JPH02297458A - サーマルヘッドの面取り方法 - Google Patents

サーマルヘッドの面取り方法

Info

Publication number
JPH02297458A
JPH02297458A JP12008689A JP12008689A JPH02297458A JP H02297458 A JPH02297458 A JP H02297458A JP 12008689 A JP12008689 A JP 12008689A JP 12008689 A JP12008689 A JP 12008689A JP H02297458 A JPH02297458 A JP H02297458A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamfering
heating elements
conductor pattern
thermal head
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12008689A
Other languages
English (en)
Inventor
Ikunori Yagino
八木野 生典
Toshikazu Yoshimizu
吉水 敏和
Takashi Seigenji
隆司 清玄寺
Hajime Asayama
始 朝山
Tsutomu Tanga
丹賀 勉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP12008689A priority Critical patent/JPH02297458A/ja
Publication of JPH02297458A publication Critical patent/JPH02297458A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はプリンタやファクシミリなどに用いられるサー
マルヘッドであって、基板の一主表面の一端部に端辺に
沿って発熱素子を配列し、基板を被記録媒体に対して傾
けて押しつける方式の端部型サーマルヘッドと称するサ
ーマルヘッドにおいて、被記録媒体と接触する端辺側の
基板端面に面取り加工を施す方法に関するものである。
(従来の技術) 本発明者らが別途提案している端部型サーマルヘッドで
は、第7図に示されるように発熱素子1が形成された発
熱基板2を感熱記録紙や、熱転写紙と紙などの被記録媒
体3に対して傾けて押しつけて印字を行なう。4はプラ
テンローラである。
端部型サーマルヘッドでは、発熱基板2の端部の角が被
記録媒体3と接触した状態で被記録媒体3の走行が行な
われるので、その端部には面取り加工を施す必要がある
。第8図は発熱基板2、被記録媒体3及びプラテンロー
ラ4を拡大して示したものである。
発熱基板2に面取り加工を施すには、第9図に示される
ようなラッピングテープ5を用いるテープラップ方法や
、定盤ラップ方法などの手法を用いる。
面取り加工された発熱基板2を第10図に示し、その平
面図と側面図を第11図(A)、(B)に示す。6は面
取り部であり、面取りされて端辺となる辺7を面取り辺
と称し、発熱素子]−から面取り辺7までの距離りを面
取り量と定義する。面取り部6が発熱基板表面となす角
Oを面取り角と称す。面取り角Oは5〜85度の間、好
ましくは15〜45度の間に設定する。面取り角Oは面
取り治具の角度から一義的に決定することができる。
(発明が解決しようとする課題) 面取り量りは適正な値にする必要があるが、従来は面取
り加工の途中でこの面取り量りを監視する手段を備えて
いなかったので、面取り量L、がばらついている。面取
り量りのばらつきは被記録媒体の保護層や発色層を破壊
するなど被記録媒体の損傷につながり、好ましくない。
本発明は面取り加工中に面取り量りを監視する手段を設
け、面取りiLのばらつきを適正範囲内に抑制すること
によって被記録媒体に与える損傷を少なくすることので
きる面取り方法を提供することを目的とするものである
(課題を解決するための手段) 本発明では、面取り工程で削除される領域でつながり2
ビットの発熱素子を連結する導体パターンを設け、その
2ビットの発熱素子間の抵抗値を測定しながら基板端面
を面取り加工する。
(作用) 導体パターンで連結された2ビットの発熱素子間の抵抗
値を測定しながら面取り加工を行なうと、面取り加工に
よりその導体パターンの連結部が除去されるところまで
加工が進むと、その2ビットの発熱素子間の抵抗値が急
に増大する。その点が面取り加工の終点である。
(実施例) 第1図は一実施例におけるサーマルヘッドを表わす。(
A)は平面図、(B)はそのA−A ’位置での断面図
である。
基板10上に抵抗体が形成され、その上に電極12.1
3が形成されている。14ば保護膜である。電極12.
13から露出した抵抗体が発熱体11となる。発熱体1
1の形状は被記録媒体が接触する端辺と反対方向に開い
たU字型をしている。
図は面取り加工が施される前の状態を表わしており、面
取り加工は破線で示される位置15まで施され、16が
面取り辺となる。
隣接する一対の発熱体11aとllbは抵抗体による導
体パターン]7により連結されている。
導体パターン17の連結部は面取り加工により除去され
る領域に存在している。面取り加工が行なわれて面取り
辺が16で示される位置まで進んだときは導体パターン
17の連結部が除去された状態となる。
ここで、基板10としては例えば表面がガラス質のグレ
ーズ層で被われたセラミック基板などを用いることがで
きる。発熱体11を構成する抵抗体としては、Ta−8
iO□などのタンタル系抵抗体など、高融点金属や金属
酸化物を用いることができる。電極12.13としては
、例えはNiとAuの2M膜などを用いることができる
。保護膜14としてはSiN、Ta2O,やSiCなど
を用いることができる。発熱体11.lla、11b、
導体パターン17、電極12.13は成膜工程、写真製
版、エツチング工程を経て形成される。
電極12.13のうち電極12は各発熱体11゜11a
、llbごとに設けられる個別電極、電極13は発熱体
11.lla、llbに通電用電源を供給する共通電極
である。
保護膜14まで形成された状態のサーマルヘッドに面取
り加工を施すために、発熱体11a、11bのそれぞれ
の個別電極12aと12bの間に抵抗値を測定する測定
装置18を接続し、抵抗値を監視しながら面取り加工を
行なう。
面取り加工前の状態では面発熱体11aと11bの間に
は導体パターン17と共通電極13の2つの導通路が存
在している。面取り加工が破線16の位置まで進むと、
導体パターン17の連結部がなくなり、導通路は共通電
極13のみとなるので、抵抗値が急に増大する。
長尺のサーマルヘッドになると長手方向に沿って面取り
辺16が傾く可能性があるので、導体パターン17は基
板長手方向に沿って2個または3個以上設ける。例えば
2個の導体パターン17を設けたとすれば、両方の導体
パターンの連結部が除去されるまで面取り加工が行なわ
れるので、傾いて加工されると、連結部が遅れて除去さ
れる部分の面取りがちょうど連結部を除去したとき、他
方の導体パターン17の連結部はすでに除去されており
、面取り辺16は他方の導体パターン17の連結部がち
ょうど除去される位置よりもさらに発熱体11a、ll
b側に寄った位置になる。
第1図では、発熱部11aとllbに関しては面取り加
工後にも面取り辺16側に抵抗体の導体パターンが残る
ことになる。その残った抵抗体によって発熱体の抵抗値
の変化が生じるので、抵抗値変化を少なくするために、
第2図又は第3図に示される導体パターンとするのが望
ましい。第2図では面取りにより除去される領域に存在
する導体パターン連結部17と発熱体11a、llbを
連結する部分17a、17bの面積を小さくし、面取り
加工後に発熱体1]a、llbに導体パターンの抵抗体
の一部が残ったとしてもその抵抗値に及ぼす影響が少な
くなる。
第3図では各ビットの発熱体は2個の発熱部分11−1
と11−2をもち、端辺側を電極19で連結して2個の
発熱部11−1と11−2で1ビットの発熱体を構成し
ている。この場合はその連結用電極19を介して面取り
監視用導体パターン17が接続される。面取り加工を施
し、連結部17が除去されて抵抗体の導体パターンが残
っても、電極19が存在しているため、残った抵抗体に
よる抵抗値への影響はない。
第1図から第3図に示される実施例では、導体パターン
17を設けた部分では面取り部に抵抗体による導体パタ
ーンの一部が露出する。抵抗体は高融点金属や金属酸化
物であるので酸化に対して不活性であり、腐食などの問
題はない。
第4図は面取り加工監視用の導体パターンを電極20に
よって構成したものである。
第4図の場合、電極20と保護膜14の密着性が悪い場
合には、面取り加工の際に保護膜14が剥れるので好ま
しくない。
以上の実施例は薄膜型サーマルヘッドに本発明を適用し
た例であるが、第5図は厚膜型サーマルヘッドに本発明
を適用した一例を表わす。
基板10上に個別電極22と共通電極23か交互に形成
され、それらの電極と交差するようにイIF状の抵抗体
21が形成されている。この場合も面取り加工監視用導
体パターンとして隣接する個別電極23aと23bを連
結する導体パターン26を電極により形成する。
この場合も、一対の個別電極23aと23bの間の抵抗
値を監視しながら面取り加工を行ない、所定の面取り辺
16まで加工が進むと連結部26が除去されて抵抗値が
急に大きくなり、面取り加工の終点を検出することがで
きる。
第6図は基板30上に部分的にガラス質のグレーズ層3
1を設け、そのクレースrPJ33上に発熱体32がく
るように抵抗体、共通電極34及び個別電極35を形成
したものである。37は保護膜である。36は本発明に
おける面取り加工監視用の導体パターンであり、抵抗体
により形成され、隣接する2ビットの発熱体間を連結し
ている。
この場合も所定の位置まで面取り加工か施されると導体
パターン36の連結部が除去されて、その導体パターン
36が接続していた一対の発熱部間の抵抗値が急激に増
大することにより面取り加工終点を検出することができ
る。
本発明においては面取り加工監視用導体パターンは、各
発熱体ごとに設けてもよく、又は64ビット、128ビ
ットというような単位で発熱体を等分割してその単位ご
とに設けてもよい。
面取り量りはO〜200μm程度の間に設定され、好ま
しくは5〜50μmである。面取り量がOになると発熱
体や電極まで削ることになり好ましくない。逆に面取り
量りが大きすぎると発熱体と被記録媒体との接触が困難
になり、印字が困難になり好ましくない。
第4図又は第5図の実施例においては、電極が面取り部
に露出するので、電極としてAQやCuなど活性な金属
を用いる場合はその露出面から腐食が発生する問題があ
るので好ましくない。
(発明の効果) 本発明では面取り加工を行なう領域に加工終点を監視す
る導体パターンを設けたので、面取り量を均一にするこ
とができる。その結果、面取り量のばらつきに起因する
被記録媒体の損傷か少なくなる。そして、この導体パタ
ーンは発熱部や電極の形成と同時に形成することができ
るので、監視用導体パターンを設けることによって製造
工程が増えることはない。
面取り加工終点を電気的に検出することができるので、
面取り工程を自動化することが可能になる。
本発明により製造されるサーマルヘッドでは、面取り面
に監視用導体パターンの一部分である抵抗体、金属導体
、又は抵抗体上に金属導体が設けられたものが露出する
。印字を行なう際はその露出した部分に被記録媒体が接
触するので、その露出部を通じて被i8録媒体の帯電を
防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は一実施例におけるサーマルヘソ1−を示す図で
あり、(A)は平面図、(B)はそのA−A′線位置で
の断面図、第2図は他の実施例における発熱体と面取り
加工監視用導体パターンを示す平面図、第3図は他の実
施例におけるサーマルヘッドを示す図であり、(A、)
は平面図、(B)はそのB−B’線位置での断面図、第
4図はさらに他の実施例におけるサーマルヘッドを示す
図であり、(A)は平面図、(B)はそのc−c ’線
位置での断面図、第5図はさらに他の実施例におけるサ
ーマルヘッドを示す図であり、(A)は平面図、(B)
はそのD−D’線位置での断面図、第6図はさらに他の
実施例におけるサーマルヘッドを示す断面図、第7図は
提案中の端部型サーマルヘッドを被記録媒体などととも
に示す側面図、第8図はその要部拡大図、第9図は面取
り加工を示す概略斜視図、第10図は面取りされた発熱
基板を示す斜視図、第11図は面取り加工された発熱基
板を示す図であり、(A)は平面図、(B)はその側面
図である。 10 、30 ・−−・基板、11.lla、llb。 32− ・・・発熱体、12,12a、12b、22a
。 1l− 22b・・・・個別電極、15・・・・面取り面、16
・・・・・・面取り辺、17,20,26.36・・・
・・・面取り加工監視用導体パターン、21 ・・・・
抵抗体。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板の一主表面の一端部に端辺に沿って発熱素子
    を配列したサーマルヘッドの前記端辺の断面の角度が鈍
    角になるように端面に面取りを施す方法において、面取
    り工程で削除される領域でつながり2ビットの発熱素子
    を連結する導体パターンを設け、前記2ビットの発熱素
    子間の抵抗値を測定しながら基板端面を面取り加工する
    ことを特徴とする面取り方法。
JP12008689A 1989-05-11 1989-05-11 サーマルヘッドの面取り方法 Pending JPH02297458A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12008689A JPH02297458A (ja) 1989-05-11 1989-05-11 サーマルヘッドの面取り方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12008689A JPH02297458A (ja) 1989-05-11 1989-05-11 サーマルヘッドの面取り方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02297458A true JPH02297458A (ja) 1990-12-07

Family

ID=14777562

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12008689A Pending JPH02297458A (ja) 1989-05-11 1989-05-11 サーマルヘッドの面取り方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02297458A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05221000A (ja) * 1991-03-29 1993-08-31 Kyocera Corp サーマルヘッドとその製造方法
JP2010240876A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 Toshiba Hokuto Electronics Corp サーマルプリントヘッドおよびその製造方法
CN105870035A (zh) * 2016-06-03 2016-08-17 京东方科技集团股份有限公司 倒角检测方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05221000A (ja) * 1991-03-29 1993-08-31 Kyocera Corp サーマルヘッドとその製造方法
JP2010240876A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 Toshiba Hokuto Electronics Corp サーマルプリントヘッドおよびその製造方法
CN105870035A (zh) * 2016-06-03 2016-08-17 京东方科技集团股份有限公司 倒角检测方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02297458A (ja) サーマルヘッドの面取り方法
CA2016153C (en) Thermal head with an improved protective layer and a thermal transfer recording system using the same
JP3298780B2 (ja) サーマルヘッドおよびサーマルヘッドの製造方法
JPH04138260A (ja) サーマルヘッド
JPS6236873B2 (ja)
JP4668637B2 (ja) サーマルヘッドおよびその製造方法
JP2627283B2 (ja) サーマルヘッド及びその製造方法
US6330014B1 (en) Thermal head manufactured by sequentially laminating conductive layer, layer insulating layer and heater element on heat insulating layer
JPH06275368A (ja) セラミックヒータ
JPH08310028A (ja) サーマルヘッド
JPH01113261A (ja) サーマルヘッド
JPH03222760A (ja) サーマルヘッドおよびその製造方法
JPH0314632B2 (ja)
JPH10199703A (ja) チップ抵抗器用基板とチップ抵抗器の製造方法
JP3333264B2 (ja) ヒータ素子およびその製造方法
JP3219253B2 (ja) ガスセンサ
JPS61290067A (ja) サ−マルヘツド
JPS62144964A (ja) 記録ヘツド
JPH11320939A (ja) ラインサーマルヘッド
JPH02305654A (ja) サーマルヘッド
JP2547140Y2 (ja) サーマルヘッド
JPH04110165A (ja) サーマルヘッドおよびその製造方法
JPH05221000A (ja) サーマルヘッドとその製造方法
JPH03184875A (ja) サーマルヘッド
JPH0211340A (ja) 通電記録ヘッド