JPH0230209Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、例えばコンピユータのメモリーデイ
スクその他これに類似のデイスクの研磨装置に関
するものである。

〔従来の技術〕

コンピユータのメモリーデイスク基板の研磨に
ついては、従来概ねラツプ盤あるいはラツピング
テープにより行われているが、装置が比較的高価
であるにも拘わらず、少数の１回分を単位として
作業が行われるバツチ式加工である関係上、研磨
作業が非能率的であり、従つて研磨価額がコスト
高となる欠点があつた。

また多数枚のデイスクをバレル研磨機により研
磨することが考えられるが、多数枚を同時に研磨
する場合には、デイスク同士の衝触および回転ド
ラム内面への衝触によりデイスクが損傷し易いば
かりでなく、デイスク同士が密着したままその接
触部分が研磨されない等、要するにデイスクの損
傷並びに研磨むらが生じ易いという重大欠陥があ
り、精密研磨を目的とする場合には従来のバレル
研磨機の適用は著しく不適当である。

〔目的〕

本考案は、上記従来装置の欠点に鑑み考案され
たものであつて、小型装備でより高能率のもとに
多数枚のデイスクを損傷せずにしかも均斉に研磨
することができる研磨装置を安価に提供すること
を目的とするものである。

〔本考案の手段〕

上記目的を達成するため、本考案は、研磨材を
収容した回転ドラム内において、回転ドラムとは
別個に回転する保持枠を同一軸線関係のもとに設
けると共に、この保持枠には複数の保持軸を自転
することができるように円形列に設けたまま、保
持軸に多数枚の被研磨デイスクを適度の一定間隔
が保たれる重合状態に固定して、保持枠および保
持軸の回転によりデイスクを自転並びに公転させ
つつ研磨材と摺擦するようにするほか、デイスク
面に平行状態に接近したまま行い違いに相対的に
移動する研磨促進用補助板を設け、これにより研
磨材を反転させつつ流動を活発化するばかりでな
く均斉化し、ラツピング効果と同様な高効率の研
磨効果のもとに被研磨デイスクの平滑化すること
ができるようにしたことを特徴とするものであ
る。

〔実施例〕

以下、本考案の詳細を図示した実施例に基づい
て説明する。

第１図は縦断側面図であつて、基台１における
軸受２，２に支承される保持枠３をモータ４によ
りタイミングベルト等の伝動手段５の介在のもと
に回転することができるように設けると共に、こ
の保持枠３を包囲する多角形の回転ドラム６を保
持枠３の軸７に軸受８，８により支承されるよう
に設けたまま、チエーン等の伝動手段９の介在の
もとにモータ１０により低速回転することができ
るようにし、かつ保持枠３には複数の保持軸１
１，１１を円形列のもとに前記軸７と平行軸線関
係に遊回自在に設けてこの保持軸１１の基端部に
は遊星ギヤ１２を固着するほか、これに対し前記
保持枠３の軸７の基端寄り部分を中空に形成して
その中空部分に固定軸１３を貫通させたまま軸１
３の先端に太陽ギヤ１４を固着し、この太陽ギヤ
１４と前記遊星ギヤ１２とを噛み合わせて保持枠
３の回転に伴い保持軸１１を増速回転させるよう
にし、更に保持軸１１には多数枚の被研磨デイス
クＤ，Ｄを間隔片１５，１５の介入のもとに互い
に適度の間隔が保たれるように重合状態に取り付
けるようにし、かつ特に保持軸１１に取り付けた
デイスクＤの両側面に平行に接近したまま行き違
い状態に相対的に移動するように研磨促進用補助
板１６，１６を回転ドラム６の内面に内向きに多
数立設してなり、以て回転ドラム６内に研磨材Ａ
を適量収容したまま、回転ドラム６を10〜30rpm
程度の比較的低速のもとに回転させると共に、保
持枠３を30〜2000rpm程度の比較的高速のもとに
回転させることにより、被研磨デイスクＤを自転
並びに公転させつつその表面を研磨材Ａと満遍な
く摺擦させるばかりでなく、デイスクＤと補助板
１６とが接近した状態のもとに行き違いに移動す
るから、研磨材Ａを反転させつつ流動の促進を図
り、被研磨デイスクＤと研磨材Ａとの摺過速度を
増大し、しかもドラム６の回転と相俟つて研磨材
Ａの撹拌による均斉化を促進するのであり、従つ
てデイスクＤをラツプ盤による摺り合わせ効果と
同様の研磨作用のもとに研磨するばかりでなく、
デイスクＤの表面に対する研磨材Ａの供給を著し
く向上することができるから、均一な研磨を高能
率のもとに短時間に実現することができるのであ
る。

なお、上記補助板１６は回転ドラム６内の全周
にわたり設けてもよいが、第２図のように部分的
に設けることにより、研磨材Ａの軸線方向への流
動を助長するようにするのがよく、また回転ドラ
ム６の内面だけでなく保持枠３における軸７から
半径方向に突設してもよいのであり、なお補助板
１６の表面にはセラミツクス等の超硬質物の耐摩
耗性コーテイングを施すのが望ましく、その他デ
イスクＤを保持軸１１に取り付けるに当つては、
保持軸１１の中間部分と両端部分とを軸継手１
７，１７により着脱自在に結合し、必要に応じ中
間部分を取り外すことができるように構成するほ
か、回転ドラム６の周壁の一部に開閉蓋１８を設
けて保持軸１１を回転ドラム６外に取り出す場合
並びに保持枠３に取り付ける場合に使用するよう
にし、以て保持軸１１を回転ドラム６外に取り出
してデイスクＤを着脱することができるようにす
るのが便利である。

本考案に使用する研磨材Ａとしては、例えば砥
粒、植物性パウダー、あるいはその両者の混合
物、あるいは水または油等の液体に砥粒を混合し
たスラリー状のもの等、種々の研磨材を被研磨デ
イスクＤの仕上程度に応じ適用することができる
のであり、前記補助板１６とデイスクＤとの間隔
については研磨粗さおよび砥粒々度等により適正
寸法が定まるのであるが、通常５mm以下が望まし
く、大体において１mm程度が効果的である。

〔考案の効果〕

以上説明したように本考案によれば、回転ドラ
ム内において適度の間隔を保つて重合状態に固定
した多数のデイスクを研磨材と摺擦するようにす
るばかりでなく、デイスクに平行に接近して行き
違う補助板を特設したことにより、従来のバレル
研磨機において起り易いデイスク同士の衝触並び
に密着現象を回避すると共に、回転ドラム内面へ
のデイスクの衝触を防止しつつ、デイスク表面へ
の研磨材の供給並びに摺擦を均斉かつ高能率のも
とに実現して短時間に多数のデイスクの均一な研
磨をラツプ盤による研磨に近い仕上程度のもとに
著しく安価に行うことができる効果があり、また
装備についても比較的小型かつ安価ですむ利点が
ある。

更にデイスクを保持軸に固定したまま強制的に
自転および公転させることにより、研磨材との摺
擦を確実に増大させるほか、均一な研磨を容易に
実現することができる。

なお多角形の回転ドラムを採用すると、研磨材
の撹拌による流動を促進して均斉化を向上するこ
とができるのである。

【図面の簡単な説明】

図面は一実施例を示す本考案の研磨装置であつ
て、第１図は縦断側面図、また第２図はドラム部
分の縦断正面図である。 Ａ……研磨材、Ｄ……デイスク、３……保持
枠、６……回転ドラム、１１……保持軸、１６…
…補助板。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 研磨材Ａを収容する回転ドラム６の内部にこ
   の回転ドラム６とは別個に回転する保持枠３を
   同一軸線関係のもとに設けると共に、この保持
   枠３には自転することができる複数の保持軸１
   １，１１を公転させることができるように円形
   列に設け、かつ前記保持軸１１には多数枚の被
   研磨デイスクＤ，Ｄを互いに適度の一定間隔が
   保たれる重合状態に固定するようにし、更に前
   記回転ドラム６の内周面には研磨促進用補助板
   １６，１６をデイスクＤ，Ｄの両側面に対し平
   行状態に接近したままデイスクＤと行き違うよ
   うに内向きに立設してなるデイスクの研磨装
   置。 ２ 多角形の回転ドラム６を採択してなる実用新
   案登録請求の範囲第１項に記載のデイスクの研
   磨装置。