JPH02298376A - 多数の要素の位置修正方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、第１配置にもとづき配列した多数の要素の相
対位置を修正して第２配置にもとづき直線状に配置する
方法に関する。

本発明は、更に、上記方法を実施する装置に関する。

更に詳細に云えば、本発明は、特殊な性質を有する皮膜
を下方の進行中の担体上に得るため上記担体上に放射を
行うため、ガス中に懸濁させた粉体製品のインジェクタ
（供給パイプとも呼ぶ）の分配ノズル内の相対位置を自
動的に修正する方法および装置に関する。

ガス中に懸濁させた粉体製品を、進行中の基体（例えば
、ガラスリボン）上に、基体の上方に基。

体の移動方向に直角に設けた分配スリットを介して連続
的に分布させることは、特に、仏画特許第２．４２７，
１４１号および欧州特許出願Δ−１２５１５３から公知
である。上記スリットは、ノズル全長にわって延びるキ
ャビティを含む分配装置（ノズルとも呼ぶ）の下端から
構成される。上記キャビティは、スリットに平行に配列
された一連のインジェクタから、ガス中に懸濁された粉
体製品の供給を受ける。

本特許に記載の方法および装置は、基体（例えば、ガラ
スリボン）上に、特に、光学的およびまたは電気的な、
特殊性質を有する薄層を形成するのに役立つ。基体全面
に適切な一定の性質を得るため、層厚は、極めて僅かで
あっても変化してはならない。

攪拌、即ち、粉体製品のキャリヤガスの乱流にも拘らず
、且つまた、粉体製品の時間的、空間的分布の調節のた
めノズルに補助ガスを導入するにも拘らず、粉体製品の
各インジェクタの縦方向に対応して、基体上には、若干
の［ｉと、全中にわたって一定でなく実質的にインジェ
クタの軸線上で最大値を示す厚さとを有する沈着物（ト
レースと呼ぶ）が生ずる。上記トレースの主体は、少な
くとも部分的な重畳によって、基体上に沈着した層を形
成する。粉体製品の供給を受けるすべてのインジェクタ
を適切に離隔すれば、各インジェクタのトレースの重畳
によって均一な沈着物か生ずる。沈着物が均一でなく、
厚さが部分的に極めて厚いか薄い場合は、トレースの重
畳度の修正のため、インジェクタの間の間隔を修正する
。即ち、被覆層か部分的に厚すぎる場合は、インジェク
タを離隔し、厚さが不十分である場合は、基体の全体に
わたって均一な厚さが得られるよう、インジェクタの相
互間隔を減少する。

装置（スポットメータ）を利用して被覆層による光の反
射の変化を測定することによって、被覆層の均一性およ
びその厚さの均一性を監視する。

この反射測定によって、粉体製品の流量の調節によって
はじめに調節した所定の厚さ値に対する層厚の差を求め
ることができる。１ｌｌｌ＋定から厚さが均一でないこ
とが判った場合は、粉体製品の供給を中断し、観察され
た欠陥に依存してインジェクタの相互間隔を修正する、
即ち、既述の如く、厚さが過大であるか過小であるかに
応して、インジェクタを離隔または接近させる。

上記プロセスには、多くの欠点かある。特に、反射測定
は、中１００ｍｍのガラスリボンについて生産ライン外
で行う。従って、被覆層に欠陥が現れてから若干の時間
が経過して始めて上記７１１１＋定を行うことができる
。更に、上記測定結果の検討に余分な時間が必要である
。何故ならば、監視中のガラスの生産から約３０分が経
過するがらである。

インジェクタの相互間隔の調節のため最大３０分が必要
であり、ガラスリボンの流れ速度が６〜２５ｍ／分であ
ることを考慮すれば、生した生産ロスを知ることができ
る。この生産ロスは、光学的測定前に処理したガラス量
のみならず、インジェクタの相互間隔の調節期間中に生
産されるガラス面積にも対応する。従って、生産能が制
限される。

従って、欠陥が光学的に検知されたならば直ちにインジ
ェクタの相互間隔を迅速に調節できるシステムを考案す
る必要がある。

従って、本発明は、進行中の下方の基体上に粉体製品を
沈着するため分配ノズルに上記製品を供給するインジェ
クタの相対位置を迅速に、好ましくは、自動的に調節で
きる、更に一般的に云えば、第１配置にもとづき配列さ
れた多数の要素を含むすべての系を第２配置にもとづき
直線状に配列するため修正できる方法および該法を実施
する装置を目的とする。

第１配置にもとづき配列された多数の要素の相対位置を
修正して第２配置にもとづき直線状に上記要素を配列す
るための、本発明に係る方法は、ａ）上記要素の少なく
とも１つ兆よび要素の配列に平行に可動なシャトルを選
択的に停止し、ｂ）シャトルおよびこのシャトルに結合
された１つまたは複数の要素を初期位置から所定位置ま
で移動し、 Ｃ）所定位置に設置された１つまたは複数の要素からシ
ャトルを分離し、 ｄ）移動すべきすべての要素について操作（ａ）、（ｂ
）および（ｃ）を反復することから成る。

コンピュータによって、シャトルに対する要素の連結操
作およびシャトルの変位操作を誘導するのが好ましい。

本発明にもとづき、配列された要素の相対位置を修正す
る方法を実施する装置は、上記要素が、共通の架台に可
動に取付けてあり、該装置が、要素の配列に平行に可動
な少なくとも１つのシャトルと、シャトルおよび上記要
素の少なくとも１つを選択的に停止する手段と、シャト
ルおよびシャトルに結合された１つまたは複数の要素を
初期位置から所定位置まで移動する手段とを含むことを
特徴とする特 実施例にもとづき、要素は、それぞれ、共通の架台に可
動に取付けた台車に配しである。

添付の図面に実施例を示した。

第１図は、本発明に係る装置の斜視図、第２図は、上記
装置の横断面図である。

上記図面において、既述の如く、ノズル内に直線状に配
列された粉体インジェクタまたは供給バイブを配列され
たインジェクタの少なくとも一部の相対距離によって区
別される第１配置から第２配置に移動する非限定的用例
について本発明を説明する。

第１図に、１つの配置から別の配置に移行するため移動
される１つの要素を構成するインジェクタ１を示した。

第１図には、判り易いよう、唯一のインジェクタを示し
たが、もちろん、装置は多数のインジェクタを含む。イ
ンジェクタ１は、真直ぐな架台３に固定したレール４に
沿って可動な台車２に設置しである。架台３は、それぞ
れインジェクタ１を担持する台車群に共通である。シャ
トル５は、架台３に固定したしｉル６上を可動であり、
その移動は、電動機構７（例えば、ジヤツキ）によって
行う。シャトル５は、台車の経路に平行な面内にあるプ
レート８を含む。シャトル５のプレート８は、台車の移
動方向に平行に配列した複数の孔９を備えている。上記
孔９は、台車２に取付けた電磁石（１〇−第２図）の磁
心（１１−第２図）に対向する。磁心（１１−第２図）
は、シャトルに対して分離された状態に対応する引込位
置と、台車の横方向変位のためプレート８の孔９に磁心
端を貫入させることかできる引出位置との間で可動であ
る。

レール６に沿ってシャトルを並進させるジヤツキ７は、
ステップモータによって制御される電動ジヤツキであっ
てよい。

装置は、更に、シャトル５によって所定位置に設置した
後に架台３に対して不動の位置に台車を保持するため架
台３と各台車２とを摩擦結合する手段を含むことができ
る。上記摩擦結合手段は、例えば、台車２に取付けてあ
って、磁心（１３−第２図）が、シャトルによって台車
を移動できる引込位置と摩擦結合のため台車３の荒い面
（１４−第１．２図）に当接する引出位置との間で可動
である第２電磁石（１２−第２図）を含む。

配列された各要素の相対位置の再配置を自動化するため
、シャトルに台車を結合する手段、架台に台車を摩擦結
合する手段およびシャトルを移動するジヤツキ７は、適
切にプログラミングしたコンピュータによって制御する
。

か（して、生産時、被覆ずみガラスリボンから比較的細
い帯を横方向へ切出して上記リボンの試料を採取し、装
置（例えば、走査スポットメータ）によって全長にわた
って上記帯材の反射を測定する。

測定結果はＡ／Ｄ変換器でディジタル化し、場合によっ
てはインジェクタの間隔の修正を誘導するため上記測定
値を評価する論理回路を含むコンピュータ（例えば、Ｉ
　ＢＭ−ＰＣコンピュータ）に供給する。この修正は、
本発明に係る装置の適切な制御信号にもとづき制御し、
スポットメータで検知された不均一性の欠陥を排除する
ため第２配置にもとづきインジェクタを再配列する。

反射測定は、生産中断を避けるため、移動中のガラスリ
ボンにおいて直接に行うのが好ましい。

作動時、本発明に係る装置は、コンピュータ制御にもと
づき、シャトル５を移動して、シャトルに台車２を結合
する電磁石１０の磁心１１にプレート８の孔９の１つを
対向させる。コンピュータは、電磁石１０の磁心１１の
端部が対向する孔９１こ貫入するよう、上記電磁石１０
の励磁を制御し、かくして、台車２とシャトル５とが結
合される。架台３と台車２とを摩擦結合する手段として
役立つ第２電磁石１２は、磁心１３が引きもどされ台車
２が架台３から分離されるよう、制御される。かくして
、台車２は、シャトル５のみに結合される。コンピュー
タは、ジヤツキ７の作用による上記シャトルの所定距離
の変位を制御する。シャトルは、基本ピッチ（例えば、
０．２５ｍｍ）だ　　゛け変位される。台車が望ましい
位置を占めた場合、コンピュータは、磁心が、架台３上
に台車２を固定するため上記架台３の荒い而１４に当接
できる引出位置を占めるよう、第２電磁石１２を制御す
る。

さて、電磁石１０は、磁心１１が引きもどされ台車２と
シャトル５とが分離されるよう、制御される。

さて、シャトル５は、プレート８の孔９の１つが変位す
べき別の台車に対向するよう、あらためて変位する。各
台車の位置を修正し、望ましい新しい配置にもとづき各
台車を設置するため、上記操作を反復する。

場合によっては、同時変位のためプレート８の孔９の１
つとそれぞれ共働する複数の台車にシャトル５を同時に
結合できる。

上述の本発明に係る方法および装置は、上記特許に記載
の如く、特殊性質の層を形成するため下方の進行中の基
体（例えば、ガラスリボン）上に粉体製品を放射するた
めに分配ノズルに上記製品を供給するのに有効なインジ
ェクタの位置を自動的に修正するのに特に適する。事実
、本発明にもとづき、層の不均一性の欠陥が検知された
ならば直ちにインジェクタの相互間隔を迅速に遠隔調節
できる。層の欠陥の検知時点とインジェクタの間隔の調
節後に噴霧を再開できる時点との間の時間は、例えば、
３０分に短縮できる。従って、本発明は、生産ラインに
対する作用を容易化し、上記作用の期間および生産ロス
を減少できると云う利点を有する。

本発明に係る方法および装置は、相対位置を修正すべき
配列された要素を含むすべての系に使用できる。

本発明の主な特徴および態様は以下のとおりである。

１、下方の進行中の基体上に層を形成するため分配ノズ
ル内に配列された粉体製品インジェクタの第１配置にも
とづき配列された多数の要素の相対位置を修正して、第
２配置にもとづき直線状に」１記要素を配置する方法に
おいて、 ａ）上記要素の少なくとも１つおよび要素の配列に平行
に可動なシャトルを選択的に停止し、ｂ）シャトルおよ
びこのシャトルに結合された１つまたは複数の要素を初
期位置から所定位置まで移動し、 Ｃ）所定位置に設置された１つまたは複数の要素からシ
ャトルを分離し、 ｄ）移動すべきすべての要素について操作ａ）、ｂ）お
よびＣ）を反復することを特徴とする方法。

２、シャトルに対する少なくとも１つの要素の結合およ
び上記シャトルの変位をコンピュータによって誘導する
ことを特徴とする上記第１項記載の方法。

３　基本ピッチづつシャトルを変位することを特徴とす
る上記第１項または第２項記載の方法。

４、第１配置にもとづき配列した多数の要素（１）の相
対位置を修正して第２配置にもとづき上記要素を直線状
に配置する装置において、上記要素（１）が、共通の架
台（３）に可動に取付けてあり、該装置が、要素の配列
に平行に可動な少なくとも１つのシャトル（５）と、シ
ャトルおよび上記要素の少なくとも１つを選択的に停止
する手段と、シャトルおよび上記シャトルに結合された
１つまたは複数の要素を所定位置まで移動する手段（７
）とを含むことを特徴とする装置。

５、要素がそれぞれ、すべての台車（２）に共通な架台
（３）に可動に取付けた台車（２）に配してあることを
特徴とする上記第４項記載の装置。

６、シャトルおよび上記台車の少なくとも１つを選択的
に結合する手段が、台車（２）に取付けた電磁石（１０
）を含み、電磁石の磁心（１１）が、シャトルに対して
分離された状態に対応する引込位置とシャトルに対して
結合された状態に対応する引出位置との間で可動である
ことを特徴とする上記第５項記載の装置。

７、シャトル（５）が、シャトルに台車を結合する電磁
石（１０）のレベルに台車、経路に平行に設けてあって
複数の孔（９）を備えたプレート（８）を含み、上記孔
は、台車経路に平行な配列を形成し、シャトルおよび台
車を並進するよう結合するため台車の電磁石（１０）の
磁心（１１）の端部と選択的に共働することを特徴とす
る上記第６項記載の装置。

８．所定位置までシャトルを変位する手段（７）が、ス
テップモータに結合された電動ジヤツキを含むことを特
徴とする上記第４〜７項の１つに記載の装置。

９、該装置が、更に、シャトルによって所定位置に設置
した後に架台に対して固定の位置に台車を保持するため
架台と台車とを摩擦結合する手段を含むことを特徴とす
る上記第４〜８項の１つに記載の装置。

１０、摩擦結合手段が、台車に取付けた第２電磁石（１
２）を含み、電磁石の磁心（１３）が、シャトルによっ
て台車を変位できる引込位置と摩擦結合するため架台の
荒い面に当接する引出位置との間で可動であることを特
徴とする上記第９項記載の装置。

１１　結合手段およびシャトル変位手段が、コンピュー
タによって誘導されることを特徴とする上記第４〜１０
項の１つに記載の装置。

１２、配列された要素が、下方の進行中の基体上に粉体
製品で層を形成するために上記基体の変位方向に対して
直角に配置された分配ノズルにガス中に懸濁された粉体
製品を供給するためのインジェクタであることを特徴と
する上記第４〜１１項の１つに記載の装置。

１３、基体がガラスシートであることを特徴とする上記
第１２項記載の装置。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る多数の要素の位置修正装置の斜
視図、第２図は、上記装置の横断面図である。 １：要素、　　　　３：架台、

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下方の進行中の基体上に層を形成するため分配ノズ
   ル内に配列された粉体製品インジェクタの第１配置にも
   とづき配列された多数の要素の相対位置を修正して、第
   ２配置にもとづき直線状に上記要素を配置する方法にお
   いて、 ａ）上記要素の少なくとも１つおよび要素の配列に平行
   に可動なシャトルを選択的に停止し、 ｂ）シャトルおよびこのシャトルに結合された１つまた
   は複数の要素を初期位置から所定位置まで移動し、 ｃ）所定位置に設置された１つまたは複数の要素からシ
   ャトルを分離し、 ｄ）移動すべきすべての要素について操作ａ）、ｂ）お
   よびｃ）を反復することを特徴とする多数の要素の位置
   修正方法。 ２、シャトルに対する少なくとも１つの要素の結合およ
   び上記シャトルの変位をコンピュータによって誘導する
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の多数の要
   素の位置修正方法。 ３、基本ピッチづつシャトルを変位することを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項または第２項記載の多数の要素
   の位置修正方法。 ４、第１配置にもとづき配列した多数の要素（１）の相
   対位置を修正して第２配置にもとづき上記要素を直線状
   に配置する装置において、上記要素（１）が、共通の架
   台（３）に可動に取付けてあり、該装置が、要素の配列
   に平行に可動な少なくとも１つのシャトル（５）と、シ
   ャトルおよび上記要素の少なくとも１つを選択的に停止
   する手段と、シャトルおよび上記シャトルに結合された
   １つまたは複数の要素を所定位置まで移動する手段（７
   ）とを含むことを特徴とする多数の要素の位置修正装置
   。 ５、要素が、それぞれ、すべての台車（２）に共通な架
   台（３）に可動に取付けた台車（２）に配してあること
   を特徴とする特許請求の範囲第４項記載の多数の要素の
   位置修正装置。 ６、シャトルおよび上記台車の少なくとも１つを選択的
   に結合する手段が、台車（２）に取付けた電磁石（１０
   ）を含み、電磁石の磁心（１１）が、シャトルに対して
   分離された状態に対応する引込位置とシャトルに対して
   結合された状態に対応する引出位置との間で可動である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の多数の要
   素の位置修正装置。 ７、シャトル（５）が、シャトルに台車を結合する電磁
   石（１０）のレベルに台車経路に平行に設けてあって、
   複数の孔（９）を備えたプレート（８）を含み、上記孔
   は、台車経路に平行な配列を形成し、シャトルおよび台
   車を並進するよう結合するため台車の電磁石（１０）の
   磁心（１１）の端部と選択的に共働することを特徴とす
   る特許請求の範囲第６項記載の多数の要素の位置修正装
   置。 ８、所定位置までシャトルを変位する手段（７）が、ス
   テップモータに結合された電動ジャッキを含むことを特
   徴とする特許請求の範囲第４〜７項のいずれか１つに記
   載の多数の要素の位置修正装置。 ９、該装置が、更に、シャトルによって所定位置に設置
   した後に架台に対して固定の位置に台車を保持するため
   架台と台車とを摩擦結合する手段を含むことを特徴とす
   る特許請求の範囲第４〜８項のいずれか１つに記載の多
   数の要素の位置修正装置。 １０、摩擦結合手段が、台車に取付けた第２電磁石（１
   ２）を含み、電磁石の磁心（１３）が、シャトルによっ
   て台車を変位できる引込位置と摩擦結合するため架台の
   荒い面に当接する引出位置との間で可動であることを特
   徴とする特許請求の範囲第９項記載の多数の要素の位置
   修正装置。 １１、結合手段およびシャトル変位手段が、コンピュー
   タによって誘導されることを特徴とする特許請求の範囲
   第４〜１０項のいずれか１つに記載の多数の要素の位置
   修正装置。 １２、配列された要素が、下方の進行中の基体上に粉体
   製品で層を形成するために上記基体の変位方向に対して
   直角に配置された分配ノズルにガス中に懸濁された粉体
   製品を供給するためのインジェクタであることを特徴と
   する特許請求の範囲第４〜１１項のいずれか１つに記載
   の多数の要素の位置修正装置。 １３、基体がガラスシートであることを特徴とする特許
   請求の範囲第１２項記載の多数の要素の位置修正装置。