JPH02302007A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

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JPH02302007A
JPH02302007A JP1121502A JP12150289A JPH02302007A JP H02302007 A JPH02302007 A JP H02302007A JP 1121502 A JP1121502 A JP 1121502A JP 12150289 A JP12150289 A JP 12150289A JP H02302007 A JPH02302007 A JP H02302007A
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JP
Japan
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magnetic field
magnetic
heat treatment
magnetization
easy axis
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Pending
Application number
JP1121502A
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English (en)
Inventor
Yoshitsugu Miura
義從 三浦
Yuiko Matsubara
松原 結子
Masaya Yasukochi
正也 安河内
Toshiyuki Miura
三浦 敏之
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、非晶質磁性合金を磁気コア材とした磁気ヘッ
ドの製造方法に係シ、特に良好な磁気異方性を磁気コア
に付与することのできる磁気ヘッドの製造方法に′rJ
Jaする・ 〔従来の技術〕 一般的に非晶質磁性合金においては、磁気異方性のオリ
ジンは磁性原子の方向性規則配列にちシ、その一方向性
磁界中での熱処理に対する挙動について、以下に示すこ
とが知られている。
■熱処理温度の増加と共に、異方性磁界は減少し、透磁
率は増加する口 ■同一条件で熱処理を施した場合、飽和磁束密度の増加
と共に、異方性磁界は増大し、結果的に透磁率は減少す
る口 一方、非晶質磁性合金の結晶化温度は、飽和磁束密度の
増加と共に低下する。
以上説明したように、一方向性磁界中で熱処理を施した
場合、異方性磁界の下限値あるいは透磁率の上限値は、
結晶化温度によ)決定される。つまシ、飽和磁束密度の
増加と共に異方性磁界の下限値は大きくなシ、透磁率の
上限値は小さく唸る。
このよう麿状況は、高飽和磁束密度の非晶質磁性合金を
磁気コア材として用いる場合、透磁率不足による再生効
率の低下を招来し、磁気ヘッドにとって重大な問題とな
る〇 このような問題を解決するため、例えば通信技報MR8
4−52(1984年)に記載されているようK、回転
磁界中で熱処理を行い磁気異方性を付与する手法が知ら
れている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記した回転磁界中で熱処理を行う方法は、結晶化温度
の制約を受けることなく、小さい異方性磁界、あるいは
大きな透磁率が得られるという長所がある反面、次に示
すような問題があった〇■磁化容易軸方向及び異方性磁
界の制御が困難であり、再現性が悪い。
■試料を回転するため、量産性が悪い。
特に、上記■は磁気ヘッドにとって致命的な問題となる
◇すなわち周知のように、磁気コアには、磁束伝播方向
が透磁率最大の方向となるような磁気異方性を付与する
必要がある0従って、磁化容易軸の方向は磁束伝播方向
に直交させることが必要であり、この方向制御は、透磁
率の増大を図ることと同等、もしくはそれ以上に重要な
因子である。更に、磁気ヘッドとして完成された状態に
おいては、逆磁歪効果による磁化容易軸方向の乱れを考
慮する必要があシ、これを避けるためには、磁気ヘッド
状態における応力及び磁気コア材の磁歪定数を考慮して
、異方性磁界を最適値に制御することが必要となる。し
かしながら、回転磁界中で熱処理を行って磁気異方性を
与える前記した手法では、磁化容易軸方向の制御並びに
異方性磁界を最適値に制御することが困難であるという
大きな問題があった。
従って本発明の解決すべき技術的課題は、上述した従来
技術のもつ問題点を解消することにちゃ、その目的とす
るところは、磁化容易軸方向及び異方性磁界の制御が容
易な磁気ヘッドの製造方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の上記した目的は.一軸磁気異方性を有する非晶
質磁性合金からなる磁気コアを用いた磁気ヘッドの製造
方法において、上記一軸磁気異方性が、所望する磁化容
易軸方向に対し、略垂直方向に磁界を印加しつつ熱処理
を施す第1の工程と、然る後、所望する磁化容易軸方向
に対し、略干行、  方向に磁界を印加しつつ熱処理を
施す第2の工程とによって、与えられるようにすること
により達成される。
〔作用〕
本発明の作用を第2囚及び第3図を用いて説明する。第
2図は、非晶質磁性合金を一方向磁界中で熱処理する場
合の、磁界印加方向、磁化容易軸ス向などを説明するた
めの図である。同図において、1は非晶質磁性合金材、
2は磁界印加方向を示す矢印、3は初期の磁化容易軸方
向を示す矢印、4は充分長い時間磁場中熱処理を施した
後の磁化容易軸方向を示す矢印である。第3図は、一方
向磁場中での熱処理保持時間と異方性磁界との関係を示
すグラフ図で、同図において、5は高い熱処理温度での
保持時間と異方性磁界との関係を示すIrf性線、6は
低い熱処理温度での保持時間と異方性磁界との関係を示
す特性線であυ、磁化が飽和するに足る充分な磁界を印
加して熱処理を施した時の結果が示されている。なお、
負の異方性磁界は、磁化容易軸方向が矢印3、すなわち
初期の磁化容易軸方向と一致している場合に対応し、正
の異方性磁界は、磁化容易軸方向が矢印4、すなわち磁
界印加方向2と一致している場合に対応している。
第2図並びに第6図に示したように、磁化容易軸方向に
対し直交方向に磁界を印加して熱処理を施した場合、保
持時間がtlあるいは1./よシ少ないと亀、異方性磁
界は時間の増加と共に減少してゆく口この場合、磁化容
易軸の方向は初期の方向5を保存している。しかし、保
持時間がtlあるいは1 、/  以上になると、異方
性磁界は保持時間の増大と共に増加する。この場合、磁
化容易軸方向は矢印40方向となシ、磁界印加方向2と
平行になる。
異方性磁界の変化率は、第3図に示したように、保持時
間の短かいときに大きく、保持時間の増加と共に0(零
)K漸近する0更にまた、熱処理温度の増加と共に変化
率は増大する0第5図において、例えば異方性磁界を1
〜1.5に制御する場合について考察する。同図に示す
ように、同一の異方性磁界は、高い熱処理温度における
保持時間t2〜t3の場合と、低い熱処理温度t4〜t
、の場合の両者において得られる。両者における差は、
磁化容易軸方向の差で、前者は印加磁界方向と直交関係
にあシ、後者は平行関係にある。更に図から明らかなよ
うに、(tz〜15)<<(14〜ts)であシ、後者
の保持時間マージンは前者に比べて著しく大きい。この
ことは、所望の異方性磁界に制御する方法として、後者
の条件が前者に比べて適していることを示している〇 従って磁気ヘッドに適用する場合には、方向4が所望の
磁化容易軸方向に相当するように設定することが必要で
ある。この場合、前段階で磁化容易軸の方向を所望の方
向と直交する方向に設定するために磁場中熱処理を施す
必要がある◇つま)、以下に示す2段階の一方向性磁界
中熱処理を施すことにより、磁化容易軸の方向及び異方
性磁界の大きさを再現性よく制御することができる。
第1段階:所望磁化容易軸方向と直交する方向に磁界を
印加し、熱処理を施す。
第2段階:所望磁化容易軸方向と平行な方向に磁界を印
加し、熱処理を施す。
なお、第1段階(第1の工程)の熱処理温度に比べて、
第2段階(第2の工程)の熱処理温度が低く、かつその
差が大きい程、異方性磁界の保持時間に対する変化率は
小さくなり、保持時間のマージンが増加する0 〔実施例〕 以下、本発明を第1図に示し九実流側によって説明する
。第1図は磁気ヘッドと磁場中熱処理時の磁界印加方向
との関係を模式的に示している。
同図において、11は非磁性セラミックス部材(4!!
部厚さ:ltmm)、 12はCoNbZr非晶質磁性
合金薄膜(飽和磁束密度:l195Tll!I厚20μ
m)、13は媒体摺動面、14はS i 02膜からな
る非磁性ギャップ材(厚さ213μm)、15は巻線用
窓であり、CoN’bZr非晶質磁性合金薄膜12を非
磁性セラミックス部材11間にサンドウィッチ状に配設
・形成してなるコア半休同志が接合されて、CoNbZ
r非晶質磁性合金薄膜12が閉磁路を構成し、またフロ
ント@には作動ギャップが形成されている◇また、16
は所望磁化容易軸方向を、17は第1段階の磁場中熱処
理時の磁界印加方向を、18は第2段階の磁場中熱処理
時の磁界印加方向をそれぞれ示す矢印である。
第1図示のヘッド形状に加工後、先ず、磁場強R: *
 oxoe+ 温[:430℃、保持時間:30分の条
件下で、第1段階の磁場中熱処理を施した。
その後、磁場強度zoKOee温度=400℃。
保持時間81時間の条件下で第2段階の磁場中熱処理を
施した。
上記のような2段階の一方向性磁界中熱処理を施した磁
気ヘッドにコイルを巻装し、ヘッド電磁変換特性を評価
した結果、従来の回転磁界中で熱処理した磁気ヘッドに
比べ、特性のバラツキ幅も小さく、かつ再生効率で1〜
2aBの改善が認められた。
なお、上述した実施例においては、磁気ヘッド形状に形
成後の最終工程で磁場中熱処理を施したが、必ずしも最
終工程である必要はなく、途中の工程で行っても同等の
効果があることは言うまでもなioさらにま九、磁気ヘ
ッド形状や非晶質磁性合金の材質なども実施例以外に種
々のものが適用可能である。
〔発明の効果〕
叙上のように本発明によれば、磁化容易軸方向及び異方
性磁界の大きさを、再現性よく、かつ安定に制御するこ
とが可能となシ、該種卵晶質磁性合金からなる磁気コア
を用いた志気ヘッドにおいて、その特性向上に寄与する
効果は顕著である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係る磁気ヘッドの磁場中熱処
理工程を模式的に示す説明図、第2図は非晶質磁性合金
を一方向磁界中で熱処理する場合の磁界印加方向、磁化
容易軸方向を示す説明図、第6図は一方向磁場中での熱
処理保持時間と異方性磁界との関係をグラフ化して示す
説明図である0 1・・・非晶質磁性合金材、2・・・磁界印加方向を示
す矢印、3・・・初期の磁化容易軸方向を示す矢印、4
・・・充分長い時間磁場中熱処理を施した後の磁化容易
軸方向を示す矢印、5・・・高い熱処理温度での保持時
間と異方性磁界との関係を示す特性線、6・・・低い熱
処理温度での保持時間と異方性磁界との関係を示す特性
線、11・・・非磁性セラミックス部材、12・・・C
oNbZr非晶質磁性合金薄膜、15・・・媒体摺動面
、14・・・非磁性ギャップ材、15・・・巻線用窓、
16・・・所望磁化容易軸方向を示す矢印、17・・・
第1段階の磁場中熱処理時の磁界印加方向を示す矢印、
1B・・・第2段階の磁場中熱処理時の磁界印加方向を
示す矢印である。 代理人 弁理士 小川勝男、ど〕・さ く”、1・ 、2) にり + 1  :1lJthセラミックス部材、12:Co
11bZr非!iS1%合t’*a13−媚μ幌♂動面
、14:1瓢■主ギヤソフ)末 +5:4う奢棗用@、
16:7ブj”J諭餠a省亮軸方向と示す矢印、17:
第11焔の磁場中1帖処戊吟領註界印力1均自を寸v4
大自L 18:第2fmcn、砧υ島中凌りメV!θH
Ri4f瑯一方閏を示す矢印。 第2図 乙 第 51¥]

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.一軸磁気異方性を有する非晶質磁性合金からなる磁
    気コアを用いた磁気ヘッドの製造方法において、上記一
    軸磁気異方性が、複数回の一方向磁場中熱処理により付
    与されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  2. 2.請求項1記載において、前記磁場中熱処理工程が、
    所望する磁化容易軸方向に対し、略垂直方向に磁界を印
    加しつつ熱処理を施す第1の工程と、然る後、所望する
    磁化容易軸方向に対し、略平行方向に磁界を印加しつつ
    熱処理を施す第2の工程とからなっていることを特徴と
    する磁気ヘッドの製造方法。
  3. 3.請求項2記載において、前記第1の工程の熱処理温
    度が、前記第2の工程の熱処理温度に比べて高いことを
    特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  4. 4.請求項2記載において、前記第1の工程の熱処理時
    間が、前記第2の工程の熱処理時間に比べて短かいこと
    を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
JP1121502A 1989-05-17 1989-05-17 磁気ヘッドの製造方法 Pending JPH02302007A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63253371A (ja) * 1987-04-09 1988-10-20 Canon Inc 複写装置
JPS63255370A (ja) * 1987-04-13 1988-10-21 Fuji Photo Film Co Ltd 非晶質軟磁性材料の熱処理方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63253371A (ja) * 1987-04-09 1988-10-20 Canon Inc 複写装置
JPS63255370A (ja) * 1987-04-13 1988-10-21 Fuji Photo Film Co Ltd 非晶質軟磁性材料の熱処理方法

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