JPH02299890A - 疎水性で親油性の微孔性インキメータリングローラ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 リトグラフ印刷に対するキーレスインキングの実施にお
いて、そこではインキは印刷システムにメータリングロ
ーラとそれと共同する掻とりブレードの手段で計量供給
（メータ）されるのであるが、ＦｌｄｌｌＮは米国特許
第４，６０１．２４２において、ＦａｄａｅｔとＨｙｅ
ｎｅｔは米国特許第４．５３７゜１２７において、又Ｆ
ａｄｎｅｒは米国特許第４．６０３．６３４において、
インキメータリングローラの表面が疎水性と親油性の二
重の性質をもち、それが撥水性でかつ油をひきつけ易い
有利な方法と手段を開示した。この二重の性質はリトグ
ラフのインキメータリングローラがインキを保持する寸
法側のセルを形成することもインキを保持することがで
きる不規則に配列された空隙をもつ表面を形成すること
も可能にする。キーレスインキングの実際問題において
は、リトグラフィーが使われるインキのフィルム中に水
の存在を要求するので、インキメータリングローラの表
面に親油性と疎水性をもつことが重要である。インキメ
ータリングローラ表面に親水性又は水をひきつける部分
があると、水がそれらの部分からインキを追い出したり
外したりし、それによってローラのインキの保持やイン
キの計量供給能力を途絶させるであろう。

上述のＦｓｄｎｅｒらの初期の技術文献は又、疎水性で
かつ親油性であるメータリングローラを備えることによ
って一貫したインキの計量供給が確保された場合でも、
インキングローラ上のインキフィルムの水含量は、印刷
されるフォーマットを満足するのに消費されるインキと
水の相対的な量によって、プレスの巾の中で異るかもし
れないと教示している。１回の印刷運転の間プレスのど
こにも均一にはインキを供給するためには一定の組成の
インキを印刷プレートのすべての部分に連続的に確実に
送ることが必要である。プレスの全中に亘って一定の組
成のインキを送らなければ、低い印刷密度の領域では水
の含量が増加する傾向となり、望ましくない品質の印刷
が生じる。プレスの金山に亘って均一のインキ組成を得
る方法はＦｘｄｎｅｒらによって米国特許第４．６９０
．０５５に開示されている。

サトウ及びハラダによって米国特許第４，６３７．３１
０において開示されたセルをもつメータリングローラの
ランド面積のように、又はＷａｒｎｅｒによって米国特
許第４．２８７．８２７に開示されたセルのない平滑表
面のメータリングローラのように、親水領域がランダム
又は幾何学的に均一な方法のどちらかで意図的に含まれ
ている時は、親水性領域から離脱するインキによるどん
な水の障害でも親水領域を形成するときに選ばれたパタ
ーンに一致するために、インキの計量供給の予測が達成
されるであろうことは推論しえる。しかし、プレスの全
中に亘ろ水とインキの量、従ってそれぞれが要求する相
対的な量はいかなる場合も使われる印刷プレートの画像
及び非画像のフォーマットによって決定される。印刷フ
ォーマットは一般的に均一でなく又印刷運転毎に同じで
あることは稀である。結論的に、親油性及び親水性の技
術を用いた装置を運転するときは水によって離脱するイ
ンキの範囲はメータリングローラのさまざまな場所にお
けるインキ中にその時その時に存在する水の量による。

これらの場所は一方では印刷プレート上のフォーマット
を印刷するために必要なさまざまなプレスに亘るインキ
と水の量に相当する。

親水性領域におけるインキ中の水の含量が高いほど対応
する領域におけるインキの離脱のためにインキの保持能
力が低減する傾向が強くなる。結果は、印刷フォーマッ
トが変更されるとプレスの運転毎にインキの供給が変り
、それに付随して予期よりも低い又は予期以上に高い光
学密度の印刷領域ができる。

クロームとアルミニウムの酸化物及びタングステンカー
バイドのような硬質セラミック材料は本来高エネルギー
材料で、相応して水の存在下では親水性になる傾向があ
り油性材料だけの存在下では親油性になる傾向がある。

これらの材料を用いて製作されたメータリングローラは
、凸版印刷では水ベースのインキにも油ベースのインキ
にもしばしばうまく使われているが、水をもった油ベー
スのインキを使うリトグラフ印刷では一貫した品質のイ
ンキを出すのに失敗する。出るインキのバラツキの程度
はインキ中の水がローラのセラミック面からインキを排
除しあるいは離脱させるかそうでないかによって決まる
。前にも記載したように、離脱の程度はクロス−プレス
のすべての選ばれた位置におけるインキ中の水分含量に
より、その水分含量は一方又印刷されるフォーマットに
よる。

前に引用したようにＦａｄｎｃｔは米国特許第４，６０
１，２４２において、有利な硬い耐磨耗性のセラミック
の性質を用いてかなり長寿命のリトグラフ用インキメー
タリングローラを得る方法を開示している。明らかに、
セラミック粉末、特にアルミナは、銅メッキのメータリ
ングローラベースの上に意図的に約０．５１ｍｍ（２ミ
ル）未満の薄い層が溶射される。銅は本来疎水性で親油
性である。

この方法は表面があたかも銅であったかのように働くイ
ンキと水との相互作用に関する十分な粒間空隙をもつ硬
い耐磨耗表面をつくり、その結果水に優先してインキを
保持し、しかも同時にかき取り刃の磨耗作用に対して耐
磨耗性セラミック材料として働く。商業的に実行可能と
はいえ、下層の銅の親油性をセラミック層によって示さ
れる親水性によって打ち消されないことを確実にするた
めにセラミック層を比較的薄くしなければならないので
、この型のロールは約２千万から３千万回の印刷プレス
の寿命である。更に本来親水性であるセラミック層は、
使用と印刷プレスの洗浄に伴う汚れの蓄積によって親水
性が増してくるかもしれない。

この発明の第１の目的はインキの中に水の存在が含まれ
るキーレスリトグラフ印刷プレスシステムにおいて長い
運転寿命が確保される簡単で安価なインキメータリング
ローラを提供することである。

この発明の付加的な目的は、セラミックと反応して親油
性で疎水性の、反応生成物表面層を形成する本質的に有
機材料が浸透された微孔性耐磨耗性の表面層をもつイン
キメータリングロールを製造するプロセスを提供するこ
とである。

この発明のなおもうひとつの目的は、本来優秀な耐磨耗
性を減じることなしに硬くて耐磨耗性がありしかし本来
は親水性のセラミック材料を疎水性で親油性にすること
ができる方法を提供することである。

更にこの発明の目的は、高度の耐磨耗性と、水の存在下
における油性インキの保持に対する優先的な親和性とを
組合わせた複合構造をもつ改良されたインキングローラ
を提供することである。

この発明のその他の目的と利点は以下に示す付属の明細
書及び図面を参照することによって部分的に明らかにな
り又部分的に説明されるであろう。

発明の要約 この発明は新しい、高速リトグラフ印刷プレスシステム
におけるインキのメータリングに対する改良されたイン
キメータリングロールと、インキングシステムを単純化
し、又印刷プレスの操作中に操作者の調整や注意の程度
を単純化するため提供されるキーレス方式におけるイン
キングシステムに関する。

通常、キーレスインキングシステムを用いる印刷機はイ
ンキ受又はインキ溜１０、ポンプ１１及びインキパンと
結ぶ管１３、その中に位置し摩擦駆動のインキ移しロー
ラａ、にインキを供給するメータリングローラ１３′を
含む。逆角度の掻き取り刃又はメータリング刃１６はメ
ータリングローラ１３′に対し働き、メータリングロー
ラ１３′上にインキがあるときはそれがセルの中にある
場合を除きそのすべてをとり去る。移しローラａ、から
のインキは、湿し機２１から供給される水とそこで結合
される実質的に平滑なインキングドラム２０に移される
。湿し流体は図示のようにインキロール２０へ又は仮想
線２６で示されるように直接プレートロール２５へ、そ
のいずれか適当な方法で供給可能である。メータリング
ロール１３′に対し働く掻きとり刃１６（又は他のイン
キ除去手段）は実質的にすべての過剰のインキ皮膜をそ
こから連続的に取除くためにある。前述のエレメントの
すべては、プレス駆動プレートシリンダ２，５上に取り
つけられた印刷プレート２８上に均一なインキ皮膜を供
給するために機能する。

シリンダ２５上のプレートは一方画像の形で、例えば、
ブランケットシリンダ３１と加圧シリンダー３２とが協
働して形成する印刷ニップを通して送られるペーパウェ
ブ３０にインキを供給する。

第１図中のすべてのローラは軸が平行に配列される。

その他の多くの印刷機の配列が当業者及びキーレスリト
グラフ印刷科学分野の技術者には明らかにすることがで
きるが、この発明の本来の運用に対し重要な第１の特徴
は以下に検討される。

印刷プレートにつくインキの量は、インキメータリング
ローラの表面に形成される窪み又はインキ受セルの寸法
によって調整され、そのローラは同一の巾の掻きとり刃
又はドクターブレードをもちセル又は窪みの中にあるも
の以外は実質的にすべてのインキをセルのあるメータリ
ングローラから連続的に除去する。

インキメータリングローラは適当な強度、長さ及び直径
をもつ鋼、アルミニウム又は同等の芯材を比較的厚い耐
磨耗性のセラミック材料で適当に被覆されたもので構成
される。ロール表面はすべての場合に彫られる必要はな
いが、レーザ彫刻は正確な寸法と位置をもつセル又は窪
みを形成するために使うことができ、そのセルはインキ
の所望量を正確に計量するために働く掻とりドクターブ
レードを備える。磨耗に関連するローラの実用的な寿命
の間はローラ面のすべての領域においてインキの正確で
連続的な計量を確保するためにセラミック材料は、セラ
ミックマトリックスと反応して疎水性で親油性の反応生
成物を形成する材料で浸透される。

第２図はこの発明のひとつの形態の断面で、ここではメ
ータリングローラ１４をつくるために使われるベースロ
ーラは３５で示されるセラミック被覆が施される前に彫
られる。

図示のセルをもったメータリングローラ１３′は前記の
ように、機械的に彫ったあとで被覆するか又は最初に被
覆したあとレーザーで彫ってローラの被覆面に窪みのセ
ルパターンをつくることができる。窪みの容積と数は印
刷される光学密度仕様に合致するために必要なインキの
容積をベースとし、既知の手法に従って選ばれる。もし
くは、ローラはここに述べられたような硬い、親油性で
疎水性をもつ見かけ上平溝な表面をもつこともできる。

ローラ１３′は通常印刷システムへのインキの供給を計
量するために掻きとり刃又はドクターブレードが共に採
用される。ローラ２０は通常その代りに印刷プレートに
接近した位置においてメータリングローラとして採用さ
れ、その位置に存在する使用済の戻りインキの実質的に
全量を印刷システムから除く掻きとり刃（図示しない）
と共に機能する。ローラ１３′及びａ、はそのときは必
要ない。どちらの場合でも、供給されたインキの未使用
部分であるインキの戻りフィルムは、連続的に掻きとら
れインキ溜め１０に導かれ続いてポンプ１１によってセ
ルをもったメータリングローラ１３′に戻され連続循環
される。これらのキーレスリトグラフ印刷の運転要素の
多くはより詳しく　Ｆｘｄｎｅｒらの米国特許第４，６
９０．０５５に記載されている。

アルミナ、タングステンカーバイド、又は酸化クローム
のような普通に得られる硬い耐層性のセラミック及びセ
ラミック様の材料が、それらのすべてはインキングロー
ラの製造者でも得られるが、水性と油性の両方の液体が
存在するときには油ベースのインキの層よりもむしろ水
ベースの層をそれらの表面にもつことを好むということ
を発見した。さまざまなセラミック材料が硬い耐磨耗性
のインキメータリングローラの最上面として、単一の油
ベースの印刷流体を含む凸版印刷に対しても、単一の水
ベースのインキング流体を用いるフレキソグラフィック
印刷システムに対しても機能することが知られていると
はいえ、これらの同じセラミック表面がリトグラフ印刷
に用いられる場合は、十分な湿らせ水がインキを通して
ローラに浸透する時はいつでも、油又は樹脂ベースのイ
ンキを外すようになる。これはセラミック材料のような
親水性又は水を好む性質の表面が、水のないときは親油
性又は油を好む性質であることを考えればより容易に理
解される。新鮮な、未使用の水のないリトグラフインキ
がセラミックに適用される時は、インキは最初はローラ
表面によく着きよく湿す。

このような初期条件下では正常なインキメータリング性
能が観察される。しかしリトグラフ印刷操作の間に、イ
ンキ中の水の含量が増加するにつれて、ローラニップ圧
力とインキ中の水の含量の増加との組合せが水をインキ
層を通してセラミックメータリングローラ表面へ押し込
む条件に到達する。ローラ表面に選好的に吸着すること
によって、水はインキをその表面から追い出し、それに
よって以後インキ供給手段からインキをピックアップす
ることができなくなる。

キーレスリドゲラフィンキングシステムにおけるインキ
の計量のために技術の発達段階にあるセラミック被覆ロ
ーラを使用することに伴う水による障害の問題は、セラ
ミックと反応して親油性と疎水性とをもつ反応生成物を
形成する材料をセラミックローラの表面にしっかりと施
しそしてセラミック材料の微孔層の隙間に浸みこませる
ことによって排除しえることを発見した。このように処
理されたセラミックローラは、前述の化学関連のインキ
計量欠陥なしにリトグラフ印刷システムにおいてメータ
リングローラとして機能する。

この発明のひとつの形式において、鋼又はアルミニウム
又はその他の好適なローラが例えば第２図に示されるの
と同じパターンに機械的に彫られ、ついで芯材の表面に
最初に与えたセル構造を実質的に保持して、約１．２７
から２．０３ｍｍ（５から８ミル）の最大の厚さに溶射
法によってセラミック被覆がなされる。アルミニウムで
つくられたベースローラの場合には、ローラは同じ場所
にセラミック様の層を形成するために硬質陽極酸化処理
を施すことができる。析出プロセスは通常セラミック被
覆装置で薄い被覆を繰返し施す必要があり、ついでこの
明細書の他のところに記載されたような選ばれた有機物
質が浸透される。

別法として、ローラ芯材は同様に機械的に彫られ、つい
で通常約０．０３から０．　０５ｍｍ（０，１から０．
２ミル）未満の厚さの被覆にセラミック粉の薄い被膜で
ワンパスの溶射被覆が施され、そのあとセラミックと反
応して親油性で疎水性の物質を形成する材料で浸透され
、その後別のセラミック被覆パスが施されついで別の浸
透処理がなされ、このようにして逐次被覆、浸透処理に
よって所望の１．２７から２．０３ｍｍ（５から８ミル
）厚のセラミック被覆がつくりあげられるまで繰返され
る。

所望の多孔層は又、鋼又はアルミニウムローラ芯材を選
ばれたセラミック粒子を用いたマルチパス溶射被覆に曝
すことによっても得られ、０．７６から２．５４■（３
から１０ミル）又はそれ以上の被覆がつくりあげられる
。第４図及び第５図において４０で示されるようなこの
被覆はついで例えば第５図において画かれるようなセル
パターン４１をつくるためにレーザで彫られ、その後セ
ラミック表面に反応試剤が浸透される。

同じ種類の構造は、所望の親油性で疎水性のセラミック
被覆厚さを得るために、約６から２０回のシリーズ又は
そのようなシーケンスにおけるそれぞれの溶射被覆パス
の後に反応試剤が施され、ついで所望のインキ保有容量
をつくるためにレーザで彫ることによって得ることがで
きる。

セラミックと反応する数種の試剤を使うことができる。

反応試剤はここでは微孔性セラミックに浸透しそれと反
応して親油性疎水性の反応物を形成しそれによって化学
的にそれに付着するようになることができる有機物質を
意味する。これらは一般的に可溶性の固体であり、又は
その故にミスト、スプレー、浸漬又はその他の周知の施
工法によって施すことができる液体である。反応試剤を
施す重要な目的のひとつは、微孔性セラミック粉末被覆
表面を、疎水性物質をできる限り深くセラミック被覆の
中に浸透させることによって可能な限り親油性でかつ疎
水性にすることである。高度に流動性の液体システムが
好ましい。簡単なスプレー塗装技術はローラ回転による
浸漬塗装と同様に適切である。溶剤中の反応試剤の希薄
溶液は数秒ないし数分間放置することによってセラミッ
ク被覆の隙間に深く浸透させることを助長するであろう
。

すべての場合、最終の親油性で疎水性の反応生成物は本
質的に非流動性でセラミック粉末被覆の空隙及び表面に
しっかり接着するか又はその中に封じ込めるようにしな
ければならない。この発明の目的は高エネルギ表面と化
学的に反応性がある材料を浸透して親油性で疎水性の被
膜を形成することによって達成される。通常これらは化
学的に反応性のグループをもつ長鎖の炭化水素又は実質
的に炭化水素高分子材料である。この要件を充す材料は
、Ｂｓ７ｏｎｎｅ、　Ｎ、　Ｊ、のＫｅｎｒｉｃｈＰｅ
ｔｒｅｃｈｅｍｉｃａ　Ｉｓによって販売されているチ
タネートカプリング剤及びＫｒ１ｅ、Ｐ＾のＬｏｔｄ化
学社によって販売されているシラン試剤からなるグルー
プから選ばれたものである。これらのクラスのその他の
有用な試剤は化学及び高分子科学の当業者にとっては明
らかであり又ここに開示されたこの発明の原理をベース
とすれば明らかである。有効なチタネートカプリング剤
は、イソプロピル、トリ（ジオクチルホスファト）チタ
ネート；チタンジ（オクチルピロホスファト）オキシア
セテート；イソプロピル、トリイソステロイルチタネー
ト；テトラジアリルオキシ−メチル　１−１ブトキシチ
タンジ（ジトリデシル）ホスファイト；及びジ（オクチ
ルホスファト）エチレンチタネートである。有効なシラ
ンカプリング剤はイソブチルトリメトキシシラン及びｎ
−オクチルトリエトキシシランである。

第６図は反応試剤がセラミック被覆によって形成される
空隙に浸透する方式を図解している。第６図において５
０は一般的に耐層耗層複合体を示し、５１はセラミック
材料の粒子を示し、５２は５１と反応して所望の親油性
で疎水性の反応生成物を形成する浸透した物質を示す。

最大の有効寿命をえるためには着いたセラミック層によ
って形成された空隙のすべての連通ネットワークが層の
全容積に亘って実質的に完全に浸透されていることが好
ましい。

この発明の実施に好適な、ある一般的な又は特定の試剤
の開示にも拘らず、リドゲラフィンキングローラとして
得られたローラの使用に対する重要な基準が、処理され
たローラの表面にインキオイル及び水の滴が自然に拡が
る程度を測定することによって大なり小なり予測するこ
とができる。

標準の表面化学の教科書に記載されているような無柄滴
（ｓｅｓａｉｌｅ　ｄｒｏｐ）の技術はこの性質の測定
に有用である。一般的に、親油性で疎水性のローラ材料
はインキオイル（Ｆｌ）ｎｔ　Ｉｎｋ　Ｃｏ、　）の接
触角はぼＯｏをもち、蒸留水の接触角的９０’又はそれ
以上をもち、この値は親油性で疎水性の材料を定義する
のに役立つ。

例えば下記のルールはこの原理に従って材料を選ぶため
に建設的ではあるが限定的ではないということを発見し
た。

最高　　　　　水接触角　９０°又はそれ以上インキオ
イル接触角　１０°又は それ以下で拡散 受入れ可　　　水接触角　８０’又はそれ以上インキオ
イル接触角　１０°又は それ以下で拡散 受入れ不可　　水接触角　８０’未満 インキオイル接触角　１０°以上 及び／又は非拡散 この親油性と疎水性をここに定義したようにもつ材料は
リトグラフ印刷プレス版の実施において、インキと水の
両者がその表面に存在するか押し込まれたときに水又は
厘し剤に優先してその表面にリトグラフインキを受入れ
、保有し、維持するであろう。そしてリトグラフ印刷イ
ンキングローラ列に用いられるローラを、ひとつ又はそ
れ以上のインキングローラから水によってインキを離脱
させることにより印刷インキの比重調整の低下なしに印
刷される基板に対しインキ溜から″インキを移し替える
のを助長するように仕向けることができるのは、この親
油性と疎水性の組合せによるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のインキメータリングロールを組みこ
んだリトグラフ印刷の配列を説明するキーレスリトグラ
フ印刷システムの輪郭の側面系統図である。 第２図はこの発明のロールの部分断面図でインキを保持
するために備えられた窪みをもつ滲透した耐磨耗性表面
を示す。 第３図は第２図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みのないローラをもつ。 第４図は第２図と同様の断面図であるが、個々に形成さ
れたインキを受ける窪みの変形を示す。 第５図は第４図の平面図で、そして 第６図は微孔性セラミック層の拡大説明断面図で親油性
で疎水性の反応生成物の配置を示す。

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. （１）印刷を形成する媒体として油ベースインキと水と
   の混合物を用いるキーレス印刷に使用されるインキメー
   タリングローラであって以下を含むもの。 ａ、実質的に円筒形の外表面をもち予め選ばれた強度と
   直径と長さをもつベースローラ。ｂ、前述のベースロー
   ラの表面に密着結合した連続の微孔性セラミック層であ
   って、前述の微孔性層が前述のセラミック層の実質的に
   全容積に亘って透過している空隙が相互に結び合わされ
   たネットワークを形づくるもの。及び ｃ、前述の微孔性セラミックと有機チタネート及び有機
   シランカプリング剤からなるグループから選ばれた有機
   材料との親油性で疎水性の反応生成物。
2. （２）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって前述のチタン酸塩カプリング剤が下記で構成す
   るグループから選ばれることを特徴とするもの。 ａ、イソプロピル、トリ（ジオクチルホスファト）チタ
   ネート； ｂ、チタンジ（オクチルピロホスファト）オキシアセテ
   ート； ｃ、イソプロピル、トリイソステロイルチタネート； ｄ、テトラジアリルオキシ−メチル１−１ブトキシチタ
   ンジ（ジトリデシル）ホスファイト；及び ｅ、ジ（ジオクチルホスファト）エチレンチタネート。
3. （３）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述のシランカプリング剤が（ａ）イソブチ
   ルトリメトキシシラン及び；（ｂ）ｎ−オクチルトリエ
   トキシシランで構成するグループから選ばれることを特
   徴とするもの。
4. （４）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述の微孔性セラミック層が約０．７６から
   ２．０３ｍｍ（３から８ミル）の厚さであることを特徴
   とするもの。
5. （５）親油性と疎水性をもつ耐磨耗性インキメータリン
   グローラの製造プロセスにおいて以下を含むステップ。 ａ、実質的に微孔性層の全容積に亘って透過している空
   隙が相互に結び合わされたネットワークを形づくる微孔
   性セラミック材料で形成される実質的に円筒形表面層を
   もつロールを用意する。及び ｂ、相互に結び合わされたネットワークに予め選ばれた
   溶剤中の、チタネートカリング剤及びシランカプリング
   材で構成するグループから選ばれた有機材料を浸透し、
   セラミックと結合させて親油性と疎水性をもつ反応生成
   物を形成する。
6. （６）請求項（５）に記載のプロセスであって、微孔性
   セラミック層がベースロール上に逐増方式で着けられそ
   してそれぞれの増分層が次のセラミック層の増分が着け
   られる前に浸透されることを特徴とするプロセス。
7. （７）印刷形成媒体として油ベースのインキと水との混
   合物を用いる、複数のインキングローラを含む印刷に使
   われるインキングシステムであって、前述のインキング
   ローラのひとつが以下を含むインキメータリングローラ
   であるインキングシステム。 ａ、実質的に円筒形の外表面をもつ予め選ばれた強度と
   直径と長さをもつベースローラ。ｂ、前述のベースロー
   ラの表面に密着結合する連続微孔性セラミック層であっ
   て、前述の微孔性層が実質的に前述のセラミック層の全
   容積に亘って透過している空隙が相互に結び合わされた
   ネットワークを形づくるもの。 ｃ、前述の微孔性セラミックと、チタネートカプリング
   剤及びシランカプリング剤からなるグループから選ばれ
   た有機材料との親油性で疎水性の反応生成物。そして ｄ、前述の浸透微孔性セラミック被覆ベースロールと逆
   角度の関係に接触するように取りつけられ、それから余
   剰のインキを取り除く掻きとり手段。
8. （８）請求項（７）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述のチタネートカプリング剤がイソプロピ
   ル、トリ（ジオクチルホスファト）チタネートであるこ
   とを特徴とするもの。
9. （９）請求項（１）に記載のインキメータリングローラ
   であって、前述のチタネートカプリング剤がチタンジ（
   オクチルピロホスファト）オキシアセテートであること
   を特徴とするもの。
10. （１０）請求項（７）に記載のインキメータリングロー
    ラであつて、前述のチタネートカプリング剤がイソプロ
    ピル、トリイソステロイルチタネートであることを特徴
    とするもの。
11. （１１）請求項（７）に記載のインキメータリングロー
    ラであって、前述のチタネートカプリング剤がテトラジ
    アリルオキシ−メチル１−１ブトキシチタンジ（ジトリ
    デシル）ホスファイトであることを特徴とするもの。
12. （１２）請求項（７）に記載のインキメータリングロー
    ラであつて、前述のチタネートカプリング剤がジ（ジオ
    クチルホスファト）エチレンチタネートであることを特
    徴とするもの。
13. （１３）請求項（７）に記載のインキメータリングロー
    ラであって、前述のシランカプリング剤がイソブチルト
    リメトキシシランであることを特徴とするもの。
14. （１４）請求項（７）に記載のインキメータリングロー
    ラであって、前述のシランカプリング剤がｎ−オクチル
    トリエトキシシランであることを特徴とするもの。