部に所定の厚さのリング状プラスチックフィルムが固着
されているため、磁性層成膜の際に生じる歪、うねり等
のディスクの変形が補正され、良好な平面性を有する。

　しかも、ディスクに与える剛性が適当であるため、磁
気ヘッド摺接時にディスクが適度に変形し、ヘッドとの
接触が良好である。

このため、本発明の磁気ディスクは、全トラックに亙っ
て再生出力変動が極めて少な《、エラーの発生が極小で
ある。

く具体的構成〉以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

第１図、第２図および第３図に、本発明の磁気ディスク
の好適実施例の部分端面図を示す。

第１図、第２図および第３図に示される磁気ディスク１
は、ディスク本体１１の両主面外周部に、リング状プラ
スチックフィルム１２が接着剤層１３により貼着されて
構成されている。

ディスク本体１１は、可撓性基体の少なくとも一方の主
面上に磁性層が設けられて構成される。

第１図および第３図に示される例では、リング状プラス
チックフィルムｌ２はディスク本体１１の外周縁を越え
て半径方向に突出しており、突出した部分は、互いに接
着されてはいない。

また、第２図に示される例では、ディスク本体１ｌの外
周縁を越えて半径方向に突出しているリング状プラスチ
ックフィルムｌ２が、互いに接着剤Ｎ１３により貼着さ
れている。

なお、これらの他、少な《とも一方のリング状プラスチ
ックフィルムに断面Ｌ字状のものを用い，これをディス
ク本体１１の主面外周部および外周壁に接着する態様も
本発明に含まれる。

これらのいずれの態様であっても、本発明の効果は実現
し、また、ディスク本体１１の一方の主面だけにリング
状プラスチックフィルムｌ２を有する場合であっても、
リング状プラスチックフィルムｌ２が後述する厚さを有
していれば本発明の効果は実現する。

なお、一方の主面にだけリング状プラスチックフィルム
１２が形成される場合、リング状プラスチックフィルム
ｌ２は、基体の打ち抜き時にパリおよび／またはクラッ
クが生じる面に固着されることが好ましい。

第１図、第２図および第３図に示されるように、ディス
クの両主面にリング状プラスチックフィルムを有する場
合、リング状プラスチックフィルムの厚さを１＋　　（
μｍ）とし、前記基体の厚さをＴ（μｍ）としたとき、
本発明ではＴ−２０≦ｔｌ≦Ｔ＋４０かつｔ１≧ｌＯと
される。

この場合、両主面に接着される２枚のリング状プラスチ
ックフィルムの厚さのそれぞれが上記範囲の厚さを有す
る必要がある。　なお、２枚のリング状プラスチックフ
ィルムは、ほぼ等しい厚さとすることが好ましい。

また、ディスクの一方の主面にだけリング状プラスチッ
クフィルムを有する場合、リング状プラスチックフィル
ムの厚さをｔ２　（μｍ）としたとき、２Ｔ−４０　　≦　ｔ　２　≦　２Ｔ＋８０かつｔ２≧
２０とされる。

ｔｌおよびｔ２が上記範囲未満であると、ディスクの形
状補正効果が不十分である。

ｔ１およびｔ２が上記範囲を超えると、ディスク全体の
剛性が高くなりすぎて適当なヘッドタッチが得られず、
再生出力変動を招《。

リング状プラスチックフィルム１２のディスク半径方向
の幅は０．５〜４ｍｍであることが好ましい。　この幅
が上記範囲未満であるとディスク形状の補正効果が不十
分である他、取扱が難しくなったり、貼看力が不十分と
なり、上記範囲を超えると、十分な記録面をとることが
できずトラック数が減少してしまったり、ジャケットへ
の収納性が低下する。

リング状プラスチックフィルム１２の直径は、第１図、
第２図および第３図に示されるようにディスク本体ｌ１
の直径を超えてもよく、同直径またはそれ以下であって
もよい。　ただし、リング状プラスチックフィルム１２
とディスク本体１１との接着部分の幅は、０．８ｍｍ以
上であることが好ましい。　この幅が上記範囲未満であ
るとディスク形状の補正効果が不十分となる他、十分な
貼着力が得られな《なる。

リング状プラスチックフィルムの材質に特に制限はなく
、ポリエチレン、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）．ポリ塩化ビニル等から適当なものを選
択すればよいが、低コストであることからＰＥＴを用い
ることが好ましい。　また、ヤング率が高く、形状補正
効果が高いことから、ポリイミドも好適に用いることが
できる。

なお、リング状プラスチックフィルムのヤ冫グ率は、好
まし《は３　０　０　ｋｇｆ／ｍｍ２以上、特に３　５
　０　〜９　５　０　ｋｇｆ／ｍｍ”である。

リング状プラスチックフィルムｌ２には、無機充填剤の
粉末が含有されていてもよい。

用いる無機充填剤としては、カーボン、グラファイトお
よび酸化チタンの少な《とも１種であることが好ましい
。　これらの無機充填剤粉末は、潤滑、帯電防止、剛性
向上、着色等の効果をリング状プラスチックフィルムに
付与する。

このような効果を実現するためには、リング状プラスチ
ックフィルム１２中の無機充填剤粉末の含有率が５〜３
０ｗｔ％であることが好ましい。

リング状プラスチックフィルム１２とディスク本体１１
とを貼着する接着剤の種類に特に制限はなく，アクリル
酸エステル等の粘着型接着剤、アクリル樹脂、不飽和ポ
リエステル等の放射線硬化型接着剤などから選択すれば
よい。

接着剤層１３の厚さは接着剤の種類によっても異なるが
、ｌＯ〜７５μｍ、特に２０〜６０μｍであることが好
ましい。　厚さがこの範囲未満であると接着性が不十分
であり、この範囲を超えるとリング状プラスチックフィ
ルム接着部の厚さが大きくなりすぎて、ジャケットある
いはカートリッジ内でのディスクの円滑な回転が困難と
なる。

なお、リング状プラスチックフィルムと接着剤層との合
計厚さは１５０μｍを超えないことが好ましく、また、
これにディスク本体の厚さを加えた全厚は、３５０μｍ
を超えないことが好ましい。

接着剤層１３は、リング状プラスチックフィルムｌ２を
強固に接着するために、第１図、第２図および第３図に
示されるように少な《ともリング状プラスチックフィル
ム１２とディスク本体ｌ１との間の全域に存在すること
が好ましい。　また、接着剤層への塵の吸着を防いでド
ロップアウトを防止するために、第１図、第２図および
第３図に示されるように、接着された状態でリング状プ
ラスチックフィルムｌ２の外周縁より外側に存在しない
ことが好ましい。

第１図および第２図に示されるように接着剤層を部分的
に形成するためには、例えばスクリーン印刷法を用いる
が、第３図に示されるような接着剤層はこのような方法
を用いる必要がなく、低コストにて形成することができ
る。

なお、リング状プラスチックフィルムｌ２は、通常、デ
ィスク本体ｌ１の最上層に接着される。

リング状プラスチックフィルム１２の製造方法に特に制
限はなく，例えば、プラスチックフィルムのシートに接
着剤層を形成しておき、これをリング状に打ち抜くなど
の方法により製造することができる。

リング状プラスチックフィルム１２の製造方法の１例を
、第５図に示す。

第５図において、上型２０は底面に同心円状のカッター
２１、２２を有し、下型２３は上面にクッシ式ンシ一ト
２４を有する。

上型２０と下型２３との間には長尺シ一ト状の積層体２
５が送゛り込まれる。　この積層体２５は、プラスチッ
クフィルム１２１の裏面に接着剤層ｌ３を塗布し、さら
に易剥離紙２６で裏打ちしたものである。　積暦体２５
は、上型２０および下型２３により押圧されてリング状
に打ち抜かれ、リング状の積層体が得られる。

このようにして得られるリング状プラスチックフィルム
１２とディスク本体ｌ１との接着は、下記の方法で行な
うことが好ましい。

第６図に、リング状プラスチックフィルム１２とディス
ク本体１ｌとの接着に用いる装置の１例を示す。

同図において、台座３０の上面は平坦であり、この上面
には、円形開口３２を有するガイド部材３ｌが配設され
ている。　円形開口３２はリング状プラスチックフィル
ムをガイドするために設けられ、リング状プラスチック
フィルム１２の直径よりもわずかに大きい直径を有する
．　台座３０とガイド部材３１とは一体的に構成されて
いてもよ《、分離可能に構成されていてもよい．台座３０はリング状プラスチックフィルム１２が位置す
る部位に複数の小孔３３を有し、これら小孔３３は真空
ボンブに接続されている。

上型３４は上下動可能に構成され、ディスク本体１１の
中心軸がガイド部材３１の円形開口３２の中心軸と一致
するように、円形突起３５によりディスク本体１１を保
持する。

この装置で接着作業を行なう場合、まず、上型３４にデ
ィスク本体１１を仮止めする。　また、第５図に示すよ
うにして得られたリング状の積層体を、易剥離紙２６が
上になるようにガイド部材３１の円形間口３２の内壁に
沿ってはめる。

次に、真空ボンブを作動させることにより小孔３３がら
空気を吸引し、リング状の積層体を台座３０上に保持し
た後、易剥離紙２６を剥離すれば、皺もなく所定位置に
リング状プラスチックフィルム１２を位置させることが
できる。

次いで上型３４を降下させれば、リング状ブラスチック
フィルムｌ２とディスク本体１１とは中心軸が一致した
状態で接着される。

また、磁気ディスクの両主面にリング状プラスチックフ
ィルムｌ２を接着する場合、上記のの工程の後にディス
ク本体の上下を反転して上型に取り付け、再び上記工程
を繰り返せばよい。

第７図に、ディスク本体１ｌとリング状プラスチックフ
ィルム１２がほぼ同直径である場合に用いる製造装置の
部分断面図を示す。

第７図に示す装置では、第６図に示す装置において円形
開口３２の直径をディスク本体１１の直径よりも少しだ
け大きく設定し、同時にリング状プラスチックフィルム
は、ディスク本体１１とほぼ同程度の直径を有するもの
とする。

作業手順は、第６図に示す装置においてディスク本体１
１の片面にリング状プラスチックフィルムｌ２を貼着す
る場合と同様であり、ディスク本体１１のパリおよび／
またはクラックがある面にリング状プラスチックフィル
ム１２を貼着する。

リング状プラスチックフィルム１２が貼着されるディス
ク本体１１は、基体の少なくとも一方の主面上に磁性層
が設けられて構成される。

以下、この磁性層が気相成膜法により形成されたＣｏ−
Ｃｒ系合金の垂直磁化膜である場合について説明する。

第４図に、ディスク本体ｌ１の好適例の部分断面図を示
す。

ディスク本体１１は両面記録型の磁気ディスクであり、
基体２の両主面上に、軟磁性膜３、磁性層４、固体保護
層５および潤滑膜６を、この順で有する。

このような両面記録型の磁気ディスクでは、軟磁性膜３
、磁性層４、固体保護層５等の成膜時に発生する基体２
のソリが打ち消しあうが、これらを一方の面にだけ有す
る片面記録型の磁気ディスクでは、他方の面にバックコ
ート層を設けることにより基体２のソリを防止すること
ができる。　この場合のバックコート層としては、ＡＩ
２、Ｔｉ等の金属、あるいはＳ　ｉ　Ｏ　ｚ、Ｓｔａ　
Ｎ４　．ＡＩ２ｚ　Ｏｓ　．後述する固体保護層構成材
質等の無機酸化物、窒化物ないしこれらの混合物などの
スパッタ膜が好適であり、さらには塗布型のバックコー
ト層も用いることができる。

基体２の材質に特に制限はなく、ポリイミド、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンサルフ
ァイド（ＰＰＳ）ボリアミド、ポリエチレンナフタレ−
１・（ＰＥＮ）．ポリエーテルエーテルヶトン（ＰＥＥ
Ｋ）などの高分子物質から目的に合わせて選択すればよ
いが、Ｃｏ−Ｃｒ系合金の垂直磁化膜は気相成膜法によ
り形成されるため、耐熱性、寸法安定性、表面粗度等が
良好である必要があるので、上記材質のうちポリイミド
を用いることが好ましい。

なお、Ｃｏ−Ｃｒ系合金から構成される磁性層は、磁気
特性向上のために熱処理が施されることが好ましいので
、この場合の基体２構成材質には１５０℃程度以上、特
に２００〜３００℃での１０秒間〜１０分間程度の加熱
に耐えられるものを選択することが好ましい。

通常、この加熱は、磁性層およびその下地膜である軟磁
性膜成膜時に、スパツタターゲットからの輻射により行
われる。

また、基体の線膨張係数は、後述する軟磁性膜、磁性層
等の基体上に成膜される金属と同等であることが好まし
《、例えば２０〜６０℃にて５Ｘ　１　０−’〜１　５
Ｘ　ｌ　Ｏ−’ｄｅｇ−’程度であることが好ましい。

基体２のヤング率は、３００〜１０００ｋｇｆ／ｍｍ”
であることが好ましい。　ヤング率をこの範囲とするこ
とにより、耐久性が向上すると共にヘッドタッチが良好
となる。　ヤング率が上記範囲未満であると、ヘッドタ
ッチは良好であるが耐久性が低下する。　また，ヤング
率が上記範囲を超えると、耐久性は向上するがヘッドタ
ッチが悪化する。

基体２の表面粗さ（Ｒｍａｘ）は、０．０２μｍ以下で
あることが好ましい。　Ｒ　ｍａｘがこの範囲であると
、ヘッドと媒体間で生じるスベーシングロスが減少し、
記録密度を高くすることができる。　Ｒ　ｍａｘが上記
範囲を超えると、十分な記録密度を得ることが困難であ
る。

上記のようなＲ　ｍａｘは、基体２の両面で実現してい
ることが好ましいが、少な《とも磁性層設層面で実現し
ていれば上記の効果は得られる。

なお、基体２中には、必要に応じ摩擦係数低減のために
フィラーが含有されていてもよい。

基体２の直径は用途に応じて適当な値を選択すればよく
、通常、５０〜１３０ｍｍ程度である。　また、基体２
の厚さは通常、７〜８０μｍ程度，特に２０〜５０μｍ
程度である。

基体２上には、軟磁性膜３が設けられる。

軟磁性膜３は、再生出力の向上のために設けられる。

軟磁性膜３の構成材質は、Ｆｅ−Ｎｉ系合金であること
が好ましい。

Ｆｅ−Ｎｉ系合金としては、Ｆｅ−Ｎｉ合金（パーマロ
イ）．Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、
Ｆｅ−Ｎｉ−Ｎｂ合金、Ｆｅ−Ｎ　ｉ−Ｍｎ−Ｃｕ合金
、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｏ−Ｎｂ合金、Ｆｅ−Ｎ　ｉ−Ｍｏ−
Ｃｕ合金、Ｆｅ−Ｎ　ｉ−Ｓ　ｉ−Ａｊ２合金等を好ま
しく用いることができる。

また、Ｆｅ−Ｎｉ系合金の他、Ｆｅ−Ｃｏ−■系合金も
好まし《用いることができる。

なお、これら合金には、必要に応じ、Ｔｉ、Ａｎ、Ｓｉ
．Ｍｎ．Ｃｕ．Ｔａ．Ｃ、０、Ｎ、Ａｒ％Ｃａ．Ｃｒ等
が含有されていてもよい。

軟磁性膜３の面内方向の保磁力は、６〜２００ｅである
ことが好ましい。　保磁力がこの範囲内であると、高い
再生出力が得られると共にモジュレーションが２０％以
下に低下する。

保磁力が上記範囲未満となると再生出力は向上するがモ
ジュレーシジンが太き《なり、上記範囲を超えるとモジ
ュレーションは小さ《なるが再生出力が低下してしまう
。

軟磁性膜３の膜厚は０．３〜０．５μｍであることが好
ましい。　膜厚がこの範囲未満であると生産性は向上す
るが十分な再生出力が得られず、この範囲を超えると再
生出力は高くなるが、成膜に時間を要し生産性が低下す
る。

なお、軟磁性膜３は、スパッタ法により成膜されること
が好ましい。

磁性層４は、気相成膜法により形成された垂直磁化膜で
ある。

このような垂直磁化膜としては、Ｃｏ−Ｃｒ系合金の気
相成長膜が好ましい。

Ｃｏ−Ｃｒ系合金としては、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｂ合金、Ｃ　ｏ　−　Ｃ　ｒ　−　Ｍ　ｎ合金、Ｃ
　ｏ　−　Ｃ　ｒ　−　Ｍ　ｎ　−　Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｓ　ｉ−ＡＱ合金等が好ま
しい。

なお、Ｃｏ−Ｃｒ系合金中のＣｒ含有率は、１６〜２３
ａｔ％程度であることが好ましい。

また、Ｃｏ−Ｃｒ系合金の他、Ｃｏ−Ｖ系合金も好まし
く用いることができる。

なお、これら合金には、必要に応じ、０、Ｎ．Ｓｔ．Ａ
Ｉ２、Ｍｎ，Ａｒ等が含有されていてもよい。

磁性層４の垂直方向保磁力は４０００ｅ以上であること
が好ましい。　垂直方向保磁力がこの範囲未満であると
、再生出力が不十分である。　なお、垂直方向保磁力の
上限は特にないが、通常１５０００ｅ程度まで容易に製
造することができる。

磁性層４の厚さは０．０５〜０．２μｍであることが好
ましい。　厚さがこの範囲未満であると再生出力が低下
し、Ｓ／Ｎが低下する。

また、この範囲を超えると記録密度が低下し、例えば記
録密度（Ｄａ。）が１　０　０　ＫＦＲＰＩに達しない
。

磁性層は、気相成膜法により形成されるが、特にスバッ
タ法により成膜されることが好ましい。

固体保護Ｎ５は、金属または半金属から選択される１種
以上の元素と、０とを含有し、通常、非品質状態にある
。

固体保護層５表面は、水との接触角が好ましくは８０’
以下、より好ましくは６０゜以下、さらに好ましくは４
０１以下とされる。

水との接触角をこのような範囲とすることにより、有磯
潤滑膜６の成膜を均一に行なうことができる。　特に、
有機潤滑膜を構成する有機化合物が液状である場合や、
極性基、親水性基，親水性部分などを有する場合、この
ような効果はより顕著となる。　なお、固体保護層５の
水との接触角は、通常８゜程度以上である。

水との接触角は、例えば、固体保護層表面に純水を滴下
して３０秒後に測定すればよい。　測定雰囲気は、１８
〜２３℃、４０〜６０％ＲＨ程度である。

固体保護暦５に含有される金属または半金属としては、
Ｙを含む希土類元素（Ｙ、ランタンイド元素およびアク
チノイド元素を意味し、以下、Ｒと略称する。），Ｓｉ
．Ａβ、Ｔｉ、ＺｎおよびＢが好ましく、これらのうち
ＲおよびＳＬを必須とするかＳｉおよびＡＩ２を必須と
して固体保護層５に含有させることが好ましい。

また、これらの元素の他、Ｆｅ．Ｍｇ、Ｃａ．Ｓｒ．Ｂ
ａ，Ａｒ，Ｍｎ等が全体のｌａｔ％以下程度含有されて
いてもよい。

さらに詳述すると、固体保護層５の組成は、下記の組成
■または組成ＩＩの範囲から選択することが好ましい。

！ＬｔＬ［金属または半金属としてＳｔおよびＡβを必
須とし、さらに０およびＮを含有するもの］ＳｉおよびＡＪ２は、通常、酸化物および窒化物の形で
含有される，固体保護層５中の上記化合物は、その組成において化学
量論的な組成比を外れていてよい。

これらの元素と酸素および窒素とを含有することにより
、耐食性が向上する。

組成Ｉにおける固体保護層５中の各元素の含有率は、下
記の範囲であることが好ましい。

Ｓ　Ｌ　：　２　０〜８　０ａｔ％、より好まし《は４０〜７０ａｔ％。

Ａｎａ１　〜３０ａｔ％、より好ましくは２〜１０ａｔ％。

０：２〜３０ａｔ％、より好ましくは２〜２０ａｔ％。

Ｎ：５〜４５ａｔ％、より好ましくは１５〜３５ａｔ％。

このような組成の固体保護層には、さらにＲが含有され
ることが好ましい。

Ｒとしては、Ｙおよびランタノイド元素が好ましい。

Ｒの含有率は，保護層中に含有されるＲ以外の金属また
は半金属元素と、ＯおよびＮとの合計を１００ａｔ％と
じたとき、好ましくは１〜１０ａｔ％、より好ましくは
２〜８ａｔ％である。

このような含有率にてＲを含有することにより、耐久性
、耐候性および耐食性がさらに向上し、特に耐久性は極
めて高いものとなる。

この組成におけるＲとしては．Ｙ．Ｌａ、Ｃｅ．Ｐｒ．
Ｎｄ，ＳｍおよびＥｕからなる群から選ばれた元素の１
種以上であることが好ましく、特にＹを必須とすること
が好ましい．　Ｒ中のＹの比率は、５０％以上であるこ
とが好ましい。

このとき耐久性、耐候性、耐食性等の面でより良好な結
果が得られる。

また、固体保護層５をスパッタ法により形成する際に、
用いるターゲットにこれらの元素を含有させることによ
り緻密なターゲットが得られ、その結果、ターゲットの
冷却効率が向上し、スバッタ時の輻射熱が抑えられる。

Ｒは、固体保護層５中にて元素単体あるいは化合物いず
れの形で含有されてもよい。　化合物として含有される
場合は、通常、酸化物の形で含有されることが好ましい
。

！ＬＩＬ［金属または半金属としてＲおよびＳｉを必須
とし、さらにＯおよびＮを含有するもの］この組成におけるＲとしては、少なくともＬａおよびＣ
ｅのうち一種以上が含まれることが好ましい。

ＬａおよびＣｅは、通常、酸化物として含有される。　
これらの酸化物の化学量論組成はそれぞれＬａ２’ｓお
よびＣ　ｅ　Ｏ　２であるが、これらから偏奇したもの
であってもよい。

ＣｅおよびＬａのはいずれが一方であってもよく、両者
が含有されてもよいが，両者が含有される場合、そのｍ
比は任意である。

また、Ｌａおよび／またはＣｅの他、Ｙを含む他の希土
類元素、例えばＹ．Ｅｒ等が含有されていてもよいが、
Ｒ中のＬａおよび／またはＣｅの比率は５０％以上であ
ることが好ましい。

固体保護層５中には、希土類元素の酸化物に加え、ＳＬ
が含有される。

ＳＬは、通常、酸化物および窒化物として含有されるが
、化学債論組成から偏奇していてもよい。

組成Ｉ■における固体保護層５中の各元素の含有率は、
下記の範囲であることが好ましい。

Ｓ　ｉ　：　１　０〜８　０ａｔ％、より好ましくは２０〜６０ａｔ％。

０：１０〜８０ａｔ％、より好ましくは１５〜６０ａｔ％。

Ｎ：２〜６０ａｔ％、より好まし《は３〜５０ａＬ％。

そして、Ｒの含有率は、保護層中に含有されるＲ以外の
金属または半金属元素と、０およびＮとの合計を１００
ａｔ％としたとき、好ましくは１〜１０ａｔ％、より好
ましくは２〜８ａｔ％である。

このような含有率にてＲを含有することにより、耐久性
、耐候性および耐食性が向上し，特に耐久性は極めて高
いものとなる。

なお、これらの組成の他、Ａβ２Ｊ等から構成される固
体保護層も用いることができる。

固体保護暦５中の各元素の含有率は、オージエ、ＥＳＣ
Ａ．ＳＩＭＳ等によって測定すればよい。

このような組成を有する固体保護層５の設暦は気相成膜
法により行なうことが好ましく、特にスパッタ法を用い
ることが好ましい。

スパッタ法としては、上記組成の焼結体をターゲットと
して用いてもよく、また、２種以上のターゲットを用い
る多元スパッタを用いてもよい。　さらに、反応性スパ
ッタを用いることもできる。

なお、希土類元素としてＬａおよび／またはＣｅを含有
させる場合、スパッタターゲットの少なくとも一部とし
て、発火合金であるアウェルメタル、ヒューバーメタル
、ミッシュメタル、ウエルスバッハメタル等の酸化物を
用いることもできる。

また、固体保護層５の設層には、その他の気相成膜法、
例えばＣＶＤ法、蒸着法、イオンブレーティング法等を
適宜用いることも可能である。

固体保護層５は、十分な耐久性を確保するためにビッカ
ース硬度が７　０　０　ｋｇｆ／ｍｍ２以上であること
が好ましいが、上記したような組成を選択すれば７　０
　０　ｋｇｆ／ｍｍ”以上のビッカース硬度が容易に得
られ、特にＲを含有する場合、１　０　０　０　ｋｇｆ
／ｍｍ”以上のビッカース硬度を得ることもできる。

固体保護ｆｆ５の厚さは、３０〜２００人、特に３０〜
１００人とすることが好ましい。　厚さが上記範囲未満
であると保護効果が不十分であり、上記範囲を超えると
スベーシングロスが増加して記録密度を向上させること
ができない。

このような固体保護店上には、潤滑膜６が設けられるこ
とが好ましい。

潤滑膜は有機化合物を含有することが好ましく、特に極
性基ないし親水性基，あるいは親水性部分を有する有機
化合物を含有することが好ましい。

用いる有機化合物に特に制限はなく、また、液体であっ
ても固体であってもよ《、フッ素系有機化合物、例えば
欧州特許公開第０　１　６５６５０号およびその対応日
本出願である特開昭６１−４７２Ｔ号公報、欧州特許公
開第０１６５６４９号およびその対応日本出願である特
開昭６１−１５５３４５号公報等に記載されているよう
なパーフルオロボリエーテル、あるいは公知の各種脂肪
酸、各種エステル、各種アルコール等から適当なものを
選択すればよい。

潤滑膜の成膜方法に特に制限はな《、塗布法等を用いれ
ばよい。

潤滑膜の表面は、水との接触角が７０゜以上、特に９０
゜以上であることが好ましい。

このような接触角を有することにより．磁気ヘッドと磁
気ディスクとの吸着が防止され、高い走行安定性が得ら
れる。

潤滑膜６の膜厚は５〜５０人、特に１０〜４０人である
ことが好ましい。　膜厚がこの範囲未満であると潤滑効
果が不十分であり、この範囲を超えるとかえって摩擦を
増加させてしまう。

なお、リング状プラスチックフィルムを貼着した後に潤
滑膜を成膜してもよく、潤滑膜を成膜した後に貼着され
る部分の潤滑膜を拭き取ってからリング状プラスチック
フィルムを貼着してもよい。

本発明の磁気ディスクの記録再生に用いられる垂直記録
型磁気ヘッドに特に制限はないが、上記構成を有する磁
気ディスクは薄膜型垂直磁気ヘッドと組合せて使用した
場合に、特にヘッド摩耗防止効果を発揮する。　薄膜型
磁気ヘッドとしては、Ａε２０ｓ−Ｔｉｃ等のセラミク
ス製基体上にＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系アモルファス等の金属
製磁極を形成し、さらにＡρ２０３等の無機保護膜を被
覆したものを用いることが好ましい。

く実施例〉以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

［実施例ｌ］第４図に示す構成のディスク本体を作製した。　各部の
構成の詳細を以下に示す。

［基体］ヤング率９　０　０　ｋｇｆ／ｍｍ”　　表面粗さ（Ｒ
ｍａｘ　）　Ｏ．　Ｏ　ｌ　５　μｍのポリイミドを用
いた。

なお、基体の線膨張係数は、約ＩＸＩＯｄｅ（　’であ
った。

基体の直径および厚さを、下記表１に示す。

［軟磁性膜］２％０２を含む２Ｘ１０−’ＰａのＡｒ雰囲気中で、Ｄ
Ｃマグネトロンスパッタ法により８０ａｔ％Ｎｉ−Ｆｅ
合金を厚さ０．４５ｇｍに成膜して形成した。

軟磁性膜の線膨張係数は、約ＩＸＩＯ−’ｄｅｇ”　’
であった。　また、その面内方向の保磁力は、９　　０
ｅであった。

［磁性層］ＤＣマグネトロンスパック法により２０ａｔ％Ｃｒ−Ｇ
ｏ合金を厚さ０．１８４ｚｍに成膜して形成した。　成
膜時の雰囲気は、軟磁性膜形成の際と同様とした。

磁性層の線膨張係数は、約ＩＸＩＯｄｅｇ−　’であった。　また、その垂直方向の保磁力
は、７２００ｅであった。

なお、軟磁性膜および磁性層設層時に、ターゲットから
の輻射熱により基体およびこれらの膜は加熱された。

？固体保護層］２％０■を含むＩＸＩＯ−’ＰａのＡｒ雰囲気中で、Ｒ
Ｆマグネトロンスパツタ法により、５１Ｓｉ−３Ａｆｆ
ｉ−１５０−３１Ｎ−３Ｙ　　（ただし、数字は原子比
を表わす。）の組成を有する固体保護層を厚さ０．０１
μｍに形成した。　なお、スパッタに用いたターゲット
は、固体保護層に対応する組成を有する焼結体を用いた
。

固体保護層のビッカース硬度は、９５０ｋｇｆ／ｍｍ″
であった。　なお、ビツカース硬度は、磁気ディスクサ
ンプルの固体保護層と同条件で２μｍの厚さに形成した
膜で測定した。

［潤滑膜］下記式で表わされる分子量２０００の化合物の０．１ｗ
ｔ％溶液を用いて、スビンコート法により厚さ２０人に
成膜して形成した。

この潤滑膜表面の水との接触角（水を滴下して３０秒後
）は、１００”であった。

（式）１１０ｃＨ２−ＣＦ２−０｛−Ｃ２Ｆ．−０｝−｛−Ｃ
Ｆ．−０チー叩．−ＣＨ２−０１１ｎ　　　　　　　　
　　ｍこのディスク本体の両主面外周部の潤滑膜を拭き取った
後、第６図に示す装置を用いてリング状プラスチックフ
ィルムを両主面外周部に貼着し、第３図に示すような磁
気ディスクサンプルを得た。

接着剤層およびリング状プラスチックフィルムの詳細を
、以下に示す。

［接着剤Ｈ］接着剤としてアクリル酸エステルを用い、塗布法により
成膜した。

接着剤層の厚さを表１に示す。

［リング状プラスチックフィルム］上記接着剤店を有するヤング率５００ｋｇｆ／ｍｍ”のＰＥＴフィルムを、第５図に示す装置
を用いてリング状に打ち抜いて作製した。

リング状プラスチックフィルムの厚さ、外径および半径
方向の幅を、表１に示す。

なお、比較のために、リング状プラスチックフィルムを
有しない磁気ディスクサンプルも作製した。

得られた各磁気ディスクを，垂直磁気記録用のフロッピ
ーディスクドライブに実装し、ＫＯＤＥ社製ＴＩＡ３１
００にてエラーレートを測定した。

磁気ヘッドには、磁極厚０．２μｍ．磁極幅５０μｍの
主磁極励磁型単磁極薄膜ヘッドを用い、負荷は１０ｇ、
摺動速度は２　ｍ　／　ｓとした。　薄膜ヘッドは、Ａ
ｆｌａ　０３　−Ｔ　ｉ　Ｃ基体上にＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ
アモルファス磁極およびＡ　ｉｔ　ｘ　Ｏ　ｓ保護膜を
スバッタ法により形成したものを用いた。

なお、磁気ディスクの片面のトラック数は、最外周のト
ラック０から最内周のトラック１３９までの１４０本で
あり、エラーレートの測定は第７０トラックにて行なっ
た。

表１に示す評価基準は、以下のとおりである。

０：１０−”未満 ○：ｌ〇一目以上１０−ａ未満 △：１０−８以上１０−’未満Ｘ：ｌＯ弓以上結果を表１に示す。

また、表１に示すサンプルＮｏ．１、３および５の第７
０トラックの再生出力変動を測定した。　第８図、第９
図および第ｌＯ図に、それぞれサンプルＮｏ．１．Ｎｏ
．３およびＮｏ．５の再生出力のエンベローブを示すオ
シロスコープ写真のトレース図を示す。

これらの図から、本発明のサンプルＮｏ．３では再生出
力変動が小さいことが明らかである。　これに対し、比
較サンプルでは再生出力の変動が太き《、これによりエ
ラーレートが増大したと考えられる。

なお、これらのサンプルにつき、第０トラックおよび第
１３９トラックの再生出力変動を測定したところ、本発
明のサンプルＮｏ．３では第９図と同様に出力変動が小
さいものであったが、サンプルＮｏ．ｌおよび５では、
第８図および第１０図と同様に出力変動が生じていた。

［実施例２］上記のリング状プラスチックフィルムをディスク本体の
一方の主面にだけ接着した磁気ディスクサンプルを作製
し、上記と同様な測定を行なった。

これらのサンプルの各部の寸法を、表２に示す。

結果を表２に示す。

以上の実施例から、本発明の効果が明らかである。

く発明の効果〉本発明によれば、走行性が良好で、全トラックに亙って
再生出力変動およびエラーレートが極めて小さい磁気デ
ィスクが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図および第３図は、本発明の磁気ディスク
の好適実施例を示す部分端面図である。第４図は、ディスク本体の好適例を示す部分断面図であ
る。第５図は、リング状プラスチックフィルムの製造に用い
る装置の１例を示す部分断面図である。第６図および第７図は、リング状プラスチックフィルム
をディスク本体に接着する際に用いる装置の部分断面図
である。第８図、第９図および第１０図は、磁気ディスクの再生
出力を示すオシロスコープ写真のトレース図である。第１１図は、従来の磁気ディスクの構造を示す平面図で
ある。第１２図は、第１１図のＸｌｌ−Ｘｌｌ線断面図である
。符号の説明１・・・磁気ディスク２・・・基体３・・・軟磁性膜４・・・磁性層５・・・固体保護層６・・・潤滑膜１ｌ・・・ディスク本体１２・・・リング状プラスチックフィルム１３・・・接
着剤層２０・・・上型２１、２２・・・カッター２３・・・下型２４・・・クッションシ一ト２５・・・積層体２６・・・易剥離紙３０・・・台座３１・・・ガイド部材３２・・・円形開口３３・・・小孔３４・・・上型３５円形突起１００・・・磁気記録媒体１０２・・・高分子フィルム１０３・・・金属薄膜１０４、１０５・・・プラスチックフィルムＦ　Ｉ　Ｇ
，　４ＦＩＧ，３ＦＩＧ，５ ↓ ＦＩＧ，７ η ＦＩＧ，１１Ｆ　Ｉ　Ｇ．　１２ＦＩＧ．８Ｌ一一一一１０ｍ髪Ｃ晴間Ｌ一−ユ」１０ｍｓｅｃ時間１０ｍｓｅｃ晴間千糸売ネ…正書（自発）平成元価月７日

Claims

【特許請求の範囲】

（１）可撓性の基体の少なくとも一方の主面上に磁性層
を有する磁気ディスクにおいて、両主面の外周部にリング状プラスチックフィルムが固着
されており、このリング状プラスチックフィルムの厚さ
をｔ＿１（μｍ）とし、前記基体の厚さをＴ（μｍ）と
したとき、Ｔ−２０≦ｔ＿１≦Ｔ＋４０かつｔ＿１≧１０であるこ
とを特徴とする磁気ディスク。
（２）可撓性の基体の少なくとも一方の主面上に磁性層
を有する磁気ディスクにおいて、一方の主面の外周部にリング状プラスチックフィルムが
固着されており、このリング状プラスチックフィルムの
厚さをｔ＿２（μｍ）とし、前記基体の厚さをＴ（μｍ
）としたとき、２Ｔ−４０≦ｔ＿２≦２Ｔ＋８０かつｔ＿２≧２０であることを特徴とする磁気ディスク。
（３）前記基体の厚さが１５〜１１０μｍである請求項
１または２に記載の磁気ディスク。
（４）前記固着が接着剤層により行なわれ、この接着剤
層の厚さが１０〜７５μｍである請求項１ないし３のい
ずれかに記載の磁気ディスク。
（５）前記リング状プラスチックフィルムが無機充填剤
粉末を含有している請求項１ないし４のいずれかに記載
の磁気ディスク。
（６）前記磁性層が気相成膜法により形成された垂直磁
化膜である請求項１ないし５のいずれかに記載の磁気デ
ィスク。
（７）前記基体と前記磁性層との間に、気相成膜法によ
り形成された軟磁性膜を有する請求項６に記載の磁気デ
ィスク。
（８）金属ないし半金属から選択された１種以上の元素
と酸素とを少なくとも含有し、気相成膜法により形成さ
れた固体保護膜を前記磁性層上に有する請求項６または
７に記載の磁気ディスク。
（９）有機化合物を含有する潤滑膜を前記固体保護層上
に有する請求項６ないし８のいずれかに記載の磁気ディ
スク。