JPH02299889A - インキメータリングローラ、その製造方法及びそれを用いたインキングシステム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背！ リトグラフ印刷に対するキーレスインキングの実施にお
いて、そこではインキは印刷システムにメータリングロ
ーラとそれと共同する掻とリブレードの手段で計量供給
（メータ）されるのであるが、Ｆｘｄｎｅｒは米国特許
第４，６０１．２４２において、ＦｓｄｎｅｒとＨｙｅ
ｎｅｒは米国特許第４，５３７゜１２７において、又Ｆ
ｇｄｎｅｒは米国特許第４，６０３．６３４において、
インキメータリングローラの表面が疎水性と親油性の二
重の性質をもち、それが撥水性でかつ油をひきつけ易い
有利な方法と手段を開示した。この二重の性質はリトグ
ラフのインキメータリングローラがインキを保持する寸
法側のセルを形成することもインキを保持することがで
きる不規則に配列された空隙をもつ表面を形成すること
も可能にする。キーレスインキングの実際問題において
は、リトグラフィーが使われるインキのフィルム中に水
の存在を要求するので、インキメータリングローラの表
面に親油性と疎水性をもつことが重要である。インキメ
ータリングローラ表面に親水性又は水をひきつける部分
があると、水がそれらの部分からインキを追い出したり
外したりし、それによってローラのインキの保持やイン
キの計量供給能力を途絶させるであろう。

上述のＦｊｄｎｅ＋らの先行技術文献は又、疎水性でか
つ親油性であるメータリングローラを備えることによっ
て一貫したインキの計量供給が確保された場合でも、イ
ンキングローラ上のインキフィルムの水含量は、印刷さ
れるフォーマットを満足するのに消費されるインキと水
の相対的な量によって、プレスの巾の中で異るかもしれ
ないと教示している。１回の印刷運転の間プレスのどこ
にも均一にインキを供給するためには一定の組成のイン
キを印刷プレートのすべての部分に連続的に確実に送る
ことが必要である。プレスの金山に亘って一定の組成の
インキを送らなければ、低い印刷密度の領域では水の含
量が増加する傾向となり、望ましくない品質の印刷が生
じる。プレスの全中に亘って均一のインキ組成を得る方
法はＦｓｄｎｅｒらによって米国特許第４，６９０．０
５５に開示されている。

サトウ及びハラダによって米国特許第４，６３７．３１
０において開示されたセルをもつメータリングローラの
ランド面積のように、又はＷａｒｎｅ＋によって米国特
許第４．２８７．８２７に開示されたセルのない平滑表
面のメータリングローラのように、親木領域がランダム
又は幾何学的に均一な方法のどちらかで意図的に含まれ
ている時は、親水性領域から離脱するインキによるどん
な水の障害でも親水領域を形成するときに選ばれたパタ
ーンに一致するために、インキの計量供給の予測が達成
されるであろうことは推論しえる。しがし、プレスの全
中に亘ろ水とインキの量、従ってそれぞれが要求する相
対的な量はいかなる場合も使われる印刷プレートの画像
及び非画像のフォーマットによって決定される。印刷フ
ォーマットは一般的に均一でなく又印刷運転毎に同じで
あることは稀である。結論的に、親油性及び親水性の技
術を用いた装置を運転するときは水によって離脱するイ
ンキの範囲はメータリングローラのさまざまな場所にお
けるインキ中にその時その時に存在する水の量による。

これらの場所は一方では印刷プレート上のフォーマット
を印刷するために必要なさまざまなプレスに亘るインキ
と水の量に相当する。

親水性領域におけるインキ中の水の含量が高いほど対応
する領域におけるインキの離脱のためにインキの保持能
力が低減する傾向が強くなる。結果は、印刷フォーマッ
トが変更されるとプレスの運転毎にインキの供給が変り
、それに付随して予期よりも低い又は予期以上に高い光
学密度の印刷領域ができる。

クロームとアルミニウムの酸化物及びタングステンカー
バイドのような硬質セラミック材料は本来高エネルギー
材料で、相応じて水の存在下では親水性になる傾向があ
り油性材料だけの存在下では親油性になる傾向がある。

これらの材料を用いて製作されたメータリングローラは
、凸版印刷では水ベースのインキにも油ベースのインキ
にもしばしばうまく使われているが、水をもった油ベー
スのインキを使うリトグラフ印刷では一貫した品質のイ
ンキを出すのに失敗する。出るインキのバラツキの程度
はインキ中の水がローラのセラミック面からインキを排
除しあるいは離脱させるかそうではないかによって決ま
る。前にも記載したように、離脱の程度はクロス−プレ
スのすべての選ばれた位置におけるインキ中の水分含量
により、その水分含量は一方又印刷されるフォーマット
による。

前に引用したようにＦａｄｎｅｒは米国特許第４，６０
１．２４２において、有利な硬い耐磨耗性のセラミック
の性質を用いてかなり長寿命のリトグラフ用インキメー
タリングローラを得る方法を開示している。特に、セラ
ミック粉末、殊にアルミナは、銅メッキのメータリング
ローラベースの上に意図的に約０．５１ｍ（２ミル）未
満の薄い層が溶射される。銅は本来疎水性で親油性であ
る。この方法は表面があたかも銅であったかのように働
くインキと水との相互作用に関する十分な粒間空隙をも
つ硬い耐磨耗表面をつくり、その結果水に優先してイン
キを保持し、しかも同時にかき取り刃の磨耗作用に対し
て耐磨耗性セラミック材料として働く。商業的に実行可
能とはいえ、下層の銅の親油性をセラミック層によって
示される親水性によって打ち消されないことを確実にす
るためにセラミック層を比較的薄くしなければならない
ので、この型のロールは約２千万から３子方回の印刷プ
レスの寿命である。更に本来親水性であるセラミック層
は、使用と印刷プレスの洗浄に伴う汚れの蓄積によって
親水性が増してくるかもしれない。

この発明の第１の目的はインキの中に水の存在が含まれ
るキーレスリトグラフ印刷プレスシステムにおいて長い
運転寿命が確保される簡単で安価なインキメータリング
ローラを提供することである。

この発明の付加的な目的は、親油性で疎水性の、化学的
に不活性の本質的に有機材料が浸透された微孔性耐磨耗
性の表面層をもつインキメータリングロールを製造する
プロセスを提供することである。

この発明のなおもうひとつの目的は、本来優秀な耐磨耗
性を減じることなしに疎水性で親油性をもつ複合層の部
分として、硬くて耐磨耗性がありしかし本来は親水性の
セラミック材料を使うことができる方法を提供すること
である。

更にこの発明の目的は、高度の耐磨耗性と、水の存在下
における油性インキの保持に対する優先的な親和性とを
組合わせた複合構造をもつ改良されたインキングローラ
を提供することである。

この発明のその他の目的と利点は以下に示す付属の明細
書及び図面を参照することによって部分的に明らかにな
り又部分的に説明されるであろう。

発明の要約 この発明は新しい、高速リトグラフ印刷プレスシステム
におけるインキのメータリングに対する改良されたイン
キメータリングロールと、インキングシステムを単純化
し、又印刷プレスの操作中に操作者の調整や注意の程度
を単純化するため提供されるキーレス方式におけるイン
キングシステムに関する。

通常、キーレスインキングシステムを用いる印刷機はイ
ンキ受又はインキ溜１０、ポンプ１１及びインキパンと
結ぶ管１３、その中に位置し摩擦駆動のインキ移しロー
ラ１５にインキを供給するメータリングローラ１３′を
含む。逆角度の掻き取り刃又はメータリング刃１６はメ
ータリングローラ１３′　に対し働き、メータリングロ
ーラ１３′上にインキがあるときはそれがセルの中にあ
る場合を除きそのすべてをとり去る。移しローラ１５か
らのインキは、湿し機２１から供給される水とそこで結
合される実質的に平滑なインキングドラム２０に移され
る。湿し流体は図示のようにインキロール２０へ又は仮
想線２６で示されるように直接プレートロール２５へ、
そのいずれか適当な方法で供給可能である。メータリン
グロール１３′に対し働く掻きとり刃１６（又は他のイ
ンキ除去手段）は実質的にすべての過剰のインキ皮膜を
そこから連続的に取除くためにある。前述のエレメント
のすべては、プレス駆動プレートシリンダ２５上に取り
つけられた印刷プレート２８上に均一なインキ皮膜を供
給するために機能する。

シリンダ２５上のプレートは一方画像の形で、例えば、
ブランケットシリンダ３１と加圧シリンダー３２とが協
働して形成する印刷ニップを通して送られるペーパウェ
ブ３０にインキを供給する。

第１図中のすべてのローラは軸が平行に配列される。

その他の多くの印刷機の配列が当業者及びキーレスリト
グラフ印刷科学分野の技術者には明らかにすることがで
きるが、この発明の本来の運用に対し重要な第１の特徴
は以下に検討される。

印刷プレートにつくインキの量は、インキメータリング
ローラの表面に形成される窪み又はインキ受セルの寸法
によって調整され、そのローラは同一の巾の掻きとり刃
又はドクターブレードをもちセル又は窪みの中にあるも
の以外は実質的にすべてのインキをセルのあ、るメータ
リングローラから連続的に除去する。

インキメータリングローラは適当な強度、長さ及び直径
をもつ鋼、アルミニウム又は同等の芯材を比較的厚い耐
磨耗性のセラミック材料で適当に被覆されたもので構成
される。ロール表面はすべての場合に彫られる必要はな
いが、レーザ彫刻は正確な寸法と位置をもつセル又は痛
みを形成するために使うことができ、そのセルはインキ
の所望量を正確に計量するために働く掻とりドクターブ
レードを備える。磨耗に関連するローラの実用的な寿命
の間はローラ面のすべての領域においてインキの正確で
連続的な計量を確保するためにセラミック材料は、疎水
性で親油性の反応生成物を形成するためにそれらの個々
の成分と反応する有機材料で浸透される。

第２図はこの発明のひとつの形態の断面で、ここではメ
ータリングローラ１４をつくるために使われるベースロ
ーラは３５で示されるセラミック被覆が施される前に彫
られる。

図示のセルをもったメータリングローラ１３′は前記の
ように、機械的に彫ったあとで被覆するか又は最初に被
覆したあとレーザーで彫ってローラの被覆面に窪みのセ
ルパターンをつくることができる。窪みの容積と数は印
刷される光学密度仕様に合致するために必要なインキの
容積をベースとし、既知の手法に従って選ばれる。もし
くは、ローラはここに述べられたような硬い、親油性で
疎水性をもつ見かけ上平滑な表面をもっこともできる。

ローラ１３′は通常印刷システムへのインキの供給を計
量するために掻きとり刃又はドクターブレードが共に採
用される。ローラ２０は通常その代りに印刷プレートに
接近した位置においてメータリングローラとして採用さ
れ、その位置に存在する使用済の戻りインキの実質的に
全量を印刷システムから除く掻きとり刃（図示しない）
と共に機能する。ローラ１３′及び１ｒ５はそのときは
必要ない。どちらの場合でも、供給されたインキの未使
用部分であるインキの戻りフィルムは、連続的に掻きと
られインキ溜め１０に導かれ続いてポンプ１１によって
セルをもったメータリングローラ１３′に戻され連続循
環される。これらのキーレスリトグラフ印刷の運転要素
の多くはより詳しく　Ｆｇｄｎｅｔらの米国特許第４．
６９０．０５５に記載されている。

アルミナ、タングステンカーバイド、又は酸化クローム
のような普通に得られる硬い耐層性のセラミック及びセ
ラミック様の材料が、それらのすべてはインキングロー
ラの製造者でも得られるが、水性と油性の両方の液体が
存在するときには油ベースのインキの層よりもむしろ水
ベースの層をそれらの表面にもつことを好むということ
を発見した。さまざまなセラミック材料が硬い耐磨耗性
のインキメータリングローラの最上面として、単一の油
ベースの印刷流体を含む凸版印刷に対しても、単一の水
ベースのインキング流体を用いるフレキソグラフィック
印刷システムに対しても機能することが知られていると
はいえ、これらの同じセラミック表面がリトグラフ印刷
に用いられる場合は、十分な湿らせ水がインキを通して
ローラに浸透する時はいつでも、油又は樹脂ベースのイ
ンキを外すようになる。これはセラミック材料のような
親水性又は水を好む性質の表面が、水のないときは親油
性又は油を好む性質であることを考えればより容易に理
解される。新鮮な、未使用の水のないリトグラフインキ
がセラミックに適用される時は、インキは最初はローラ
表面によく着きよく湿す。

このような初期条件下では正常なインキメータリング性
能が観察される。しかしリトグラフ印刷操作の間に、イ
ンキ中の水の含量が増加するにつれて、ローラニップ圧
力とインキ中の水の含量の増加との組合せが水をインキ
層を通してセラミックメータリングローラ表面へ押し込
む条件に到達する。ローラ表面に選好的に吸着すること
によって、水はインキをその表面から追い出し、それに
よって以後インキ供給手段からインキをピックアップす
ることができな（なる。

キーレスリトグラフインキシステムにおけるインキの計
量のために技術の発達段階にあるセラミック被覆ローラ
を使用することに伴う水による障害の問題は、親油性で
疎水性の反応生成物を形成するためにそれらの個々の成
分の内部で反応する有機材料をセラミックローラの表面
にしっかりと施しそしてセラミック材料の微孔層の隙間
に浸みこませることによって排除しえることを発見した
。

このように処理されたセラミックローラは、前述の化学
関連のインキ計量欠陥なしにリトグラフ印刷システムに
おいてメータリングローラとして機能する。

この発明のひとつの形式において、鋼又はアルミニウム
又はその他の好適なローラが例えば第２図に示されるの
と同じパターンに機械的に彫られ、ついで芯材の表面に
最初に与えたセル構造を実質的に保持して、約１．２７
から２．０３１１ｍｌ（５から８ミル）の最大の厚さに
溶射法によってセラミック被覆がなされる。アルミニウ
ムでつくられたベースローラの場合には、ローラは同じ
場所にセラミック様の層を形成するために硬質陽極酸化
処理を施すことができる。析出プロセスは通常セラミッ
ク被覆装置で薄い被覆を繰返し施す必要があり、ついで
この明細書の他のところに記載されたような選ばれた有
機物質が浸透される。

別法として、ローラ芯材は同様に機械的に彫うレ、ツｔ
；）テｉ常約０，０３から０．０５８（０，１から０．
２ミル）未満の厚さの被覆にセラミック粉の薄い被膜で
ワンバスの溶射被覆が施され、そのあと親油性で疎水性
の材料を形成するために反応する有機物質で浸透され、
その後別のセラミック被覆バスが施されついで別の浸透
処理がなされ、このようにして逐次被覆、浸透処理によ
って所望の１．２７から２．ｏ３■（５から８ミル）厚
のセラミック被覆がっくりあげられるまで繰返される。

所望の多孔層は又、鋼又はアルミニウムローラ芯材を選
ばれたセラミック粒子を用いたマルチパス溶射被覆に曝
すことによっても得られ、０．７６から２．５４ｍｍ（
３から１０ミル）又はそれ以上の被覆がっくりあげられ
る。第４図及び第５図において４０で示されるようなこ
の被覆はついで例えば第５図において画かれるようなセ
ルパターン４１をつくるためにレーザで彫られ、その後
セラミック表面に有機試薬が浸透される。

同じ種類の構造は、所望の有機／セラミック被覆厚さを
得るために約６から２０回のシリーズ又はそのようなシ
ーケンスにおけるそれぞれの溶射被覆バスの後に有機物
が施され、ついで所望のインキ保有容量をつくるために
レーザで彫ることによって得ることができる。

数種類の親油性で疎水性の材料を形成する試剤を使うこ
とができる。親油性で疎水性の試剤はここでは微孔性セ
ラミックに浸透可能で、ついで加熱、紫外線照射等によ
って反応又は硬化されて親油性で疎水性の不動体を形成
する有機物質を意味する。これらは一般的に可溶性固体
でありそしてその故にミスト、スプレー、浸漬又はその
他の周知の施工法によって施すことができる液体でもあ
る。親油性で疎水性の材料を提供する重要な目的のひと
つは、微孔性セラミック粉末被覆表面を、親油性で疎水
性の材料をできる限り深く被覆に浸透させることによっ
て可能な限り油吸引性で撥水性にすることである。高度
に流動性の液体系が好ましい。簡単なスプレー塗装技術
はローラ回転による浸漬塗装と同様に適切である。溶剤
中の反応試剤の希薄溶液は数秒ないし数分間放置するこ
とによってセラミック被覆の隙間に深く浸透させること
を助長するであろう。

すべての場合、親油性で疎水性の材料は本質的に非流動
性でセラミック粉末被覆の空隙および表面にしっかり接
着するかその中に封じ込めるようにしなければならない
。この発明の目的は化学的に自己反応性で、疎水性で親
油性の材料を形成する有機材料を浸透することによって
達成される。

通常これらは、それに取り込まれる化学的に反応性のグ
ループをもつ長鎖の炭化水素又は実質的に炭化水素高分
子材料である。この要件を充す材料は、全て、以下に検
討する仕上げローラ接触角基準を満足する重合性又はカ
ップリング反応性の実質的に炭化水素モノマー、共重合
体、プレポリマー及びその他である。具体的には反応性
ポリスチレン、ポリイソブチレン、アクリロニトリル−
ブタジエン−スチレン、ポリブタジェン、ニトリルゴム
等の物質である。もうひとつの好適な物質はＰｕ１ｃｒ
ｔ化学社で製造販売されている４９２×６２１５と命名
された２部分の化学反応性のエポキシ／アミン系である
。これらのクラスのその他の有用な親油性で疎水性の材
料は化学及び高分子科学の当業者にとっては明らかであ
り又ここに開示されたこの発明の原理をベースとすれば
明らかである。

第６図は親油性で疎水性の材料がセラミック被覆によっ
て形成される空隙に浸透する方式を図解している。第６
図において５０は一般的に耐層耗層複合体を示し、５１
はセラミック材料の粒子を示し、５２は所望の親油性で
疎水性の反応生成物を形成するために適切な方法により
反応する浸透した物質を示す。最大の有効寿命をえるた
めには着いたセラミック層によって形成された空隙のす
べての連通ネットワークが層の全容積に亘って実質的に
完全に浸透されていることが好ましい。

この発明の実施に従って親油性で疎水性の材料を形成す
るために反応することができる有機試剤の、ある一般的
な又は特定の材料の開示にも拘らず、リドゲラフィンキ
ングローラとして得られたローラの使用に対する重要な
基準が、処理されたローラの表面にインキオイル及び水
の滴が自然に拡がる程度を測定することによって大なり
小なり予測することができる。標準の表面化学の教科書
に記載されているような無柄滴（ｓｅｓｓｉｌｅ　ｄｒ
ｏｐ）の技術はこの性質の測定に有用である。一般的に
、親油性で疎水性のローラ材料はインキオイル（Ｆｌｉ
ｎｔ　Ｉｎｋ　Ｃｏ、　）の接触角はぼ０°をもち、蒸
留水の接触角約９０°又はそれ以上をもち、この値は親
油性で疎水性の材料を定義するのに役立つ。

例えば下記のルールはこの原理に従って材料を選ぶため
に建設的ではあるが限定的ではないということを発見し
た。

最高　　　　　水接触角　９０°又はそれ以上インキオ
イル接触角　１０°又は それ以下で拡散 受入れ可　　　水接触角　８０°又はそれ以上インキオ
イル接触角　１０’又は それ以下で拡散 受入れ不可　　水接触角　８０°未満 インキオイル接触角　１０’以上 及び／又は非拡散 この親油性と疎水性をここに定義したようにもつ材料は
リトグラフ印刷プレス版の実施において、インキと水の
両者がその表面に存在するか押し込まれたときに水又は
湿し剤に優先してその表面にリトグラフインキを受入れ
、保有し、維持するであろう。そしてリトグラフ印刷イ
ンキングローラに用いられるローラを、ひとつ又はそれ
以上のインキングローラから水によってインキを離脱さ
せることにより印刷インキの比重調整の低下なしに印刷
される基板に対しインキ溜からインキを移し替えるのを
助長するように仕向けることができるのは、この親油性
と疎水性の組合せによるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のインキメータリングロールを組みこ
んだリトグラフ印刷の配列を説明するキーレスリトグラ
フ印刷システムの輪郭の側面系統図である。 第２図はこの発明のロールの部分断面図でインキを保持
するために備えられた窪みをもつ滲透した耐磨耗性表面
を示す。 第３図は第２図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける痛みのないローラをもつ。 第４図は第２図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みの変形を示す。 第５図は第４図の平面図で、そして 第６図は微孔性セラミック層の拡大説明断面図で親油性
で疎水性の反応生成物の配置を示す。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）印刷を形成する媒体として油ベースインキと水と
   の混合物を用いるキーレス印刷に使用されるインキメー
   タリングローラであって以下を含むもの。 ａ、実質的に円筒形の外表面をもち予め選ばれた強度と
   直径と長さをもつベースローラ。ｂ、前述のベースロー
   ラの外表面に対する連続の微孔性セラミック層成形体で
   あって、前述の微孔性層が前述のセラミック層の実質的
   に全容積に亘って透過している空隙が相互に結び合わさ
   れたネットワークを形づくるもの。及び ｃ、水との接触角が９０゜以上で、インキオイルとの接
   触角が１０゜以下で拡散する、実質的に炭化水素モノマ
   ー、共重合体及びプレポリマーである、カプリング反応
   物及び重合物からなるグループから選ばれた材料の親油
   性で疎水性の反応生成物。
2. （２）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であつて、前述の親油性で疎水性の反応生成物が以下の
   物質からなるグループから選ばれた反応材料から形成さ
   れることを特徴とするもの。 ａ、ポリスチレン； ｂ、ポリイソブチレン； ｃ、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン；ｄ、ポ
   リブタジエン；及び ｅ、ニトリルゴム
3. （３）請求項（２）に記載のインキメータリングローラ
   であつて、前述の親油性で疎水性の反応生成物がポリス
   チレンの反応によって形成されることを特徴とするもの
   。
4. （４）請求項（２）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の親油性で疎水性の反応生成物がポリイ
   ソブチレンの反応によって形成されることを特徴とする
   もの。
5. （５）請求項（２）に記載のインキメータリングローラ
   であつて、前述の親油性で疎水性の反応生成物がアクリ
   ロニトリル−ブタジエン−スチレンの反応によって形成
   されることを特徴とするもの。
6. （６）請求項（２）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の親油性で疎水性の反応生成物がポリブ
   タジエンの反応によって形成されることを特徴とするも
   の。
7. （７）請求項（２）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の親油性で疎水性の反応生成物がニトリ
   ルゴムの反応によって形成されることを特徴とするもの
   。
8. （８）親油性で疎水性の耐磨耗性インキメータリングロ
   ーラの製造プロセスにおいて以下を含むステップ。 ａ、実質的に微孔性層の全容積に亘つて透過している空
   隙が相互に結び合わされたネットワークを形づくる微孔
   性セラミック材料で形成される実質的に円筒形の表面層
   をもつロールを用意する。 ｂ、水との接触角が９０゜以上で、インキオイルとの接
   触角が１０゜以下で拡散する、実質的に炭化水素モノマ
   ー、共重合体及びプレポリマーであるカプリング反応性
   物及び重合性物からなるグループから選ばれた反応有機
   材料の溶質で、相互に結び合わされたネットワークを浸
   透する。及び ｃ、前述の選ばれた有機物を、反応させそして相互に結
   び合わされたネットワーク中において親油性で疎水性の
   物質を形成させるための処理を施す。
9. （９）請求項（８）に記載のプロセスであって、微孔性
   セラミック層がベースロール上に逐増方式で着けられそ
   してそれぞれの増分層が次のセラミック層の増分が着け
   られる前に浸透されることを特徴とするプロセス。
10. （１０）印刷形成媒体として油ベースのインキと水との
    混合物を用いる、複数の被覆インキングローラを含む印
    刷に使われるインキングシステムであって、前述のイン
    キングローラのひとつが以下を含むインキメータリング
    ローラであるインキングシステム。 ａ、実質的に円筒形の外表面をもち、予め選ばれた強度
    と直径と長さをもつベースローラ。 ｂ、前述のベースローラの表面に密着結合した連続の微
    孔性セラミック層であって、前述の微孔性層が前述のセ
    ラミック層の実質的に全容積に亘って透過している空隙
    が相互に結び合わされたネットワークを形づくるもの。 そして ｃ、以下を構成するグループから選ばれた有機材料の親
    油性で疎水性の反応生成物。 ａ）、ポリスチレン； ｂ）、ポリイソブチレン； ｃ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン； ｄ）、ポリブタジエン； ｅ）、ニトリルゴム；及び ｆ）、前述の浸透微孔性セラミック被覆ベースロールと
    逆角度の関係で接触するように取付けられ、過剰のイン
    キをそれから取除く掻きとり手段。