JPH02297004A - 試料ステージの位置を調節するための支持構造体及びその調節装置 - Google Patents
試料ステージの位置を調節するための支持構造体及びその調節装置Info
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- JPH02297004A JPH02297004A JP2110656A JP11065690A JPH02297004A JP H02297004 A JPH02297004 A JP H02297004A JP 2110656 A JP2110656 A JP 2110656A JP 11065690 A JP11065690 A JP 11065690A JP H02297004 A JPH02297004 A JP H02297004A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
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- G01Q60/10—STM [Scanning Tunnelling Microscopy] or apparatus therefor, e.g. STM probes
- G01Q60/16—Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
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- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
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- G—PHYSICS
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- Y10S977/861—Scanning tunneling probe
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
A、産業上の利用分野
本発明は、走査型トンネリング顕微鏡の試料ステージの
全体的移動を制御する装置に関するものであり、詳細に
は、走査型トンネリング顕微鏡の試料ステージが軸方向
に剛性の線ばねを介して支持構造体に強固に取り付けら
れた、配置構成に関するものである。
全体的移動を制御する装置に関するものであり、詳細に
は、走査型トンネリング顕微鏡の試料ステージが軸方向
に剛性の線ばねを介して支持構造体に強固に取り付けら
れた、配置構成に関するものである。
B、従来の技術
走査型トンネリング顕微鏡(STM)のステージは、一
般に、顕微鏡のニードルの下に試料を置くためのもので
ある。試料を正確に置くことの許容誤差はきわめて小さ
いので、ステージの位置は、一般に粗調整及び微調整に
より調節できる。微調整は、試料の走査される領域がニ
ードルの真下で、ニードルから所定の距離の位置にくる
ように、試料を走査ニードルに対して正確に位置決めす
るために用いる。粗調整機構は、試料へのアクセスが可
能なように設計されている。試料をSTMステージ上に
置くと、粗調整機構がステージを、微調整により試料を
ニードルの下に正確に位置決めできる位置まで移動させ
る。微調整は通常、ニードルの位置を調節することによ
り行なう。
般に、顕微鏡のニードルの下に試料を置くためのもので
ある。試料を正確に置くことの許容誤差はきわめて小さ
いので、ステージの位置は、一般に粗調整及び微調整に
より調節できる。微調整は、試料の走査される領域がニ
ードルの真下で、ニードルから所定の距離の位置にくる
ように、試料を走査ニードルに対して正確に位置決めす
るために用いる。粗調整機構は、試料へのアクセスが可
能なように設計されている。試料をSTMステージ上に
置くと、粗調整機構がステージを、微調整により試料を
ニードルの下に正確に位置決めできる位置まで移動させ
る。微調整は通常、ニードルの位置を調節することによ
り行なう。
従来の走査型トンネリング顕微鏡のステージの設計は、
粗調整には圧電気または磁気ステッピング装置を利用し
ていた。コープ(Corb )等の論文「走査型トンネ
リング顕微鏡の電磁位置決め装置(An Electr
omagnetic Mfcroscopic Pos
itioningDevice for the
Scanning Tunneling旧cros
cope) J、J、APPL、PHYS、 、Vof
、58、No、11 (1985年12月)に、磁気粗
位置決め装置が記載されている。圧電気または磁気ステ
ッピング装置を利用した設計では、必要とされる機械的
剛性は得られるが、移動が1次元または2次元の限定さ
れていた。機械的運動に基づく他の全体的調節の設計は
、板ばね、摺動装置、または板ばねと摺動装置の組合せ
を使用するものであった。これらの装置はいずれも必要
とされる機械的剛性は得られるが、制限があり、限定さ
れた移動しかできず、信頼度が低く、環境条件(たとえ
ばごみ)に影響されやす<、シかもその移動は一般に再
現性に乏しい。
粗調整には圧電気または磁気ステッピング装置を利用し
ていた。コープ(Corb )等の論文「走査型トンネ
リング顕微鏡の電磁位置決め装置(An Electr
omagnetic Mfcroscopic Pos
itioningDevice for the
Scanning Tunneling旧cros
cope) J、J、APPL、PHYS、 、Vof
、58、No、11 (1985年12月)に、磁気粗
位置決め装置が記載されている。圧電気または磁気ステ
ッピング装置を利用した設計では、必要とされる機械的
剛性は得られるが、移動が1次元または2次元の限定さ
れていた。機械的運動に基づく他の全体的調節の設計は
、板ばね、摺動装置、または板ばねと摺動装置の組合せ
を使用するものであった。これらの装置はいずれも必要
とされる機械的剛性は得られるが、制限があり、限定さ
れた移動しかできず、信頼度が低く、環境条件(たとえ
ばごみ)に影響されやす<、シかもその移動は一般に再
現性に乏しい。
従来の技術による設計、たとえば、ソ連特許第E382
751号明細書に記載されている装置では、位置の調節
は、スクリュー機構を使用して、支持構造体を摺動させ
ることにより行なう。この種の設計は、環境条件に影響
されやすい。たとえば、ごみは、非直線的な再現性のな
い移動の原因となりやすい。また、摺動装置は、摺動点
における摩擦によってステージ部の自由な移動が妨げら
れる傾向があるため、がたの原因となりやすい。
751号明細書に記載されている装置では、位置の調節
は、スクリュー機構を使用して、支持構造体を摺動させ
ることにより行なう。この種の設計は、環境条件に影響
されやすい。たとえば、ごみは、非直線的な再現性のな
い移動の原因となりやすい。また、摺動装置は、摺動点
における摩擦によってステージ部の自由な移動が妨げら
れる傾向があるため、がたの原因となりやすい。
米国特許第4635887号明細書は、別のステージ調
節機構を記載している。上記の特許では、一連の中間支
持構造体と共に移動する調節スクリューを取り付けて、
外部ステージに3次元の移動を行なわせている。柔軟性
のばねを支持する壁面は浮き上がっている。ステージの
最終位置は、一連の曲げ部材を含む長い機械的経路を経
て、メイン・ステージ(フレーム)に接続されている。
節機構を記載している。上記の特許では、一連の中間支
持構造体と共に移動する調節スクリューを取り付けて、
外部ステージに3次元の移動を行なわせている。柔軟性
のばねを支持する壁面は浮き上がっている。ステージの
最終位置は、一連の曲げ部材を含む長い機械的経路を経
て、メイン・ステージ(フレーム)に接続されている。
この装置は、振動の影響を受けやすく、位置の精度及び
熱安定性が低いという欠点がある。
熱安定性が低いという欠点がある。
アロンシュタイン(Aronstein )及びホルム
ストローム(tlo 1mstrom )の論文「無摩
擦X、Y。
ストローム(tlo 1mstrom )の論文「無摩
擦X、Y。
Z及びθ微細位置決めテーブル(Frictionle
ssL Y、 Z and Theta Microp
ositioning Table) J、IBMテク
ニカル・ディスクロージャ・プルテン、Vol、15、
No、12 (1973年5月)には、第1の方向には
フレキシブルで、このフレキシブルな方向に対して垂直
な90度の支持方向には剛性の圧電式支持体を使用する
、微細位置決めテーブルが記載されている。これらの支
持体は可動ステージを取り付けるために使用されている
。
ssL Y、 Z and Theta Microp
ositioning Table) J、IBMテク
ニカル・ディスクロージャ・プルテン、Vol、15、
No、12 (1973年5月)には、第1の方向には
フレキシブルで、このフレキシブルな方向に対して垂直
な90度の支持方向には剛性の圧電式支持体を使用する
、微細位置決めテーブルが記載されている。これらの支
持体は可動ステージを取り付けるために使用されている
。
この装置を使って行なえる全体的位置決めは、圧電式駆
動であるため、範囲が限定されている。さらに、取付け
の性質上、振動に弱い。また、分離した曲げ支持体は、
固定フレームに基準づけされていない。
動であるため、範囲が限定されている。さらに、取付け
の性質上、振動に弱い。また、分離した曲げ支持体は、
固定フレームに基準づけされていない。
B、マイケル(旧chel)及びG、トラパリ一二(T
ravaglini)の論文「生物学用途におけるST
M:バイオスコープ(An STM for Biol
ogicalApplications: BIOSC
OPE) J 、第3回走査型トンネリング顕微鏡国際
会議(the Th1rdInternational
Conference on ScanningTu
nneling Microscopy) N英国オッ
クスフォード、1988年7月4〜8日では、3枚の精
密機械加工及び研磨したサファイア板を必要とする摺動
ステージを使用して、3次元の粗い移動を行なっている
。マイクロメータが、サファイアの鏡面を宵する垂直に
切断したブロックを摺動して、X、Y。
ravaglini)の論文「生物学用途におけるST
M:バイオスコープ(An STM for Biol
ogicalApplications: BIOSC
OPE) J 、第3回走査型トンネリング顕微鏡国際
会議(the Th1rdInternational
Conference on ScanningTu
nneling Microscopy) N英国オッ
クスフォード、1988年7月4〜8日では、3枚の精
密機械加工及び研磨したサファイア板を必要とする摺動
ステージを使用して、3次元の粗い移動を行なっている
。マイクロメータが、サファイアの鏡面を宵する垂直に
切断したブロックを摺動して、X、Y。
Z方向の移動を行なう。この場合も、摺動のため、この
装置は環境条件の影響を受けやすい。
装置は環境条件の影響を受けやすい。
ビニツヒ(Binnig)及びローラー(Rohrer
)による走査型トンネリング顕微鏡(STM)の発明
(「走査型トンネリング顕微鏡法(ScanningT
unneling Microscopy) J 11
B Mジャーナル0オブ・リサーチ・アンド・ディベ
ロップメント(IBM J、 Res、 Develo
p、) 、Vo 1.30 (1986年)、pp、3
55〜369、参照)以来、試料の粗い位置決めの問題
は未解決のままである。
)による走査型トンネリング顕微鏡(STM)の発明
(「走査型トンネリング顕微鏡法(ScanningT
unneling Microscopy) J 11
B Mジャーナル0オブ・リサーチ・アンド・ディベ
ロップメント(IBM J、 Res、 Develo
p、) 、Vo 1.30 (1986年)、pp、3
55〜369、参照)以来、試料の粗い位置決めの問題
は未解決のままである。
従来のx−y−zステージが大型で、3つの自由度を必
要とすることにより、固有の熱的・機械的不安定性が生
じる。このため、測定で振動と熱によるドリフトを補償
する必要がある。
要とすることにより、固有の熱的・機械的不安定性が生
じる。このため、測定で振動と熱によるドリフトを補償
する必要がある。
C2発明が解決しようとする課題
2方向(X方向及びY方向)に限定された粗位置決め装
置の第1の問題(欠点)は、チップが試料にうまくアク
セスできないことである。さらに、位置決めを圧電素子
で行なう場合は、移動の方向と大きさが予測できない。
置の第1の問題(欠点)は、チップが試料にうまくアク
セスできないことである。さらに、位置決めを圧電素子
で行なう場合は、移動の方向と大きさが予測できない。
また、はとんどの粗位置決め装置は、手動操作のため、
データ獲得ソフトウェアによる制御ができない。
データ獲得ソフトウェアによる制御ができない。
従来の位置決め装置のもう1つの問題は、すべての移動
を固定支持構造体に直接基準づけできないことである。
を固定支持構造体に直接基準づけできないことである。
STM応用分野で必要とされる精度を得るには、3方向
すべての調節機構を、固定支持構造体に直接基準づけす
る必要がある。
すべての調節機構を、固定支持構造体に直接基準づけす
る必要がある。
他の問題は、STM技術を生物学分野に適用することに
関連するものである。これまでSTMのほとんどの応用
分野では、圧電式微調節装置の範囲内に含まれる微小な
反復構造を扱うことが多かった。このような応用分野で
は、信頼性の低い粗位置決め装置も、大きな欠点とはな
らなかった。しかし、生物学分野では、構造ははるかに
密度が低くしかも特異的であり、圧電微調節装置の範囲
内で特定の特徴的形状を位置決めできる機会はきわめて
少ない。
関連するものである。これまでSTMのほとんどの応用
分野では、圧電式微調節装置の範囲内に含まれる微小な
反復構造を扱うことが多かった。このような応用分野で
は、信頼性の低い粗位置決め装置も、大きな欠点とはな
らなかった。しかし、生物学分野では、構造ははるかに
密度が低くしかも特異的であり、圧電微調節装置の範囲
内で特定の特徴的形状を位置決めできる機会はきわめて
少ない。
したがって、改良された粗調節機構は、比較的大きいス
テップで、ステージを移動させるための信頼性の高い装
置を含むものとなることがわかるはずである。このよう
な機構は、さらにs’rMニードルから、微調節機構を
作動させるのに十分なほど小さい所定の距離内で、ステ
ージを正確に再現性良く移動させる手段を含むものとな
る。このような機構は、さらに振動の伝達及び増幅を減
少させるため、ステージを剛性のベースに接続する手段
を含むものとなる。さらに、このような機構は、最小の
相互接続装置を用いて機械的調節手段を粗調節に適合さ
せるための手段を含むものとなる。
テップで、ステージを移動させるための信頼性の高い装
置を含むものとなることがわかるはずである。このよう
な機構は、さらにs’rMニードルから、微調節機構を
作動させるのに十分なほど小さい所定の距離内で、ステ
ージを正確に再現性良く移動させる手段を含むものとな
る。このような機構は、さらに振動の伝達及び増幅を減
少させるため、ステージを剛性のベースに接続する手段
を含むものとなる。さらに、このような機構は、最小の
相互接続装置を用いて機械的調節手段を粗調節に適合さ
せるための手段を含むものとなる。
また、このような装置は、摺動手段は含まない。
本発明によれば、装置が外部の振動の影響を受けないよ
うに維持しながら、走査型トンネリング顕微鏡中で試料
のX、Y及びZ方向のきわめて精密な機械的移動を実現
することができる。さらに、本発明によれば、3次元で
比較的広範囲の移動を実現することができる。
うに維持しながら、走査型トンネリング顕微鏡中で試料
のX、Y及びZ方向のきわめて精密な機械的移動を実現
することができる。さらに、本発明によれば、3次元で
比較的広範囲の移動を実現することができる。
本発明の、目的は、走査型トンネリング顕微鏡のステー
ジの粗調節のための装置を提供することにある。
ジの粗調節のための装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、ステージに伝達される振動を減少
させる粗調節機構を提供することにある。
させる粗調節機構を提供することにある。
本発明の他の目的は、ステージ部材を支持し、スクリュ
ー機構からステージへ移動を伝達する、軸方向に剛性の
ばねを含む粗調節機構を提供することにある。
ー機構からステージへ移動を伝達する、軸方向に剛性の
ばねを含む粗調節機構を提供することにある。
01課題を解決するための手段
本明細書では、改良された粗位置合わせシステムを有し
、走査面積の大きいSTMを提示する。
、走査面積の大きいSTMを提示する。
この装置を使用すれば、大型の試料上の所望の領域を短
時間で位置決めすることが可能である。
時間で位置決めすることが可能である。
本発明は、走査型トンネリング顕微鏡のステージの粗調
節のための改良された機構に関するものである。本発明
では、強固に取り付けたマイクロメータ調節装置からの
運動を伝達する板ばねアセンブリに取り付けた剛性の線
ばねを介して伝達される力により、ステージを移動させ
る。本発明の粗調節機構は、現在STM応用分野で使用
できる粗調節機構に比べて性能が改善される。
節のための改良された機構に関するものである。本発明
では、強固に取り付けたマイクロメータ調節装置からの
運動を伝達する板ばねアセンブリに取り付けた剛性の線
ばねを介して伝達される力により、ステージを移動させ
る。本発明の粗調節機構は、現在STM応用分野で使用
できる粗調節機構に比べて性能が改善される。
詳細に述べれば、本発明は、たとえばステージの1つの
面に接続された線ばね等の、第1組の4本の軸方向に剛
性の支持部材を有するSTMステージ等の、ステージ支
持構造体の調節のための装置である。この支持部材は、
ステージのその面に垂直に強固に取り付けられている。
面に接続された線ばね等の、第1組の4本の軸方向に剛
性の支持部材を有するSTMステージ等の、ステージ支
持構造体の調節のための装置である。この支持部材は、
ステージのその面に垂直に強固に取り付けられている。
ステージ部材とは反対側の支持部材の端部は、第1のば
ね、たとえば板ばねに強固に取り付けられている。第1
のばねは、支持構造体の第1の壁面上に、またはこれと
平行に強固に取り付けられている。支持構造体の第2の
壁面は、第1の壁面に垂直に、かつ第1組の支持部材に
平行に設けられている。第2の壁面は、第2組の剛性支
持部材によってステージ部材の一側面に接続された第2
のばね、たとえば板ばねを支持する。支持構造体の第3
の壁面は、第1及び第2の側面の両方に垂直に、かつ第
1組の支持手段に平行に設けられている。第3の壁面は
1、第2組の支持部材に接続された側面に垂直なステー
ジ部材の側面に第3組の支持部材によって接続された第
3のばね、たとえば板ばねを支持する。スクリュー機構
、たとえばマイクロメータが、3つの壁面のそれぞれに
接続されて、スクリュー機構を調節すると板ばねの運動
が生じて、それが剛性の支持部材を介してステージに伝
達されるようになっている。
ね、たとえば板ばねに強固に取り付けられている。第1
のばねは、支持構造体の第1の壁面上に、またはこれと
平行に強固に取り付けられている。支持構造体の第2の
壁面は、第1の壁面に垂直に、かつ第1組の支持部材に
平行に設けられている。第2の壁面は、第2組の剛性支
持部材によってステージ部材の一側面に接続された第2
のばね、たとえば板ばねを支持する。支持構造体の第3
の壁面は、第1及び第2の側面の両方に垂直に、かつ第
1組の支持手段に平行に設けられている。第3の壁面は
1、第2組の支持部材に接続された側面に垂直なステー
ジ部材の側面に第3組の支持部材によって接続された第
3のばね、たとえば板ばねを支持する。スクリュー機構
、たとえばマイクロメータが、3つの壁面のそれぞれに
接続されて、スクリュー機構を調節すると板ばねの運動
が生じて、それが剛性の支持部材を介してステージに伝
達されるようになっている。
本発明の他の実施例では、もう1組の支持部材が、ステ
ージ部材の、第1組の支持部材が接続された面とは反対
の面に接続されている。第4組の支持部材の、ステージ
部材に接続されていない端部は、第1の壁面に平行でそ
れと対向し、第2及び第3の壁面に垂直な支持構造体の
第4の壁面上に、またはこれと平行に取り付けられたば
ね、たとえば板ばねに接続されている。
ージ部材の、第1組の支持部材が接続された面とは反対
の面に接続されている。第4組の支持部材の、ステージ
部材に接続されていない端部は、第1の壁面に平行でそ
れと対向し、第2及び第3の壁面に垂直な支持構造体の
第4の壁面上に、またはこれと平行に取り付けられたば
ね、たとえば板ばねに接続されている。
本発明の他の実施例では、第4、第5及び第6組のマイ
クロメータ・スクリューが、それぞれ支持構造体の、第
1、第2及び第3の壁面に対向する壁面に取り付けられ
ている。第4、第5及び第6組のマイクロメータ・スク
リューは、それぞれ第4、第5及び第6の壁面に取り付
けた第4、第5及び第6の板ばねに接触している。第4
、第5及び第6の軸方向に剛性の支持部材に接触する第
4、第5及び第6の板ばねは、ステージの、それぞれ第
1、第2及び第3の軸方向に剛性の支持部材とは反対の
側面でステージに取り付けられている。このように、た
とえば第1のマイクロメータ・スクリューの調節による
第1の方向の移動は、第4のマイクロメータ・スクリュ
ーと第4の板ばねと第4の軸方向に剛性の部材の組合せ
により妨害される。第2及び第3の方向の運動も、同様
に反対の組のマイクロメータ・スクリューと板ばねと軸
方向に剛性の支持部材により妨害される。
クロメータ・スクリューが、それぞれ支持構造体の、第
1、第2及び第3の壁面に対向する壁面に取り付けられ
ている。第4、第5及び第6組のマイクロメータ・スク
リューは、それぞれ第4、第5及び第6の壁面に取り付
けた第4、第5及び第6の板ばねに接触している。第4
、第5及び第6の軸方向に剛性の支持部材に接触する第
4、第5及び第6の板ばねは、ステージの、それぞれ第
1、第2及び第3の軸方向に剛性の支持部材とは反対の
側面でステージに取り付けられている。このように、た
とえば第1のマイクロメータ・スクリューの調節による
第1の方向の移動は、第4のマイクロメータ・スクリュ
ーと第4の板ばねと第4の軸方向に剛性の部材の組合せ
により妨害される。第2及び第3の方向の運動も、同様
に反対の組のマイクロメータ・スクリューと板ばねと軸
方向に剛性の支持部材により妨害される。
E、実施例
本発明は、STMステージ自体の全体的移動を制御する
装置に関するものであり、STMニードルの微調整は、
たとえば、ビーニッヒ(Btnnig)等の論文「走査
型トンネリング顕微鏡(ScanningTunnel
ing Microscopy) J )Physic
az ElsevierScience Publis
herss B、 V、 (127B) 、1984
年、p、38の第1C図に示すような、圧電式駆動装置
により行なうことができる。上記の論文を引用により本
明細書に合体する。他の周知の圧電管設計も、STMニ
ードルの位置決めに使用することができる。
装置に関するものであり、STMニードルの微調整は、
たとえば、ビーニッヒ(Btnnig)等の論文「走査
型トンネリング顕微鏡(ScanningTunnel
ing Microscopy) J )Physic
az ElsevierScience Publis
herss B、 V、 (127B) 、1984
年、p、38の第1C図に示すような、圧電式駆動装置
により行なうことができる。上記の論文を引用により本
明細書に合体する。他の周知の圧電管設計も、STMニ
ードルの位置決めに使用することができる。
本発明の1実施例による、走査型トンネリング顕微鏡ニ
ードル72及び圧電管73を含む機械的ステージを第1
図に示す。試料ステージ13は、第1の線(ワイヤ)ば
ね10により、板(リーフ)ばね40に接続されている
。板ばね40は、第1のマイクロメータ・スクリュー4
4により、Z方向に駆動される。マイクロメータ・スク
リュー44の代りに、たとえば油圧ピストンまたは圧電
結晶等、軸方向に剛性の支持部材に平行な方向で移動を
実現するどんな線形位置決め装置を使用してもよい。線
ばね10は、軸方向には剛性を有するが、横方向には柔
軟な4本のまっすぐな針金からなるものが好ましい。し
かし、たとえば、断面が円形または楕円形の部材等、主
軸方向には剛性で、主軸に垂直な方向には柔軟などんな
支持部材でもよい。マイクロメータ・スクリュー44は
、支持フレーム48の主壁面46を貫通してねじこまれ
る。第1の側壁68に第2のマイクロメータ・スクリュ
ー52を追加して、ステージのX方向の移動を制御する
ことができる。第2のマイクロメータ・スクリュー52
は、第2の線ばねθ4を介して資料ステージ13に接続
された、第2の板ばね60に支えられている。第2のマ
イクロメータ・スクリュー52も、支持構造体の動作を
変えることなく、容易に第2の側壁56に追加すること
ができる。
ードル72及び圧電管73を含む機械的ステージを第1
図に示す。試料ステージ13は、第1の線(ワイヤ)ば
ね10により、板(リーフ)ばね40に接続されている
。板ばね40は、第1のマイクロメータ・スクリュー4
4により、Z方向に駆動される。マイクロメータ・スク
リュー44の代りに、たとえば油圧ピストンまたは圧電
結晶等、軸方向に剛性の支持部材に平行な方向で移動を
実現するどんな線形位置決め装置を使用してもよい。線
ばね10は、軸方向には剛性を有するが、横方向には柔
軟な4本のまっすぐな針金からなるものが好ましい。し
かし、たとえば、断面が円形または楕円形の部材等、主
軸方向には剛性で、主軸に垂直な方向には柔軟などんな
支持部材でもよい。マイクロメータ・スクリュー44は
、支持フレーム48の主壁面46を貫通してねじこまれ
る。第1の側壁68に第2のマイクロメータ・スクリュ
ー52を追加して、ステージのX方向の移動を制御する
ことができる。第2のマイクロメータ・スクリュー52
は、第2の線ばねθ4を介して資料ステージ13に接続
された、第2の板ばね60に支えられている。第2のマ
イクロメータ・スクリュー52も、支持構造体の動作を
変えることなく、容易に第2の側壁56に追加すること
ができる。
第2図は、第1図の実施例を右側から見た切欠図で、第
3の側壁76を示す。第3の側壁76は、第3のマイク
ロメータ・スクリュー80及び第3の板ばね84を有す
る。第3のマイクロメータ・スクリュー80は、線ばね
88を介して試料ステージ13に取り付けられた第3の
板ばね84を押すことにより、試料ステージ13をX方
向に移動させる。線ばね64及び88は、軸方向には剛
性で、横方向には柔軟な1対の針金からなるものが好ま
しい。しかし、線ばね10について説明したように適当
な部材ならどんなものを用いてもよい。
3の側壁76を示す。第3の側壁76は、第3のマイク
ロメータ・スクリュー80及び第3の板ばね84を有す
る。第3のマイクロメータ・スクリュー80は、線ばね
88を介して試料ステージ13に取り付けられた第3の
板ばね84を押すことにより、試料ステージ13をX方
向に移動させる。線ばね64及び88は、軸方向には剛
性で、横方向には柔軟な1対の針金からなるものが好ま
しい。しかし、線ばね10について説明したように適当
な部材ならどんなものを用いてもよい。
第3図は、第4の板ばね140及び第4の線ばね110
を含む本発明の他の実施例を示す。この実施例では、第
4の板ばね140が、ステージ13のZ方向への移動に
対抗し、これにより第1のマイクロメータによる移動を
緩衝し、ステージの移動の精度及び再現性を向上させる
。
を含む本発明の他の実施例を示す。この実施例では、第
4の板ばね140が、ステージ13のZ方向への移動に
対抗し、これにより第1のマイクロメータによる移動を
緩衝し、ステージの移動の精度及び再現性を向上させる
。
装置が対称的になるほど、装置は直線的になり、振動及
び熱によるドリフトの影響を受けにくくなることが予想
される。したがって、当業者には明らかなように、図示
されていない代替実施例も、x、ylzの各運動方向に
、対向するマイクロメータ、板ばね及び軸方向に剛性の
支持部材を含むことができる。対向するマイクロメータ
は、第1図ないし第3図に示したマイクロメータの反対
側に取り付けることができる。やはり図示されていない
が、他の好ましい実施例では、X1Y12方向の1つま
たは2つに、対向するマイクロメータと板ばねと軸方向
に剛性の支持部材の組合せを含む。
び熱によるドリフトの影響を受けにくくなることが予想
される。したがって、当業者には明らかなように、図示
されていない代替実施例も、x、ylzの各運動方向に
、対向するマイクロメータ、板ばね及び軸方向に剛性の
支持部材を含むことができる。対向するマイクロメータ
は、第1図ないし第3図に示したマイクロメータの反対
側に取り付けることができる。やはり図示されていない
が、他の好ましい実施例では、X1Y12方向の1つま
たは2つに、対向するマイクロメータと板ばねと軸方向
に剛性の支持部材の組合せを含む。
たとえば、マイクロメータ・スクリュー144を、第3
図の壁面146上、またはこれに平行に取り付けること
ができる。壁面146に取り付けたマイクロメータ・ス
クリューの運動は、ばね140を介して第4の線ばね1
10に伝達され、ステージ13を、マイクロメータ・ス
クリュー44がステージ13を移動させる方向とは反対
の方向に移動させようとする。このため、マイクロメー
タ・スクリューと板ばねと線ばねの追加の組合せは、マ
イクロメータ・スクリュー44、板ばね40及び軸方向
に剛性の支持体10によるステージの移動に対抗しよう
とする。このような配置構成は、対向するマイクロメー
タ・スクリューが同期して一緒に移動する場合に最も良
く作動することは明らかである。このような修正は改良
となるが、本明細書の特許請求の範囲に記載された、本
発明の範囲から逸脱するものではない。
図の壁面146上、またはこれに平行に取り付けること
ができる。壁面146に取り付けたマイクロメータ・ス
クリューの運動は、ばね140を介して第4の線ばね1
10に伝達され、ステージ13を、マイクロメータ・ス
クリュー44がステージ13を移動させる方向とは反対
の方向に移動させようとする。このため、マイクロメー
タ・スクリューと板ばねと線ばねの追加の組合せは、マ
イクロメータ・スクリュー44、板ばね40及び軸方向
に剛性の支持体10によるステージの移動に対抗しよう
とする。このような配置構成は、対向するマイクロメー
タ・スクリューが同期して一緒に移動する場合に最も良
く作動することは明らかである。このような修正は改良
となるが、本明細書の特許請求の範囲に記載された、本
発明の範囲から逸脱するものではない。
第4図は、第1図及び第2図に示す本発明の実施例の切
欠図である。第1図ないし第3図では、板ばねはそれぞ
れ、図示した点で曲げた金属板のストリップとすること
が好ましい。板ばね40の湾曲部は、Zマイクロメータ
が出入するときに、板ばね40の中央部が主壁面46と
平行に保たれるように設計されている。別法として、板
ばね40の中央部を、剛性の金属板または屈曲を防止す
る他の補強材を用いて強化してもよい。板ばね40の端
部は、第1及び第2の壁面5B、68に強固に取り付け
である(別法として、板ばね40の端部を主壁面46に
取り付けてもよい)。線ばね10は、ステージ13を板
ばね40の中央部から一定の位置に保持する針金である
。これらの針金は、X及びY方向に曲がることができる
。線ばね64は、ステージ13を、第2の板ばね60の
マイクロメータ52と重なる部分から一定の距離に保持
する。線ばね88は、ステージ13を、板ばね84のマ
イクロメータ80と重なる部分から一定の距離に保持す
る。
欠図である。第1図ないし第3図では、板ばねはそれぞ
れ、図示した点で曲げた金属板のストリップとすること
が好ましい。板ばね40の湾曲部は、Zマイクロメータ
が出入するときに、板ばね40の中央部が主壁面46と
平行に保たれるように設計されている。別法として、板
ばね40の中央部を、剛性の金属板または屈曲を防止す
る他の補強材を用いて強化してもよい。板ばね40の端
部は、第1及び第2の壁面5B、68に強固に取り付け
である(別法として、板ばね40の端部を主壁面46に
取り付けてもよい)。線ばね10は、ステージ13を板
ばね40の中央部から一定の位置に保持する針金である
。これらの針金は、X及びY方向に曲がることができる
。線ばね64は、ステージ13を、第2の板ばね60の
マイクロメータ52と重なる部分から一定の距離に保持
する。線ばね88は、ステージ13を、板ばね84のマ
イクロメータ80と重なる部分から一定の距離に保持す
る。
本発明の板ばねは、復元力を与え、軸方向に剛性の支持
部材を、マイクロメータ・スクリューに強固に保持する
よう設計されていることは明らかである。したがって、
この目的を達成するのに適したどんな力伝達装置も本発
明の範囲に含まれる。
部材を、マイクロメータ・スクリューに強固に保持する
よう設計されていることは明らかである。したがって、
この目的を達成するのに適したどんな力伝達装置も本発
明の範囲に含まれる。
たとえば、板ばねの代りに、マイクロメータ・スクリ二
一を回転したときに、軸方向に剛性の支持部材がステー
ジに対して回転しないように、軸方向に剛性の支持部材
をマイクロメータに回転可能に取り付ける手段を用いて
もよい。
一を回転したときに、軸方向に剛性の支持部材がステー
ジに対して回転しないように、軸方向に剛性の支持部材
をマイクロメータに回転可能に取り付ける手段を用いて
もよい。
軸方向に剛性の支持部材の長さに比べてステージの移動
が小さい限り(STMでは通常そうである) 、X、Y
1Z方向の移動はほぼ直線的で、直角方向である。変位
がこれより大きい場合は、ステージは軸方向に剛性の支
持部材の長さに対応する半径の弧を描いて移動する。ス
テージはXまたはY方向に移動°するとき、2方向にも
わずかに移動し、その動きはほぼ円弧状である。しかし
、これより長い移動であっても、軸方向に剛性の支持部
材10の長さが一定であるため、ステージはSTMニー
ドルに垂直のままである。したがって、ステージは長い
移動の間もSTMニードルに垂直に維持される。
が小さい限り(STMでは通常そうである) 、X、Y
1Z方向の移動はほぼ直線的で、直角方向である。変位
がこれより大きい場合は、ステージは軸方向に剛性の支
持部材の長さに対応する半径の弧を描いて移動する。ス
テージはXまたはY方向に移動°するとき、2方向にも
わずかに移動し、その動きはほぼ円弧状である。しかし
、これより長い移動であっても、軸方向に剛性の支持部
材10の長さが一定であるため、ステージはSTMニー
ドルに垂直のままである。したがって、ステージは長い
移動の間もSTMニードルに垂直に維持される。
本発明の独特な特徴の1つは、ステージが、移動方向に
は剛性であるが他の2方向には柔軟なまっすぐな線ばね
を介して、X1Y及び2マイクロメータ・ドライバに結
合されていることである。さらに、湾曲部品の使用によ
り、ステージの支持部材はきわめて小型、軽量で、しか
も機械的に強固にすることができる。これにより、走査
型トンネリング顕微鏡とステージとの間の相対振動がサ
ブオングストロームのレベルに低下し、高品質ノトンネ
リング像が得られる。絶対振動を減少させるため、ステ
ージ及びSTMを取り付けるベースを、通常1組の精巧
なばねまたはゴム製の振動マウントで支持する。相対振
動を減少させるために、STMとステージをベースに強
固に取り付ける必要があるが、本発明によればこれが可
能である。
は剛性であるが他の2方向には柔軟なまっすぐな線ばね
を介して、X1Y及び2マイクロメータ・ドライバに結
合されていることである。さらに、湾曲部品の使用によ
り、ステージの支持部材はきわめて小型、軽量で、しか
も機械的に強固にすることができる。これにより、走査
型トンネリング顕微鏡とステージとの間の相対振動がサ
ブオングストロームのレベルに低下し、高品質ノトンネ
リング像が得られる。絶対振動を減少させるため、ステ
ージ及びSTMを取り付けるベースを、通常1組の精巧
なばねまたはゴム製の振動マウントで支持する。相対振
動を減少させるために、STMとステージをベースに強
固に取り付ける必要があるが、本発明によればこれが可
能である。
1実施例では、STMは、ステージが25mmのウェー
ハを保持できるように設計されていた。
ハを保持できるように設計されていた。
他の主要な設計の目的は、XまたはY方向に1mm移動
する場合、Z方向の移動を、STMの範囲である3μm
未溝にすることであった。これらの目的を達成するため
に、線ばねの長さは少なくとも38mmなければならな
いことがわかった。本実施例では、44mmの線ばねを
使用した。ばねの直径及び太さは、設計の剛性を最大に
すると同時に、ステージを小型のステッパ・モータの限
界内で移動させるのに必要な力を保つために、可能な限
り大きい値を選定した。この好ましい実施例では、板ば
ねは0.30mmのステンレス・スチール板、主線ばね
は0.80mmのスチール製線ばね、X及びYスクリュ
ーに接続した線ばねは0゜23mmのスチール製線ばね
である。
する場合、Z方向の移動を、STMの範囲である3μm
未溝にすることであった。これらの目的を達成するため
に、線ばねの長さは少なくとも38mmなければならな
いことがわかった。本実施例では、44mmの線ばねを
使用した。ばねの直径及び太さは、設計の剛性を最大に
すると同時に、ステージを小型のステッパ・モータの限
界内で移動させるのに必要な力を保つために、可能な限
り大きい値を選定した。この好ましい実施例では、板ば
ねは0.30mmのステンレス・スチール板、主線ばね
は0.80mmのスチール製線ばね、X及びYスクリュ
ーに接続した線ばねは0゜23mmのスチール製線ばね
である。
本発明をさらに容易に理解するため、周知のSTM中で
の操作について説明する。適当なSTM装置は、前記の
B・マイケル及びG、)ラバリ一二の論文に記載されて
いる。3台のステッパ・モータを使って、マイクロメー
タ44.52.80を回転させることにより、ステージ
13をそれぞれx、y、z方向に移動させる。モータ軸
の回転を通常は減速して、マイクロメータ・スクリュー
44.52.80を駆動する。マイクロメータのスピン
ドルが、ステッパ・モータにより軸及び歯車を介して駆
動される。粗位置決め装置がほぼ一定の移動をするよう
に、ステッパ・モータの回転を減速することができる。
の操作について説明する。適当なSTM装置は、前記の
B・マイケル及びG、)ラバリ一二の論文に記載されて
いる。3台のステッパ・モータを使って、マイクロメー
タ44.52.80を回転させることにより、ステージ
13をそれぞれx、y、z方向に移動させる。モータ軸
の回転を通常は減速して、マイクロメータ・スクリュー
44.52.80を駆動する。マイクロメータのスピン
ドルが、ステッパ・モータにより軸及び歯車を介して駆
動される。粗位置決め装置がほぼ一定の移動をするよう
に、ステッパ・モータの回転を減速することができる。
本発明では、剛性で対称的な設計により、熱によるドリ
フトと振動に対する安定性が得られる。
フトと振動に対する安定性が得られる。
高解像度の走査中に、駆動装置はマイクロメータから外
され、本体の下の緩衝ステージ(間にビトン・ロッドを
挟んだ4枚の金属板)を迂回する必要が避けられる。
され、本体の下の緩衝ステージ(間にビトン・ロッドを
挟んだ4枚の金属板)を迂回する必要が避けられる。
前記のB・マイケル及びG・トラパリ一二の論文には、
本発明で使用するのに適したデータ獲得及びステッパ・
モータ制御電子回路を実施するための方式が記載されて
いる。ステッパ・モータは、ディジタル入出力インター
フェースとステッパ・モータ駆動回路を介して、CPU
から制御される。
本発明で使用するのに適したデータ獲得及びステッパ・
モータ制御電子回路を実施するための方式が記載されて
いる。ステッパ・モータは、ディジタル入出力インター
フェースとステッパ・モータ駆動回路を介して、CPU
から制御される。
この配置構成を使用することにより、3軸の運動がユー
ザの定義する速度とステップ・サイズで実施できる。
ザの定義する速度とステップ・サイズで実施できる。
本発明は、構造を簡単にし、ステージの剛性と安定性を
増大することにより、振動を減少させ、熱安定性を高め
るので、著しい改良であると考えられる。これらの改良
は、ソリッド・ベースからステージまでの機械的経路の
長さを減少させることにより達成される。さらに、スク
リュー機構はすべて、剛性のベースに直接接続されてい
る。スクリュー機構がステージとともに移動しないため
、モータ等の駆動機構は、複雑なギヤ装置を用いずに接
続できる。ステージの位置が中間ステージを介すること
なく、剛性のベースに直接基準づけされるため、剛性と
安定性が改善される。軸方向に剛性の支持部材は、摺動
部材に代わって使用されることにより信頼性を改善し、
走行部材に代わって使用されることにより再現性を改善
する。したがって、本発明は、改善された粗位置決め装
置と、大きい走査面積(すなわち、STMにより走査さ
れる試料の面積)を提供する。
増大することにより、振動を減少させ、熱安定性を高め
るので、著しい改良であると考えられる。これらの改良
は、ソリッド・ベースからステージまでの機械的経路の
長さを減少させることにより達成される。さらに、スク
リュー機構はすべて、剛性のベースに直接接続されてい
る。スクリュー機構がステージとともに移動しないため
、モータ等の駆動機構は、複雑なギヤ装置を用いずに接
続できる。ステージの位置が中間ステージを介すること
なく、剛性のベースに直接基準づけされるため、剛性と
安定性が改善される。軸方向に剛性の支持部材は、摺動
部材に代わって使用されることにより信頼性を改善し、
走行部材に代わって使用されることにより再現性を改善
する。したがって、本発明は、改善された粗位置決め装
置と、大きい走査面積(すなわち、STMにより走査さ
れる試料の面積)を提供する。
当業者には明らかなように、本発明は、STM応用分野
だけに限定されるものではなく、原子開力顕微鏡技術の
、関連する顕微鏡技術用のステージの支持を含めて、多
くの状況で使用できる。
だけに限定されるものではなく、原子開力顕微鏡技術の
、関連する顕微鏡技術用のステージの支持を含めて、多
くの状況で使用できる。
F0発明の効果
試料ステージに伝達される振動を減少し、大型の試料上
の所望の領域を短時間で位置決めで酋る。
の所望の領域を短時間で位置決めで酋る。
第1図は、本発明による支持構造体及び粗調節機構の1
実施例の、第2図の線A−Aに沿った切欠図である。 第2図は、第1図の実施例の、線B−Bに沿った切欠図
である。 第3図は、本発明による支持構造体及び粗調節機構の第
2の実施例の切欠図である。 第4図は、第1図及び第2図の支持構造体及び粗調節機
構の切欠斜視図である。 13・・・・試料ステージ、10.64.88・・・・
線ばね、40,80,84・・・・板ばね、44.52
.80・・・・マイクロメータ・スクリュー出願人
インターナシロナル・ビジネス・マシーンズ・コーボレ
ーシ研ン 代理人 弁理士 頓 宮 孝 −(外1名) B FIG、2 FIG、 4
実施例の、第2図の線A−Aに沿った切欠図である。 第2図は、第1図の実施例の、線B−Bに沿った切欠図
である。 第3図は、本発明による支持構造体及び粗調節機構の第
2の実施例の切欠図である。 第4図は、第1図及び第2図の支持構造体及び粗調節機
構の切欠斜視図である。 13・・・・試料ステージ、10.64.88・・・・
線ばね、40,80,84・・・・板ばね、44.52
.80・・・・マイクロメータ・スクリュー出願人
インターナシロナル・ビジネス・マシーンズ・コーボレ
ーシ研ン 代理人 弁理士 頓 宮 孝 −(外1名) B FIG、2 FIG、 4
Claims (3)
- (1)試料ステージと、 剛性の支持構造体と、 第1及び第2の端部を有する複数の軸方向に剛性の支持
体と、 第1及び第2の端部を有する第1のばね手段とを有し、 上記の複数の軸方向に剛性の支持体は、上記の軸方向に
剛性の支持体の第1の端部で上記試料ステージに取り付
けられて、上記試料ステージを支持し、 上記の軸方向に剛性の支持体の第2の端部は上記第1の
ばね手段に強固に取り付けられ、 上記第1のばね手段の第1及び第2の端部は上記剛性支
持構造体に強固に取り付けられ、 上記第1のばね手段に接触して、上記剛性支持構造体に
移動可能に取り付けられた第1のスクリュー機構を有す
ることを特徴とする、試料ステージの位置を調節するた
めの支持構造体。 - (2)互いに直交する第1、第2、及び第3の方向で試
料ステージの位置を調節するための支持構造体において
、 上記試料ステージが4つのコーナを有し、 4つの軸方向に剛性の支持体が、上記試料ステージの1
面の上記コーナで上記試料ステージを支持し、 上記支持体の上記試料ステージとは反対側の端部に取り
付けた第1の板ばねを有し、 上記板ばねの少なくとも1端がホルダに強固に取り付け
られ、 上記第1の板ばねを押すように、上記剛性支持体に平行
に上記ホルダに移動可能に取り付けられたスクリュー機
構を有することを特徴とする支持構造体。 - (3)試料ステージ支持構造体を調節するための調節装
置において、 第1及び第2の端部を有する第1組の軸方向に剛性の支
持部材と、 上記支持部材の上記第1の端部は、上記試料ステージの
1面に接続されたことと、 上記第1組の支持部材は、上記試料ステージの上記1面
に垂直に取り付けられたことと、 上記第1組の支持部材の上記第2の端部は、第1のばね
手段に強固に取り付けられたことと、上記第1のばね手
段は、上記支持構造体に強固に取り付けられたことと、 上記支持構造体の第2の壁面は、上記第1の壁面に垂直
で、上記第1組の支持部材に平行であることと、 上記第2の壁面は、上記試料ステージの上記1面に垂直
な上記試料ステージの側面に、第2組の支持部材によっ
て接続された第2のばね手段を支持することと、 上記支持構造体の第3の壁面は、上記第1及び第2の壁
面の両方に垂直で、上記第1組の支持部材に平行である
ことと、 上記第3の壁面は、上記第2組の支持部材に接続された
上記側面に垂直な上記試料ステージの側面に第3組の支
持部材によって接続された第3のばね手段を支持するこ
とと、 力伝達手段が上記3つの壁面のそれぞれに接続され、上
記ばね手段に接触して、上記力伝達手段の1つを調節す
ることにより、上記ばね手段が移動して、それが上記剛
性支持部材を介して上記試料ステージに伝達される力伝
達手段を有することを特徴とする調節装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/345,609 US4925139A (en) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | Mechanical stage support for a scanning tunneling microscope |
| US345609 | 1989-04-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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